JPH11267967A - 円盤状薄板のラップ装置 - Google Patents
円盤状薄板のラップ装置Info
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- JPH11267967A JPH11267967A JP9234498A JP9234498A JPH11267967A JP H11267967 A JPH11267967 A JP H11267967A JP 9234498 A JP9234498 A JP 9234498A JP 9234498 A JP9234498 A JP 9234498A JP H11267967 A JPH11267967 A JP H11267967A
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Landscapes
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ラップ装置をコンパクトにするとともに、ベ
アリングおよび回転精度の要求を緩和し、ラップ液の清
掃作業を緩和すること。 【解決手段】 回転自在に支持された円盤状薄板1と、
該円盤状薄板1を回転駆動する回転力付与手段2と、前
記円盤状薄板1の直径より小径であって、偏心して配設
された直径のラップ面30を備えたラップ盤3と、該ラ
ップ盤3を回転駆動して、回転する円盤状薄板の全表面
のラップ加工を可能にする主軸回転手段4とから成る円
盤状薄板のラップ装置。
アリングおよび回転精度の要求を緩和し、ラップ液の清
掃作業を緩和すること。 【解決手段】 回転自在に支持された円盤状薄板1と、
該円盤状薄板1を回転駆動する回転力付与手段2と、前
記円盤状薄板1の直径より小径であって、偏心して配設
された直径のラップ面30を備えたラップ盤3と、該ラ
ップ盤3を回転駆動して、回転する円盤状薄板の全表面
のラップ加工を可能にする主軸回転手段4とから成る円
盤状薄板のラップ装置。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、円盤状薄板より小
径のラップ面を備えたラップ盤の回転により、回転する
円盤状薄板の全表面のラップ加工を可能にするコンパク
トな円盤状薄板のラップ装置に関する。
径のラップ面を備えたラップ盤の回転により、回転する
円盤状薄板の全表面のラップ加工を可能にするコンパク
トな円盤状薄板のラップ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】図5に示されるように同心上で上下対面
して一対のラップ盤UL、DLを設け、これらラップ盤
の対面空間に複数の円盤状キャリアCを、サンギヤSお
よびリングギヤRの間において自転及び公転するように
設け、このキャリアCに形成された複数の丸穴Hにウエ
ハWの外周を案内し、ウエハWのラップすべき上下面が
キャリアCの上下面から上方および下方に突出するよう
に構成されている。
して一対のラップ盤UL、DLを設け、これらラップ盤
の対面空間に複数の円盤状キャリアCを、サンギヤSお
よびリングギヤRの間において自転及び公転するように
設け、このキャリアCに形成された複数の丸穴Hにウエ
ハWの外周を案内し、ウエハWのラップすべき上下面が
キャリアCの上下面から上方および下方に突出するよう
に構成されている。
【0003】上下方向に固定の下ラップ盤DLに対し可
動の上ラップ盤ULを下降させ、上下のラップ盤UL、
DLによりウエハWの上下面を加圧挾持し、同時に上下
ラップ盤UL、DLとウエハWの上下面にラップ液を介
在させた状態とする。この状態で、上下ラップ盤UL、
DLを同一方向に回転させると共にキャリアCを逆方向
に回転してウエハWの上下面をラップするようにするバ
ッチ式ラップであった。
