JPH11255676A - 8員環および9員環化合物の製造方法 - Google Patents
8員環および9員環化合物の製造方法Info
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- JPH11255676A JPH11255676A JP5839098A JP5839098A JPH11255676A JP H11255676 A JPH11255676 A JP H11255676A JP 5839098 A JP5839098 A JP 5839098A JP 5839098 A JP5839098 A JP 5839098A JP H11255676 A JPH11255676 A JP H11255676A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 8員環及び9員環化合物の製造方法の提供
【解決手段】 下記一般式(1)で表されるメタラシク
ロペンタジエンと金属塩と下記一般式(2)または
(3)で表されるビス(ハロメチル)芳香族化合物とを
反応させることを特徴とする下記一般式(4)または
(5)で表される8員環化合物または9員環化合物の製
造方法。 【化1】 (一般式(1)〜(5)中、R1〜R14は、それぞれ独
立して、水素原子を意味するか又はアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、芳香族基、シリル基、アルコキ
シ基、エステル基若しくはアミノ基を意味する。但しこ
れらの基は、炭素数が1〜20でありかつ置換基を有し
ていてもよい。X1〜X4は、それぞれ独立して、ハロゲ
ン原子を意味する。又、一般式(1)中、Mは遷移金
属、Lは配位子、nは0〜4の整数を表す。)
ロペンタジエンと金属塩と下記一般式(2)または
(3)で表されるビス(ハロメチル)芳香族化合物とを
反応させることを特徴とする下記一般式(4)または
(5)で表される8員環化合物または9員環化合物の製
造方法。 【化1】 (一般式(1)〜(5)中、R1〜R14は、それぞれ独
立して、水素原子を意味するか又はアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、芳香族基、シリル基、アルコキ
シ基、エステル基若しくはアミノ基を意味する。但しこ
れらの基は、炭素数が1〜20でありかつ置換基を有し
ていてもよい。X1〜X4は、それぞれ独立して、ハロゲ
ン原子を意味する。又、一般式(1)中、Mは遷移金
属、Lは配位子、nは0〜4の整数を表す。)
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、8員環および9員
環化合物の製造方法に関するものである。8員環及び9
員環化合物は医薬品や農薬の合成中間体として有用な物
質である。
環化合物の製造方法に関するものである。8員環及び9
員環化合物は医薬品や農薬の合成中間体として有用な物
質である。
【0002】
【従来の技術】従来、周期律表4族の遷移金属存在下ア
セチレン類2分子とビス(ハロメチル)芳香族化合物と
のカップリング反応によって8員環または9員環化合物
を直接合成する方法は知られていない。
セチレン類2分子とビス(ハロメチル)芳香族化合物と
のカップリング反応によって8員環または9員環化合物
を直接合成する方法は知られていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記実情を
鑑みなされたものであり、その目的はアセチレン2分子
とビス(ハロメチル)芳香族化合物から直接特定の構造
を有する8員環および9員環化合物を製造する新規な製
造方法を提供することにある。
鑑みなされたものであり、その目的はアセチレン2分子
とビス(ハロメチル)芳香族化合物から直接特定の構造
を有する8員環および9員環化合物を製造する新規な製
造方法を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、まず、
下記一般式(1)で表されるメタラシクロペンタジエン
と金属塩と下記一般式(2)または(3)で表されるビ
ス(ハロメチル)芳香族化合物とをカップリングさせる
ことを特徴とする下記一般式(4)または(5)で表さ
れる8員環または9員環化合物の製造方法に関する。
下記一般式(1)で表されるメタラシクロペンタジエン
と金属塩と下記一般式(2)または(3)で表されるビ
ス(ハロメチル)芳香族化合物とをカップリングさせる
ことを特徴とする下記一般式(4)または(5)で表さ
れる8員環または9員環化合物の製造方法に関する。
【0005】
【化2】
【0006】(一般式(1)〜(5)中、R1〜R
14は、それぞれ独立して、水素原子を意味するか又はア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族基、シ
リル基、アルコキシ基、エステル基若しくはアミノ基を
意味する。但しこれらの基は、炭素数が1〜20であり
かつ置換基を有していてもよい。X1〜X4は、それぞれ
独立して、ハロゲン原子を意味する。又、一般式(1)
中、Mは遷移金属、Lは配位子、nは0〜4の整数を表
す。)
14は、それぞれ独立して、水素原子を意味するか又はア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、芳香族基、シ
リル基、アルコキシ基、エステル基若しくはアミノ基を
意味する。但しこれらの基は、炭素数が1〜20であり
かつ置換基を有していてもよい。X1〜X4は、それぞれ
独立して、ハロゲン原子を意味する。又、一般式(1)
中、Mは遷移金属、Lは配位子、nは0〜4の整数を表
す。)
【0007】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
まず、一般式(1)〜(5)で表される化合物の置換基
について説明する。
まず、一般式(1)〜(5)で表される化合物の置換基
について説明する。
【0008】
