JPH11265580A - Semiconductor storage device - Google Patents

Semiconductor storage device

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JPH11265580A
JPH11265580A JP10084926A JP8492698A JPH11265580A JP H11265580 A JPH11265580 A JP H11265580A JP 10084926 A JP10084926 A JP 10084926A JP 8492698 A JP8492698 A JP 8492698A JP H11265580 A JPH11265580 A JP H11265580A
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Michihiro Mishima
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 簡単な構成によりメモリサイクル時間を短く
し、高周波数でのクロック信号でのメモリ動作を実現し
た半導体記憶装置を提供する。 【解決手段】 複数のワード線と複数の相補ビット線の
交点に複数のメモリセルが設けられてなるメモリアレイ
と、上記複数の相補ビット線の中から選択信号により選
択されたものを共通相補入出力線に接続させるカラムス
イッチと、上記共通相補入出力線を所定の同じ電位に設
定するプリチャージ回路とを備えた半導体記憶装置にお
いて、読み出し時にはカラムスイッチの選択期間を長く
するとともにその分上記共通相補入出力線のプリチャー
ジ期間を短くし、書き込み時にはカラムスイッチの選択
期間を短くするとともにその分上記共通相補入出力線の
プリチャージ期間を長くして上記読み出し時と書き込み
時のメモリサイクル期間をほぼ同一にする。
(57) [Problem] To provide a semiconductor memory device in which a memory cycle time is shortened by a simple configuration and a memory operation is realized by a clock signal at a high frequency. SOLUTION: A memory array having a plurality of memory cells provided at intersections of a plurality of word lines and a plurality of complementary bit lines, and a memory array selected from a plurality of the complementary bit lines by a selection signal are commonly inputted. In a semiconductor memory device provided with a column switch connected to an output line and a precharge circuit for setting the common complementary input / output line to a predetermined same potential, the readout period of the column switch is increased during reading and the common The precharge period of the complementary input / output line is shortened, the selection period of the column switch is shortened at the time of writing, and the precharge period of the common complementary input / output line is increased correspondingly, thereby shortening the memory cycle period at the time of reading and writing. Make them almost the same.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体記憶装置
に関し、主として高速動作のシンクロナスDRAM(ダ
イナミック型ランダム・アクセス・メモリ)におけるカ
ラム選択回路に利用して有効な技術に関するものであ
る。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor memory device and, more particularly, to a technology effective when used in a column selecting circuit in a synchronous DRAM (dynamic random access memory) operating at high speed.

【0002】[0002]

【従来の技術】64Mビットや256Mビットのような
大記憶容量化に図ったダイナミック型RAMに関して
は、日経マグロウヒル社1995年7月31日発行「日
経エレクトロニクス」No.641、pp.99-214 がある。
2. Description of the Related Art A dynamic RAM having a large storage capacity such as 64 Mbits or 256 Mbits is disclosed in "Nikkei Electronics" No. 641, pp. 99-214, published on July 31, 1995 by Nikkei McGraw-Hill. is there.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】ダイナミック型RAM
においては、ワード線を選択状態にしておいてカラムア
ドレスの切り換えにより書き込みと読み出しを行うよう
にした高速動作モードがある。シンクロナスDRAMで
は、外部端子から供給されるクロック信号に対応して内
部でカラムアドレスを発生させて連続してカラムアドレ
スの切り換えを行うようにしたバーストモードがある。
このような連続動作モードでは、カラムアドレスの切り
換えにより書き込み動作と読み出し動作とを行うもので
あるが、アドレスの切り換えに際して、高速動作化のた
めに共通入出力線においては前のサイクル情報をリセッ
トさせるというプリチャージ動作が設けられる。
SUMMARY OF THE INVENTION Dynamic RAM
, There is a high-speed operation mode in which writing and reading are performed by switching a column address while a word line is selected. In the synchronous DRAM, there is a burst mode in which a column address is generated internally in response to a clock signal supplied from an external terminal to continuously switch the column address.
In such a continuous operation mode, the write operation and the read operation are performed by switching the column address. However, when switching the address, the previous cycle information is reset in the common input / output line for high-speed operation. Is provided.

【0004】従来は、書き込み動作とその後に行われる
るプリチャージ動作と、読み出し動作とその後に行われ
るプリチャージ動作に格別な配慮がなされておらず、共
に同じような時間割合で行うものであり、それぞれの動
作時間を満足させるよう設定するものである。クロック
サイクル時間が10ns以上と比較的長い場合には、時
間的な余裕があるので上記のようにしても何ら問題が生
じない。しかしながら、クロック周波数を100MHz
を超えて160MHz程度まで高速化を図ろうとする
と、上記バーストモードではわずか6nsのサイクル時
間にしなければならず、大記憶容量化に伴う配線寄生容
量の増大や、素子の微細化を考えると上記サイクル時間
内にカラムアドレスの切り換えを行うようにすることは
容易ではない。本願発明者においては、書き込み時と読
み出し時とでは、上記それぞれの動作に必要とされる時
間と共通入出力線に現れる信号振幅が大きく異なり、上
記信号振幅に対応してプリチャージに要する時間も異な
ることに着目し、書き込み動作と読み出し動作とでカラ
ム選択期間と、プリチャージ期間をそれぞれ最適設定に
することによりクロックサイクル時間を短くすることを
考えた。
Conventionally, no special consideration is given to a write operation and a precharge operation performed thereafter, and a read operation and a precharge operation performed thereafter, and both are performed at the same time ratio. , So as to satisfy each operation time. If the clock cycle time is relatively long, for example, 10 ns or more, there is sufficient time, so that there is no problem even with the above. However, if the clock frequency is 100 MHz
In order to increase the speed to about 160 MHz beyond the above, the burst mode requires a cycle time of only 6 ns. Considering the increase in the parasitic capacitance of the wiring accompanying the increase in storage capacity and the miniaturization of the element, the above cycle is considered. It is not easy to switch the column address in time. In the present inventor, the time required for each of the above operations and the signal amplitude appearing on the common input / output line greatly differ between the time of writing and the time of reading, and the time required for precharging also corresponds to the signal amplitude. Focusing on the difference, we considered shortening the clock cycle time by optimizing the column selection period and the precharge period for the write operation and the read operation, respectively.

【0005】この発明の目的は、簡単な構成によりクロ
ックサイクル時間を短くした半導体記憶装置を提供する
ことにある。この発明の他の目的は、高周波数のクロッ
ク信号でのメモリ動作を実現した半導体記憶装置を提供
することにある。この発明の前記ならびにそのほかの目
的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から
明らかになるであろう。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device having a simple structure and a reduced clock cycle time. Another object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that realizes a memory operation using a high-frequency clock signal. The above and other objects and novel features of the present invention will become apparent from the description of the present specification and the accompanying drawings.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち代表的なものの概要を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、複数のワード線と複数の相
補ビット線の交点に複数のメモリセルが設けられてなる
メモリアレイと、上記複数の相補ビット線の中から選択
信号により選択されたものを共通相補入出力線に接続さ
せるカラムスイッチと、上記共通相補入出力線を所定の
同じ電位に設定するプリチャージ回路とを備えた半導体
記憶装置において、読み出し時にはカラムスイッチの選
択期間を長くするとともにその分上記共通相補入出力線
のプリチャージ期間を短くし、書き込み時にはカラムス
イッチの選択期間を短くするとともにその分上記共通相
補入出力線のプリチャージ期間を長くして上記読み出し
時と書き込み時のメモリサイクル期間をほぼ同一にす
る。
The following is a brief description of an outline of a typical invention among the inventions disclosed in the present application. That is, a memory array in which a plurality of memory cells are provided at the intersections of a plurality of word lines and a plurality of complementary bit lines, and a memory array selected from the plurality of complementary bit lines by a selection signal are used as common complementary input / output lines. And a precharge circuit for setting the common complementary input / output line to a predetermined same potential. In a semiconductor memory device, when reading, a column switch selection period is lengthened and the common complementary input / output line is correspondingly extended. The precharge period of the output line is shortened, the selection period of the column switch is shortened at the time of writing, and the precharge period of the common complementary input / output line is lengthened accordingly, so that the memory cycle period at the time of reading and writing is almost the same. To

【0007】[0007]

【発明の実施の形態】図1には、この発明が適用される
ダイナミック型RAMの一実施例の概略レイアウト図が
示されている。同図においては、この発明が適用される
ダイナミック型RAMを構成する各回路ブロックのう
ち、その主要部が判るように示されており、それが公知
の半導体集積回路の製造技術により、単結晶シリコンの
ような1個の半導体基板上において形成される。
FIG. 1 is a schematic layout diagram showing one embodiment of a dynamic RAM to which the present invention is applied. In the figure, the main part of each circuit block constituting the dynamic RAM to which the present invention is applied is shown so that it can be understood. Are formed on one semiconductor substrate.

【0008】この実施例では、特に制限されないが、メ
モリアレイは、全体として4個に分けられる。半導体チ
ップの長手方向に対して中央部分14にアドレス入力回
路、データ入出力回路及びボンディングパッド列からな
る入出力インターフェイス回路及び降圧回路を含む電源
回路等が設けられる。これら中央部分14の両側のメモ
リアレイに接する部分には、カラムデコーダ領域13が
配置される。
In this embodiment, although not particularly limited, the memory array is divided into four as a whole. A power supply circuit including an input / output interface circuit composed of an address input circuit, a data input / output circuit, a bonding pad array, a step-down circuit, and the like are provided in a central portion 14 in the longitudinal direction of the semiconductor chip. Column decoder regions 13 are arranged in portions of both sides of the central portion 14 in contact with the memory array.

【0009】上述のように半導体チップの長手方向に対
して左右に2個、上下に2個ずつに分けられた4個から
なる各メモリアレイにおいて、長手方向に対して上下中
央部にメインロウデコーダ領域11が設けられる。この
メインロウデコーダの上下には、メインワードドライバ
領域12が形成されて、上記上下に分けられたメモリア
レイのメインワード線をそれぞれが駆動するようにされ
る。
As described above, in each of the four memory arrays divided into two on the left and right and two on the upper and lower sides with respect to the longitudinal direction of the semiconductor chip, the main row decoder is disposed at the upper and lower central parts in the longitudinal direction. An area 11 is provided. Main word driver regions 12 are formed above and below the main row decoder, and drive the main word lines of the vertically divided memory array.

【0010】上記メモリセルアレイ(サブアレイ)15
は、その拡大図に示すように、メモリセルアレイ15を
挟んでセンスアンプ領域16、サブワードドライバ領域
17に囲まれて形成されるものである。上記センスアン
プ領域と、上記サブワードドライバ領域の交差部は、交
差領域(クロスエリア)18とされる。上記センスアン
プ領域16に設けられるセンスアンプは、シェアードセ
ンス方式により構成され、メモリセルアレイの両端に配
置されるセンスアンプを除いて、センスアンプを中心に
して左右に相補ビット線が設けられ、左右いずれかのメ
モリセルアレイの相補ビット線に選択的に接続される。
The above-mentioned memory cell array (sub-array) 15
Are formed so as to be surrounded by the sense amplifier region 16 and the sub-word driver region 17 with the memory cell array 15 interposed therebetween, as shown in the enlarged view. An intersection between the sense amplifier area and the sub-word driver area is an intersection area (cross area) 18. The sense amplifiers provided in the sense amplifier region 16 are configured by a shared sense method, and except for the sense amplifiers arranged at both ends of the memory cell array, complementary bit lines are provided on the left and right around the sense amplifier. Selectively connected to the complementary bit lines of the memory cell array.

【0011】上述のように半導体チップの長手方向に対
して左右に4個ずつに分けられたメモリアレイは、2個
ずつ組となって配置される。このように2個ずつ組とな
って配置された2つのメモリアレイは、その中央部分に
上記メインロウデコーダ領域11とメインワードドライ
バ12が配置される。メインワードドライバ12は、上
記1つのメモリアレイを貫通するように延長されるメイ
ンワード線の選択信号を形成する。また、上記メインワ
ードドライバ12にサブワード選択用のドライバも設け
られ、後述するように上記メインワード線と平行に延長
されてサブワード選択線信号を形成する。
As described above, the memory arrays divided into four on the left and right sides in the longitudinal direction of the semiconductor chip are arranged in groups of two. In the two memory arrays thus arranged in pairs, the main row decoder region 11 and the main word driver 12 are arranged in the center. The main word driver 12 generates a selection signal of a main word line extended so as to penetrate the one memory array. The main word driver 12 is also provided with a driver for selecting a sub-word, and extends in parallel with the main word line to form a sub-word selection line signal, as described later.

【0012】拡大図として示された1つのメモリセルア
レイ(サブアレイ)15は、図示しないがサブワード線
が256本と、それと直交する相補ビット線(又はデー
タ線)が256対とされる。上記1つのメモリアレイに
おいて、上記メモリセルアレイ(サブアレイ)15がビ
ット線方向に16個設けられるから、全体としての上記
サブワード線は約4K分設けられ、ワード線方向に8個
設けられるから、相補ビット線は全体として約2K分設
けられる。このようなメモリアレイが全体で8個設けら
れるから、全体では8×2K×4K=64Mビットのよ
うな記憶容量を持つようにされる。
Although not shown, one memory cell array (sub-array) 15 shown as an enlarged view has 256 sub-word lines and 256 pairs of complementary bit lines (or data lines) orthogonal thereto. In the one memory array, 16 memory cell arrays (sub-arrays) 15 are provided in the bit line direction. Therefore, about 4K sub-word lines are provided as a whole, and 8 sub-word lines are provided in the word line direction. A total of about 2K lines are provided. Since eight such memory arrays are provided as a whole, the memory array has a total storage capacity of 8 × 2K × 4K = 64 Mbits.

【0013】上記1つのメモリアレイは、メインワード
線方向に対して8個に分割される。かかる分割されたメ
モリセルアレイ15毎にサブワードドライバ(サブワー
ド線駆動回路)17が設けられる。サブワードドライバ
17は、メインワード線に対して1/8の長さに分割さ
れ、それと平行に延長されるサブワード線の選択信号を
形成する。この実施例では、メインワード線の数を減ら
すために、言い換えるならば、メインワード線の配線ピ
ッチを緩やかにするために、特に制限されないが、1つ
のメインワード線に対して、相補ビット線方向に4本か
らなるサブワード線を配置させる。このようにメインワ
ード線方向には8本に分割され、及び相補ビット線方向
に対して4本ずつが割り当てられたサブワード線の中か
ら1本のサブワード線を選択するために、サブワード選
択ドライバが配置される。このサブワード選択ドライバ
は、上記サブワードドライバの配列方向に延長される4
本のサブワード選択線の中から1つを選択する選択信号
を形成する。
The one memory array is divided into eight in the main word line direction. A sub-word driver (sub-word line driving circuit) 17 is provided for each of the divided memory cell arrays 15. The sub-word driver 17 is divided into の 長 of the length of the main word line, and forms a sub-word line selection signal extending in parallel with the length. In this embodiment, in order to reduce the number of main word lines, in other words, to reduce the wiring pitch of the main word lines, there is no particular limitation. Are arranged four sub-word lines. In order to select one sub-word line from among the sub-word lines divided into eight in the main word line direction and four in the complementary bit line direction, a sub-word selection driver is used. Be placed. This sub-word selection driver is extended in the arrangement direction of the sub-word drivers.
A selection signal for selecting one of the sub-word selection lines is formed.