動の上ラップ盤ULを下降させ、上下のラップ盤UL、
DLによりウエハWの上下面を加圧挾持し、同時に上下
ラップ盤UL、DLとウエハWの上下面にラップ液を介
在させた状態とする。この状態で、上下ラップ盤UL、
DLを同一方向に回転させると共にキャリアCを逆方向
に回転してウエハWの上下面をラップするようにするバ
ッチ式ラップであった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】上記従来のラップ装置
は、径が200mm以下のウエハWの加工に使用されて
いるが、径が300mmとか400mmの大径のウエハ
の加工に適用する場合、ラップ盤UL、DLの径が非常
に大径となるので、ラップ盤のラップ面の平坦度を高精
度に維持できないとともに、装置が大形となり、ベアリ
ング、回転精度その他の理由により、実用化が困難にな
るという問題があった。
は、径が200mm以下のウエハWの加工に使用されて
いるが、径が300mmとか400mmの大径のウエハ
の加工に適用する場合、ラップ盤UL、DLの径が非常
に大径となるので、ラップ盤のラップ面の平坦度を高精
度に維持できないとともに、装置が大形となり、ベアリ
ング、回転精度その他の理由により、実用化が困難にな
るという問題があった。
【0005】そこで本発明者らは、円盤状薄板より小径
のラップ面を備えた回転しているラップ盤により、回転
する円盤状薄板の全表面のラップ加工を可能にするとい
う本発明の技術的思想に着眼し、更に研究開発を重ねた
結果、ラップ装置をコンパクトにするとともに、ベアリ
ングおよび回転精度の要求を緩和し、ラップ液の清掃作
業を緩和するという目的を達成する本発明に到達した。
のラップ面を備えた回転しているラップ盤により、回転
する円盤状薄板の全表面のラップ加工を可能にするとい
う本発明の技術的思想に着眼し、更に研究開発を重ねた
結果、ラップ装置をコンパクトにするとともに、ベアリ
ングおよび回転精度の要求を緩和し、ラップ液の清掃作
業を緩和するという目的を達成する本発明に到達した。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明(請求項1に記載
の第1発明)の円盤状薄板のラップ装置は、ベース上に
設けられ、第1水平軸線上で整列してそれぞれ第1及び
第2の工具主軸を回転自在に支持すると共にこれら工具
主軸を回転駆動する主軸回転手段を含む一対の工具ヘッ
ドと、前記第1及び第2工具主軸の対向端部にそれぞれ
固定され、加工すべき円盤状薄板の径よりも小径で対向
端面にラップ面が形成された第1及び第2ラップ盤と、
前記第1水平軸線と偏心した第2水平軸線の周りで円盤
状薄板を回転可能に保持すべく前記円盤状薄板の外周を
案内する案内手段と、該案内手段により外周が案内され
た前記円盤状薄板を前記第2水平軸線の周りに回転駆動
するための回転力を該円盤状薄板に付与する回転力付与
手段と、前記第1及び第2ラップ盤の前記ラップ面間に
保持された円盤状薄板を挾持するため前記第1及び第2
工具主軸の一方を他方に対して前記第1水平軸線上で相
対移動し前記第1及び第2ラップ盤のラップ面を前記円
盤状薄板の両面に加圧する加圧力付与手段と、前記第1
及び第2ラップ盤の各ラップ面とこれに円盤状薄板との
間にラップ液を供給するラップ液供給手段とから成るも
のである。
の第1発明)の円盤状薄板のラップ装置は、ベース上に
設けられ、第1水平軸線上で整列してそれぞれ第1及び
第2の工具主軸を回転自在に支持すると共にこれら工具
主軸を回転駆動する主軸回転手段を含む一対の工具ヘッ
ドと、前記第1及び第2工具主軸の対向端部にそれぞれ
固定され、加工すべき円盤状薄板の径よりも小径で対向
端面にラップ面が形成された第1及び第2ラップ盤と、
前記第1水平軸線と偏心した第2水平軸線の周りで円盤
状薄板を回転可能に保持すべく前記円盤状薄板の外周を
