JPH1126543A - 基板搬送装置の位置決め方法およびその装置 - Google Patents

基板搬送装置の位置決め方法およびその装置

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JPH1126543A
JPH1126543A JP9181004A JP18100497A JPH1126543A JP H1126543 A JPH1126543 A JP H1126543A JP 9181004 A JP9181004 A JP 9181004A JP 18100497 A JP18100497 A JP 18100497A JP H1126543 A JPH1126543 A JP H1126543A
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substrate holding
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Yasuo Kawamatsu
康夫 川松
Kazuhiro Nishimura
和浩 西村
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 精度良くかつ効率良い基板搬送機の位置決め
を行う。 【解決手段】 所定位置との位置関係が予め決まってい
るターゲット部材TGと基板保持アーム8との位置関係
を距離センサ21で計測し、この距離センサ21からの
計測データを基にターゲット部材TGと基板保持アーム
8とが予め決められた位置関係になる位置(XC
C ,ZC )を探し、その位置に基づき制御データを自
動的に決める。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板処理装置に組
み込まれた基板搬送装置の基板保持部を基板処理装置内
の所定位置に位置させるように基板保持部を移動させる
ための制御データを決める基板搬送装置の位置決め方法
およびその装置に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、スピンコーター、スピンデベロ
ッパー、スピンスクラバーなどの回転式基板処理部や熱
処理部(ベークユニット)、基板搬送装置などを備えた
基板処理装置では、基板搬送装置によって各基板処理部
間の基板の搬送が行われるとともに、各基板処理部への
基板の搬入/搬出が行われる。各基板処理部への基板の
搬入/搬出は、基板搬送装置の基板保持アームを各基板
処理部ごとに決められた受け渡し位置に位置させて行わ
れるが、基板保持アームが前記受け渡し位置に正確に位
置されていないと、基板保持アームと基板処理部との間
での基板の受け渡しが適正に行えなかったり、基板引き
渡し後の基板処理部による基板処理が精度良く行えない
などの不都合が起こることになる。
【0003】基板搬送装置の基板保持アームを各基板処
理部の受け渡し位置に位置させるように基板保持アーム
を移動させるための制御データは、基板処理装置の設計
時に決められる。
【0004】しかしながら、装置の組み立て精度や機械
的な誤差などによって、個々の基板処理装置ごとに、各
基板処理部や基板搬送装置の配置関係などに誤差が生じ
るのが実状である。従って、上記装置設計時に決められ
る標準の制御データを用いて基板保持アームを移動制御
すると、基板保持アームが前記受け渡し位置からズレる
こともある。
【0005】そのため、個々の基板処理装置ごとに、そ
の装置に組み込まれた基板搬送装置の基板保持アーム
を、その装置に組み込まれた各基板処理部の受け渡し位
置に位置させるように基板保持アームの移動量を調節
し、その調節結果を反映したその装置固有の制御データ
を得る位置決め作業を、装置の設置後で実稼働前などに
行う必要がある。
【0006】この位置決め作業は、従来、作業者の目視
にたよって行われていた。すなわち、所定位置にマーキ
ングされたダミー基板を基板搬送装置の基板保持アーム
に保持させて、前記標準の制御データを用いて位置決め
対象の基板処理部の受け渡し位置へと移動させる。その
状態での基板保持アームの現在位置と、その装置に組み
込まれた基板処理部の望ましい受け渡し位置とのズレ量
(オフセット量)をダミー基板のマーキング位置を基準
として作業者が目視で計測し、そのオフセット量を前記
標準の制御データに加味して装置固有の制御データを決
めていた。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな構成を有する従来例の場合には、次のような問題が
ある。すなわち、従来の基板搬送装置の位置決めは、作
業者の目視によって行っていたので、精度良い位置決め
が行えなかった。特に、ベークユニットのように基板処
理部内を上から見ることができない基板処理部に対する
基板搬送装置の位置決め精度は一層悪かった。
【0008】また、1台の基板処理装置に複数の基板処
理部が組み込まれている場合には、作業者が全ての基板