【0014】上記1つのメモリアレイに着目すると、1
本のメインワード線に割り当てられる8個のメモリセル
アレイのすべての中から、1本ずつのサブワード線を選
択する。上記のようにメインワード線方向に2K(20
48)のメモリセルが設けられるので、1つのサブワー
ド線には、2048/8=256個のメモリセルが接続
されることとなる。
Focusing on the one memory array, 1
One sub word line is selected from all eight memory cell arrays allocated to the main word lines. As described above, 2K (20
Since the memory cell of 48) is provided, 2048/8 = 256 memory cells are connected to one sub-word line.

【0015】上記のように1つのメモリアレイは、相補
ビット線方向に対して4Kビットの記憶容量を持つ。し
かしながら、1つの相補ビット線に対して4Kものメモ
リセルを接続すると、相補ビット線の寄生容量が増大
し、微細な情報記憶用キャパシタとの容量比により読み
出される信号レベルが得られなくなってしまうために、
相補ビット線方向に対しても16分割される。つまり、
太い黒線で示されたセンスアンプ16により 相補ビッ
ト線が16分割に分割される。特に制限されないが、セ
ンスアンプ16は、シェアードセンス方式により構成さ
れ、メモリアレイの両端に配置されるセンスアンプ16
を除いて、センスアンプ16を中心にして左右に相補ビ
ット線が設けられ、左右いずれかの相補ビット線に選択
的に接続される。
As described above, one memory array has a storage capacity of 4K bits in the complementary bit line direction. However, if as many as 4K memory cells are connected to one complementary bit line, the parasitic capacitance of the complementary bit line increases, and a signal level that is read out cannot be obtained due to the capacitance ratio with a fine information storage capacitor. To
It is also divided into 16 in the complementary bit line direction. That is,
The complementary bit line is divided into 16 by the sense amplifier 16 indicated by a thick black line. Although not particularly limited, the sense amplifiers 16 are configured by a shared sense system, and are provided at both ends of the memory array.
Except for the above, complementary bit lines are provided on the left and right with respect to the sense amplifier 16, and are selectively connected to one of the left and right complementary bit lines.

【0016】図2には、この発明が適用されるダイナミ
ック型RAMを説明するための概略レイアウト図が示さ
れている。同図には、メモリチップ全体の概略レイアウ
トと、8分割された1つのメモリアレイのレイアウトが
示されている。同図は、図1の実施例を別の観点から図
示したものである。つまり、図1と同様にメモリチップ
は、長手方向(ワード線方向)対して左右に4分割、上
下に2分割される。メモリアレイ(Array)が8分割さ
れ、その長手方向における中央部分には複数からなるボ
ンディングパッド及びアドレスバッファ、制御回路やプ
リデコーダ及びタイミング制御回路等のような間接周辺
回路(Bonding Pad & peripheral Circuit) が設けられ
る。
FIG. 2 is a schematic layout diagram for explaining a dynamic RAM to which the present invention is applied. FIG. 1 shows a schematic layout of the entire memory chip and a layout of one memory array divided into eight. This figure illustrates the embodiment of FIG. 1 from another point of view. That is, similarly to FIG. 1, the memory chip is divided into four parts in the left-right direction and two parts up and down in the longitudinal direction (word line direction). A memory array (Array) is divided into eight parts, and a plurality of bonding pads and address buffers, a control circuit, a predecoder, a timing control circuit, and other indirect peripheral circuits (Bonding Pad & peripheral Circuit) are provided in the central part in the longitudinal direction. Is provided.

【0017】上記8個のメモリアレイは、それぞれが約
8Mビットの記憶容量を持つようにされるものであり、
そのうちの一つが拡大して示されているように、ワード
線方向に8分割され、ビット線方向に16分割されたサ
ブアレイが設けられる。上記サブアレイのビット線方向
の両側には、上記ビット線方向に対してセンスアンプ
(Sence Amplifier)が配置される。上記サブアレイのワ
ード線方向の両側には、サブワードドライバ(Sub-Word
Driver)が配置される。
Each of the eight memory arrays has a storage capacity of about 8 Mbits.
As one of them is shown enlarged, a sub-array divided into eight in the word line direction and divided into sixteen in the bit line direction is provided. On both sides of the sub-array in the bit line direction, sense amplifiers (Sence Amplifiers) are arranged in the bit line direction. A sub-word driver (Sub-Word driver) is provided on both sides of the sub-array in the word line direction.
Driver) is placed.

【0018】上記1つのアレイには、全体で4096本
のワード線と2048対の相補ビット線が設けられる。
これにより、全体で約8Mビットの記憶容量を持つよう
にされる。上記のように4096本のワード線が16個
のサブアレイに分割して配置されるので、1つのサブア
レイには256本のワード線(サブワード線)が設けら
れる。また、上記のように2048対の相補ビット線が
8個のサブアレイに分割して配置されるので、1つのサ
ブアレイには256対の相補ビット線が設けられる。
The one array is provided with a total of 4096 word lines and 2048 pairs of complementary bit lines.
As a result, the storage capacity is about 8 Mbits in total. As described above, 4096 word lines are divided into 16 sub-arrays and arranged, so that one sub-array is provided with 256 word lines (sub-word lines). In addition, since 2048 pairs of complementary bit lines are divided into eight sub-arrays as described above, one sub-array is provided with 256 pairs of complementary bit lines.

【0019】上記2つのアレイの中央部には、メインロ
ウデコーダ、アレイコントロール(Array control)回路
及びメインワードドライバ(Main Word driver)が設けら
れる。上記アレイコントロール回路には、第1のサブワ
ード選択線を駆動するドライバが含まれる。上記アレイ
には、上記8分割されたサブアレイを貫通するように延
長されるメインワード線が配置される。上記メインワー
ドドライバは、上記メインワード線を駆動する。上記メ
インワード線と同様に第1のサブワード選択線も上記8
分割されたサブアレイを貫通するように延長される。上
記アレイの上部には、Yデコーダ(YDecoder) 及びY選
択線ドライバ(YSdriver) が設けられる。
At the center of the two arrays, a main row decoder, an array control circuit and a main word driver are provided. The array control circuit includes a driver for driving a first sub-word selection line. A main word line extending so as to penetrate the eight divided sub-arrays is arranged in the array. The main word driver drives the main word line. Like the main word line, the first sub-word select line is also connected to
It is extended so as to penetrate the divided sub-array. Above the array, a Y decoder (YDecoder) and a Y select line driver (YSdriver) are provided.

【0020】図3には、この発明に係るダイナミック型
RAMにおけるサブアレイとその周辺回路の一実施例の
概略レイアウト図が示されている。同図には、図2に示
されたメモリアレイの中の斜線を付した位置に配置され
た4つのサブアレイSBARYが代表として示されてい
る。図3においては、サブアレイSBARYが形成され
る領域には斜線を付すことによって、その周辺に設けら
れサブワードドライバ領域、センスアンプ領域及びクロ
スエリアとを区別するものである。
FIG. 3 is a schematic layout diagram showing one embodiment of a sub-array and its peripheral circuits in a dynamic RAM according to the present invention. In FIG. 4, four sub-arrays SBARY arranged at hatched positions in the memory array shown in FIG. 2 are shown as representatives. In FIG. 3, a region where the sub-array SBARY is formed is shaded to distinguish a sub-word driver region, a sense amplifier region, and a cross area provided therearound.

【0021】サブアレイSBARYは、次のような4種
類に分けられる。つまり、ワード線の延長方向を水平方
向とすると、右下に配置される第1のサブアレイSBA
RYは、サブワード線SWLが256本配置され、相補
ビット線対は256対から構成される。それ故、上記2
56本のサブワード線SWLに対応した256個のサブ
ワードドライバSWDは、かかるサブアレイの左右に1
28個ずつに分割して配置される。上記256対の相補
ビット線BLに対応して設けられる256個のセンスア
ンプSAは、前記のようなシェアードセンスアンプ方式
に加えて、さらに交互配置とし、かかるサブアレイの上
下において128個ずつに分割して配置される。
The subarray SBARY is divided into the following four types. That is, when the extending direction of the word line is the horizontal direction, the first sub-array SBA
RY has 256 sub-word lines SWL and 256 complementary bit line pairs. Therefore, the above 2
The 256 sub-word drivers SWD corresponding to the 56 sub-word lines SWL are connected to the left and right of the sub-array by one.
It is divided into 28 pieces and arranged. The 256 sense amplifiers SA provided corresponding to the 256 pairs of complementary bit lines BL are arranged alternately in addition to the above-described shared sense amplifier system, and are divided into 128 pieces above and below the sub-array. Placed.

【0022】右上配置される第2のサブアレイSBAR
Yは、特に制限されないが、正規のサブワード線SWL
が256本に加えて8本の予備(冗長)ワード線が設け
られ、相補ビット線対は256対から構成される。それ
故、上記256+8本のサブワード線SWLに対応した
264個のサブワードドライバSWDは、かかるサブア
レイの左右に132個ずつに分割して配置される。セン
スアンプは、上記同様に128個ずつが上下に配置され
る。すなわち、上記右側の上下に配置されるサブアレイ
SBARYに形成される256対のうちの128対の相
補ビット線は、それに挟まれたセンスアンプSAに対し
てシェアードスイッチMOSFETを介して共通に接続
される。
Second sub-array SBAR arranged at the upper right
Although Y is not particularly limited, the regular sub word line SWL
Is provided with eight spare (redundant) word lines in addition to 256, and the complementary bit line pairs are composed of 256 pairs. Therefore, the 264 sub-word drivers SWD corresponding to the above-mentioned 256 + 8 sub-word lines SWL are divided and arranged on the left and right of the sub-array in units of 132. As described above, 128 sense amplifiers are vertically arranged. That is, 128 pairs of complementary bit lines of the 256 pairs formed in the upper and lower sub-arrays SBARY arranged above and below the right side are commonly connected to the sense amplifier SA interposed therebetween via the shared switch MOSFET. .

【0023】左下配置される第3のサブアレイSBAR
Yは、右隣接のサブアレイSBARYと同様にサブワー
ド線SWLが256本により構成される。上記同様に1
28個のサブワードドライバが分割して配置される。上
記下側左右に配置されたサブアレイSBARYの256
本のうちの128本のサブワード線SWLは、それに挟
まれた領域に形成された128個のサブワードドライバ
SWDに対して共通に接続される。上記のように左下配
置されるサブアレイSBARYは、256対からなる正
規の相補ビット線BLに加えて、4対の予備(冗長)ビ
ット線4REDが設けられる。それ故、上記260対か
らなる相補ビット線BLに対応した260個のセンスア
ンプSAは、かかるサブアレイの上下に130個ずつに
分割して配置される。
A third sub-array SBAR arranged at the lower left
Y is composed of 256 sub-word lines SWL in the same manner as the right adjacent sub-array SBARY. 1 as above
28 sub-word drivers are divided and arranged. 256 of the subarray SBARY arranged on the lower left and right sides
The 128 sub-word lines SWL are commonly connected to the 128 sub-word drivers SWD formed in the region sandwiched between them. The subarray SBARY arranged at the lower left as described above is provided with four pairs of spare (redundant) bit lines 4RED in addition to 256 pairs of normal complementary bit lines BL. Therefore, the 260 sense amplifiers SA corresponding to the 260 pairs of complementary bit lines BL are divided and arranged in 130 units above and below the subarray.

【0024】左上配置される第4のサブアレイSBAR
Yは、右隣接のサブアレイSBARYと同様に正規のサ
ブワード線SWLが256本に予備サブワード線が8本
設けられ、下隣接のサブアレイと同様に正規の相補ビッ
ト線対の256対に加えて、予備のビット線が4対設け
られるので、サブワードドライバは、左右に132個ず
つ分割して配置され、センスアンプSAは上下に130
ずつが分割して配置される。
Fourth subarray SBAR arranged at the upper left
Y has 256 regular sub-word lines SWL and eight spare sub-word lines as in the right adjacent sub-array SBARY. In addition to the 256 normal complementary bit line pairs as in the lower adjacent sub-array, the spare Are provided, and the sub-word drivers are divided into 132 units each on the left and right sides, and the sense amplifier SA is
Are divided and arranged.

【0025】メインワード線MWLは、その1つが代表
として例示的に示されているように前記のような水平方
向に延長される。また、カラム選択線YSは、その1つ
が代表として例示されるように縦方向に延長される。上
記メインワード線MWLと平行にサブワード線SWLが
配置され、上記カラム選択線YSと平行に相補ビット線
BL(図示ぜす)が配置されるものである。この実施例
では、特に制限されないが、上記4つのサブアレイを基
本単位の1組として、図2のように8Mビット分のメモ
リアレイでは、ビット線方向には8組のサブアレイが形
成され、ワード線方向には4組のサブアレイが構成され
る。1組のサブアレイが4個で構成されるから、上記8
Mビットのメモリアレイでは、8×4×4=128個の
サブアレイが設けられる。上記8Mビットのメモリアレ
イがチップ全体では8個設けられるから、メモリチップ
全体では128×8=1024個ものサブアレイが形成
されるものである。
The main word line MWL is extended in the horizontal direction as described above, one of which is exemplarily shown as a representative. The column selection line YS is extended in the vertical direction so that one of them is exemplified as a representative. A sub-word line SWL is arranged in parallel with the main word line MWL, and a complementary bit line BL (not shown) is arranged in parallel with the column selection line YS. In this embodiment, although not particularly limited, in the memory array of 8 Mbits as shown in FIG. 2, eight sub arrays are formed in the bit line direction with the above four sub arrays as one set of basic units. Four sets of subarrays are configured in the direction. Since one set of sub-arrays is composed of four,
In an M-bit memory array, 8 × 4 × 4 = 128 sub-arrays are provided. Since eight 8M-bit memory arrays are provided in the entire chip, 128 × 8 = 1024 subarrays are formed in the entire memory chip.

【0026】上記4個からなるサブアレイに対して、8
本のサブワード選択線FX0B〜FX7Bが、メインワ
ード線MWLと同様に4組(8個)のサブアレイを貫通
するように延長される。そして、サブワード選択線FX
0B〜FX3Bからなる4本と、FX4B〜FX7Bか
らなる4本とが上下のサブアレイ上に分けて延長させる
ようにする。このように2つのサブアレイに対して1組
のサブワード選択線FX0B〜FX7Bを割り当て、か
つ、それらをサブアレイ上を延長させるようにする理由
は、メモリチップサイズの小型化を図るためである。
For the above four sub-arrays, 8
The sub-word select lines FX0B to FX7B are extended so as to penetrate four sets (eight) of sub-arrays, similarly to the main word line MWL. Then, the sub word select line FX
Four lines consisting of 0B to FX3B and four lines consisting of FX4B to FX7B are separately extended on the upper and lower sub-arrays. The reason why one set of sub-word selection lines FX0B to FX7B are allocated to the two sub-arrays and they are extended on the sub-arrays is to reduce the memory chip size.

【0027】つまり、各サブアレイに対して上記8本の
サブワード選択線FX0B〜FX7Bを割り当て、しか
もそれをセンスアンプエリア上の配線チャンネルに形成
した場合、図1のメモリアレイのように短辺方向の32
個ものセンスアンプで、8×32=256本分もの配線
チャンネルが必要になるものである。これに対して、上
記の実施例では、配線そのものが、上下2つのサブアレ
イに対して上記8本のサブワード選択線FX0B〜FX
7Bを共通に割り当て、しかも、それをサブアレイ上を
メインワード線と平行に互いに混在させるように配置さ
せることにより、格別な配線専用領域を設けることなく
形成することができる。
That is, when the above-mentioned eight sub-word select lines FX0B to FX7B are allocated to each sub-array and are formed in the wiring channels on the sense amplifier area, the short-side direction as in the memory array of FIG. 32
As many as 256 sense channels are required for each sense amplifier. On the other hand, in the above-described embodiment, the wiring itself is connected to the upper and lower sub-arrays by the eight sub-word select lines FX0B to FX0B.
By allocating 7B in common and arranging them so that they are mixed on the sub-array in parallel with the main word line, it can be formed without providing a special wiring-dedicated area.