【化3】
【0009】一般式(1)中、Mは遷移金属を表す。遷
移金属は周期律表上の3〜10族の金属を意味する。遷
移金属としては、特に制限されないが、好ましくは3〜
6族の遷移金属、更に好ましくは、チタン、ジルコニウ
ム、ハフニウム等の4族の遷移金属である。
移金属は周期律表上の3〜10族の金属を意味する。遷
移金属としては、特に制限されないが、好ましくは3〜
6族の遷移金属、更に好ましくは、チタン、ジルコニウ
ム、ハフニウム等の4族の遷移金属である。
【0010】一般式(1)中、Lは配位子を表し、その
具体例としては、シクロペンタジエニル基、インデニル
基、フルオレニル基、アズレニル基、炭化水素オキシ
基、アミド基アセチルアセトナート基、カルボキシ基、
ホスフィン配位子、アミン配位子、エーテル配位子、及
びこれらが適当な架橋基により、連結した配位子、を有
する化合物が挙げられる。なお、上記の各基は、いずれ
も、置換基を有していてもよい。また、一般式(1)
中、nは0〜4、好ましくは1又は2の整数を表す。そ
して、nが2以上の場合における各配位子は、同一であ
っても異なっていてもよい。
具体例としては、シクロペンタジエニル基、インデニル
基、フルオレニル基、アズレニル基、炭化水素オキシ
基、アミド基アセチルアセトナート基、カルボキシ基、
ホスフィン配位子、アミン配位子、エーテル配位子、及
びこれらが適当な架橋基により、連結した配位子、を有
する化合物が挙げられる。なお、上記の各基は、いずれ
も、置換基を有していてもよい。また、一般式(1)
中、nは0〜4、好ましくは1又は2の整数を表す。そ
して、nが2以上の場合における各配位子は、同一であ
っても異なっていてもよい。
【0011】一般式(1)及び一般式(2)〜(5)
中、R1〜R14はそれぞれ、アルキル基、アルケニル
基、芳香族基、シリル基、アルコキシ基エステル基を表
す。但し、これらの基は、炭素数が1〜20でありかつ
置換基を有していてもよい。
中、R1〜R14はそれぞれ、アルキル基、アルケニル
基、芳香族基、シリル基、アルコキシ基エステル基を表
す。但し、これらの基は、炭素数が1〜20でありかつ
置換基を有していてもよい。
【0012】上記のR1〜R14の具体例としては、メチ
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、、n−ブチ
ル、イソブチル、t−ブチル、n−ペンチル、ネオペン
チル、n−ヘキシル、n−オクチル、n−ノニル、n−
デシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオク
チル等のアルキル基、ビニル、アリル、1−プロペニ
ル、1〜3−ブテニル、1〜5−ヘキセニル、シクロペ
ンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニル等のア
ルケニル基、フェニル、ナフチル、トリル、キシリル等
の芳香族基、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ト
リメトキシシリル、トリエトキシシリル、ジフェニルメ
チルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシ
リル等のシリル基、メトキシ、エトキシ、n−プロポキ
シ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、t
−ブトキシなどのアルコキシ基、フェノキシ、ナフトキ
シ等のアリロキシ基、メチルカルボキシレート、エチル
カルボキシレート、n−プロピルカルボキシレート、イ
ソプロピルカルボキシレート、n−ブチルカルボキシレ
ート、イソブチルカルボキシレート、t−ブチルカルボ
キシレート、フェニルカルボキシレート等のエステル基
が挙げられる。
ル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、、n−ブチ
ル、イソブチル、t−ブチル、n−ペンチル、ネオペン
チル、n−ヘキシル、n−オクチル、n−ノニル、n−
デシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオク
チル等のアルキル基、ビニル、アリル、1−プロペニ
ル、1〜3−ブテニル、1〜5−ヘキセニル、シクロペ
ンテニル、シクロヘキセニル、シクロオクテニル等のア
ルケニル基、フェニル、ナフチル、トリル、キシリル等
の芳香族基、トリメチルシリル、トリエチルシリル、ト
リメトキシシリル、トリエトキシシリル、ジフェニルメ
チルシリル、ジメチルフェニルシリル、トリフェニルシ
リル等のシリル基、メトキシ、エトキシ、n−プロポキ
シ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、t
−ブトキシなどのアルコキシ基、フェノキシ、ナフトキ
シ等のアリロキシ基、メチルカルボキシレート、エチル
カルボキシレート、n−プロピルカルボキシレート、イ
ソプロピルカルボキシレート、n−ブチルカルボキシレ
ート、イソブチルカルボキシレート、t−ブチルカルボ
キシレート、フェニルカルボキシレート等のエステル基
が挙げられる。
【0013】上記中では、メチル、エチル、n−プロピ
ル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル、n−ヘキ
シル、フェニル、トリメチルシリル、メチルカルボキシ
レート、エチルカルボキシレート、t−ブチルカルボキ
シレート、フェニルカルボキシレートが好ましく、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブ
チルが更に好ましい。
ル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブチル、n−ヘキ
シル、フェニル、トリメチルシリル、メチルカルボキシ
レート、エチルカルボキシレート、t−ブチルカルボキ
シレート、フェニルカルボキシレートが好ましく、エチ