処理部に対する位置決め作業を目視で行わなければなら
ず、作業者の負担が大きく、位置決め作業に長時間を要
し、効率が悪かった。
【0009】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、精度良くかつ効率が良い基板搬送装置
の位置決め方法およびその装置を提供することを目的と
する。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために、次のような構成をとる。すなわ
ち、請求項1に記載の発明は、基板処理装置に組み込ま
れた基板搬送装置の基板保持部を前記基板処理装置内の
所定位置に位置させるように前記基板保持部を移動させ
るための制御データを決める基板搬送装置の位置決め方
法であって、前記所定位置との位置関係が予め決まって
いるターゲット部材と前記基板保持部との位置関係をセ
ンサで計測し、前記センサからの計測データを基に前記
ターゲット部材と前記基板保持部とが予め決められた位
置関係になる位置を探し、その位置に基づき前記制御デ
ータを自動的に決めることを特徴とするものである。
【0011】請求項2に記載の発明は、基板処理装置に
組み込まれた基板搬送装置の基板保持部を前記基板処理
装置内の所定位置に位置させるように前記基板保持部を
移動させるための制御データを決める基板搬送装置の位
置決め装置であって、前記所定位置との位置関係が予め
決まっているターゲット部材と前記基板保持部との位置
関係を計測するセンサと、前記センサからの計測データ
を基に前記ターゲット部材と前記基板保持部とが予め決
められた位置関係になる位置を探し、その位置に基づき
前記制御データを決める制御データ決定手段と、を備え
たことを特徴とするものである。
【0012】請求項3に記載の発明は、上記請求項2に
記載の基板搬送装置の位置決め装置において、前記セン
サからの計測データを前記制御データ決定手段に無線で
伝送するように構成したことを特徴とするものである。
【0013】請求項4に記載の発明は、上記請求項2ま
たは3に記載の基板搬送装置の位置決め装置において、
前記基板保持部に対して予め決められた装着位置に着脱
自在に装着可能な位置決め治具を備え、前記位置決め治
具に前記センサを取り付けたことを特徴とするものであ
る。
【0014】請求項5に記載の発明は、上記請求項2な
いし4のいずれかに記載の基板搬送装置の位置決め装置
において、前記センサを、前記ターゲット部材との距離
を計測する距離センサで構成したことを特徴とするもの
である。
【0015】請求項6に記載の発明は、上記請求項2な
いし4のいずれかに記載の基板搬送装置の位置決め装置
において、前記センサを、検出光の照射方向を直交させ
て配置した2組の透過型光センサで構成したことを特徴
とするものである。
【0016】
【作用】請求項1に記載の方法発明の作用は次のとおり
である。基板保持部を位置させたい所定位置との位置関
係が予め決まっているターゲット部材を決めておく。基
板処理装置組み立て後において、このターゲット部材と
基板保持部との位置関係が予め決められた位置関係から
ずれている場合、その位置関係をセンサで計測し、セン
サからの計測データを基にターゲット部材と基板保持部
とが予め決められた位置関係になる位置を探す。前記所
定位置とターゲット部材との位置関係は既知であるの
で、装置組み立て後のターゲット部材と基板保持部とが
予め決められた位置関係になる位置がわかれば、装置組
み立て後の前記所定位置の位置が把握でき、制御データ
を自動的を決めることができる。
【0017】請求項2に記載の装置発明は、上記請求項
1に記載の方法発明を好適に実施するためのもので、そ
の作用は次のとおりである。制御データ決定手段は、セ
ンサからの計測データを基にターゲット部材と基板保持
部とが予め決められた位置関係になる位置を探し、その
位置に基づき制御データを決める。
【0018】請求項3に記載の発明によれば、センサか
らの計測データが制御データ決定手段に無線で伝送され
る。
【0019】請求項4に記載の発明によれば、センサを
取り付けた位置決め治具を基板保持部に対して予め決め
られた装着位置に装着して位置決め作業を行う。位置決
め治具は基板保持部に対して予め決められた装着位置に
装着されるので、センサと基板保持部とが常に同じ位置
関係にある状態で、ターゲット部材と基板保持部との位
置関係を計測することができる。位置決め作業が終了す
ると、位置決め治具を基板保持部から取り外し、得られ
た制御データで装置が稼働される。
【0020】請求項5に記載の発明によれば、距離セン
サでターゲット部材との距離を計測しつつ、この計測デ
ータを基に、制御データ決定手段は、ターゲット部材と
基板保持部とが予め決められた位置関係になる位置を探
し、その位置に基づき制御データを決める。
【0021】請求項6に記載の発明によれば、検出光の
照射方向を直交させて配置した2組の透過型光センサ
で、ターゲット部材の透過/遮光状態を計測しつつ、こ