案内する案内手段と、該案内手段により外周が案内され
た前記円盤状薄板を前記第2水平軸線の周りに回転駆動
するための回転力を該円盤状薄板に付与する回転力付与
手段と、前記第1及び第2ラップ盤の前記ラップ面間に
保持された円盤状薄板を挾持するため前記第1及び第2
工具主軸の一方を他方に対して前記第1水平軸線上で相
対移動し前記第1及び第2ラップ盤のラップ面を前記円
盤状薄板の両面に加圧する加圧力付与手段と、前記第1
及び第2ラップ盤の各ラップ面とこれに円盤状薄板との
間にラップ液を供給するラップ液供給手段とから成るも
のである。
【0007】本発明(請求項2に記載の第2発明)の円
盤状薄板のラップ装置は、前記第1発明において、前記
第1水平軸線は、前記第2水平軸線の下方に偏心して配
置され、前記第1及び第2ラップ盤の各々の下部を除く
外周を包囲し円盤状薄板と密接して配置されたラップ液
飛散防止カバーを備えているものである。
盤状薄板のラップ装置は、前記第1発明において、前記
第1水平軸線は、前記第2水平軸線の下方に偏心して配
置され、前記第1及び第2ラップ盤の各々の下部を除く
外周を包囲し円盤状薄板と密接して配置されたラップ液
飛散防止カバーを備えているものである。
【0008】本発明(請求項3に記載の第3発明)の円
盤状薄板のラップ装置は、前記第1又は第2発明におい
て、前記回転力付与手段を、前記ラップ液飛散防止カバ
ーの外部で円盤状薄板の両端面を挾持する一対の截頭円
錐車を回転支持する円錐車支持機構と、前記截頭円錐車
を駆動する駆動モータとから成るものである。
盤状薄板のラップ装置は、前記第1又は第2発明におい
て、前記回転力付与手段を、前記ラップ液飛散防止カバ
ーの外部で円盤状薄板の両端面を挾持する一対の截頭円
錐車を回転支持する円錐車支持機構と、前記截頭円錐車
を駆動する駆動モータとから成るものである。
【0009】本発明(請求項4に記載の第4発明)の円
盤状薄板のラップ装置は、前記第1〜第3発明のいずれ
かにおいて、前記円錐車支持機構が、前記一方の截頭円
錐車を回転自在に支持するとともに、前記他方の截頭円
錐車に向かって移動できる可動支持部と、および前記一
方の截頭円錐車を他方の截頭円錐車に向かって押圧する
ために可動支持部を移動する加圧手段と、から成るもの
である。
盤状薄板のラップ装置は、前記第1〜第3発明のいずれ
かにおいて、前記円錐車支持機構が、前記一方の截頭円
錐車を回転自在に支持するとともに、前記他方の截頭円
錐車に向かって移動できる可動支持部と、および前記一
方の截頭円錐車を他方の截頭円錐車に向かって押圧する
ために可動支持部を移動する加圧手段と、から成るもの
である。
【0010】本発明(請求項5に記載の第5発明)の円
盤状薄板のラップ装置は、前記第1〜第4発明のいずれ
かにおいて、前記案内手段を、複数のローラによって構
成し、前記円盤状薄板の搬入時に上部に配置された案内
ローラを加工位置から退避させる退避機構を備えている
ものである。
盤状薄板のラップ装置は、前記第1〜第4発明のいずれ
かにおいて、前記案内手段を、複数のローラによって構
成し、前記円盤状薄板の搬入時に上部に配置された案内
ローラを加工位置から退避させる退避機構を備えている
ものである。
【0011】
【発明の作用および効果】上記構成より成る第1発明の
円盤状薄板のラップ装置は、前記回転力付与手段が、前
記第1水平軸線の周りに前記円盤状薄板を回転駆動し、
前記主軸回転手段が、前記円盤状薄板より小径のラップ
面を備えた前記第1および第2ラップ盤を回転駆動し
て、回転する前記円盤状薄板の両面に対して前記第1お
よび第2ラップ盤を加圧して供給されたラップ液の存在
下において前記円盤状薄板の両面のラップ加工をするの
で、前記円盤状薄板の両面の全表面のラップ加工を可能
にするとともに、ラップ装置をコンパクトにして、ベア