ル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、t−ブ
チルが更に好ましい。
【0014】X1〜X4の具体例としては、フッ素原子、
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、好ましく
は、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、好ましく
は、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
【0015】一般式(1)で表されるメタラシクロペン
タジエンは、対応する遷移金属化合物とアセチレン化合
物との反応で得ることができる。
タジエンは、対応する遷移金属化合物とアセチレン化合
物との反応で得ることができる。
【0016】用いるメタラシクロペンタジエン(1)の
量は一般式(2)または(3)に対して通常 0.5〜
10当量、好ましくは1〜2当量用いるのがよい。
量は一般式(2)または(3)に対して通常 0.5〜
10当量、好ましくは1〜2当量用いるのがよい。
【0017】用いる金属塩としてはリチウムハライド、
アルミニウムハライド、ガリウムハライド、、インジウ
ムハライド、マンガンハライド、亜鉛ハライド、ガドニ
ウムハライド、銅ハライド、シアン化銅、銀ハライド等
が挙げられる。好ましくは塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、
シアン化銅が挙げられる
アルミニウムハライド、ガリウムハライド、、インジウ
ムハライド、マンガンハライド、亜鉛ハライド、ガドニ
ウムハライド、銅ハライド、シアン化銅、銀ハライド等
が挙げられる。好ましくは塩化銅、臭化銅、ヨウ化銅、
シアン化銅が挙げられる
【0018】これらの金属塩の量は通常0.001〜1
0当量、好ましくは0.1〜3当量用いるのがよい。
0当量、好ましくは0.1〜3当量用いるのがよい。
【0019】金属塩を1当量より多く用いるときはジメ
チルプロピレンウレアなどの添加物を0.1〜5当量、
好ましくは2〜3当量加えると収率の向上が見られる。
チルプロピレンウレアなどの添加物を0.1〜5当量、
好ましくは2〜3当量加えると収率の向上が見られる。
【0020】各工程は非プロトン性溶媒の存在下、窒素
やアルゴン等の不活性ガス下で行うのが好ましい。非プ
ロトンの溶媒としては、例えば、トルエンのような炭化
水素溶媒、クロロベンゼン、メチレンクロリドのような
ハロゲン化炭化水素溶媒、エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシメタンのようなエーテル系溶媒が
挙げられる。これらの中で好ましくはテトラヒドロフラ
ンが挙げられる。
やアルゴン等の不活性ガス下で行うのが好ましい。非プ
ロトンの溶媒としては、例えば、トルエンのような炭化
水素溶媒、クロロベンゼン、メチレンクロリドのような
ハロゲン化炭化水素溶媒、エチルエーテル、テトラヒド
ロフラン、ジメトキシメタンのようなエーテル系溶媒が
挙げられる。これらの中で好ましくはテトラヒドロフラ
ンが挙げられる。
【0021】
【実施例】次に実施例により、本発明の内容を具体的に
説明するが、本発明はこれらのみに限定されるべきもの
ではない。
説明するが、本発明はこれらのみに限定されるべきもの
ではない。
【0022】実施例1 5,10-ジヒドロ-6,7,8,9-テトラエチルベンゾシクロオク
テンの合成
テンの合成
【0023】
【化4】
【0024】窒素下にしたシュレンク反応管に5mlの
テトラヒドロフランを加え、ジルコノセンジクロリドを
0.292 g (1 mmol) 溶解させた。−78℃に冷却した
後、n−ブチルリチウムを2mmol加え、1時間攪拌
した。この溶液に3−ヘキシン1.64 g (2 mmol)加え、
1時間室温で攪拌して生成するジルコナシクロペンタジ
エンにビス(ブロモメチル)ベンゼン 0.264 g (1 mmo
l)、触媒量の塩化銅10mg(0.1 mmol) を加え、50℃で
6時間攪拌し、5,10-ジヒドロ-6,7,8,9-テトラエチルベ
ンゾシクロオクテンを収率67%で得た。生成物は1H-N
MR、13C-NMR、High Mass及び元素分析で確認した。
テトラヒドロフランを加え、ジルコノセンジクロリドを
0.292 g (1 mmol) 溶解させた。−78℃に冷却した
後、n−ブチルリチウムを2mmol加え、1時間攪拌
した。この溶液に3−ヘキシン1.64 g (2 mmol)加え、
1時間室温で攪拌して生成するジルコナシクロペンタジ
エンにビス(ブロモメチル)ベンゼン 0.264 g (1 mmo
l)、触媒量の塩化銅10mg(0.1 mmol) を加え、50℃で
6時間攪拌し、5,10-ジヒドロ-6,7,8,9-テトラエチルベ
ンゾシクロオクテンを収率67%で得た。生成物は1H-N
MR、13C-NMR、High Mass及び元素分析で確認した。
【0025】1H NMR (CDCl3, Me4Si) δ 0.92 (t, J =
7.5 Hz, 6H), 0.95 (t, J = 7.5 Hz, 6H), 1.99-2.10
(m, 4H), 2.12-2.22 (m, 2H), 2.34-2.43 (m, 2H), 3.
00 (d,J = 14.0 Hz, 2H), 3.78 (d, J = 14 Hz, 2H),
7.04-7.07 (m, 2H), 7.09-7.12 (m, 2H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 13.02, 13.90, 21.76, 25.
49, 41.00, 126.19, 130.42, 130.85, 137.34, 137.67; HRMS calcd for C20H28 268.2189, found 268.2185. A
nal. Calcd for C20H28C, 89.49; H, 10.51. Found C,
89.26; H, 10.72.