の計測データを基に、制御データ決定手段は、ターゲッ
ト部材と基板保持部とが予め決められた位置関係になる
位置を探し、その位置に基づき制御データを決める。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明の実
施の形態を説明する。図1は、本発明が適用される基板
処理装置の一例の全体構成を示す斜視図である。
【0023】この基板処理装置は、基板(半導体ウエ
ハ)Wにフォトレジスト等を塗布して熱処理するための
装置であり、大きく分けて、未処理基板Wを保管したり
処理済基板Wを保管する部分(インデクサモジュール)
1と、基板処理に係るプロセスモジュール2とから構成
されている。
【0024】インデクサモジュール1の載置台3は、基
板Wを多段に積層収納したカセットCが複数個(図では
4個)一列状態に載置可能に構成されている。インデク
サモジュール1には、各カセットCに対する基板Wの出
し入れや、各カセットCと所定の基板受け渡し位置Pと
の間で基板Wを搬送する基板搬入搬出装置4が設けられ
ている。なお、前記受け渡し位置Pは、プロセスモジュ
ール2内の基板搬送装置7と基板搬入搬出装置4との間
で基板Wの受け渡しを行う位置である。
【0025】プロセスモジュール2には、熱処理部5
(図では6台設置)や、レジスト塗布処理部(スピンコ
ーター)6(図では2台設置)の基板処理部と、各基板
処理部5、6へ所定の順番で基板Wを搬送するととも
に、各基板処理部5、6に対して基板Wを搬入/搬出す
る基板搬送装置7とが設けられている。
【0026】図2に示すように、熱処理部5は、熱プレ
ート(ホットプレート又はクールプレート)5aと、3
本の固定支持ピン5bと、昇降可能な3本の昇降支持ピ
ン5cとを備えて構成されている。昇降支持ピン5cが
上昇された状態で基板搬送装置7の基板保持アーム8と
の間で基板Wの受け渡しが行われ、昇降支持ピン5cが
下降された状態で固定支持ピン5bとともに基板Wを熱
プレート5aから微小間隔隔てて支持し、この状態で基
板Wに熱処理が施される。
【0027】レジスト塗布処理部6は、周知のようにス
ピンチャック6aやカップ6b、図示しないレジスト塗
布ノズルなどを備えて構成されている。スピンチャック
6aとカップ6bとは相対昇降可能に構成されていて、
スピンチャック6aがカップ6bの上方に突出された状
態で基板搬送装置7の基板保持アーム8との間で基板W
の受け渡しが行われ、ピンチャック6aがカップ6b内
に収納された状態で基板Wにレジスト塗布処理が施され
る。
【0028】基板搬送装置7は、先端側が二股に分かれ
た略Y字型の基板保持アーム8を備えている。この基板
保持アーム8は、図3に示すように、基板Wの下面を点
接触で支持する複数本(図では4本)の支持ピン8a
と、支持ピン8aに支持された基板Wの水平位置を規制
する水平規制部材8bとを備えている。図中のJ1、J
2は、基板Wが保持された状態で基板Wの中心WCを通
る水平面の直交軸線を示す。
【0029】基板保持アーム8はアーム基台9に対して
伸縮可能に構成されている。アーム基台9は鉛直軸周り
に旋回可能に構成されていて、基板保持アーム8の伸縮
方向を変えられるようになっている。また、アーム基台
9は、昇降可能で、基板搬送路TRに沿った移動も可能
に構成されている。この基板搬送装置7の動作は、制御
部10(図4参照)によって基板処理装置内に適宜に設
定されたXYZの3次元直交座標系に従って行われる。
なお、ここでは、X方向をカセットCの並列方向(各基
板処理部5、6に基板Wを搬入/搬出する際に各基板処
理部5、6に向けて基板保持アーム8が伸縮される方
向)とし、Y方向を前記基板搬送路TRに沿った方向と
し、Z方向を鉛直方向としている。また、アーム基台9
の上面後端には、光受信ユニット23が取り付けられて
いる。
【0030】図4に示すように、制御部10はメモリ1
1に記憶された制御データを基に、基板搬送装置7のY
方向移動部7a(搬送路TRに沿った移動を行う駆動
部)、昇降移動部7b、旋回駆動部7c、アーム伸縮駆
動部7dを駆動制御して基板搬送装置7の動作制御を行
う。
【0031】メモリ11に記憶される制御データは、例
えば、各基板処理部5、6に基板Wを搬入/搬出する際
の、各基板処理部5、6の基板Wの受け渡し位置に関す
るデータや旋回角度に関するデータを含んでいる。な
お、アーム基台9に2本以上の基板保持アーム7が搭載
されている場合には、各基板保持アーム8ごとの制御デ
ータがメモリ11に記憶される。
【0032】例えば、熱処理部5の受け渡し位置は図5
に示すように決められる。すなわち、X、Y方向の受け
渡し位置は、互いに対向する固定支持ピン5bの中心と
昇降支持ピン5cの中心を通る3本の軸線の交点と、基
板保持アーム8の軸線J1、J2の交点とが一致する位
置である。基板Wの搬入時のZ方向の受け渡し位置(こ
こでは、受け渡し動作が開始されるZ方向の位置を意味
する:以下同じ)は、昇降支持ピン5cが上昇された位
置から所定量(Z1)上方の位置であり、基板Wの搬出