リングおよび回転精度の要求を緩和するという効果を奏
する。
円盤状薄板のラップ装置は、前記回転力付与手段が、前
記第1水平軸線の周りに前記円盤状薄板を回転駆動し、
前記主軸回転手段が、前記円盤状薄板より小径のラップ
面を備えた前記第1および第2ラップ盤を回転駆動し
て、回転する前記円盤状薄板の両面に対して前記第1お
よび第2ラップ盤を加圧して供給されたラップ液の存在
下において前記円盤状薄板の両面のラップ加工をするの
で、前記円盤状薄板の両面の全表面のラップ加工を可能
にするとともに、ラップ装置をコンパクトにして、ベア
リングおよび回転精度の要求を緩和するという効果を奏
する。
【0012】上記構成より成る第2発明の円盤状薄板の
ラップ装置は、前記第1発明において、前記第1及び第
2ラップ盤が、前記円盤状薄板の軸芯である前記第2水
平軸線の下方に偏心して配置され、前記第1及び第2ラ
ップ盤の各々の下部を除く外周を包囲し円盤状薄板と密
接して前記ラップ液飛散防止カバーが配置されているの
で、前記ラップ液の飛散を防止するとともに、ラップ液
の清掃作業を緩和するという効果を奏する。
ラップ装置は、前記第1発明において、前記第1及び第
2ラップ盤が、前記円盤状薄板の軸芯である前記第2水
平軸線の下方に偏心して配置され、前記第1及び第2ラ
ップ盤の各々の下部を除く外周を包囲し円盤状薄板と密
接して前記ラップ液飛散防止カバーが配置されているの
で、前記ラップ液の飛散を防止するとともに、ラップ液
の清掃作業を緩和するという効果を奏する。
【0013】上記構成より成る第3発明の円盤状薄板の
ラップ装置は、前記第1〜第2発明のいずれかにおい
て、前記回転力付与手段を構成する前記駆動モータによ
って駆動された前記一対の截頭円錐車により、前記ラッ
プ液飛散防止カバーの外部において前記円盤状薄板の両
端面を挾持して回転が付与されるので、砥粒粉末を含む
前記ラップ液が介在させない状態で前記円盤状薄板の回
転駆動を可能にするという効果を奏する。
ラップ装置は、前記第1〜第2発明のいずれかにおい
て、前記回転力付与手段を構成する前記駆動モータによ
って駆動された前記一対の截頭円錐車により、前記ラッ
プ液飛散防止カバーの外部において前記円盤状薄板の両
端面を挾持して回転が付与されるので、砥粒粉末を含む
前記ラップ液が介在させない状態で前記円盤状薄板の回
転駆動を可能にするという効果を奏する。
【0014】上記構成より成る第4発明の円盤状薄板の
ラップ装置は、前記第1〜第3発明のいずれかにおい
て、加工時には前記可動支持部によって移動可能な回転
自在に支持された前記一方の截頭円錐車を、前記加圧手
段によって前記可動支持部を移動させて前記他方の截頭
円錐車に向かって移動させるので、加工時の前記円盤状
薄板1の加圧挾着および非加工時における前記一方の截
頭円錐車を後退させることにより、ラップ加工前後の前
記円盤状薄板の搬入・搬出を可能にするという効果を奏
する。
ラップ装置は、前記第1〜第3発明のいずれかにおい
て、加工時には前記可動支持部によって移動可能な回転
自在に支持された前記一方の截頭円錐車を、前記加圧手
段によって前記可動支持部を移動させて前記他方の截頭
円錐車に向かって移動させるので、加工時の前記円盤状
薄板1の加圧挾着および非加工時における前記一方の截
頭円錐車を後退させることにより、ラップ加工前後の前
記円盤状薄板の搬入・搬出を可能にするという効果を奏
する。
【0015】上記構成より成る第5発明の円盤状薄板の
ラップ装置は、前記第1〜第4発明のいずれかにおい
て、前記案内手段を構成する複数の案内ローラのうち上
部に配置された案内ローラを、前記退避機構によって前
記円盤状薄板の搬入時に加工位置から退避させるので、
ラップ加工前後の前記円盤状薄板の搬入・搬出を可能に
するという効果を奏する。
ラップ装置は、前記第1〜第4発明のいずれかにおい