【0028】そもそも、サブアレイ上には、8本のサブ
ワード線に対して1本のメインワード線が設けられるも
のであり、その8本の中の1本のサブワード線を選択す
るためにサブワード選択線が必要になるものである。メ
モリセルのピッチに合わせて形成されるサブワード線S
WLの8本分に1本の割り合いでメインワード線MWL
が形成されるものであるために、メインワード線MWL
の配線ピッチは緩やかになっている。したがって、メイ
ンワード線MWLと同じ配線層を利用して、上記サブワ
ード選択線をメインワード線の間に形成することは配線
ピッチの緩やかさを少し犠牲にするだけで比較的容易に
できるものである。
In the first place, one main word line is provided for eight sub-word lines on the sub-array, and a sub-word selection line is used to select one of the eight sub-word lines. Is necessary. Sub-word line S formed according to the pitch of the memory cells
Main word line MWL by one of eight WLs
Is formed, the main word line MWL
Have a gentle wiring pitch. Therefore, it is relatively easy to form the above-mentioned sub-word selection line between the main word lines by using the same wiring layer as the main word line MWL, with only a slight sacrifice in the looseness of the wiring pitch. .

【0029】この実施例のサブワードドライバSWD
は、上記サブワード選択線FX0B等を通して供給され
る選択信号と、それを反転させた選択信号とを用いて1
つのサブワード線SWLを選択する構成を採る。そし
て、サブワードドライバSWDは、それを中心として左
右に配置されるサブアレイのサブワード線SWLを同時
に選択するような構成を採るものである。そのため、上
記のようにFX0B等を共有する2つのサブアレイに対
しては、128×2=256個ものサブワードドライバ
に対して、上記4本のサブワード選択線を割り振って供
給する。つまり、サブワード選択線FX0Bに着目する
と、2つのサブアレイに対して256÷4=64個もの
サブワードドライバSWDに選択信号を供給する必要が
ある。
The sub-word driver SWD of this embodiment
Is obtained by using a selection signal supplied through the sub-word selection line FX0B and the like and a selection signal obtained by inverting the selection signal.
A configuration for selecting one sub-word line SWL is adopted. The sub-word driver SWD is configured to simultaneously select the sub-word lines SWL of the sub-arrays arranged on the left and right of the sub-word driver SWD. Therefore, as described above, for the two sub-arrays sharing the FX0B or the like, the four sub-word selection lines are allocated and supplied to 128 × 2 = 256 sub-word drivers. That is, focusing on the sub-word selection line FX0B, it is necessary to supply a selection signal to as many as 256 ÷ 4 = 64 sub-word drivers SWD for two sub-arrays.

【0030】上記メインワード線MWLと平行に延長さ
れるものを第1のサブワード選択線FX0Bとすると、
左上部のクロスエリアに設けられ,上記第1のサブワー
ド選択線FX0Bからの選択信号を受けるサブワード選
択線駆動回路FXDを介して、上記上下に配列される6
4個のサブワードドライバに選択信号を供給する第2の
サブワード選択線FX0が設けられる。上記第1のサブ
ワード選択線FX0Bは上記メインワード線MWL及び
サブワード線SWLと平行に延長されるのに対して上記
第2のサブワード選択線は、それと直交するカラム選択
線YS及び相補ビット線BLと平行にサブワードドライ
バ領域上を延長される。上記8本の第1のサブワード選
択線FX0B〜FX7Bと同様に、上記第2のサブワー
ド選択線FX0〜FX7も、偶数FX0,2,4,6
と、奇数FX1,3,5,7とに分割されてサブアレイ
SBARYの左右に設けられたサブワードドライバSW
Dに振り分けられて配置される。
If the one extending in parallel with the main word line MWL is a first sub-word selection line FX0B,
The six sub-word selection line driving circuits FXD which are provided in the upper left cross area and receive the selection signal from the first sub-word selection line FX0B are arranged in the above-mentioned vertical direction.
A second sub-word selection line FX0 that supplies a selection signal to four sub-word drivers is provided. The first sub-word selection line FX0B extends in parallel with the main word line MWL and the sub-word line SWL, while the second sub-word selection line has a column selection line YS and a complementary bit line BL which are orthogonal thereto. The sub word driver area is extended in parallel. Similarly to the eight first sub-word selection lines FX0B to FX7B, the second sub-word selection lines FX0 to FX7 also have even numbers FX0, 2, 4, 6
And odd word FX1, 3, 5, 7 and subword drivers SW provided on the left and right of subarray SBARY.
D.

【0031】上記サブワード選択線駆動回路FXDは、
同図において■で示したように、1つのクロスエリアの
上下に2個ずつ分配して配置される。つまり、上記のよ
うに左上部のクロスエリアでは、下側に配置されたサブ
ワード選択線駆動回路が上記第1のサブワード選択線F
X0Bに対応され、左中間部のクロスエリアに設けられ
た2つのサブワード選択線駆動回路FXDが、第1のサ
ブワード選択線FX2Bと、FX4Bに対応され、左下
部のクロスエリアの上側に配置されたサブワード選択線
駆動回路が上記第1のサブワード選択線FX6Bに対応
される。
The sub word select line driving circuit FXD is
In the same drawing, as shown by a triangle, two pieces are distributed above and below one cross area. That is, as described above, in the upper left cross area, the sub-word selection line driving circuit arranged on the lower side operates the first sub-word selection line F
Two sub-word selection line driving circuits FXD corresponding to X0B and provided in the cross area in the left middle part are disposed above the lower left cross area in correspondence to the first sub-word selection lines FX2B and FX4B. The sub-word selection line driving circuit corresponds to the first sub-word selection line FX6B.

【0032】中央上部のクロスエリアでは、下側に配置
されたサブワード選択線駆動回路が上記第1のサブワー
ド選択線FX1Bに対応され、中央中間部のクロスエリ
アに設けられた2つのサブワード選択線駆動回路FXD
が、第1のサブワード選択線FX3Bと、FX5Bに対
応され、中央下部のクロスエリアの上側に配置されたサ
ブワード選択線駆動回路が上記第1のサブワード選択線
FX7Bに対応される。そして、右上部のクロスエリア
では、下側に配置されたサブワード選択線駆動回路が上
記第1のサブワード選択線FX0Bに対応され、右中間
部のクロスエリアに設けられた2つのサブワード選択線
駆動回路FXDが、第1のサブワード選択線FX2B
と、FX4Bに対応され、右下部のクロスエリアの上側
に配置されたサブワード選択線駆動回路が上記第1のサ
ブワード選択線FX6Bに対応される。このようにメモ
リアレイの端部に設けられたサブワードドライバでは、
その右側にはサブアレイが存在しないから、左側だけの
サブワード線SWLのみを駆動する。
In the upper central cross area, a lower sub word select line driving circuit corresponding to the first sub word select line FX1B is provided, and two sub word select line drivers provided in the central middle cross area are driven. Circuit FXD
Correspond to the first sub-word selection lines FX3B and FX5B, and the sub-word selection line driving circuit disposed above the cross area at the lower center corresponds to the first sub-word selection line FX7B. In the upper right cross area, the lower sub word select line drive circuit corresponds to the first sub word select line FX0B, and two sub word select line drive circuits provided in the right middle cross area. FXD is the first sub-word select line FX2B
And the sub-word selection line driving circuit disposed above the cross area at the lower right of FIG. 4 corresponds to the first sub-word selection line FX6B. Thus, in the sub-word driver provided at the end of the memory array,
Since there is no sub-array on the right side, only the left sub-word line SWL is driven.

【0033】この実施例のようにサブアレイ上のメイン
ワード線MWLのピッチの隙間にサブワード選択線FX
Bを配置する構成では、格別な配線チャンネルが不要に
できるから、1つのサブアレイに8本のサブワード選択
線を配置するようにしてもメモリチップが大きくなるこ
とはない。しかしながら、上記のようなサブワード選択
線駆動回路FXDを形成するためにクロス領域の面積が
増大し、高集積化を妨げることとなる。つまり、上記ク
ロスエリアには、同図において点線で示したようなメイ
ン入出力線MIOやローカル入出力線LIOに対応して
設けられるスイッチ回路IOSWや、センスアンプを駆
動するパワーMOSFET、シェアードスイッチMOS
FETを駆動するための駆動回路、プリチャージMOS
FETを駆動する駆動回路等の周辺回路が形成されるた
めに面積的な余裕が無いからである。このため、図3の
実施例では、上/下の2つのサブアレイでサブワード選
択線駆動回路FXDを共用して面積増加を抑えている。
As in this embodiment, the sub-word selection line FX is provided in the gap of the pitch of the main word line MWL on the sub-array.
In the configuration in which B is arranged, a special wiring channel can be made unnecessary, so that arranging eight sub-word selection lines in one sub-array does not increase the size of the memory chip. However, the formation of the sub-word select line driving circuit FXD as described above increases the area of the cross region, which hinders high integration. That is, in the cross area, a switch circuit IOSW provided corresponding to the main input / output line MIO and the local input / output line LIO, a power MOSFET driving a sense amplifier, a shared switch MOS
Driving circuit for driving FET, precharge MOS
This is because there is no area allowance because peripheral circuits such as a drive circuit for driving the FET are formed. For this reason, in the embodiment of FIG. 3, the upper and lower sub-arrays share the sub-word select line driving circuit FXD to suppress an increase in area.

【0034】上記クロスエリアのうち、偶数に対応した
第2のサブワード選択線FX0〜FX6の延長方向Aに
配置されたものには、後述するようにセンスアンプに対
して定電圧化された内部電圧VDLを供給するNチャン
ネル型のパワーMOSFETQ16及びオーバードライ
ブ用の電源電圧VDDを供給するNチャンネル型のパワ
ーMOSFETQ15、及びセンスアンプに対して回路
の接地電位VSSを供給するためのNチャンネル型のパ
ワーMOSFETQ14が設けられる。
Among the cross areas, those arranged in the extension direction A of the second sub-word selection lines FX0 to FX6 corresponding to the even numbers have internal voltages which are made constant with respect to the sense amplifiers as described later. An N-channel power MOSFET Q16 for supplying VDL, an N-channel power MOSFET Q15 for supplying an overdrive power supply voltage VDD, and an N-channel power MOSFET Q14 for supplying a circuit ground potential VSS to the sense amplifier. Is provided.

【0035】上記クロスエリアのうち、奇数に対応した
第2のサブワード選択線FX1〜FX7の延長方向Bに
配置されたものには、ビット線のプリチャージ及びイコ
ライズ用MOSFETをオフ状態にさせるインバータ回
路と、特に制限されないが、センスアンプに対して回路
の接地電位VSSを供給するためのNチャンネル型のパ
ワーMOSFETが設けられる。このNチャンネル型の
パワーMOSFETは、センスアンプ列の両側からセン
スアンプを構成するNチャンネル型MOSFETの増幅
MOSFETの共通ソース線(CSN)に接地電位を供
給するものである。つまり、センスアンプエリアに設け
られる128個又は130個のセンスアンプに対して
は、上記A側のクロスエリアに設けられたNチャンネル
型のパワーMOSFETと、上記B側のクロスエリアに
設けられたNチャンネル型のパワーMOSFETの両方
により接地電位が供給される。
In the above-mentioned cross areas, those arranged in the extending direction B of the odd-numbered second sub-word select lines FX1 to FX7 include an inverter circuit for turning off the MOSFETs for precharging and equalizing bit lines. Although not particularly limited, an N-channel type power MOSFET for supplying the circuit ground potential VSS to the sense amplifier is provided. This N-channel type power MOSFET supplies a ground potential to the common source line (CSN) of the N-channel type MOSFET amplifying MOSFETs constituting the sense amplifier from both sides of the sense amplifier row. That is, for the 128 or 130 sense amplifiers provided in the sense amplifier area, the N-channel type power MOSFET provided in the cross area on the A side and the N-channel power MOSFET provided in the cross area on the B side are provided. The ground potential is supplied by both of the channel type power MOSFETs.

【0036】上記のようにサブワード線駆動回路SWD
は、それを中心にして両側のサブアレイのサブワード線
を選択する。これに対して、上記選択された2つのサブ
アレイのサブワード線に対応して左右2つのセンスアン
プが活性化される。つまり、サブワード線を選択状態に
すると、アドレス選択MOSFETがオン状態となり、
記憶キャパシタの電荷がビット線電荷と合成されてしま
うので、センスアンプを活性化させてもとの電荷の状態
に戻すという再書き込み動作を行う必要があるからであ
る。このため、上記端部のサブアレイに対応したものを
除いて、上記パワーMOSFETは、それを挟んで両側
のセンスアンプを活性化させるために用いられる。これ
に対して、サブアレイ群の端に設けられたサブアレイの
右側又は左側に設けられたサブワード線駆動回路SWD
では、上記サブアレイのサブワード線しか選択しないか
ら、上記パワーMOSFETは、上記サブアレイに対応
した片側のセンスアンプ群のみを活性化するものであ
る。
As described above, the sub word line drive circuit SWD
Selects the sub-word lines of the sub-arrays on both sides with respect to the center. On the other hand, two left and right sense amplifiers are activated corresponding to the sub-word lines of the two selected sub-arrays. That is, when the sub-word line is selected, the address selection MOSFET is turned on,
This is because the charge of the storage capacitor is combined with the charge of the bit line, so that it is necessary to perform a rewrite operation of returning the charge to the original charge state by activating the sense amplifier. Therefore, except for the one corresponding to the subarray at the end, the power MOSFET is used to activate the sense amplifiers on both sides of the power MOSFET. On the other hand, the sub-word line driving circuit SWD provided on the right or left side of the sub-array provided at the end of the sub-array group
Since only the sub-word line of the sub-array is selected, the power MOSFET activates only one sense amplifier group corresponding to the sub-array.

【0037】上記センスアンプは、シェアードセンス方
式とされ、それを挟んで両側に配置されるサブアレイの
うち、上記サブワード線が非選択された側の相補ビット
線に対応したシェアードスイッチMOSFETがオフ状
態にされて切り離されることにより、上記選択されたサ
ブワード線に対応した相補ビット線の読み出し信号を増
幅し、メモリセルの記憶キャパシタをもとの電荷状態に
戻すという再書き込み動作を行う。
The sense amplifier is of a shared sense type, and among the subarrays arranged on both sides of the shared amplifier, the shared switch MOSFET corresponding to the complementary bit line on the side where the subword line is not selected is turned off. As a result, the read signal of the complementary bit line corresponding to the selected sub-word line is amplified, and a rewrite operation of returning the storage capacitor of the memory cell to the original charge state is performed.

【0038】図4には、この発明に係るダイナミック型
RAMのセンスアンプ部を中心にして、アドレス入力か
らデータ出力までの簡略化された一実施例の回路図が示
されている。同図においては、2つのサブアレイ15に
上下から挟まれるようにされたセンスアンプ16と前記
交差エリア18に設けられる回路が例示的に示され、他
はブロック図として示されている。また、点線で示され
た回路ブロックは、前記符号によりそれぞれが示されて
いる。
FIG. 4 is a circuit diagram of a simplified embodiment from the address input to the data output centering on the sense amplifier section of the dynamic RAM according to the present invention. In the figure, a sense amplifier 16 sandwiched between two sub-arrays 15 from above and below and a circuit provided in the intersection area 18 are exemplarily shown, and others are shown as block diagrams. The circuit blocks indicated by the dotted lines are indicated by the above-mentioned reference numerals.