時のZ方向の受け渡し位置は、昇降支持ピン5cが上昇
された位置から所定量(Z2)下方の位置である。搬入
時の基板Wの受け渡しは、基板Wを保持した基板保持ア
ーム8が上記受け渡し位置に位置した状態で所定量下降
されることで、その下降途中に上昇された昇降支持ピン
5cに基板Wが引き渡されることで行われる。また、搬
出時の基板Wの受け渡しは、空の基板保持アーム8が上
記受け渡し位置に位置した状態で所定量上昇されること
で、基板Wを支持して上昇された昇降支持ピン5cから
基板Wをすくい上げるように受け取ることで行われる。
【0033】レジスト塗布処理部6の受け渡し位置は図
6に示すように決められる。すなわち、X、Y方向の受
け渡し位置は、スピンチャック6aの中心CJと、基板
保持アーム8の軸線J1、J2の交点とが一致する位置
である。基板Wの搬入時のZ方向の受け渡し位置は、ス
ピンチャック6aの上面から所定量(Z3)上方の位置
であり、基板Wの搬出時のZ方向の受け渡し位置は、ス
ピンチャック6aの上面から所定量(Z4)下方の位置
である。搬入時の基板Wの受け渡しは、基板Wを保持し
た基板保持アーム8が上記受け渡し位置に位置した状態
で所定量下降されることで、その下降途中にスピンチャ
ック6aに基板Wが引き渡されることで行われる。ま
た、搬出時の基板Wの受け渡しは、空の基板保持アーム
8が上記受け渡し位置に位置した状態で所定量上昇され
ることで、基板Wを載置したスピンチャック6aから基
板Wをすくい上げるように受け取ることで行われる。
【0034】例えば、ある基板処理部(第1の基板処理
部)の受け渡し位置の座標を(X1,Y1 ,Z1 )と
し、別の基板処理部(第2の基板処理部)の受け渡し位
置の座標を(X2 ,Y2 ,Z2 )とした場合、第1の基
板処理部から第2の基板処理部への搬送は、アーム基台
9を、(Y2 −Y1 )だけ搬送路TRに沿って移動させ
るとともに、(Z2 −Z1 )だけ上昇または下降させる
ことで行われる。なお、熱処理部5とレジスト塗布処理
部6との間の搬送の際には、アーム基台9が180°旋
回される動作が伴う。また、X1 、X2 は、基板保持ア
ーム8が収縮された状態(この状態のX方向の位置座標
をX0 とする)からの伸長量を決めるデータである。例
えば、第1の基板処理部に対する基板Wの搬入は、基板
保持アーム8が(X0 ,Y1 ,Z1 )に位置された状態
からabs(X1 −X0)(abs( )は絶対値)だけ伸長されて
行われ、第1の基板処理部に対する基板Wの搬出は、基
板保持アーム8が(X1 ,Y1 ,Z1 )に位置された状
態から(X0 ,Y1 ,Z1 )の位置まで収縮されて行わ
れる。第2の基板処理部に対する基板Wの搬入/搬出も
同様に基板保持アーム8の伸縮量をabs(X2 −X0)にし
て行われる。
【0035】装置の設置後、後述する位置決め作業を終
えて、この装置固有の制御データがメモリ11に保存さ
れると、装置は実稼働可能な状態となる。この状態で、
設定器12から設定された処理手順に従って、制御部1
0は基板搬送装置7を制御して所定の順序で各基板処理
部5、6へ基板Wを順次搬送させる。
【0036】先にも説明したように、装置の組み立て精
度や機械的な誤差などによって、装置設計時に決められ
る標準の制御データを用いて基板搬送装置7を制御する
と、基板保持アーム8が受け渡し位置からズレることも
ある。そのため、本実施例では、位置合わせ作業を自動
的に行うための機能を備えている。この具体的な構成を
以下に詳述する。
【0037】図7は位置決め治具20の構成を示す図で
ある。この位置決め治具20は、熱処理部5に対する位
置決めを行うためのもので、下面に凸部が形成されてい
て、基板保持アーム8の中央開口部に嵌まり込むように
構成され、図の左右方向の位置決めが行われるようにな
っている(図7(b))。また、バネ20aによって外
側に付勢されるように止め部材20bが設けられている
(図7(c))。止め部材20bにはピン20cが連結
されている。このピン20cはストッパーとしての長孔
20dから突出されている。このピン20cを手動で内
側に移動させて止め部材20bを内側に引き戻し、位置
決め治具20を基板保持アーム8にセットしてピン20
cを離すことで、止め部材20bが外側に付勢され、位
置決め治具20の端面および止め部材20bが、基板保
持アーム8の水平規制部材8bの内周面を押し付け、図
の上下方向の位置決めが行われるように構成されている
(図7(a))。これにより、位置決め治具20は基板
保持アーム8の予め決められた位置に装着することがで
きる。
【0038】位置決め治具20の上面には、反射型の光
センサで構成される距離センサ21と光送信ユニット2
2とが所定位置に取り付けられている。距離センサ21
は、その検出光の照射方向が基板保持アーム8の軸線J
1と一致する位置に取り付けられている。光送信ユニッ
ト22は、アーム基台9に設けられた光受信ユニット2
3と対向し、その間でデータの伝送が可能な位置に取り
付けられている。