7.5 Hz, 6H), 0.95 (t, J = 7.5 Hz, 6H), 1.99-2.10
(m, 4H), 2.12-2.22 (m, 2H), 2.34-2.43 (m, 2H), 3.
00 (d,J = 14.0 Hz, 2H), 3.78 (d, J = 14 Hz, 2H),
7.04-7.07 (m, 2H), 7.09-7.12 (m, 2H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 13.02, 13.90, 21.76, 25.
49, 41.00, 126.19, 130.42, 130.85, 137.34, 137.67; HRMS calcd for C20H28 268.2189, found 268.2185. A
nal. Calcd for C20H28C, 89.49; H, 10.51. Found C,
89.26; H, 10.72.
【0026】実施例2 実施例1と同様の操作により、触媒量の塩化銅の代わり
に198 mg (2 mmol)の塩化銅とジメチルプロピレンウレ
ア0.32 g (2.5 mmol)を用い、50℃1時間反応させ、
5,10-ジヒドロ-6,7,8,9-テトラエチルベンゾシクロオク
テンを収率93%で得た。
に198 mg (2 mmol)の塩化銅とジメチルプロピレンウレ
ア0.32 g (2.5 mmol)を用い、50℃1時間反応させ、
5,10-ジヒドロ-6,7,8,9-テトラエチルベンゾシクロオク
テンを収率93%で得た。
【0027】実施例3 5,10-ジヒドロ-6,7,8,9-テトラプロピルベンゾシクロオ
クテンの合成
クテンの合成
【0028】
【化5】
【0029】実施例1と同様の操作により、3−ヘキシ
ンの代わりに4−オクチンを用い、5,10-ジヒドロ-6,7,
8,9-テトラプロピルベンゾシクロオクテンを収率70%
で得た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及びHigh Massで確認
した。
ンの代わりに4−オクチンを用い、5,10-ジヒドロ-6,7,
8,9-テトラプロピルベンゾシクロオクテンを収率70%
で得た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及びHigh Massで確認
した。
【0030】1H NMR (CDCl3, Me4Si) δ 0.85 (t, J =
7.3 Hz, 6H), 0.91 (t, J = 7.2 Hz, 6H), 1.21-1.27
(m, 2H), 1.36-1.42 (m, 6H), 1.96-2.04 (m, 4H), 2.
09-2.14 (m, 2H), 2.27-2.32 (m, 2H), 2.97 (d, J =
13.9 Hz, 2H), 3.76 (d, J =13.9 Hz, 2H), 7.02-7.04
(m, 2H), 7.08-7.11 (m, 2H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 14.28, 14.88, 21.98, 22.
25, 31.61, 34.69, 41.20, 126.20, 129.37, 130.43, 1
37.22, 137.96; HRMS calcd for C24H36 324.2815, found 324.2820.
7.3 Hz, 6H), 0.91 (t, J = 7.2 Hz, 6H), 1.21-1.27
(m, 2H), 1.36-1.42 (m, 6H), 1.96-2.04 (m, 4H), 2.
09-2.14 (m, 2H), 2.27-2.32 (m, 2H), 2.97 (d, J =
13.9 Hz, 2H), 3.76 (d, J =13.9 Hz, 2H), 7.02-7.04
(m, 2H), 7.08-7.11 (m, 2H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 14.28, 14.88, 21.98, 22.
25, 31.61, 34.69, 41.20, 126.20, 129.37, 130.43, 1
37.22, 137.96; HRMS calcd for C24H36 324.2815, found 324.2820.
【0031】実施例4 実施例2と同様の操作により、3−ヘキシンの代わりに
4−オクチンを用い、5,10-ジヒドロ-6,7,8,9-テトラプ
ロピルベンゾシクロオクテンを収率92%で得た。
4−オクチンを用い、5,10-ジヒドロ-6,7,8,9-テトラプ
ロピルベンゾシクロオクテンを収率92%で得た。
【0032】実施例5 5,7,8,9,10,12-ヘキサヒドロ-6,9-ジエチルジベンゾ[a,
e]シクロオクテンの合成
e]シクロオクテンの合成
【0033】
【化6】
【0034】実施例1と同様の操作により、3−ヘキシ
ンの代わりに3,8-ドデカジイン を用い、収率73%で
5,7,8,9,10,12-ヘキサヒドロ-6,9-ジエチルジベンゾ[a,
e]シクロオクテンを得た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及
びHigh Massで確認した。
ンの代わりに3,8-ドデカジイン を用い、収率73%で
5,7,8,9,10,12-ヘキサヒドロ-6,9-ジエチルジベンゾ[a,
e]シクロオクテンを得た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及
びHigh Massで確認した。
【0035】1H NMR (CDCl3, Me4Si) δ 0.93 (t, J =
7.5 Hz, 6H), 1.47-1.51 (m, 2H),1.87-1.92 (m, 4H),
2.01-2.15 (m, 4H), 2.60-2.64 (m, 2H), 3.03 (d, J
= 13.8 Hz, 2H), 3.60 (d, J = 13.8 Hz, 2H), 7.05
-7.12 (m, 4H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 13.93, 25.44, 28.08, 29.
28, 40.85, 126.21, 127.63 130.34, 137.02; HRMS calcd for C20H26 266.2033, found 266.2042.