て、前記案内手段を構成する複数の案内ローラのうち上
部に配置された案内ローラを、前記退避機構によって前
記円盤状薄板の搬入時に加工位置から退避させるので、
ラップ加工前後の前記円盤状薄板の搬入・搬出を可能に
するという効果を奏する。
【0016】
【発明の実施の形態】以下本発明の実施の形態につき、
図面を用いて説明する。
図面を用いて説明する。
【0017】(実施形態)本実施形態の円盤状薄板のラ
ップ装置は、図1ないし図3に示されるように回転自在
に支持されたワークとしての円盤状薄板1と、該円盤状
薄板1を回転駆動する回転力付与手段2と、前記円盤状
薄板1の直径より小径であって、偏心して配設された直
径のラップ面30を備えたラップ盤3と、該ラップ盤3
を回転駆動して、回転する円盤状薄板の全表面のラップ
加工を可能にする主軸回転手段4とから成るものであ
る。
ップ装置は、図1ないし図3に示されるように回転自在
に支持されたワークとしての円盤状薄板1と、該円盤状
薄板1を回転駆動する回転力付与手段2と、前記円盤状
薄板1の直径より小径であって、偏心して配設された直
径のラップ面30を備えたラップ盤3と、該ラップ盤3
を回転駆動して、回転する円盤状薄板の全表面のラップ
加工を可能にする主軸回転手段4とから成るものであ
る。
【0018】一対の工具ヘッド40は、図2に示される
ようにベース100上に設けられ、第1水平軸線上で整
列するとともに対向してそれぞれ第1及び第2の工具主
軸41、42を複数のベアリングによって回転自在に支
持すると共に、これら工具主軸41、42を回転駆動す
る主軸回転手段4としての対向する2個のモータ4A、
4Bを備えている。
ようにベース100上に設けられ、第1水平軸線上で整
列するとともに対向してそれぞれ第1及び第2の工具主
軸41、42を複数のベアリングによって回転自在に支
持すると共に、これら工具主軸41、42を回転駆動す
る主軸回転手段4としての対向する2個のモータ4A、
4Bを備えている。
【0019】前記ラップ盤3は、図1および図2に示さ
れるように第1水平軸線上で直列に対向配置された前記
第1及び第2工具主軸41、42の対向端部にそれぞれ
固定され、加工すべき前記円盤状薄板1の直径よりも小
径で、前記円盤状薄板1の半径以上に設定され、略環状
に延在して軸方向に突出形成されたラップ面30が対向
端面に形成された第1及び第2ラップ盤31、32とを
備えている。
れるように第1水平軸線上で直列に対向配置された前記
第1及び第2工具主軸41、42の対向端部にそれぞれ
固定され、加工すべき前記円盤状薄板1の直径よりも小
径で、前記円盤状薄板1の半径以上に設定され、略環状
に延在して軸方向に突出形成されたラップ面30が対向
端面に形成された第1及び第2ラップ盤31、32とを
備えている。
【0020】案内手段5は、図1および図2に示される
ように前記第1及び第2工具主軸41、42および前記
第1及び第2ラップ盤が同軸的に直列に配置された前記
第1水平軸線に対して上方に偏心した第2水平軸線に対
して垂直に配設され、該第2水平軸線の周りで前記円盤
状薄板1の外周壁に当接して該円盤状薄板1を回転可能
に支持する所定角度間隔で配置された少なくとも3個以
上の複数の案内ローラ50によって構成され、前記円盤
状薄板1を保持すべくその外周を案内するように構成さ
れている。
ように前記第1及び第2工具主軸41、42および前記
第1及び第2ラップ盤が同軸的に直列に配置された前記
第1水平軸線に対して上方に偏心した第2水平軸線に対
して垂直に配設され、該第2水平軸線の周りで前記円盤
状薄板1の外周壁に当接して該円盤状薄板1を回転可能
に支持する所定角度間隔で配置された少なくとも3個以
上の複数の案内ローラ50によって構成され、前記円盤
状薄板1を保持すべくその外周を案内するように構成さ
れている。
【0021】前記回転力付与手段2は、図1および図3