【0039】この距離センサ21は、光照射端とターゲ
ット部材との間の距離が予め設定された基準距離d(こ
の基準距離dは適宜に変更できる)にあるとき検出信号
S1を出力し、光照射端とターゲット部材との間の距離
が前記基準距離d+α(このαも適宜に変更できる)の
範囲内にあるとき検出信号S2を出力し、光照射端とタ
ーゲット部材との間の距離が前記基準距離d+αの範囲
を越えたとき検出信号S3を出力し、光照射端とターゲ
ット部材との間の距離が前記基準距離d以下のとき検出
信号S4を出力するように構成されている。距離センサ
21から出力された検出信号は、光送信ユニット22に
与えられ、そこから光伝送によって光受信ユニット23
に伝送され、制御部10に与えられるようになっている
(図4参照)。
【0040】光送信ユニット22と光受信ユニット23
とは、例えば、赤外線などの光でデータの送受信を行う
ユニットであるが、距離センサ21から出力された検出
信号を無線で伝送できるものであれば、光以外にも電波
などにより伝送するように構成してもよい。なお、距離
センサ21からの検出信号の伝送は有線で(ケーブルを
介して)行ってもよいが、そのように構成すれば、基板
保持アーム8の伸縮に伴ってケーブルが絡まったり、位
置決め作業の前と後でケーブルの配線などを行う必要が
あるなどの不都合が伴うので、距離センサ21からの検
出信号の伝送は無線で行うのが好ましい。
【0041】次に、上記位置決め治具20などを用い
た、熱処理部5に対する自動位置決めの方法を説明す
る。
【0042】まず、位置決め治具20を基板保持アーム
8に上述したように装着し、メモリ11に現在記憶され
ている制御データ(装置の設置時は装置設計時に決めら
れる標準の制御データ)に基づいて、基板保持アーム8
を位置決め対象の熱処理部5の搬出時の受け渡し位置へ
と移動させ、昇降支持ピン5cを上昇させる。この動作
が完了した状態を図8に示す。以下では、図の右側の昇
降支持ピン5cをターゲット部材TGとして位置決めす
る場合を例に採って説明する。この状態で基板保持アー
ム8は図5で説明した予め決められた受け渡し位置から
XYZ方向にズレていることがあるが、以下のようにX
YZの各方向の位置決めを行うことで、この熱処理部5
における正確な制御データを得ることができる。
【0043】まず、X方向の位置決め(図5に示す予め
決められた受け渡し位置のX方向の制御データの特定)
を以下のように行う。制御部10は距離センサ21から
の検出信号を監視しながら、図9(a)の矢印に示すよ
うに、基板保持アーム8をX方向に伸長させていき、距
離センサ21が検出信号S3を出力する位置X10を探
す。なお、距離センサ21からの検出光がターゲット部
材TGに照射されている間は、距離センサ21からは検
出信号S1又はS2又はS4が出力されている。次に、
制御部10は距離センサ21からの検出信号を監視しな
がら基板保持アーム8をX方向に収縮させていき、図9
(b)に示すように、距離センサ21が検出信号S3を
出力する位置X11を探す。X10とX11が求まると、その
中心位置XC を演算で求める。このXC が、この熱処理
部5における受け渡し位置のX方向の位置座標(制御デ
ータ)である。
【0044】なお、図8の初期位置において、X方向の
受け渡し位置がXC から大きく外れていた場合、初期の
距離センサ21からの検出信号はS3である。この場合
には、基板保持アーム8をX方向に伸長、収縮させなが
ら、距離センサ21からの検出信号がS3からS1又は
S2又はS4に切り替わる位置(X10又はX11)を探
す。基板保持アーム8をX方向に伸長させながら、距離
センサ21からの検出信号がS3からS1又はS2又は
S4に切り替わる位置が見つかったときには、その位置
はX11であるので、さらに、基板保持アーム8をX方向
に伸長させてX10を探す。一方、基板保持アーム8をX
方向に収縮させながら、距離センサ21からの検出信号
がS3からS1又はS2又はS4に切り替わる位置が見
つかったときには、その位置はX10であるので、さら
に、基板保持アーム8をX方向に収縮させてX11を探
す。
【0045】次に、Y方向の位置決め(予め決められた
受け渡し位置のY方向の制御データの特定)を以下のよ
うに行う。まず、上記で求めた位置XC に基板保持アー
ム8を移動させる。その状態で、制御部10は距離セン
サ21からの検出信号を監視しながら基板保持アーム8
をY方向に移動させて、図9(c)に示すように、距離
センサ21が検出信号S1を出力する位置YC を探す。
距離センサ21を位置決め治具20に取り付けた段階
で、予め決められた受け渡し位置に位置しているときの
距離センサ21の光照射端とターゲット部材との間の距
離Dが決まるので、距離センサ21の基準距離dを上記
距離Dに設定しておけば、上記位置YC が、この熱処理
部5における受け渡し位置のY方向の位置座標(制御デ
ータ)である。
【0046】次に、Z方向の位置決め(予め決められた
受け渡し位置のZ方向の制御データの特定)を以下のよ