7.5 Hz, 6H), 1.47-1.51 (m, 2H),1.87-1.92 (m, 4H),
2.01-2.15 (m, 4H), 2.60-2.64 (m, 2H), 3.03 (d, J
= 13.8 Hz, 2H), 3.60 (d, J = 13.8 Hz, 2H), 7.05
-7.12 (m, 4H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 13.93, 25.44, 28.08, 29.
28, 40.85, 126.21, 127.63 130.34, 137.02; HRMS calcd for C20H26 266.2033, found 266.2042.
【0036】実施例6 実施例2と同様の操作により、3−ヘキシンの代わりに
3,8-ドデカジイン を用い、収率88%で5,7,8,9,10,12
-ヘキサヒドロ-6,9-ジエチルジベンゾ[a,e]シクロオク
テンを得た。
3,8-ドデカジイン を用い、収率88%で5,7,8,9,10,12
-ヘキサヒドロ-6,9-ジエチルジベンゾ[a,e]シクロオク
テンを得た。
【0037】実施例7 5,10-ジヒドロ-1,2,3,4,6,7,8,9-オクタエチルベンゾシ
クロオクテンの合成
クロオクテンの合成
【0038】
【化7】
【0039】実施例1と同様の操作により、ビス(ブロ
モメチル)ベンゼンの代わりにビス(ブロモメチル)テ
トラエチルベンゼンを用い、5,10-ジヒドロ-1,2,3,4,6,
7,8,9-オクタエチルベンゾシクロオクテンを収率67%
で得た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及びHigh Massで確認
した。
モメチル)ベンゼンの代わりにビス(ブロモメチル)テ
トラエチルベンゼンを用い、5,10-ジヒドロ-1,2,3,4,6,
7,8,9-オクタエチルベンゾシクロオクテンを収率67%
で得た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及びHigh Massで確認
した。
【0040】1H NMR (CDCl3, Me4Si): δ 0.90 (t, J
= 7.5 Hz, 6H), 1.04 ( t, J = 7.5Hz, 6H), 1.15 (t,
J = 7.5 Hz, 6H), 1.19 (t, J = 7.5 Hz, 6H), 1.94
(q,J = 7.3 Hz, 2H), 1.92-2.42 (m, 8H), 2.63-2.79
(m, 8H), 3.48 (m, 4H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 13.03, 13.94, 15.19, 15.
85, 21.40, 22.77, 22.86, 24.74, 34.17, 132.11, 13
3.31, 137.53, 137.69 (2C); HRMS calcd for C28H44 380.3441, found 380.3452.
= 7.5 Hz, 6H), 1.04 ( t, J = 7.5Hz, 6H), 1.15 (t,
J = 7.5 Hz, 6H), 1.19 (t, J = 7.5 Hz, 6H), 1.94
(q,J = 7.3 Hz, 2H), 1.92-2.42 (m, 8H), 2.63-2.79
(m, 8H), 3.48 (m, 4H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 13.03, 13.94, 15.19, 15.
85, 21.40, 22.77, 22.86, 24.74, 34.17, 132.11, 13
3.31, 137.53, 137.69 (2C); HRMS calcd for C28H44 380.3441, found 380.3452.
【0041】実施例8 実施例2と同様の操作により、ビス(ブロモメチル)ベ
ンゼンの代わりにビス(ブロモメチル)テトラエチルベ
ンゼンを用い、5,10-ジヒドロ-1,2,3,4,6,7,8,9-オクタ
エチルベンゾシクロオクテンを収率95%で得た。
ンゼンの代わりにビス(ブロモメチル)テトラエチルベ
ンゼンを用い、5,10-ジヒドロ-1,2,3,4,6,7,8,9-オクタ
エチルベンゾシクロオクテンを収率95%で得た。
【0042】実施例9 5,10-ジヒドロ-6,7,8,9,11,12-ヘエキサエチルシクロオ
クタ[1,2-a]ナフタレンの合成
クタ[1,2-a]ナフタレンの合成
【0043】
【化8】
【0044】実施例1と同様の操作により、ビス(ブロ
モメチル)ベンゼンの代わりに1,2-ビス(ブロモメチ
ル)-3,4-ジエチルナフタレンを用い、5,10-ジヒドロ-
6,7,8,9,11,12-ヘエキサエチルシクロオクタ[1,2-a]ナ
フタレンを収率38%で得た。生成物は1H-NMR、13C-NM
R及びHigh Massで確認した。
モメチル)ベンゼンの代わりに1,2-ビス(ブロモメチ
ル)-3,4-ジエチルナフタレンを用い、5,10-ジヒドロ-
6,7,8,9,11,12-ヘエキサエチルシクロオクタ[1,2-a]ナ
フタレンを収率38%で得た。生成物は1H-NMR、13C-NM
R及びHigh Massで確認した。
【0045】1H NMR (CDCl3, Me4Si) δ 0.94-1.33 (m,
18H), 2.00-2.44 (m, 8H), 2.94-3.15 (m, 4H), 3.67
(s, 2H), 3.69 (d, J = 14.7 Hz, 1H), 4.17 (d, J =
14.5Hz, 1H), 7.42 (m, 2H), 8.04-8.28 (m, 2H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 13.16, 13.24, 14.06, 14.