に示されるように前記案内手段5の前記複数のローラ5
0により外周が支持案内された前記円盤状薄板1の略中
心を含む水平面上の該円盤状薄板1の両端面を挾持する
一対の截頭円錐車21を回転支持する円錐車支持機構2
2と、前記截頭円錐車21を駆動する駆動モータ23と
から成り、前記円盤状薄板1に対して前記第2水平軸線
の周りに回転駆動するための回転力を付与するように構
成されている。
に示されるように前記案内手段5の前記複数のローラ5
0により外周が支持案内された前記円盤状薄板1の略中
心を含む水平面上の該円盤状薄板1の両端面を挾持する
一対の截頭円錐車21を回転支持する円錐車支持機構2
2と、前記截頭円錐車21を駆動する駆動モータ23と
から成り、前記円盤状薄板1に対して前記第2水平軸線
の周りに回転駆動するための回転力を付与するように構
成されている。
【0022】すなわち前記回転力付与手段2は、前記駆
動モータ23の軸端に配設されたプーリ24から、一方
の截頭円錐車21を一方の軸端に固着した軸の他端に固
着されたプーリ25をベルト26を介して回転駆動する
ことにより、前記一方の截頭円錐車21の回転により、
前記他方の截頭円錐車21との間に挾着された前記円盤
状薄板1に回転力を付与して、回転させるものである。
動モータ23の軸端に配設されたプーリ24から、一方
の截頭円錐車21を一方の軸端に固着した軸の他端に固
着されたプーリ25をベルト26を介して回転駆動する
ことにより、前記一方の截頭円錐車21の回転により、
前記他方の截頭円錐車21との間に挾着された前記円盤
状薄板1に回転力を付与して、回転させるものである。
【0023】加圧力付与手段6は、前記第1及び第2ラ
ップ盤31、32の前記ラップ面間に保持された前記円
盤状薄板1を挾持するため前記第1及び第2工具主軸4
1、42の一方を他方に対して前記第1水平軸線上で相
対移動させ、前記第1及び第2ラップ盤31、32のラ
ップ面を前記円盤状薄板1の両面に加圧するエアシリン
ダ60によって構成される。
ップ盤31、32の前記ラップ面間に保持された前記円
盤状薄板1を挾持するため前記第1及び第2工具主軸4
1、42の一方を他方に対して前記第1水平軸線上で相
対移動させ、前記第1及び第2ラップ盤31、32のラ
ップ面を前記円盤状薄板1の両面に加圧するエアシリン
ダ60によって構成される。
【0024】すなわち前記加圧力付与手段6は、前記第
1ラップ盤31が軸端に固着された前記第1工具主軸4
1を複数のベアリングによって回転自在に支持するスリ
ーブ61を、ストロークベアリングを介して前記ベース
100上に配設されたガイド部材62上を移動可能に構
成され、前記エアシリンダ60によって前記第1ラップ
盤31の直線的な往復動を可能にするように構成されて
いる。
1ラップ盤31が軸端に固着された前記第1工具主軸4
1を複数のベアリングによって回転自在に支持するスリ
ーブ61を、ストロークベアリングを介して前記ベース
100上に配設されたガイド部材62上を移動可能に構
成され、前記エアシリンダ60によって前記第1ラップ
盤31の直線的な往復動を可能にするように構成されて
いる。
【0025】ラップ液供給手段7は、供給通路73、前
記第1及び第2工具主軸41、42内に同軸的に形成さ
れた同軸通路74を介して、前記第1及び第2工具主軸
41、42の対向する軸端に形成された半径方向に開口
する分配穴72から、前記第1及び第2ラップ盤31、
32の各ラップ面30と前記円盤状薄板1の両面との間
に砥粒を含むラップ液(スラリー)を供給するものであ
る。
記第1及び第2工具主軸41、42内に同軸的に形成さ
れた同軸通路74を介して、前記第1及び第2工具主軸
41、42の対向する軸端に形成された半径方向に開口
する分配穴72から、前記第1及び第2ラップ盤31、
32の各ラップ面30と前記円盤状薄板1の両面との間