うに行う。制御部10は距離センサ21からの検出信号
を監視しながら基板保持アーム8をZ方向に上昇させ
て、図9(d)に示すように、距離センサ21が検出信
号S3を出力する位置ZC を探す。距離センサ21を位
置決め治具20に取り付けた段階で、図の距離Z10が
決まるので、この熱処理部5における搬入時の受け渡し
位置のZ方向の位置座標(制御データ)は(Zc +Z1
0+Z1)であり、搬出時の受け渡し位置のZ方向の位
置座標(制御データ)は(Zc +Z10−Z2)である
(図5参照)。
【0047】上述したように決められたXYZ方向の位
置座標(制御データ)を、この熱処理部5に対する制御
データとしてメモリ11に記憶して、この熱処理部5に
対する位置決めを終了する。他の熱処理部5に対する位
置決めも同様に行われる。
【0048】なお、距離センサ21としては、上記S
1、S2、S3、S4のような信号を出力されるものに
限らず、距離センサ21の光照射端とターゲット部材と
の間の実距離を逐次出力するものを用いてもよい。この
ような距離センサ21を用いた場合には、各方向の位置
決めは以下のように行えばよい。まず、X方向の位置決
めでは、距離センサ21の検出位置がX10、X11の範囲
内にある状態での距離センサ21からの出力データ(距
離)に比べて、X10、X11の範囲外にある状態での距離
センサ21からの出力データ(距離)が極端に大きくな
るので、その距離の変化を監視することで、X10、X11
が決まりXC が求められる。Y方向の位置決めでは、X
C に基板保持アーム8を移動させた状態での、距離セン
サ21からの出力データ(距離)を得て、その現在の実
距離と、予め決められた受け渡し位置に位置された場合
の距離センサ21の光照射端とターゲット部材との間の
距離Dとの差により、予め決められた受け渡し位置から
の現在のズレ量が決まるので、このズレ量を初期のY方
向の位置に加味すればYC が得られる。この場合、基板
保持アーム8のY方向への移動は不要となる。Z方向の
位置決めでは、距離センサ21の検出位置がZC の下と
上とで距離センサ21からの出力データ(距離)が大き
く変化するので、その距離の変化を監視することでZC
が求められる。
【0049】次に、熱処理部5に対する位置決めのため
の別の実施例を図10を参照して説明する。
【0050】この実施例の位置決め治具30は、ターゲ
ット部材TG側に張り出し部が設けられ、その張り出し
部にターゲット部材TGを貫通させてXY方向への移動
を許容する開口31が設けられている。また、投光器3
2a、33a、受光器32b、33bで構成される2組
の透過型光センサ(32a、32b)、(33a、33
b)が、各センサの検出光の照射方向をXY軸に平行に
して各々直交させた状態で、かつ、透過型光センサ(3
2a、32b)の検出軸線KJ1が軸線J1に一致する
ように位置決め治具30に取り付けられている。光送信
ユニット22は各センサからのON、OFF信号(ここ
では、ONを透過状態、OFFを不透過状態とするが、
その逆であってもよい)を区分して伝送するように構成
されている。その他の構成は上記実施例のものと同じで
あるので、共通する部分は図7と同一符号を付してその
詳述を省略する。なお、投光器32a、33aの検出光
の照射位置に光ファイバーの照射端を配設し、受光器3
2b、33bの検出光の受光位置に光ファイバーの入射
端を配設して、投光器32a、33a、受光器32b、
33bを別の場所に配設してもよい。
【0051】この位置決め治具30を用いた、熱処理部
5に対する自動位置決めは以下のように行われる。
【0052】まず、位置決め治具30を装着した基板保
持アーム8をメモリ11に現在記憶されている制御デー
タに基づいて、基板保持アーム8を位置決め対象の熱処
理部5の搬出時の受け渡し位置へと移動させ、昇降支持
ピン5cを上昇させ、ターゲット部材TGを開口31内
に貫通させる。この状態でXYZ方向の位置決めを以下
のように行う。
【0053】X方向の位置決めは以下のように行う。制
御部10は、検出光の照射方向がY方向に平行である一
方の透過型光センサ(32a、32b)からのON、O
FFを監視しながら基板保持アーム8をX方向に伸長、
短縮させていき、図11(a)に示すように、ON、O
FFが切り替わる位置X10、X11を探し、X10とX11
中心位置XC を演算で求める。このX C が、この熱処理
部5における受け渡し位置のX方向の位置座標(制御デ
ータ)である。
【0054】Y方向の位置決めは、検出光の照射方向が
X方向に平行である他方の透過型光センサ(33a、3
3b)を用いて、X方向の位置決めと同じ動作で行うこ
とができる。すなわち、制御部10は前記他方の透過型
光センサ(33a、33b)からのON、OFFを監視
しながら基板保持アーム8をY方向に移動させていき、
図11(b)に示すように、ON、OFFが切り替わる
位置Y10、Y11を探し、Y10とY11の中心位置YC を演
算で求める。このYC が、この熱処理部5における受け