【0039】ダイナミック型メモリセルは、上記1つの
サブアレイ15に設けられたサブワード線SWLと、相
補ビット線BL,BLBのうちの一方のビット線BLと
の間に設けられた1つが代表として例示的に示されてい
る。ダイナミック型メモリセルは、アドレス選択MOS
FETQmと記憶キャパシタCsから構成される。アド
レス選択MOSFETQmのゲートは、サブワード線S
WLに接続され、このMOSFETQmのドレインがビ
ット線BLに接続され、ソースに記憶キャパシタCsが
接続される。記憶キャパシタCsの他方の電極は共通化
されてプレート電圧VPLTが与えられる。上記MOS
FETQmの基板(チャンネル)には負のバックバイア
ス電圧VBBが印加される。上記サブワード線SWLの
選択レベルは、上記ビット線のハイレベルに対して上記
アドレス選択MOSFETQmのしきい値電圧分だけ高
くされた高電圧VPPとされる。
The dynamic memory cell is typically exemplified by one provided between the sub-word line SWL provided in the one sub-array 15 and one of the complementary bit lines BL and BLB. Is shown in The dynamic memory cell has an address selection MOS
It comprises an FET Qm and a storage capacitor Cs. The gate of the address selection MOSFET Qm is connected to the sub word line S
The drain of the MOSFET Qm is connected to the bit line BL, and the source is connected to the storage capacitor Cs. The other electrode of the storage capacitor Cs is shared and supplied with the plate voltage VPLT. MOS above
A negative back bias voltage VBB is applied to the substrate (channel) of the FET Qm. The selection level of the sub-word line SWL is a high voltage VPP higher than the high level of the bit line by the threshold voltage of the address selection MOSFET Qm.

【0040】センスアンプを内部降圧電圧VDLで動作
させるようにした場合、センスアンプにより増幅されて
ビット線に与えられるハイレベルは、上記内部電圧VD
Lレベルにされる。したがって、上記ワード線の選択レ
ベルに対応した高電圧VPPはVDL+Vth+αにされ
る。センスアンプの左側に設けられたサブアレイの一対
の相補ビット線BLとBLBは、同図に示すように平行
に配置され、ビット線の容量バランス等をとるために必
要に応じて適宜に交差させられる。かかる相補ビット線
BLとBLBは、シェアードスイッチMOSFETQ1
とQ2によりセンスアンプの単位回路の入出力ノードと
接続される。
When the sense amplifier is operated at the internal step-down voltage VDL, the high level amplified by the sense amplifier and given to the bit line is equal to the internal voltage VD
The level is set to L level. Therefore, the high voltage VPP corresponding to the word line selection level is set to VDL + Vth + α. A pair of complementary bit lines BL and BLB of the sub-array provided on the left side of the sense amplifier are arranged in parallel as shown in the figure, and are appropriately crossed as necessary to balance the bit line capacitance. . The complementary bit lines BL and BLB are connected to the shared switch MOSFET Q1.
And Q2 are connected to the input / output node of the unit circuit of the sense amplifier.

【0041】センスアンプの単位回路は、ゲートとドレ
インとが交差接続されてラッチ形態にされたNチャンネ
ル型の増幅MOSFETQ5,Q6及びPチャンネル型
の増幅MOSFETMOSFETQ7,Q8から構成さ
れる。Nチャンネル型MOSFETQ5とQ6のソース
は、共通ソース線CSNに接続される。Pチャンネル型
MOSFETQ7とQ8のソースは、共通ソース線CS
Pに接続される。上記共通ソース線CSNとCSPに
は、それぞれパワースイッチMOSFETが接続され
る。特に制限されないが、Nチャンネル型の増幅MOS
FETQ5とQ6のソースが接続された共通ソース線C
SNには、上記クロスエリア18に設けられたNチャン
ネル型のパワースイッチMOSFETQ14により接地
電位に対応した動作電圧が与えられる。
The unit circuit of the sense amplifier is composed of N-channel type amplifying MOSFETs Q5, Q6 and P-channel type amplifying MOSFETs Q7, Q8, whose gates and drains are cross-connected to form a latch. The sources of the N-channel MOSFETs Q5 and Q6 are connected to a common source line CSN. The sources of the P-channel MOSFETs Q7 and Q8 are connected to a common source line CS.
Connected to P. Power switch MOSFETs are connected to the common source lines CSN and CSP, respectively. Although not particularly limited, an N-channel type amplification MOS
Common source line C to which the sources of FETs Q5 and Q6 are connected
An operating voltage corresponding to the ground potential is applied to SN by an N-channel type power switch MOSFET Q14 provided in the cross area 18.

【0042】特に制限されないが、上記Pチャンネル型
の増幅MOSFETQ7とQ8のソースが接続された共
通ソース線CSPには、上記クロスエリア18に設けら
れたオーバードライブ用のNチャンネル型のパワーMO
SFETQ15と、上記内部電圧VDLを供給するNチ
ャンネル型のパワーMOSFETQ16が設けられる。
上記オーバードライブ用の電圧には、特に制限されない
が、外部端子から供給される電源電圧VDDが用いられ
る。あるいはセンスアンプ動作速度の電源電圧VDD依
存性を軽減するためにわずかに降圧してもよい。例え
ば、ゲートに昇圧電圧VPPが印加され、ドレインに電
源電圧VDDが印加されたNチャンネル型MOSFET
のソースから上記降圧電圧を得ることができる。
Although not particularly limited, the common source line CSP to which the sources of the P-channel type amplification MOSFETs Q7 and Q8 are connected is connected to the N-channel type power MO for overdrive provided in the cross area 18.
An SFET Q15 and an N-channel power MOSFET Q16 for supplying the internal voltage VDL are provided.
The power supply voltage VDD supplied from an external terminal is used for the overdrive voltage, although there is no particular limitation. Alternatively, the voltage may be slightly reduced in order to reduce the power supply voltage VDD dependency of the sense amplifier operation speed. For example, an N-channel MOSFET in which a boosted voltage VPP is applied to a gate and a power supply voltage VDD is applied to a drain
The above step-down voltage can be obtained from the source.

【0043】上記Nチャンネル型のパワーMOSFET
Q15のゲートに供給されるセンスアンプオーバードラ
イブ用活性化信号SAP1は、上記Nチャンネル型MO
SFETQ16のゲートに供給される活性化信号SAP
2と同相の信号とされ、信号SAP1とSAP2は時系
列的にハイレベルにされる。特に制限されないが、信号
SAP1とSAP2は、昇圧電圧VPPに対応したハイ
レベルの信号とされる。つまり、昇圧電圧VPPは、約
3.8Vであるので、上記Nチャンネル型MOSFET
Q15,Q16を十分にオン状態にさせることができ
る。MOSFETQ15がオフ状態の後にMOSFET
Q16がオン状態にされてソース側から内部電圧VDL
に対応した電圧を出力させることができる。
The N-channel type power MOSFET
The sense amplifier overdrive activation signal SAP1 supplied to the gate of Q15 is
Activation signal SAP supplied to the gate of SFET Q16
2, and the signals SAP1 and SAP2 are set to a high level in time series. Although not particularly limited, the signals SAP1 and SAP2 are high-level signals corresponding to the boosted voltage VPP. That is, since the boost voltage VPP is about 3.8 V, the N-channel MOSFET
Q15 and Q16 can be sufficiently turned on. After the MOSFET Q15 is off, the MOSFET
Q16 is turned on and the internal voltage VDL is applied from the source side.
Can be output.

【0044】上記センスアンプの単位回路の入出力ノー
ドには、相補ビット線を短絡させるイコライズMOSF
ETQ11と、相補ビット線にハーフプリチャージ電圧
VBLRを供給するスイッチMOSFETQ9とQ10
からなるプリチャージ(イコライズ)回路が設けられ
る。これらのMOSFETQ9〜Q11のゲートは、共
通にプリチャージ信号PCBが供給される。このプリチ
ャージ信号PCBを形成するドライバ回路は、図示しな
いが、上記クロスエリアにインバータ回路を設けて、そ
の立ち下がりを高速にする。つまり、メモリアクセスの
開始時にワード線選択タイミングに先行して、各クロス
エリアに分散して設けられたインバータ回路を通して上
記プリチャージ回路を構成するMOSFETQ9〜Q1
1を高速に切り替えるようにするものである。
An equalizing MOSF for short-circuiting the complementary bit line is provided at the input / output node of the unit circuit of the sense amplifier.
ETQ11 and switch MOSFETs Q9 and Q10 for supplying half precharge voltage VBLR to complementary bit lines
A precharge (equalize) circuit is provided. The gates of these MOSFETs Q9 to Q11 are commonly supplied with a precharge signal PCB. Although not shown, a driver circuit for forming the precharge signal PCB is provided with an inverter circuit in the above-mentioned cross area to make the falling speed faster. That is, at the start of the memory access, prior to the word line selection timing, the MOSFETs Q9 to Q1 which constitute the precharge circuit through the inverter circuits distributed in each cross area.
1 is switched at high speed.

【0045】上記クロスエリア18には、図4に示した
回路以外にも、必要に応じて、センスアンプのコモンソ
ース線CSPとCSNのハーフプリチャージ回路、ロー
カル入出力線LIOのハーフプリチャージ回路、シェア
ード選択信号線SHRとSHLの分散ドライバ回路等も
設けられる。
In the cross area 18, in addition to the circuit shown in FIG. 4, if necessary, a half precharge circuit for the common source lines CSP and CSN of the sense amplifier and a half precharge circuit for the local input / output line LIO are provided. , Shared distributed signal lines SHR and SHL are also provided.

【0046】センスアンプの単位回路は、シェアードス
イッチMOSFETQ3とQ4を介して図下側のサブア
レイ15の同様な相補ビット線BL,BLBに接続され
る。スイッチMOSFETQ12とQ13は、カラムス
イッチ回路を構成するものであり、上記選択信号YSが
選択レベル(ハイレベル)にされるとオン状態となり、
上記センスアンプの単位回路の入出力ノードとローカル
入出力線LIO1とLIO1B、LIO2,LIO2B
等とを接続させる。例えば、上側のサブアレイのサブワ
ード線SWLが選択されたときには、センスアンプの上
側シェアードスイッチMOSFETQ1とQ2はオン状
態のままで、下側シェアードスイッチMOSFETQ3
とQ4とがオフ状態にされる。
The unit circuit of the sense amplifier is connected to the similar complementary bit lines BL and BLB of the lower sub-array 15 via shared switch MOSFETs Q3 and Q4. The switch MOSFETs Q12 and Q13 constitute a column switch circuit, and are turned on when the selection signal YS is set to a selection level (high level).
Input / output nodes and local input / output lines LIO1 and LIO1B, LIO2, LIO2B of the unit circuit of the sense amplifier
And so on. For example, when the sub-word line SWL of the upper sub-array is selected, the upper shared switch MOSFETs Q1 and Q2 of the sense amplifier remain on and the lower shared switch MOSFET Q3
And Q4 are turned off.

【0047】これにより、センスアンプの入出力ノード
は、上記上側の相補ビット線BL,BLBに接続され
て、選択されたサブワード線SWLに接続されたメモリ
セルの微小信号を増幅し、上記カラムスイッチ回路(Q
12とQ13)を通してローカル入出力線LIO1,L
IO1Bに伝える。上記ローカル入出力線LIO1,L
IO1Bは、上記センスアンプ列に沿って、つまり、同
図では横方向に延長される。上記ローカル入出力線LI
O1,LIO1Bは、クロスエリア18に設けられたN
チャンネル型MOSFETQ19とQ20からなるIO
スイッチ回路を介してメインアンプ61の入力端子が接
続されるメイン入出力線MIO,MIOBに接続され
る。なお、上記IOスイッチ回路は、選択信号IOSW
によりスイッチ制御され、後述するように上記Nチャン
ネル型MOSFETQ19とQ20のそれぞれにPチャ
ンネル型MOSFETを並列に接続したCMOSスイッ
チとされる。同図では、省略されているが、上記メイン
IO線MIO,MIOBには、書き込みアンプの出力端
子も接続される。
As a result, the input / output node of the sense amplifier is connected to the upper complementary bit lines BL and BLB to amplify the small signal of the memory cell connected to the selected sub-word line SWL. Circuit (Q
12 and Q13) through the local input / output lines LIO1, L
Communicate to IO1B. The local input / output lines LIO1, L
IO1B extends along the sense amplifier row, that is, in the horizontal direction in FIG. The local input / output line LI
O1 and LIO1B are the N provided in the cross area 18.
IO consisting of channel type MOSFETs Q19 and Q20
The input terminals of the main amplifier 61 are connected to main input / output lines MIO and MIOB via a switch circuit. Note that the IO switch circuit is provided with a selection signal IOSW
As a result, a CMOS switch is obtained in which a P-channel MOSFET is connected in parallel to each of the N-channel MOSFETs Q19 and Q20 as described later. Although not shown, the output terminals of the write amplifier are also connected to the main IO lines MIO and MIOB.

【0048】特に制限されないが、上記カラムスイッチ
回路は、1つの選択信号YSにより二対の相補ビット線
BL,BLBを二対のローカル入出力線LIO1,LI
O1BとLIO2,LIO2Bと接続させる。それ故、
1つのメインワード線の選択動作により選択されたサブ
アレイにおいて、その両側に設けられる一対のセンスア
ンプに対応して設けられる上記二対のカラムスイッチ回
路により合計四対の相補ビット線が選択されることにな
るので、1本のYS線選択により4ビットの同時読み出
し/書き込みができる。後述するようなバーストモード
では、上記カラム選択信号YSが切り換えられ、上記ロ
ーカル入出力線LIO1,LIO1Bとサブレイの相補
ビット線BL,BLBとの接続が順次に切り換えられ
る。
Although not particularly limited, the column switch circuit connects two pairs of complementary bit lines BL, BLB to two pairs of local input / output lines LIO1, LI in response to one selection signal YS.
O1B is connected to LIO2 and LIO2B. Therefore,
In the sub-array selected by the operation of selecting one main word line, a total of four pairs of complementary bit lines are selected by the two pairs of column switch circuits provided corresponding to the pair of sense amplifiers provided on both sides thereof. , Four bits can be simultaneously read / written by selecting one YS line. In a burst mode to be described later, the column selection signal YS is switched, and the connection between the local input / output lines LIO1 and LIO1B and the complementary bit lines BL and BLB of the sub-ray is sequentially switched.

【0049】アドレス信号Aiは、アドレスバッファ5
1に供給される。このアドレスバッファは、時分割的に
動作してXアドレス信号とYアドレス信号を取り込む。
Xアドレス信号は、プリデコーダ52に供給され、メイ
ンローデコーダ11とメインワードドライバ12を介し
てメインワード線MWLの選択信号が形成される。上記
アドレスバッファ51は、外部端子から供給されるアド
レス信号Aiを受けるものであるので、外部端子から供
給される電源電圧VDDにより動作させられ、上記プリ
デコーダは、降圧電圧VPERIにより動作させられ、
上記メインワードドライバ12は、昇圧電圧VPPによ
り動作させられる。カラムデコーダ(ドライバ)53
は、上記アドレスバフッァ51の時分割的な動作によっ
て供給されるYアドレス信号を受けて、上記カラム選択
信号YSを形成する。
The address signal Ai is supplied to the address buffer 5
1 is supplied. The address buffer operates in a time-division manner to receive the X address signal and the Y address signal.
The X address signal is supplied to the predecoder 52, and a selection signal for the main word line MWL is formed via the main row decoder 11 and the main word driver 12. Since the address buffer 51 receives the address signal Ai supplied from the external terminal, it is operated by the power supply voltage VDD supplied from the external terminal, and the predecoder is operated by the step-down voltage VPERI.
The main word driver 12 is operated by the boost voltage VPP. Column decoder (driver) 53
Receives the Y address signal supplied by the time division operation of the address buffer 51 and forms the column selection signal YS.