11, 15.15, 15.45, 21.49, 21.51, 22.24, 23.35, 25.1
6, 25.33, 33.10, 35.18, 123.72, 124.30, 124.49, 12
4.55, 130.67, 131.09, 131.19, 131.28, 131.81, 133.
94, 135.15, 138.01, 138.23, 138.25; HRMS calcd for C28H38 374.2972, found 374.2963.
18H), 2.00-2.44 (m, 8H), 2.94-3.15 (m, 4H), 3.67
(s, 2H), 3.69 (d, J = 14.7 Hz, 1H), 4.17 (d, J =
14.5Hz, 1H), 7.42 (m, 2H), 8.04-8.28 (m, 2H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 13.16, 13.24, 14.06, 14.
11, 15.15, 15.45, 21.49, 21.51, 22.24, 23.35, 25.1
6, 25.33, 33.10, 35.18, 123.72, 124.30, 124.49, 12
4.55, 130.67, 131.09, 131.19, 131.28, 131.81, 133.
94, 135.15, 138.01, 138.23, 138.25; HRMS calcd for C28H38 374.2972, found 374.2963.
【0046】実施例10 実施例2と同様の操作により、ビス(ブロモメチル)ベ
ンゼンの代わりに1,2-ビス(ブロモメチル)-3,4-ジエ
チルナフタレンを用い、5,10-ジヒドロ-6,7,8,9,11,12-
ヘエキサエチルシクロオクタ[1,2-a]ナフタレンを収率
54%で得た。
ンゼンの代わりに1,2-ビス(ブロモメチル)-3,4-ジエ
チルナフタレンを用い、5,10-ジヒドロ-6,7,8,9,11,12-
ヘエキサエチルシクロオクタ[1,2-a]ナフタレンを収率
54%で得た。
【0047】実施例11 6,11-ジヒドロ-7,8,9,10-テトラエチルシクロオクタ[1,
2-b]ナフタレンの合成
2-b]ナフタレンの合成
【0048】
【化9】
【0049】実施例1と同様の操作により、ビス(ブロ
モメチル)ベンゼンの代わりに2,3-ビス(ブロモメチ
ル)ナフタレンを用い、6,11-ジヒドロ-7,8,9,10-テト
ラエチルシクロオクタ[1,2-b]ナフタレンを収率73%
で得た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及びHigh Massで確認
した。
モメチル)ベンゼンの代わりに2,3-ビス(ブロモメチ
ル)ナフタレンを用い、6,11-ジヒドロ-7,8,9,10-テト
ラエチルシクロオクタ[1,2-b]ナフタレンを収率73%
で得た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及びHigh Massで確認
した。
【0050】1H NMR (CDCl3, Me4Si) δ 0.95 (t, J =
7.6 Hz, 6H), 0.98 (t, J = 7.6 Hz,6H), 2.08-2.20
(m, 6H), 2.36-2.44 (m, 2H), 3.19 (d, J = 13.8 Hz,
2H), 3.93 (d, J = 13.8 Hz, 2H), 7.35-7.38 (m, 2H),
7.53 (s, 2H), 7.72-7.74 (m,2H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 12.96, 13.96, 21.82, 25.
41, 41.44, 124.99, 126.88, 128.14, 131.93, 132.71,
136.44, 137.91; HRMS calcd for C24H30 318.2346, found 318.2347.
7.6 Hz, 6H), 0.98 (t, J = 7.6 Hz,6H), 2.08-2.20
(m, 6H), 2.36-2.44 (m, 2H), 3.19 (d, J = 13.8 Hz,
2H), 3.93 (d, J = 13.8 Hz, 2H), 7.35-7.38 (m, 2H),
7.53 (s, 2H), 7.72-7.74 (m,2H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 12.96, 13.96, 21.82, 25.
41, 41.44, 124.99, 126.88, 128.14, 131.93, 132.71,
136.44, 137.91; HRMS calcd for C24H30 318.2346, found 318.2347.