渡し位置のY方向の位置座標(制御データ)となるよう
に、前記他方の透過型光センサ(33a、33b)の取
り付け位置が決められている。なお、図中のY10’、Y
11’、YC ’は、基板搬送アーム8の軸線J2がY10
11、Y C に位置したときの前記他方の透過型光センサ
(33a、33b)の検出位置を示し、KDは、基板搬
送アーム8の軸線J2と前記他方の透過型光センサ(3
3a、33b)の検出位置との間の距離を示している。
【0055】Z方向の位置決めは以下のように行う。制
御部10は双方の透過型光センサ(32a、32b)、
(33a、33b)からのON、OFFを監視しながら
基板保持アーム8をZ方向に上昇させていく。このと
き、図11(c)に示すように、検出光の照射方向がX
方向に平行である透過型光センサ(33a、33b)か
らの信号が先にOFFからONに切り替わり、さらに基
板保持アーム8をZ方向に上昇させていくと、図11
(d)に示すように、検出光の照射方向がY方向に平行
である透過型光センサ(32a、32b)からの信号が
次にOFFからONに切り替わりる。制御部10は、透
過型光センサ(32a、32b)からの信号がOFFか
らONに切り替わる位置ZCを探す。この位置ZC が得
られれば、上記図7の実施例と同様の演算で、この熱処
理部5における搬入/搬出時の受け渡し位置のZ方向の
位置座標(制御データ)を決めることができる。
【0056】次に、レジスト塗布処理部6に対する位置
決めのための実施例を図12を参照して説明する。この
実施例の位置決め治具40は、ターゲット部材TGとし
てのスピンチャック6aの三方を囲む「コ」の字型の形
状に構成され、水平規制部材8bに係止される係止部4
0aが止め部材20bの側方に形成されている。そし
て、Y方向の距離を計測する距離センサ21Yが、内側
のスピンチャック6aに受けて検出光を照射するよう
に、その検出光の照射方向をJ1に一致させて位置決め
治具40に取り付けられている。その他の構成は上記実
施例のものと同じであるので、共通する部分は図7を同
一符号を付してその詳述を省略する。
【0057】この位置決め治具40を用いた、レジスト
塗布処理部6に対する自動位置決め(XYZ方向の位置
決め)は、それぞれ図7の実施例のXYZ方向の位置決
めと同様の動作で行うことができる。
【0058】なお、上記距離センサ21Yに代えて、図
12の二点鎖線で示すように、X方向の距離を計測する
距離センサ21Xを、その検出光の照射方向をJ2に一
致させて位置決め治具40に取り付けるように構成して
もよい。この場合には、まず、Y方向の位置決めを行
い、次に、X方向の位置決めを行い、最後にZ方向の位
置決めを行う。
【0059】また、上記距離センサ21X、21Yの両
方を取り付けるように構成してもよい。この場合は、X
方向の位置決めを距離センサ21Yで、Y方向の位置決
めを距離センサ21Xでそれぞれ行うことができる。
【0060】基板処理装置に現像処理部(スピンデベロ
ッパー)が設けられている場合には、その現像装置に対
する位置決めも上記レジスト塗布処理部6と同様にして
行うことができる。
【0061】図12の位置決め治具40に図7で説明し
た距離センサ21を取り付ければ、熱処理部5に対する
位置決めとレジスト塗布処理部6に対する位置決めとを
行うことができる。図12の位置決め治具40の一方の
側方に張り出し部と図12で説明した開口31とを設け
るとともに、2組の透過型光センサ(32a、32
b)、(33a、33b)を取り付けても、両基板処理
部5、6に対する位置決めを行うことができる。
【0062】また、その他の基板処理部に対しても本発
明は同様に適用でき、さらには、基板搬入搬出装置4と
の間で基板Wの受け渡しを行う受け渡し位置に対する位
置決めなどにも本発明は適用することができる。
【0063】上記各実地例では、位置決め治具を備える
ように構成したが、位置決め治具を備えずに、センサを
直接基板保持アーム8の適宜の位置に取り付けるように
構成してもよい。
【0064】また、位置決めは、装置の設置後に行う以
外にも、定期的に行うようにしてもよい。
【0065】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、請求項
1に記載の方法発明によれば、所定位置との位置関係が
予め決まっているターゲット部材と基板保持部との位置
関係をセンサで計測し、センサからの計測データを基に
ターゲット部材と基板保持部とが予め決められた位置関
係になる位置を探し、その位置に基づき制御データを自
動的に決めるので、位置決め精度を向上でき、また、作
業者への負担を大幅に軽減でき、さらに、作業時間の短
縮を図ることもできる。
【0066】請求項2に記載の発明によれば、請求項1
に記載の方法発明を好適に実施できる装置を実現するこ
とができる。
【0067】請求項3に記載の発明によれば、センサか
らの計測データを制御データ決定手段に無線で伝送する
ように構成したので、位置決め作業中にケーブルが絡ま