【0050】上記メインアンプ61は、降圧電圧VPE
RIにより動作させられ、外部端子から供給される電源
電圧VDDで動作させられる出力バッファ62を通して
外部端子Dout (又はDQ)から出力される。外部端子
Din(又はDQ)から入力される書き込み信号は、入力
バッファ63を通して取り込まれ、同図においてメイン
アンプ61に含まれる後述するようなライトアンプを通
して上記メイン入出力線MIOとMIOBに書き込み信
号を供給する。上記出力バッファの入力部には、レベル
シフト回路とその出力信号を上記クロック信号に対応し
たタイミング信号に同期させて出力させるための論理部
が設けられる。
The main amplifier 61 has a step-down voltage VPE
The signal is output from the external terminal Dout (or DQ) through the output buffer 62 operated by the RI and operated by the power supply voltage VDD supplied from the external terminal. A write signal input from an external terminal Din (or DQ) is taken in through an input buffer 63, and is written to the main input / output lines MIO and MIOB through a write amplifier included in the main amplifier 61 in FIG. Supply. The input section of the output buffer is provided with a level shift circuit and a logic section for outputting the output signal in synchronization with a timing signal corresponding to the clock signal.

【0051】特に制限されないが、上記外部端子から供
給される電源電圧VDDは、3.3Vにされ、内部回路
に供給される降圧電圧VPERIは2.5Vに設定さ
れ、上記センスアンプの動作電圧VDLは2.0Vとさ
れる。そして、ワード線の選択信号(昇圧電圧)は、
3.8Vにされる。ビット線のプリチャージ電圧VBL
Rは、VDL/2に対応した1.0Vにされ、プレート
電圧VPLTも1.0Vにされる。そして、基板電圧V
BBは−1.0Vにされる。
Although not particularly limited, the power supply voltage VDD supplied from the external terminal is set to 3.3 V, the step-down voltage VPERI supplied to the internal circuit is set to 2.5 V, and the operating voltage VDL of the sense amplifier is set. Is set to 2.0V. Then, the word line selection signal (boosted voltage)
It is set to 3.8V. Bit line precharge voltage VBL
R is set to 1.0 V corresponding to VDL / 2, and the plate voltage VPLT is also set to 1.0 V. And the substrate voltage V
BB is set to -1.0V.

【0052】図5には、この発明が適用されるダイナミ
ック型RAMのIOスイッチ回路の一実施例の回路図が
示されている。同図には、2対のローカル入出力線LI
O1〜LIO1B、LIO2,LIO2Bと、一対のメ
イン入出力線MIO1,MIO1Bが示されている。他
の1対のローカル入出力線とメイン入出力線とのIOス
イッチは別の位置のクロスエリアに設けられる。
FIG. 5 is a circuit diagram showing one embodiment of an IO switch circuit of a dynamic RAM to which the present invention is applied. FIG. 2 shows two pairs of local input / output lines LI.
O1 to LIO1B, LIO2, LIO2B and a pair of main input / output lines MIO1, MIO1B are shown. IO switches for another pair of local input / output lines and main input / output lines are provided in cross areas at different positions.

【0053】IOスイッチ回路(MIO−LIOsw)
は、上記一対のローカル入出力線LIO1,LIO1B
と、それに対応されたメイン入出力線MIO1,MIO
1Bとを接続させる。IOスイッチ回路(MIO−LI
Osw)は、前記図4に示したNチャンネル型MOSF
ETQ19とNチャンネル型MOSFETQ20と同様
な2つのNチャンネル型MOSFETと、それぞれに並
列に接続された2つのPチャンネル型MOSFETから
なるCMOSスイッチ回路とされる。上記Nチャンネル
型MOSFETのゲートには選択信号としてBLEQが
供給され、Pチャンネル型MOSFETのゲートには選
択信号としてBLEQBが供給される。同様なIOスイ
ッチ回路が別の位置のクロスエリアに設けられ、他方の
ローカル入出力線LIO2とLIO2Bとそれに対応し
た図示しないメイン入出力線MIO2,MIO2Bとを
接続させる。
IO switch circuit (MIO-LIOsw)
Are the pair of local input / output lines LIO1, LIO1B
And the corresponding main input / output lines MIO1, MIO
1B. IO switch circuit (MIO-LI
Osw) is the N-channel type MOSF shown in FIG.
A CMOS switch circuit including two N-channel MOSFETs similar to the ETQ19 and the N-channel MOSFET Q20 and two P-channel MOSFETs connected in parallel to each other. The gate of the N-channel MOSFET is supplied with BLEQ as a selection signal, and the gate of the P-channel MOSFET is supplied with BLEQB as a selection signal. A similar IO switch circuit is provided in a cross area at another position, and connects the other local input / output lines LIO2 and LIO2B to the corresponding main input / output lines MIO2 and MIO2B (not shown).

【0054】上記ローカル入出力線LIO1とLIO1
Bとの間には、前記相補ビット線BLとBLBに設けら
れるプリチャージ(イコライズ)回路と同様な短絡MO
SFETと、プリチャージ電圧VBLRを供給するスイ
ッチMOSFETからなるローカル入出力線プリチャー
ジ(イコライズ)回路LIOeqが設けられる。このロ
ーカル入出力線プリチャージ回路LIOeqと、相補ビ
ット線に設けられる前記のビット線プリチャージ回路B
Leqには、プリチャージ(イコライズ)信号BLEQ
を受けるインバータ回路N3で形成されたプリチャージ
(イコライズ)信号BLEQBが供給される。
The local input / output lines LIO1 and LIO1
B, a short circuit MO similar to the precharge (equalize) circuit provided for the complementary bit lines BL and BLB is provided.
A local input / output line precharge (equalize) circuit LIOeq including an SFET and a switch MOSFET for supplying a precharge voltage VBLR is provided. This local input / output line precharge circuit LIOeq and the bit line precharge circuit B provided on the complementary bit line
Leq includes a precharge (equalize) signal BLEQ.
A precharge (equalize) signal BLEQB formed by the inverter circuit N3 receiving the signal is supplied.

【0055】メイン入出力線MIOとMIOBには、短
絡用と内部電圧VDLを供給するPチャンネル型のMO
SFETで構成されたメイン入出力線プリチャージ(イ
コライズ)回路MIOeqが設けられる。これらのPチ
ャンネル型MOSFETのゲートには、プリチャージ
(イコライズ)信号EQMIOBが供給される。前記の
ようなバーストモードでは、IOスイッチ回路(MIO
−LIOsw)がオン状態のままで、選択YSによりカ
ラムスイッチが切り換えられる。つまり、2回目以降の
ローカル入出力線LIOとLIOBに対するプリチャー
ジ(イコライズ)動作は、サブアレイのサブワード線が
選択状態にされたままであるのでビット線プリチャージ
回路BLeqと同じプリチャージ信号で制御されるロー
カル入出力線プリチャージ(イコライズ)回路LIOe
qを動作させることなく、YS選択の間メイン入出力線
プリチャージ(イコライズ)回路MIOeqによってV
DLレベルのプリチャージ動作が行われることとなる。
The main input / output lines MIO and MIOB are connected to a P-channel type MO for short-circuit and for supplying an internal voltage VDL.
A main input / output line precharge (equalize) circuit MIOeq configured by an SFET is provided. The gates of these P-channel MOSFETs are supplied with a precharge (equalize) signal EQMIOB. In the burst mode as described above, the IO switch circuit (MIO
-LIOsw) remains ON, and the column switch is switched by selection YS. That is, the precharge (equalize) operation for the second and subsequent local input / output lines LIO and LIOB is controlled by the same precharge signal as that of the bit line precharge circuit BLeq since the sub-word line of the sub-array remains in the selected state. Local I / O line precharge (equalize) circuit LIOe
q is not operated, and the main input / output line precharge (equalize) circuit MIOeq supplies V during YS selection.
The DL level precharge operation is performed.

【0056】したがって、上記のようなMOSFETか
らなるIOスイッチ回路(MIO−LIOsw)を通し
たローカル入出力線LIO1とLIO1Bに対するプリ
チャージ動作には、ローカル入出力線に接続される多数
のカラムスイッチMOSFETにより比較的大きな寄生
容量が付加されることとが相乗的に作用して比較的長い
時間を費やすことが必要になるものである。
Therefore, the precharge operation for the local input / output lines LIO1 and LIO1B through the IO switch circuit (MIO-LIOsw) composed of the MOSFETs described above requires a large number of column switch MOSFETs connected to the local input / output lines. Therefore, a relatively large parasitic capacitance is added and a relatively long time must be spent synergistically.

【0057】図6には、上記メイン入出力線に接続され
るライトアンプとメインアンプの一実施例の回路図が示
されている。ライトアンプ(書き込みアンプ)WAは、
メイン入出力線MIOに書き込み信号を内部電圧VDL
のようなハイレベルを供給するPチャンネル型MOSF
ETQ31と、回路の接地電位を供給するNチャンネル
型MOSFETQ30と、メイン入出力線MIOBに書
き込み信号を内部電圧VDLのようなハイレベルを供給
するPチャンネル型MOSFETQ33と、回路の接地
電位を供給するNチャンネル型MOSFETQ32とか
ら構成される。これらのMOSFETQ31〜34のゲ
ートには、書き込み信号MIDDT〜MIPBBが供給
される。
FIG. 6 is a circuit diagram showing one embodiment of the write amplifier and the main amplifier connected to the main input / output line. The write amplifier (write amplifier) WA
The write signal is applied to the main input / output line MIO by the internal voltage VDL.
P-channel type MOSF that supplies high level like
ETQ31, N-channel MOSFET Q30 for supplying a circuit ground potential, P-channel MOSFET Q33 for supplying a write signal to main input / output line MIOB at a high level such as internal voltage VDL, and N for supplying a circuit ground potential And a channel type MOSFET Q32. Write signals MIDDT to MIPBB are supplied to the gates of these MOSFETs Q31 to Q34.

【0058】メイン入出力線MIOとMIOBは、Pチ
ャンネル型MOSFETの選択スイッチMOSFETQ
34とQ33を介して読み出しアンプとしてのメインア
ンプの入力端子に接続される。このメインアンプの一対
の入力端子には、前記と同様に3個のPチャンネル型M
OSFETからなるVPERIレベルのプリチャージ回
路が設けられる。メインアンプは、前記のようなセンス
アンプと同様にPチャンネル型MOSFETQ36とQ
37とNチャンネル型MOSFETQ38とQ39から
なるCMOSラッチ回路が用いられ、メインアンプ制御
信号MAEによりオン状態にされるNチャンネル型MO
SFETQ40を介して動作電流が流れるようにされ
る。
The main input / output lines MIO and MIOB are P-channel MOSFET selection switches MOSFET Q
It is connected to the input terminal of a main amplifier as a readout amplifier via 34 and Q33. A pair of input terminals of this main amplifier are connected to three P-channel type M
A VPERI level precharge circuit composed of an OSFET is provided. The main amplifier is composed of P-channel MOSFETs Q36 and Q
37 and an N-channel type MOSFET which is turned on by a main amplifier control signal MAE using a CMOS latch circuit comprising N-channel type MOSFETs Q38 and Q39.
An operating current flows through the SFET Q40.

【0059】メイアンプMAの出力信号は、Pチャンネ
ル型MOSFETQ41とNチャンネル型MOSFET
Q42からなるCMOSインバータ回路に入力される。
このCMOSインバータ回路は、上記制御信号MAEに
より動作させられるNチャンネル型MOSFETQ43
により動作させられる。そして、このCMOSインバー
タ回路の出力部には、CMOSインバータ回路N1とN
2からなるCMOSラッチ回路が設けられ、図示しない
出力バッファに伝えられる。
The output signal of the main amplifier MA is composed of a P-channel MOSFET Q41 and an N-channel MOSFET Q41.
Input to the CMOS inverter circuit composed of Q42.
This CMOS inverter circuit includes an N-channel MOSFET Q43 operated by the control signal MAE.
Is operated. The output of the CMOS inverter circuit is connected to the CMOS inverter circuits N1 and N1.
2 is provided and transmitted to an output buffer (not shown).

【0060】図7には、この発明に係るダイナミック型
RAMに設けられるタイミング発生回路の一実施例の論
理回路図が示されている。外部端子から供給されたクロ
ック信号により形成された内部クロック信号ICLKB
は、一方において読み出し動作に必要とされるパルス幅
に対応した遅延時間を持つようにされた遅延回路D1に
供給され、その遅延信号と上記クロック信号ICLKB
とをオアゲート回路G1に供給して上記遅延回路D1の
遅延時間に対応した比較的長いパルス幅のパルス信号P
1を形成する。上記クロック信号ICLKBは、他方に
おいて書き込み動作に必要とされるパルス幅に対応した
遅延時間を持つようにされた遅延回路D2に供給され、
その遅延信号と上記クロック信号ICLKBとをオアゲ
ート回路G2に供給して上記遅延回路D2の遅延時間に
対応した比較的短いパルス幅のパルス信号P2を形成す
る。
FIG. 7 is a logic circuit diagram of one embodiment of the timing generation circuit provided in the dynamic RAM according to the present invention. Internal clock signal ICLKB formed by a clock signal supplied from an external terminal
Is supplied to a delay circuit D1 having a delay time corresponding to a pulse width required for a read operation, and the delay signal and the clock signal ICLKB
To the OR gate circuit G1 to supply a pulse signal P having a relatively long pulse width corresponding to the delay time of the delay circuit D1.
Form one. On the other hand, the clock signal ICLKB is supplied to a delay circuit D2 having a delay time corresponding to a pulse width required for a write operation,
The delay signal and the clock signal ICLKB are supplied to an OR gate circuit G2 to form a pulse signal P2 having a relatively short pulse width corresponding to the delay time of the delay circuit D2.

【0061】上記パルスP1は、読み出し動作のときに
発生させるために、読み出し制御信号BRDにより制御
されるアンドゲート回路G3を通して出力される。上記
パルスP2は、書き込み動作のときに発生させるため
に、書き込み制御信号BWTにより制御されるアンドゲ
ート回路G4を通して出力される。上記ゲート回路G3
とG4の出力信号は、オアゲート回路G5を通してパル
ス信号YSEとしてY選択回路に供給される。なお、上
記ゲート回路G3の出力信号は、読み出し動作を行う前
記メインアンプ制御信号を形成するためにも用いられ、
上記ゲート回路G4の出力信号は、書き込み回路を制御
するためにも用いられる。そして、YIOR,YIOW
が前記メイン入力出力線MIO,MIOBに設けられる
メイン入出力線プリチャージ回路MIOeqに供給され
る制御信号EQMIOBを形成するためにも用いられ
る。
The pulse P1 is output through an AND gate circuit G3 controlled by a read control signal BRD so as to be generated at the time of a read operation. The pulse P2 is output through an AND gate circuit G4 controlled by a write control signal BWT in order to generate the pulse at the time of a write operation. The above gate circuit G3
And the output signal of G4 is supplied to the Y selection circuit as a pulse signal YSE through an OR gate circuit G5. The output signal of the gate circuit G3 is also used to form the main amplifier control signal for performing a read operation.
The output signal of the gate circuit G4 is also used to control a write circuit. And YIOR, YIOW
Are also used to form a control signal EQMIOB supplied to a main input / output line precharge circuit MIOeq provided on the main input / output lines MIO, MIOB.