【0051】実施例12 実施例2と同様の操作により、(ブロモメチル)ベンゼ
ンの代わりに2,3-ビス(ブロモメチル)ナフタレンを用
い、6,11-ジヒドロ-7,8,9,10-テトラエチルシクロオク
タ[1,2-b]ナフタレンを収率89%で得た。
ンの代わりに2,3-ビス(ブロモメチル)ナフタレンを用
い、6,11-ジヒドロ-7,8,9,10-テトラエチルシクロオク
タ[1,2-b]ナフタレンを収率89%で得た。
【0052】実施例13 7,12-ジヒドロ-8,9,10,11-テトラエチルシクロノナ[de]
ナフタレンの合成
ナフタレンの合成
【0053】
【化10】
【0054】実施例1と同様の操作により、ビス(ブロ
モメチル)ベンゼンの代わりに2,3-ビス(ブロモメチ
ル)ナフタレンを用い、7,12-ジヒドロ-8,9,10,11-テト
ラエチルシクロノナ[de]ナフタレンを収率69%で得
た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及びHigh Massで確認し
た。
モメチル)ベンゼンの代わりに2,3-ビス(ブロモメチ
ル)ナフタレンを用い、7,12-ジヒドロ-8,9,10,11-テト
ラエチルシクロノナ[de]ナフタレンを収率69%で得
た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及びHigh Massで確認し
た。
【0055】1H NMR (CDCl3, Me4Si) δ 0.92 (t, J =
7.5 Hz, 6H), 1.11 (t, J = 7.5 Hz, 6H), 2.04-2.08
(m, 2H), 2.37-2.48 (m, 6H), 3.18 (dd, J = 13.8,
2.1 Hz, 2H), 4.26 (d, J = 13.8 Hz, 2H), 7.28-7.33
(m, 4H), 7.61-7.64 (m, 2H); 13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 12.91 (2C), 13.86 (2C),
22.02 (2C), 22.18 (2C), 42.95 (2C), 124.58 (2C), 1
27.23 (2C), 131.57 (2C), 135.55 (2C), 136.89(2C),
137.55 (4C), 138.19; HRMS calcd for C24H30 318.2346, found 318.2336
7.5 Hz, 6H), 1.11 (t, J = 7.5 Hz, 6H), 2.04-2.08
(m, 2H), 2.37-2.48 (m, 6H), 3.18 (dd, J = 13.8,
2.1 Hz, 2H), 4.26 (d, J = 13.8 Hz, 2H), 7.28-7.33
(m, 4H), 7.61-7.64 (m, 2H); 13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 12.91 (2C), 13.86 (2C),
22.02 (2C), 22.18 (2C), 42.95 (2C), 124.58 (2C), 1
27.23 (2C), 131.57 (2C), 135.55 (2C), 136.89(2C),
137.55 (4C), 138.19; HRMS calcd for C24H30 318.2346, found 318.2336
【0056】実施例14 実施例2と同様の操作により、ビス(ブロモメチル)ベ
ンゼンの代わりに2,3-ビス(ブロモメチル)ナフタレン
を用い、7,12-ジヒドロ-8,9,10,11-テトラエチルシクロ
ノナ[de]ナフタレンを収率92%で得た。
ンゼンの代わりに2,3-ビス(ブロモメチル)ナフタレン
を用い、7,12-ジヒドロ-8,9,10,11-テトラエチルシクロ
ノナ[de]ナフタレンを収率92%で得た。
【0057】実施例15 7,12-ジヒドロ-8,9,10,11-テトラプロピルシクロノナ[d
e]ナフタレンの合成
e]ナフタレンの合成
【0058】
【化11】
【0059】実施例13と同様の操作により、3−ヘキ
シンの代わりに4−オクチンを用い、7,12-ジヒドロ-8,
9,10,11-テトラプロピルシクロノナ[de]ナフタレンを収
率67%で得た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及びHigh Ma
ssで確認した。
シンの代わりに4−オクチンを用い、7,12-ジヒドロ-8,
9,10,11-テトラプロピルシクロノナ[de]ナフタレンを収
率67%で得た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及びHigh Ma
ssで確認した。
【0060】1H NMR (CDCl3, Me4Si) δ 0.90 (t, J =
7.3 Hz, 6H), 0.98 (t, J = 7.3 Hz, 6H), 1.21-1.29
(m, 2H), 1.34-1.45 (m, 2H), 1.48-1.57 (m, 2H), 1.
61-1.72 (m, 2H), 2.00-2.08 (m, 2H), 2.29-2.45 (m,
6H), 3.15 (dd, J = 13.7, 2.1 Hz, 2H), 4.27 (d, J
= 13.7 Hz, 2H), 7.30-7.33 (m, 4H), 7.61-7.65 (m,
2H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 14.29 (2C), 14.69 (2C),
21.79 (2C), 22.15 (2C), 31.09 (2C), 31.90 (2C), 4
3.10 (2C), 124.60 (2C), 127.14 (2C), 131.49 (2C),
135.46, 136.08 (2C), 137.04 (2C), 137.56 (2C), 13
8.33; HRMS calc. for C28H38 374.2972, found 374.2973.
7.3 Hz, 6H), 0.98 (t, J = 7.3 Hz, 6H), 1.21-1.29
(m, 2H), 1.34-1.45 (m, 2H), 1.48-1.57 (m, 2H), 1.
61-1.72 (m, 2H), 2.00-2.08 (m, 2H), 2.29-2.45 (m,
6H), 3.15 (dd, J = 13.7, 2.1 Hz, 2H), 4.27 (d, J
= 13.7 Hz, 2H), 7.30-7.33 (m, 4H), 7.61-7.65 (m,
2H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 14.29 (2C), 14.69 (2C),
21.79 (2C), 22.15 (2C), 31.09 (2C), 31.90 (2C), 4
3.10 (2C), 124.60 (2C), 127.14 (2C), 131.49 (2C),
135.46, 136.08 (2C), 137.04 (2C), 137.56 (2C), 13
8.33; HRMS calc. for C28H38 374.2972, found 374.2973.