るような不都合を解消でき、位置決め作業前後のケーブ
ルの配線作業なども無くすことができる。
【0068】請求項4に記載の発明によれば、基板保持
部に対して予め決められた装着位置に着脱自在に装着可
能な位置決め治具を備え、この位置決め治具にセンサを
取り付けたので、簡単な構成で、必要なときだけセンサ
を基板保持部に配設させることができる。
【0069】請求項5、6に記載の発明によれば、簡単
なセンサによって位置決め装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明が適用される基板処理装置の一例の全体
構成を示す斜視図である。
【図2】熱処理部の構成を示す平面図と正面図である。
【図3】基板保持アームの構成を示す平面図と側面図で
ある。
【図4】基板処理装置の制御系の構成を示すブロック図
である。
【図5】熱処理部の予め決められた受け渡し位置を示す
平面図とA−A矢視断面図である。
【図6】レジスト塗布処理部の予め決められた受け渡し
位置を示す平面図とB−B矢視断面図である。
【図7】熱処理部に対して自動位置決めするための位置
決め治具の構成を示す平面図とC−C矢視断面図と止め
部材付近の拡大平面図である。
【図8】図7の実施例による自動位置決めの際に基板保
持アームが初期位置を位置している状態を示す平面図と
D−D矢視断面図である。
【図9】図7の実施例による自動位置決め方法を説明す
るための図である。
【図10】熱処理部に対して自動位置決めするための別
の位置決め治具の構成を示す平面図とE−E矢視断面図
である。
【図11】図11の実施例による自動位置決め方法を説
明するための図である。
【図12】レジスト塗布処理部に対して自動位置決めす
るための位置決め治具の構成を示す平面図とF−F矢視
断面図である。
【符号の説明】
5:熱処理部 6:レジスト塗布処理部 7:基板搬送装置 8:基板保持アーム 10:制御部 11:メモリ 20、30、40:位置決め治具 21、21X、21Y:距離センサ 22:光送信ユニット 23:光受信ユニット (32a、32b)、(33a、33b):透過型光セ
ンサ TG:ターゲット部材 W:基板

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板処理装置に組み込まれた基板搬送装
    置の基板保持部を前記基板処理装置内の所定位置に位置
    させるように前記基板保持部を移動させるための制御デ
    ータを決める基板搬送装置の位置決め方法であって、 前記所定位置との位置関係が予め決まっているターゲッ
    ト部材と前記基板保持部との位置関係をセンサで計測
    し、前記センサからの計測データを基に前記ターゲット
    部材と前記基板保持部とが予め決められた位置関係にな
    る位置を探し、その位置に基づき前記制御データを自動
    的に決めることを特徴とする基板搬送装置の位置決め方
    法。
  2. 【請求項2】 基板処理装置に組み込まれた基板搬送装
    置の基板保持部を前記基板処理装置内の所定位置に位置
    させるように前記基板保持部を移動させるための制御デ
    ータを決める基板搬送装置の位置決め装置であって、 前記所定位置との位置関係が予め決まっているターゲッ
    ト部材と前記基板保持部との位置関係を計測するセンサ
    と、 前記センサからの計測データを基に前記ターゲット部材
    と前記基板保持部とが予め決められた位置関係になる位
    置を探し、その位置に基づき前記制御データを決める制
    御データ決定手段と、を備えたことを特徴とする基板搬
    送装置の位置決め装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の基板搬送装置の位置決
    め装置において、 前記センサからの計測データを前記制御データ決定手段
    に無線で伝送するように構成したことを特徴とする基板
    搬送装置の位置決め装置。
  4. 【請求項4】 請求項2または3に記載の基板搬送装置
    の位置決め装置において、 前記基板保持部に対して予め決められた装着位置に着脱
    自在に装着可能な位置決め治具を備え、 前記位置決め治具に前記センサを取り付けたことを特徴
    とする基板搬送装置の位置決め装置。
  5. 【請求項5】 請求項2ないし4のいずれかに記載の基
    板搬送装置の位置決め装置において、 前記センサを、前記ターゲット部材との距離を計測する
    距離センサで構成したことを特徴とする基板搬送装置の
    位置決め装置。
  6. 【請求項6】 請求項2ないし4のいずれかに記載の基
    板搬送装置の位置決め装置において、 前記センサを、各検出光の照射方向を直交させて配置し
    た2組の透過型光センサで構成したことを特徴とする基
    板搬送装置の位置決め装置。
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