【0062】Y系のアドレス信号A0〜A7は、クロッ
ク信号ICLKAYにより動作させられるY系アドレス
バッファを介して取り込まれ、プリデコーダによって3
ビットずつの組み合わせによりAY00−07、AY3
0−37と、残り2ビットの組み合わせによりAY60
−63のようなプリデコード信号が形成される。これら
のプリデコード信号のうち、特に制限されないが、上記
AY00−AY07に対応されたプリデコード信号と上
記パルス信号YSEがアンドゲート回路G6により組み
合わせされてカラムタイミング信号φY00−07が形
成される。このタイミング信号φY00−07と、残り
のプリデコード信号をナンドゲート回路G7に供給して
1つの選択信号を形成し、ドライバとしてのインバータ
回路N4を通してカラム選択信号YSを形成する。シン
クロナスDRAMのバースト動作を実現するため、Y系
アドレスバッファの次段にアドレスカウンタが置かれ、
次のICLKAYの立ち上がりでは外部アドレス信号A
0〜A7を取り込まず、カウンタ動作によりインクリメ
ントされたアドレス信号がメモリチップ内で生成され
る。
The Y-system address signals A0 to A7 are fetched via a Y-system address buffer operated by a clock signal ICLKAY, and are read by a predecoder.
AY00-07, AY3 by combination of bits
AY60 by the combination of 0-37 and the remaining 2 bits
A predecode signal like -63 is formed. Of these predecode signals, although not particularly limited, the predecode signal corresponding to AY00-AY07 and the pulse signal YSE are combined by an AND gate circuit G6 to form a column timing signal φY00-07. The timing signal φY00-07 and the remaining predecode signal are supplied to a NAND gate circuit G7 to form one selection signal, and a column selection signal YS is formed through an inverter circuit N4 as a driver. In order to realize the burst operation of the synchronous DRAM, an address counter is placed at the next stage of the Y-system address buffer.
At the next rising edge of ICLKAY, external address signal A
The address signal incremented by the counter operation is generated in the memory chip without taking in 0 to A7.

【0063】この構成では、読み出し動作のときには、
上記選択信号YSは上記遅延時間D1に対応したパルス
幅に対応した比較的長い時間選択レベルにされる。つま
り、比較的長い時間にわたって相補ビット線BL,BL
Bとローカル入出力線LIO,LIOBとを接続させ
る。これにより、相補ビット線BL,BLBからローカ
ル入出力線LIO,LIOBに読み出される信号レベル
をメインアンプの安定した動作に要する100mVない
し150mV程度に大きくできる。そして、そのイコラ
イズには上記のような低振幅であるので比較的短い時間
で終了させることができる。
In this configuration, at the time of the read operation,
The selection signal YS is set to the selection level for a relatively long time corresponding to the pulse width corresponding to the delay time D1. That is, the complementary bit lines BL, BL
B and the local input / output lines LIO, LIOB are connected. As a result, the signal level read from the complementary bit lines BL and BLB to the local input / output lines LIO and LIOB can be increased to about 100 mV to 150 mV required for stable operation of the main amplifier. The equalization can be completed in a relatively short time because of the low amplitude as described above.

【0064】書き込み動作のときには、上記選択信号Y
Sは上記遅延時間D2に対応したパルス幅に対応した比
較的短い時間選択レベルにされる。つまり、比較的短い
時間だけ相補ビット線BL,BLBとローカル入出力線
LIO,LIOBとを接続させる。書き込み動作では、
上記のようにメイン入出力線MIOとMIOBに設けら
れるライトアンプによって電圧VDLとVSSのような
読み出し時に比べると大振幅の信号が伝えられる。選択
信号YSのハイレベルにより、ビット線対が反転すれ
ば、選択信号YSがロウレベルによりカラムスイッチが
オフ状態の後もセンスアンプSAの増幅作用によりメモ
リセルへの書き込みが継続して行われるので、選択信号
YSのハイレベルの選択時間は短くてよい。所定のクロ
ックサイクル時間において、その分プリチャージ時間を
長くすることができ、上記のような大振幅のメイン入出
力線MIOとローカル入出力線LIOのレベルを確実に
VDLレベルにプリチャージ(イコライズ)させること
ができる。
In the write operation, the selection signal Y
S is set to a selection level for a relatively short time corresponding to the pulse width corresponding to the delay time D2. That is, the complementary bit lines BL and BLB are connected to the local input / output lines LIO and LIOB for a relatively short time. In a write operation,
As described above, the write amplifiers provided on the main input / output lines MIO and MIOB transmit a signal having a larger amplitude as compared with the read operation such as the voltages VDL and VSS. If the bit line pair is inverted by the high level of the selection signal YS, the write operation to the memory cell is continuously performed by the amplifying operation of the sense amplifier SA even after the column switch is turned off by the low level of the selection signal YS. The selection time of the high level of the selection signal YS may be short. In a predetermined clock cycle time, the precharge time can be extended correspondingly, and the level of the large amplitude main input / output line MIO and local input / output line LIO is reliably precharged (equalized) to the VDL level. Can be done.

【0065】図8には、この発明が適用されるシンクロ
ナスDARM(ダイナミック型RAM)の一実施例の概
略レイアウト図が示されている。メモリアレイとサブア
レイの構成は、前記図1の実施例と基本的には同一であ
る。ただし、いっそうの小面積化のためメモリチップの
長手方向の中央部にメインロウデコーダ11とメインワ
ードドライバ12をまとめて設けて、前記のような周辺
回路領域14とにより、チップ全体を4分割してそれぞ
れをバンク0〜3を割り当てるようにするものである。
FIG. 8 is a schematic layout diagram of an embodiment of a synchronous DARM (dynamic RAM) to which the present invention is applied. The configurations of the memory array and the sub-array are basically the same as the embodiment of FIG. However, in order to further reduce the area, a main row decoder 11 and a main word driver 12 are collectively provided in the central portion in the longitudinal direction of the memory chip, and the entire chip is divided into four parts by the peripheral circuit region 14 as described above. In this case, banks 0 to 3 are assigned to the respective banks.

【0066】1つのバンクにおいて、サブアレイはワー
ド線方向に16個設けられる。2つのサブアレイに挟ま
れたサブワードドライバ領域に2対のメイン入出力線が
延長される。それ故、1つのバンクでは2×8=16対
のメイン入出力線が設けられる。それぞれのメイン入出
力線には、上記メインアンプMAとライトアンプWAが
設けられる。したがって、1つのバンクに対して16個
のメインアンプと16個のライトアンプが設けられて、
16ビットの単位でのメモリアクセスが行われる。そし
て、コマンドによって指示されるシンクロナスDRAM
の主な動作モードは、次の通りである。
In one bank, 16 subarrays are provided in the word line direction. Two pairs of main input / output lines are extended to a sub-word driver region sandwiched between two sub-arrays. Therefore, one bank is provided with 2 × 8 = 16 pairs of main input / output lines. Each main input / output line is provided with the main amplifier MA and the write amplifier WA. Therefore, 16 main amplifiers and 16 write amplifiers are provided for one bank,
Memory access is performed in units of 16 bits. And a synchronous DRAM designated by a command.
Are as follows.

【0067】(1)モードレジスタセットコマンド(M
o) 上記入力回路に含まれるモードレジスタをセットするた
めのコマンドであり、CSB,RASB,CASB,W
EB=ロウレベルによって当該コマンド指定され、セッ
トすべきデータ(レジスタセットデータ)はA0〜Ai
を介して与えられる。ここで、CSBは、チップセレク
ト信号であり、RASBはロウアドレスストローブ信号
であり、CASBはカラムアドレスストローブ信号であ
り、WEBはライトイネーブル信号であり、各信号名の
末尾のBは、ロウレベルがアクティブレベルであること
を表している。
(1) Mode register set command (M
o) A command for setting a mode register included in the input circuit, CSB, RASB, CASB, W
The command is designated by EB = low level, and the data to be set (register set data) are A0 to Ai.
Given through. Here, CSB is a chip select signal, RASB is a row address strobe signal, CASB is a column address strobe signal, WEB is a write enable signal, and B at the end of each signal name is low level active. Indicates that it is a level.

【0068】レジスタセットデータは、特に制限されな
いが、バーストレングス、CASレイテンシイ、ライト
モードなどとされる。特に制限されないが、設定可能な
バーストレングスは、1,2,4,8,フルページとさ
れ、設定可能なCASレイテンシイは1,2,3とさ
れ、設定可能なライトモードは、バーストライトとシン
グルライトとされる。
Although not particularly limited, the register set data is set to a burst length, a CAS latency, a write mode, or the like. Although not particularly limited, the settable burst length is 1, 2, 4, 8, and full page, the settable CAS latency is 1, 2, 3, and the settable write modes are burst write and Single light.

【0069】上記CASレイテンシイは、後述のカラム
アドレス・リードコマンドによって指示されるリード動
作においてCASBの立ち下がりから出力バッファの出
力動作までに内部クロック信号の何サイクル分を費やす
かを指示するものである。読出しデータが確定するまで
にはデータ読出しのための内部動作時間が必要とされ、
それを内部クロック信号の使用周波数に応じて設定する
ためのものである。例えば、周波数の高い内部クロック
信号を用いる場合にはCASレイテンシイを相対的に大
きな値に設定し、周波数の低い内部クロック信号を用い
る場合にはCASレイテンシイを相対的に小さな値に設
定する。
The above-described CAS latency indicates how many cycles of the internal clock signal should be spent from the fall of CASB to the output operation of the output buffer in a read operation specified by a column address read command described later. is there. Internal operation time for data reading is required until the read data is determined,
This is to set it according to the operating frequency of the internal clock signal. For example, when using a high-frequency internal clock signal, the CAS latency is set to a relatively large value, and when using a low-frequency internal clock signal, the CAS latency is set to a relatively small value.

【0070】(2)ロウアドレスストローブ・バンクア
クティブコマンド(Ac) これは、ロウアドレスストローブの指示とA12,A1
3によるメモリバンクの選択を有効にするコマンドであ
り、CSB,RASB=ロウレベル、CASB,WEB
=ハイレベルによって指示され、このとき上位2ビット
を除いたアドレスがロウアドレス信号として、上位2ビ
ットのアドレス信号A12,A13がメモリバンクの選
択信号として取り込まれる。取り込み動作は上述のよう
に内部クロック信号の立ち上がりエッジに同期して行わ
れる。例えば、当該コマンドが指定されると、それによ
って指定されるメモリバンクにおけるワード線が選択さ
れ、当該ワード線に接続されたメモリセルがそれぞれ対
応する相補データ線に導通される。
(2) Row address strobe / bank active command (Ac) This is a command for row address strobe and A12, A1
3 is a command for enabling the selection of the memory bank by CSB, RASB = low level, CASB, WEB
= High level. At this time, the address excluding the upper 2 bits is taken as a row address signal, and the address signals A12 and A13 of the upper 2 bits are taken as a memory bank selection signal. The fetch operation is performed in synchronization with the rising edge of the internal clock signal as described above. For example, when the command is specified, a word line in the memory bank specified by the command is selected, and the memory cells connected to the word line are electrically connected to the corresponding complementary data lines.

【0071】(3)カラムアドレス・リードコマンド
(Re) このコマンドは、バーストリード動作を開始するために
必要なコマンドであると共に、カラムアドレスストロー
ブの指示を与えるコマンドであり、CSB,CASB=
ロウレベル、RASB,WEB=ハイレベルによって指
示され、このときに供給されるカラムアドレスがカラム
アドレス信号として取り込まれる。これによって取り込
まれたカラムアドレス信号はバーストスタートアドレス
としてカラムアドレスカウンタに供給される。これによ
って指示されたバーストリード動作においては、その前
にロウアドレスストローブ・バンクアクティブコマンド
サイクルでメモリバンクとそれにおけるワード線の選択
が行われており、当該選択ワード線のメモリセルは、内
部クロック信号に同期してカラムアドレスカウンタから
出力されるアドレス信号に従って順次選択されて連続的
に読出される。連続的に読出されるデータ数は上記バー
ストレングスによって指定された個数とされる。また、
出力バッファからのデータ読出し開始は上記CASレイ
テンシイで規定される内部クロック信号のサイクル数を
待って行われる。
(3) Column address read command (Re) This command is a command necessary for starting a burst read operation and a command for giving an instruction of a column address strobe. CSB, CASB =
Instructed by low level, RASB, WEB = high level, the column address supplied at this time is taken in as a column address signal. The fetched column address signal is supplied to the column address counter as a burst start address. In the burst read operation designated thereby, the memory bank and the word line in the memory bank are selected in the row address strobe / bank active command cycle, and the memory cell of the selected word line is supplied with the internal clock signal. Are sequentially selected in accordance with the address signal output from the column address counter and are successively read out. The number of data to be continuously read is the number specified by the burst length. Also,
Data reading from the output buffer is started after waiting for the number of cycles of the internal clock signal defined by the CAS latency.

【0072】(4)カラムアドレス・ライトコマンド
(Wr) ライト動作の態様としてモードレジスタにバーストライ
トが設定されているときは当該バーストライト動作を開
始するために必要なコマンドとされ、ライト動作の態様
としてモードレジスタにシングルライトが設定されてい
るときは当該シングルライト動作を開始するために必要
なコマンドとされる。更に当該コマンドは、シングルラ
イト及びバーストライトにおけるカラムアドレスストロ
ーブの指示を与える。当該コマンドは、CSB,CAS
B,WEB=ロウレベル、RASB=ハイレベルによっ
て指示され、このときに供給されるアドレスがカラムア
ドレス信号として取り込まれる。これによって取り込ま
れたカラムアドレス信号はバーストライトにおいてはバ
ーストスタートアドレスとしてカラムアドレスカウンタ
に供給される。これによって指示されたバーストライト
動作の手順もバーストリード動作と同様に行われる。但
し、ライト動作にはCASレイテンシイはなく、ライト
データの取り込みは当該カラムアドレス・ライトコマン
ドサイクルから開始される。
(4) Column Address Write Command (Wr) When a burst write is set in the mode register as a mode of the write operation, it is a command necessary to start the burst write operation, and the mode of the write operation When single write is set in the mode register, the command is a command necessary to start the single write operation. Further, the command gives an instruction of a column address strobe in single write and burst write. The command is CSB, CAS
Instructed by B, WEB = low level and RASB = high level, the address supplied at this time is taken in as a column address signal. The fetched column address signal is supplied to the column address counter as a burst start address in burst write. The procedure of the burst write operation instructed in this way is performed in the same manner as the burst read operation. However, there is no CAS latency in the write operation, and the capture of write data is started from the column address / write command cycle.

【0073】(5)プリチャージコマンド(Pr) これは、上位2ビットのアドレス信号によって選択され
たメモリバンクに対するプリチャージ動作の開始コマン
ドとされ、CSB,RASB,WEB=ロウレベル、C
ASB=ハイレベルによって指示される。
(5) Precharge command (Pr) This is a command to start a precharge operation for the memory bank selected by the upper two-bit address signal. CSB, RASB, WEB = low level, C
Instructed by ASB = high level.