【0061】実施例16 実施例14と同様の操作により、3−ヘキシンの代わり
に4−オクチンを用いると7,12-ジヒドロ-8,9,10,11-テ
トラプロピルシクロノナ[de]ナフタレンを収率91%で
得た。
に4−オクチンを用いると7,12-ジヒドロ-8,9,10,11-テ
トラプロピルシクロノナ[de]ナフタレンを収率91%で
得た。
【0062】実施例17 7,12-ジヒドロ-8,11-ジエチルベンゾ[6,7]シクロノナ[d
e]ナフタレンの合成
e]ナフタレンの合成
【0063】
【化12】
【0064】実施例13と同様の操作により、3−ヘキ
シンの代わりに3,8-ドデカジインを用い、7,12-ジヒド
ロ-8,11-ジエチルベンゾ[6,7]シクロノナ[de]ナフタレ
ンを収率70%で得た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及びH
igh Massで確認した。
シンの代わりに3,8-ドデカジインを用い、7,12-ジヒド
ロ-8,11-ジエチルベンゾ[6,7]シクロノナ[de]ナフタレ
ンを収率70%で得た。生成物は1H-NMR、13C-NMR及びH
igh Massで確認した。
【0065】1H NMR (CDCl3, Me4Si) δ 1.08 (t, J =
7.6 Hz, 6H), 1.44-1.50 (m, 2H), 1.86-1.91 (m, 4
H), 2.34-2.48 (m, 4H), 2.71-2.75 (m, 2H), 3.18 (d,
J = 13.7 Hz, 2H), 4.23 (d, J = 13.7 Hz, 2H),
7.29-7.35 (m, 4H), 7.61-7.64 (m, 2H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 13.80 (2C), 21.98 (2C),
28.12 (2C), 30.29 (2C), 42.56 (2C), 124.60 (2C), 1
26.97 (2C), 131.41 (2C), 134.46 (2C), 135.26, 135.
86 (2C), 137.28 (2C), 138.50; HRMS calcd for C24H28 316.2190, found 316.2183.
7.6 Hz, 6H), 1.44-1.50 (m, 2H), 1.86-1.91 (m, 4
H), 2.34-2.48 (m, 4H), 2.71-2.75 (m, 2H), 3.18 (d,
J = 13.7 Hz, 2H), 4.23 (d, J = 13.7 Hz, 2H),
7.29-7.35 (m, 4H), 7.61-7.64 (m, 2H);13 C NMR (CDCl3, Me4Si) δ 13.80 (2C), 21.98 (2C),
28.12 (2C), 30.29 (2C), 42.56 (2C), 124.60 (2C), 1
26.97 (2C), 131.41 (2C), 134.46 (2C), 135.26, 135.
86 (2C), 137.28 (2C), 138.50; HRMS calcd for C24H28 316.2190, found 316.2183.
【0066】実施例18 実施例14と同様の操作により、3−ヘキシンの代わり
に3,8-ドデカジインを用い、7,12-ジヒドロ-8,11-ジエ
チルベンゾ[6,7]シクロノナ[de]ナフタレンを収率84
%で得た。
に3,8-ドデカジインを用い、7,12-ジヒドロ-8,11-ジエ
チルベンゾ[6,7]シクロノナ[de]ナフタレンを収率84
%で得た。
【0067】
【発明の効果】本発明の製造法はアセチレン類2分子又
はジイン1分子とビス(ハロメチル)芳香族化合物から
メタラシクロペンタジエンを経由してワンポットと8員
環あるいは9員環化合物を製造できる方法であり、簡便
で効率の良い製造方法を提供することができる。
はジイン1分子とビス(ハロメチル)芳香族化合物から
メタラシクロペンタジエンを経由してワンポットと8員
環あるいは9員環化合物を製造できる方法であり、簡便
で効率の良い製造方法を提供することができる。
Claims (3)
- 【請求項1】 下記一般式(1)で表されるメタラシク
ロペンタジエンと金属塩と下記一般式(2)または
(3)で表されるビス(ハロメチル)芳香族化合物とを
反応させることを特徴とする下記一般式(4)または
(5)で表される8員環化合物または9員環化合物の製
造方法。 【化1】 (一般式(1)〜(5)中、R1〜R14は、それぞれ独
立して、水素原子を意味するか又はアルキル基、アルケ
ニル基、アルキニル基、芳香族基、シリル基、アルコキ
シ基、エステル基若しくはアミノ基を意味する。但しこ
れらの基は、炭素数が1〜20でありかつ置換基を有し
ていてもよい。X1〜X4は、それぞれ独立して、ハロゲ
ン原子を意味する。又、一般式(1)中、Mは遷移金
属、Lは配位子、nは0〜4の整数を表す。) - 【請求項2】 一般式(1)中のMで表される遷移金属
が周期律表4族の遷移金属である請求項1に記載の製造
方法。 - 【請求項3】 一般式(1)中のMで表される遷移金属
がジルコニウムである請求項2に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5839098A JPH11255676A (ja) | 1998-03-10 | 1998-03-10 | 8員環および9員環化合物の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5839098A JPH11255676A (ja) | 1998-03-10 | 1998-03-10 | 8員環および9員環化合物の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11255676A true JPH11255676A (ja) | 1999-09-21 |
Family
ID=13083029
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5839098A Pending JPH11255676A (ja) | 1998-03-10 | 1998-03-10 | 8員環および9員環化合物の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11255676A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005255547A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Japan Science & Technology Agency | アセナフチレン誘導体及びその製造方法 |
-
1998
- 1998-03-10 JP JP5839098A patent/JPH11255676A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005255547A (ja) * | 2004-03-09 | 2005-09-22 | Japan Science & Technology Agency | アセナフチレン誘導体及びその製造方法 |
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