【0074】(6)オートリフレッシュコマンド このコマンドはオートリフレッシュを開始するために必
要とされるコマンドであり、CSB,RASB,CAS
B=ロウレベル、WEB,CKE(クロックイネーブ
ル)=ハイレベルによって指示される。
(6) Auto-refresh command This command is required to start auto-refresh, and includes CSB, RASB, and CAS.
Instructed by B = low level, WEB, CKE (clock enable) = high level.

【0075】(7)バーストストップ・イン・フルペー
ジコマンド フルページに対するバースト動作を全てのメモリバンク
に対して停止させるために必要なコマンドであり、フル
ページ以外のバースト動作では無視される。このコマン
ドは、CSB,WEB=ロウレベル、RASB,CAS
B=ハイレベルによって指示される。
(7) Burst stop in full page command This command is required to stop the burst operation for a full page for all memory banks, and is ignored in burst operations other than the full page. This command is CSB, WEB = low level, RASB, CAS
B = indicated by high level.

【0076】(8)ノーオペレーションコマンド(No
p) これは実質的な動作を行わないこと指示するコマンドで
あり、CSB=ロウレベル、RASB,CASB,WE
Bのハイレベルによって指示される。
(8) No operation command (No
p) This is a command for instructing that no substantial operation is performed. CSB = low level, RASB, CASB, WE
Indicated by the high level of B.

【0077】図9には、この発明が適用されたシンクロ
ナスDRAMの動作を説明するための波形図が示されて
いる。同図では、バースト長BL=2、CASレイテン
シCL=2の場合を例にして示されている。上記BL=
2、CL=2は、前記のようなモードレジスタに設定さ
れる。前記説明したように、BL=2とは2つの連続サ
イクルで2つのカラムスイッチから読みは出し/書き込
みを行うことであり、CL=2とはリードコマンドから
2サイクル後に出力端子DQから出力データを出力させ
ることである。
FIG. 9 is a waveform chart for explaining the operation of the synchronous DRAM to which the present invention is applied. FIG. 2 shows a case where the burst length BL = 2 and the CAS latency CL = 2 as an example. The above BL =
2, CL = 2 is set in the mode register as described above. As described above, BL = 2 means that reading / writing is performed from two column switches in two continuous cycles, and CL = 2 means that output data is output from the output terminal DQ two cycles after the read command. Output.

【0078】バンクアクティブコマンドにより、図示し
ないアドレス入力端子からロウ系のアドレス信号を取り
込み、それをデコードすることによりサブワード線SW
LがVPPのような選択レベルにされる。これにより、
相補ビット線BL,BLBには、微小読み出し信号が現
れる。センスアンプが動作タイミング信号により活性化
されるのて上記相補ビット線BLとBLBの上記微小読
み出し信号は、VDLのようなハイレベルとVSSのよ
うなロウレベルに増幅され、サブワード線が選択された
メモリセルへの再書き込み(リフレッシュ)が行われ
る。
In response to a bank active command, a row-related address signal is fetched from an address input terminal (not shown), and is decoded to obtain a sub-word line SW.
L is brought to a selection level such as VPP. This allows
A minute read signal appears on the complementary bit lines BL and BLB. Since the sense amplifier is activated by the operation timing signal, the small read signal of the complementary bit lines BL and BLB is amplified to a high level such as VDL and a low level such as VSS, and the memory in which the sub-word line is selected. Rewriting (refresh) to the cell is performed.

【0079】アクティブコマンドの2サイクル後にライ
トコマンドが入力され、図示しないカラム系のアドレス
信号が取り込まれ、カラム選択信号YS1を立ち上げ
る。これにより、この間カラムスイッチがオン状態なっ
てメイン入出力線MIOとMIOBからVDL,VSS
のような大きな信号振幅の書き込み信号をビット線対へ
伝えるのて、短時間でビット線対を反転書き込みさせる
ことができ、カラム選択信号YS1が非選択レベルにさ
れるとともにメイン入出力線プリチャージ回路MIOe
qが動作を開始してメイン入出力線MIO,MIOB及
び図示しないローカル入出力線LIO,LIOBをVD
Lレベルにプリチャージ(イコライズ)させ、次のクロ
ックサイクルではアドレスカウンタによりYアドレスが
インクリメントされて、YS2が選択されて上記同様な
書き込み動作とプリチャージ動作が行われる。
A write command is input two cycles after the active command, a column address signal (not shown) is fetched, and a column selection signal YS1 rises. As a result, the column switch is turned on during this time, and VDL and VSS are switched from the main input / output lines MIO and MIOB.
Is transmitted to the bit line pair, the bit line pair can be inverted and written in a short time, the column selection signal YS1 is set to the non-selection level, and the main input / output line is precharged. Circuit MIOe
q starts operation and sets the main input / output lines MIO and MIOB and the local input / output lines LIO and LIOB (not shown) to VD.
In the next clock cycle, the Y address is incremented by the address counter, YS2 is selected, and the same write operation and precharge operation as described above are performed in the next clock cycle.

【0080】例えばライトコマンドのさらに2サイクル
後にリードコマンドが入力され、上記同様に図示しない
カラム系のアドレス信号が取り込まれ、カラム選択信号
YS3を立ち上げて、選択された相補ビット線BL,B
LBの読み出し信号をローカル入出力線LIO,LIO
B及びメイン入出力線MIO,MIOBを通して伝達さ
せて100〜150mVの電圧差を得て、これを信号M
AEにより活性化されるメインアンプにより増幅して出
力信号MOを形成する。上記読み出し動作のときには、
上記YS3の選択期間が長くされて上記100〜150
mVの電圧差を得るようにしているので安定した読み出
し動作を行うことができる。上記ようなMIO対,LI
O対の比較的小さい電圧差をVDLにプリチャージさせ
るには短い時間でよい。次のクロックサイクルではYア
ドレスがインクリメントされて、YS4が選択されて上
記同様な読み出し動作とプリチャージ動作が行われる。
上記メインアンプの出力信号MOは、出力バッファの直
前でタイミング信号MOEとDOCによる制御とレベル
変換とが行われて出力信号DQが形成される。
For example, a read command is input two more cycles after the write command, a column address signal (not shown) is fetched in the same manner as described above, and a column selection signal YS3 is raised to select the selected complementary bit lines BL and B.
The LB read signal is supplied to the local input / output lines LIO, LIO
B and the main input / output lines MIO, MIOB to obtain a voltage difference of 100 to 150 mV,
The output signal MO is amplified by the main amplifier activated by the AE. In the above read operation,
The selection period of YS3 is lengthened, and
Since a voltage difference of mV is obtained, a stable read operation can be performed. MIO pair as above, LI
It takes only a short time to precharge the VDL with a relatively small voltage difference between the O pair. In the next clock cycle, the Y address is incremented, YS4 is selected, and the same read operation and precharge operation as described above are performed.
The output signal MO of the main amplifier is controlled by the timing signal MOE and DOC and level converted immediately before the output buffer to form an output signal DQ.

【0081】本願発明においては、書き込み時にはカラ
ム選択信号YSのパルス幅を短く設定するので、書き込
み後のプリチャージ時間をその分長くでき大振幅の入出
力線MIOとLIOを次のサイクルの選択信号YSがハ
イレベルにされる前にVDLにプリチャージさせること
ができる。また、読み出し時には、上記カラム選択信号
YSのパルス幅を長く設定するので、上記入出力線MI
Oに十分な電位差を持つ読み出し信号を得ることがで
き、メインアンプの安定かつ高速動作に寄与する。そし
て、読み出し時のMIO線対、LIO線対の小さな電位
差のプリチャージは極短時間で終了させることができ
る。このような構成によって、例えば、120MHz程
度を上限周波数とするシンクロナスDRAMに対して、
上記のような書き込み時と読み出し時のカラム選択パル
ス幅を切り換えるという本願発明を適用することによっ
て同一デバイス機能でも160MHz程度まで高速化さ
せることが可能となる。
In the present invention, since the pulse width of the column selection signal YS is set short at the time of writing, the precharge time after writing can be lengthened by that amount, and the large amplitude input / output lines MIO and LIO are set to the selection signal of the next cycle. VDL can be precharged before YS is brought high. At the time of reading, the pulse width of the column selection signal YS is set to be long, so that the input / output line MI
A read signal having a potential difference sufficient for O can be obtained, which contributes to stable and high-speed operation of the main amplifier. The precharge of a small potential difference between the MIO line pair and the LIO line pair at the time of reading can be completed in an extremely short time. With such a configuration, for example, for a synchronous DRAM having an upper limit frequency of about 120 MHz,
By applying the present invention of switching the column selection pulse width at the time of writing and at the time of reading as described above, it is possible to increase the speed up to about 160 MHz even with the same device function.

【0082】上記の実施例から得られる作用効果は、下
記の通りである。すなわち、 (1) 複数のワード線と複数の相補ビット線の交点に
複数のメモリセルが設けられてなるメモリアレイと、上
記複数の相補ビット線の中から選択信号により選択され
たものを共通相補入出力線に接続させるカラムスイッチ
と、上記共通相補入出力線を所定の同じ電位に設定する
プリチャージ回路とを備えた半導体記憶装置において、
読み出し時にはカラムスイッチの選択期間を長くすると
ともにその分上記共通相補入出力線のプリチャージ期間
を短くし、書き込み時にはカラムスイッチの選択期間を
短くするとともにその分上記共通相補入出力線のプリチ
ャージ期間を長くして上記読み出し時と書き込み時のメ
モリサイクル期間をほぼ同一の短いクロックサイクル時
間にすることができるという効果が得られる。
The operation and effect obtained from the above embodiment are as follows. That is, (1) a memory array in which a plurality of memory cells are provided at intersections of a plurality of word lines and a plurality of complementary bit lines, and a memory array selected from the plurality of complementary bit lines by a selection signal in common complement A semiconductor memory device comprising: a column switch connected to an input / output line; and a precharge circuit for setting the common complementary input / output line to a predetermined same potential.
When reading, the column switch selection period is lengthened and the pre-charge period of the common complementary input / output line is shortened accordingly. During writing, the column switch selection period is shortened and the pre-charge period of the common complementary input / output line is shortened accordingly. And the memory cycle period at the time of reading and writing can be made substantially the same short clock cycle time.

【0083】(2) 上記カラムスイッチに伝えられる
選択信号を、外部端子から供給されるクロック信号と、
読み出し制御信号と書き込み制御信号のそれぞれに対応
して上記読み出し期間と書き込み期間に対応した2種類
のパルス幅のパルス信号とY系のアドレスデコーダで形
成された選択信号との論理により形成し、上記プリチャ
ージ回路のプリチャージ信号を上記パルス信号に基づい
て発生されることにより、外部端子から供給されるクロ
ック信号に対応したメモリサイクル期間をほぼ同一の短
いクロックサイクルにおさめることができるという効果
が得らる。
(2) A selection signal transmitted to the column switch is converted into a clock signal supplied from an external terminal,
The logic circuit is formed by a logic of a pulse signal having two pulse widths corresponding to the read period and the write period corresponding to the read control signal and the write control signal, respectively, and a selection signal formed by a Y-system address decoder. By generating the precharge signal of the precharge circuit based on the pulse signal, an effect is obtained that the memory cycle period corresponding to the clock signal supplied from the external terminal can be reduced to almost the same short clock cycle. Rara.

【0084】(3) 上記メモリセルとして、アドレス
選択MOSFETと記憶キャパシタからなるダイナミッ
ク型メモリセルとすることにより、大記憶容量化を図り
つつ外部端子から供給される高周波数のクロック信号に
対応したメモリサイクルを実現できるという効果が得ら
れる。
(3) By using a dynamic memory cell including an address selection MOSFET and a storage capacitor as the memory cell, a memory corresponding to a high-frequency clock signal supplied from an external terminal while increasing the storage capacity is achieved. The effect that recycling can be achieved is obtained.

【0085】(4) 上記ワード線をメインワード線
と、上記メインワード線の延長方向に対して分割された
長さとされ、かつ、上記メインワード線と交差するビッ
ト線方向に対して複数配置され、複数からなるダイナミ
ック型メモリセルのアドレス選択端子が接続されてなる
サブワード線からなる階層ワード線方式とし、上記相補
ビット線を上記複数のサブワード線とそれと直交するよ
うに配置され、上記ダイナミック型メモリセルの入出力
端子がその一方に接続された複数の相補ビット線対とし
て上記サブワード線とともにサブアレイを構成し、上記
共通相補入出力線を上記少数のサブアレイに対応して設
けられるローカル入出力線と、ビット線方向に配列され
た多数のサブアレイに対応して設けられるメイン入出力
線とし、上記ローカル入出力線及びメイン入出力線のそ
れぞれにプリチャージ回路が設けられるとともに、上記
メイン入出力線に読み出しアンプの入力端子と、書き込
みアンプの出力端子をそれぞれ接続することより、大記
憶容量化を図りつつ、外部端子から供給される高周波数
のクロック信号に対応したメモリサイクルを実現できる
という効果が得られる。
(4) The word lines are divided into a main word line and a length divided in the direction in which the main word line extends, and a plurality of the word lines are arranged in a bit line direction crossing the main word line. A hierarchical word line system comprising sub-word lines to which address selection terminals of a plurality of dynamic memory cells are connected, wherein the complementary bit lines are arranged so as to be orthogonal to the plurality of sub-word lines, and A sub-array is formed together with the sub-word line as a plurality of pairs of complementary bit lines, one of which is connected to the input / output terminal of the cell, and the local complementary input / output line is provided corresponding to the small number of sub-arrays. And main input / output lines provided corresponding to a number of sub-arrays arranged in the bit line direction. A precharge circuit is provided for each of the input / output line and the main input / output line, and the input terminal of the read amplifier and the output terminal of the write amplifier are connected to the main input / output line, respectively, thereby achieving a large storage capacity. In addition, an effect is obtained that a memory cycle corresponding to a high-frequency clock signal supplied from an external terminal can be realized.

【0086】(5) 上記複数からなるサブワード線配
列の両端側にサブワード線駆動回路を振り分けられて分
割して配置し、上記複数からなる相補ビット線配列の両
端側にセンスアンプが振り分けて分割して配置し、上記
1つのサブアレイを上記複数のサブワード線駆動回路列
と上記複数のセンスアンプ列とにより囲まれるように形
成し、上記ローカル入出力線を上記センスアンプに沿っ
て延長させることにより、大記憶容量化を図りつつ、上
記ローカル入出力線を少数のサブアレイ群毎に分割して
配置させることにより寄生容量を小さくし、外部端子か
ら供給される高周波数のクロック信号に対応したメモリ
サイクルを実現できるという効果が得られる。
(5) Sub-word line driving circuits are divided and arranged at both ends of the plurality of sub-word line arrays, and sense amplifiers are divided and divided at both ends of the plurality of complementary bit line arrays. The one sub-array is formed so as to be surrounded by the plurality of sub-word line driving circuit rows and the plurality of sense amplifier rows, and the local input / output lines are extended along the sense amplifiers. While increasing the storage capacity, the local input / output lines are divided and arranged for each of a small number of sub-array groups to reduce the parasitic capacitance and to reduce the memory cycle corresponding to a high-frequency clock signal supplied from an external terminal. The effect that it can be realized is obtained.

【0087】(6) シェアードセンス方式としてセン
スアンプを中心にして隣接するサブアレイのビット線対
に対応して設け、上記カラムスイッチを上記センスアン
プの入出力ノードと上記ローカル入出力線との間に設け
ることにより、少ない数のローカル入出力線より多数の
メモリセルとの間でのデータを効率よく読み書きするこ
とができるという効果が得られる。
(6) A shared sense system is provided corresponding to a bit line pair of an adjacent sub-array centered on a sense amplifier, and the column switch is provided between an input / output node of the sense amplifier and the local input / output line. With this arrangement, an effect is obtained that data can be efficiently read and written between a large number of memory cells and a small number of local input / output lines.

【0088】(7) シンクロナスDRAMに適用する
ことにより、同一の回路を用いつつ、簡単な回路の付加
によって動作周波数を大幅に高くすることができるとい
う効果が得られる。
(7) By applying the present invention to a synchronous DRAM, an effect that the operating frequency can be significantly increased by adding a simple circuit while using the same circuit can be obtained.

【0089】以上本発明者よりなされた発明を実施例に
基づき具体的に説明したが、本願発明は前記実施例に限
定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種
々変更可能であることはいうまでもない。例えば、上記
図1又は図8に示したダイナミック型RAMにおいてメ
モリアレイ、サブアレイ及びサブワードドライバの構成
は、種々の実施形態を採ることができるし、サブワード
ドライバを用いないワードシャント方式でもよい。ダイ
ナミック型RAMにおいては、前記のようなバーストモ
ードの他に高速ページモードあるいはカラムスタティッ
クモードを持つものであってもよい。上記のような半導
体記憶装置は、1チップマイクロコンピュータ等のよう
なディジタル集積回路に内蔵されるものであってもよ
い。この発明は、半導体記憶装置に広く利用することが
できる。
Although the invention made by the present inventors has been specifically described based on the embodiments, the invention of the present application is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made without departing from the gist of the invention. Needless to say. For example, in the dynamic RAM shown in FIG. 1 or FIG. 8, the configuration of the memory array, sub-array, and sub-word driver can employ various embodiments, or may be a word shunt system without using a sub-word driver. The dynamic RAM may have a high-speed page mode or a column static mode in addition to the burst mode described above. The semiconductor memory device as described above may be built in a digital integrated circuit such as a one-chip microcomputer. The present invention can be widely used for semiconductor memory devices.

【0090】[0090]

【発明の効果】本願において開示される発明のうち代表
的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、下
記の通りである。すなわち、複数のワード線と複数の相
補ビット線の交点に複数のメモリセルが設けられてなる
メモリアレイと、上記複数の相補ビット線の中から選択
信号により選択されたものを共通相補入出力線に接続さ
せるカラムスイッチと、上記共通相補入出力線を所定の
同じ電位に設定するプリチャージ回路とを備えた半導体
記憶装置において、読み出し時にはカラムスイッチの選
択期間を長くするとともにその分上記共通相補入出力線
のプリチャージ期間を短くし、書き込み時にはカラムス
イッチの選択期間を短くするとともにその分上記共通相
補入出力線のプリチャージ期間を長くすることにより上
記読み出し時と書き込み時のメモリサイクル期間をほぼ
同一の短いクロックサイクル時間にすることができる。
The effects obtained by typical ones of the inventions disclosed in the present application will be briefly described as follows. That is, a memory array in which a plurality of memory cells are provided at the intersections of a plurality of word lines and a plurality of complementary bit lines, and a memory array selected from the plurality of complementary bit lines by a selection signal are used as common complementary input / output lines. And a precharge circuit for setting the common complementary input / output line to a predetermined same potential. In a semiconductor memory device, when reading, a column switch selection period is lengthened and the common complementary input / output line is correspondingly extended. By shortening the precharge period of the output line and shortening the selection period of the column switch at the time of writing and extending the precharge period of the common complementary input / output line by that much, the memory cycle period at the time of reading and writing is substantially reduced. The same short clock cycle time can be achieved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明が適用されるダイナミック型RAMの
一実施例を示す概略レイアウト図である。
FIG. 1 is a schematic layout diagram showing one embodiment of a dynamic RAM to which the present invention is applied.

【図2】この発明が適用されるダイナミック型RAMを
説明するための概略レイアウト図である。
FIG. 2 is a schematic layout diagram for explaining a dynamic RAM to which the present invention is applied;

【図3】この発明に係るダイナミック型RAMにおける
サブアレイとその周辺回路の一実施例を示す概略レイア
ウト図である。
FIG. 3 is a schematic layout diagram showing one embodiment of a sub-array and its peripheral circuits in a dynamic RAM according to the present invention.

【図4】この発明に係るダイナミック型RAMのセンス
アンプ部を中心にして、アドレス入力からデータ出力ま
での簡略化された一実施例を示す回路図である。
FIG. 4 is a circuit diagram showing a simplified embodiment from address input to data output centering on the sense amplifier section of the dynamic RAM according to the present invention.

【図5】この発明が適用されるダイナミック型RAMの
IOスイッチ回路の一実施例を示す回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing an embodiment of an IO switch circuit of a dynamic RAM to which the present invention is applied.

【図6】図5のダイナミック型RAMにおけるメイン入
出力線に接続されるライトアンプとメインアンプの一実
施例を示す回路図である。
6 is a circuit diagram showing one embodiment of a write amplifier and a main amplifier connected to main input / output lines in the dynamic RAM of FIG. 5;

【図7】この発明に係るダイナミック型RAMに設けら
れるタイミング発生回路の一実施例を示す論理回路図で
ある。
FIG. 7 is a logic circuit diagram showing one embodiment of a timing generation circuit provided in the dynamic RAM according to the present invention.

【図8】この発明が適用されるシンクロナスダイナミッ
ク型RAMの一実施例を示す概略レイアウト図である。
FIG. 8 is a schematic layout diagram showing an embodiment of a synchronous dynamic RAM to which the present invention is applied.

【図9】図8のシンクロナスダイナミック型RAMの動
作の一例を説明するための波形図である。
9 is a waveform chart for explaining an example of the operation of the synchronous dynamic RAM of FIG. 8;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…メモリチップ、11…メインロウデコーダ領域、
12…メインワードドライバ領域、13…カラムデコー
ダ領域、14…周辺回路、ポンディングパッド領域、1
5…メセリセルアレイ(サブアレイ)、16…センスア
ンプ領域、17…サブワードドライバ領域、18…交差
領域(クロスエリア)、51…アドレスバッファ、52
…プリデコーダ、53…デコーダ、61…メインアン
プ、62…出力バッファ、63…入力バッファ、BLe
q…ビット線プリチャージ回路、LIOeq…ローカル
入出力線プリチャージ回路、MIOeq…メイン入出力
線プリチャージ回路、MIO−LIOsw…IOスイッ
チ回路、MA…メインアンプ、WA…ライトアンプ、D
1,D2…遅延回路、G1〜G6…ゲート回路、N1〜
N4…インバータ回路、Q1〜Q35…MOSFET。
10: memory chip, 11: main row decoder area,
12: Main word driver area, 13: Column decoder area, 14: Peripheral circuit, bonding pad area, 1
5 Meseli cell array (subarray), 16 Sense amplifier area, 17 Subword driver area, 18 Cross area (cross area), 51 Address buffer, 52
... Predecoder, 53 ... Decoder, 61 ... Main amplifier, 62 ... Output buffer, 63 ... Input buffer, BLe
q: bit line precharge circuit, LIOeq: local input / output line precharge circuit, MIOeq: main input / output line precharge circuit, MIO-LIOsw: IO switch circuit, MA: main amplifier, WA: write amplifier, D
1, D2 delay circuit, G1 to G6 gate circuit, N1
N4: an inverter circuit; Q1 to Q35: MOSFETs.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI H01L 27/10 681E (72)発明者 出井 陽治 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 (72)発明者 橘川 五郎 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内 (72)発明者 三島 通宏 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体事業部内Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification symbol FI H01L 27/10 681E (72) Inventor Yoji Dei 5-2-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo In the semiconductor division of Hitachi, Ltd. (72 ) Inventor Goro Tachibanakawa 5-2-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo Inside the Semiconductor Division, Hitachi, Ltd. (72) Inventor Michihiro Mishima 5-2-1, Josuihoncho, Kodaira-shi, Tokyo Co., Ltd. Hitachi Semiconductor Division

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 複数のワード線と複数の相補ビット線の
交点に複数のメモリセルが設けられてなるメモリアレイ
と、 上記複数の相補ビット線の中から選択信号により選択さ
れたものを共通相補入出力線に接続させるカラムスイッ
チと、 上記共通相補入出力線を所定の同じ電位に設定するプリ
チャージ回路と、 上記共通相補入出力線の読み出し信号を増幅する読み出
しアンプと、 上記共通相補入出力線に書き込み信号を伝える書き込み
アンプとを備え、 読み出し時にはカラムスイッチの選択期間を長くすると
ともにその分上記共通相補入出力線のプリチャージ期間
を短くし、 書き込み時にはカラムスイッチの選択期間を短くすると
ともにその分上記共通相補入出力線のプリチャージ期間
を長くし、 上記読み出し時と書き込み時のメモリサイクル期間をほ
ぼ同一にしてなることを特徴とする半導体記憶装置。
1. A memory array comprising a plurality of memory cells provided at intersections of a plurality of word lines and a plurality of complementary bit lines, and a memory array selected from a plurality of complementary bit lines by a selection signal. A column switch connected to the input / output line; a precharge circuit for setting the common complementary input / output line to a predetermined same potential; a read amplifier for amplifying a read signal of the common complementary input / output line; And a write amplifier for transmitting a write signal to the line. In the read operation, the selection period of the column switch is lengthened and the precharge period of the common complementary input / output line is shortened accordingly. In the write operation, the selection period of the column switch is shortened. The precharge period of the common complementary input / output line is extended correspondingly, and the memory size at the time of reading and writing is increased. The semiconductor memory device characterized by comprising almost the same Le period.
【請求項2】 上記カラムスイッチに伝えられる選択信
号は、 外部端子から供給されるクロック信号と、読み出し制御
信号と書き込み制御信号のそれぞれに対応して上記読み
出し期間と書き込み期間に対応した2種類のパルス幅の
パルス信号を発生させるパルス発生回路の出力信号と、
Y系のアドレスデコーダで形成された選択信号との論理
により形成されるものであり、 上記プリチャージ回路のプリチャージ信号は、上記パル
ス発生回路の出力信号に基づいて発生されるものである
ことを特徴とする請求項1の半導体記憶装置。
2. The selection signal transmitted to the column switch includes a clock signal supplied from an external terminal, and two types of signals corresponding to the read period and the write period corresponding to a read control signal and a write control signal, respectively. An output signal of a pulse generation circuit for generating a pulse signal having a pulse width;
The precharge signal of the precharge circuit is generated based on the output signal of the pulse generation circuit. The precharge signal is formed by logic with a selection signal formed by a Y-system address decoder. 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein:
【請求項3】 上記メモリセルは、対応するワード線に
ゲートが接続され、対応する相補ビット線の一方に一方
のソース,ドレインが接続されたアドレス選択MOSF
ETと、上記アドレス選択MOSFETの他方のソー
ス,ドレインに蓄積ノードが接続され、他方に所定の電
圧が与えられた記憶キャパシタとからなるダイナミック
型メモリセルであることを特徴とする請求項2の半導体
記憶装置。
3. The memory cell according to claim 1, wherein a gate is connected to a corresponding word line, and one source and drain are connected to one of the corresponding complementary bit lines.
3. A semiconductor device according to claim 2, wherein said memory cell is a dynamic memory cell comprising an ET and a storage node having a storage node connected to the other source and drain of said address selection MOSFET and a predetermined voltage applied to the other. Storage device.
【請求項4】 上記ワード線は、メインワード線と、上
記メインワード線の延長方向に対して分割された長さと
され、かつ、上記メインワード線と交差するビット線方
向に対して複数配置され、複数からなるダイナミック型
メモリセルのアドレス選択端子が接続されてなるサブワ
ード線からなり、 上記相補ビット線は、上記複数のサブワード線とそれと
直交するように配置され、上記ダイナミック型メモリセ
ルの入出力端子がその一方に接続された複数の相補ビッ
ト線対からなり、 上記複数のサブワード線及び上記複数の相補ビット線対
及びこれらの交点に設けられた複数のダイナミック型メ
モリセルによりサブアレイを構成し、 上記共通相補入出力線は、上記サブアレイに対応して設
けられてローカル入出力線と、ビット線方向に配列され
た複数からなるサブアレイに対応して設けられるメイン
入出力線からなり、 上記ローカル入出力線及びメイン入出力線のそれぞれに
プリチャージ回路が設けられるとともに、上記メイン入
出力線に読み出しアンプの入力端子と、書き込みアンプ
の出力端子がそれぞれ接続されるものであることを特徴
とする請求項3の半導体記憶装置。
4. The word line has a main word line and a length divided in an extension direction of the main word line, and a plurality of the word lines are arranged in a bit line direction intersecting the main word line. And a sub-word line connected to address selection terminals of a plurality of dynamic memory cells, wherein the complementary bit lines are arranged so as to be orthogonal to the plurality of sub-word lines, A terminal is composed of a plurality of complementary bit line pairs connected to one of them, and a sub-array is constituted by the plurality of sub-word lines and the plurality of complementary bit line pairs and a plurality of dynamic memory cells provided at intersections thereof. The common complementary input / output lines are provided corresponding to the subarrays, and are arranged in the bit line direction with the local input / output lines. A main input / output line provided corresponding to a plurality of sub-arrays, a precharge circuit is provided for each of the local input / output line and the main input / output line, and an input terminal of a read amplifier is provided for the main input / output line. 4. The semiconductor memory device according to claim 3, wherein an output terminal of the write amplifier is connected to the write amplifier.
【請求項5】 上記サブアレイは、 上記複数からなるサブワード線配列の両端側にサブワー
ド線駆動回路が振り分けられて分割して配置され、 上記複数からなる相補ビット線配列の両端側にセンスア
ンプが振り分けられて分割して配置され、 上記1つのサブアレイは、上記複数のサブワード線駆動
回路列と上記複数のセンスアンプ列とにより囲まれるよ
うに形成され、 上記ローカル入出力線は上記センスアンプに沿って延長
されるものであることを特徴とする請求項4の半導体記
憶装置。
5. The sub-array, wherein sub-word line drive circuits are divided and arranged on both ends of the plurality of sub-word line arrays, and sense amplifiers are distributed on both ends of the plurality of complementary bit line arrays. The one sub-array is formed so as to be surrounded by the plurality of sub-word line drive circuit rows and the plurality of sense amplifier rows, and the local input / output lines are arranged along the sense amplifiers. 5. The semiconductor memory device according to claim 4, wherein said semiconductor memory device is extended.
【請求項6】 上記センスアンプは、シェアードセンス
方式とされ、それを中心にして隣接するサブアレイのビ
ット線に対応して設けられるものであり、 上記カラムスイッチは、センスアンプの入出力ノードと
上記ローカル入出力線との間に設けられるものであるこ
とを特徴とする請求項5の半導体記憶装置。
6. The sense amplifier is of a shared sense type and is provided corresponding to a bit line of an adjacent sub-array centered on the shared sense system. The column switch includes an input / output node of the sense amplifier and the sense amplifier. 6. The semiconductor memory device according to claim 5, wherein the semiconductor memory device is provided between the local input and output lines.
【請求項7】 上記半導体記憶装置は、シンクロナスD
RAMを構成するものであることを特徴とする請求項3
の半導体記憶装置。
7. The synchronous memory device according to claim 1, wherein
4. A RAM constituting a RAM.
Semiconductor storage device.
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