に砥粒を含むラップ液(スラリー)を供給するものであ
る。
【0026】ラップ液飛散防止カバー8は、図1および
図2に示されるようにブラシ状部材によって構成され、
前記第1水平軸線が、前記第2水平軸線の下方に偏心し
て配置されているので、前記第1及び第2ラップ盤3
1、32の各々の下部を除く上方および両側方の外周を
包囲するとともに、前記円盤状薄板1と密接して略U字
状に一定間隔を隔てて複数延在並設して、前記円盤状薄
板1の両面に対向配置されている。一定間隔を隔てて複
数並設された前記ラップ液飛散防止カバー8の間に、水
が供給される水供給穴71が開口している。
図2に示されるようにブラシ状部材によって構成され、
前記第1水平軸線が、前記第2水平軸線の下方に偏心し
て配置されているので、前記第1及び第2ラップ盤3
1、32の各々の下部を除く上方および両側方の外周を
包囲するとともに、前記円盤状薄板1と密接して略U字
状に一定間隔を隔てて複数延在並設して、前記円盤状薄
板1の両面に対向配置されている。一定間隔を隔てて複
数並設された前記ラップ液飛散防止カバー8の間に、水
が供給される水供給穴71が開口している。
【0027】加圧手段9は、円錐車支持機構22の一部
を構成し、図3において下側に位置する前記他方の截頭
円錐車21を回転自在に支持するとともに、ヒンジピン
221を軸として揺動可能な可動支持部220を前記一
方の截頭円錐車21に向かって移動させることにより、
前記他方の截頭円錐車21を一方の截頭円錐車22に向
かって押圧するように構成されている。前記加圧手段9
は、開離方向に作用する図略のバネに抗して可動支持部
220を押圧するエアシリンダ222を有する。
を構成し、図3において下側に位置する前記他方の截頭
円錐車21を回転自在に支持するとともに、ヒンジピン
221を軸として揺動可能な可動支持部220を前記一
方の截頭円錐車21に向かって移動させることにより、
前記他方の截頭円錐車21を一方の截頭円錐車22に向
かって押圧するように構成されている。前記加圧手段9
は、開離方向に作用する図略のバネに抗して可動支持部
220を押圧するエアシリンダ222を有する。
【0028】また、前記プーリ25により回転される一
方の円錐車21を回転支持しかつ前記可動支持部220
を揺動可能に支持する支持機構本体22aをガイドレー
ル27に沿って前記円盤状薄板1の厚さ方向(図3中上
下方向)に直線的に往復動させることにより、前記円盤
状薄板1の加圧挾持位置を調節可能にするように構成さ
れている。
方の円錐車21を回転支持しかつ前記可動支持部220
を揺動可能に支持する支持機構本体22aをガイドレー
ル27に沿って前記円盤状薄板1の厚さ方向(図3中上
下方向)に直線的に往復動させることにより、前記円盤
状薄板1の加圧挾持位置を調節可能にするように構成さ
れている。
【0029】退避機構91は、前記案内手段5を構成す
る前記複数のローラ50のうちの前記円盤状薄板1の上
部に配置された前記複数の案内ローラ50および該ロー
ラを回転自在に支持するL字状断面のハウジング92
を、エアシリンダ93によって該ハウジング92の後端
を支点として図1中後方に揺動して退避するように構成
され、前記円盤状薄板1の搬入時に上部に配置された前
記案内ローラ50を加工位置から退避させるものであ
る。
る前記複数のローラ50のうちの前記円盤状薄板1の上
部に配置された前記複数の案内ローラ50および該ロー
ラを回転自在に支持するL字状断面のハウジング92
を、エアシリンダ93によって該ハウジング92の後端
を支点として図1中後方に揺動して退避するように構成
され、前記円盤状薄板1の搬入時に上部に配置された前
記案内ローラ50を加工位置から退避させるものであ
る。
【0030】上記構成より成る本実施形態の円盤状薄板
のラップ装置は、前記回転力付与手段2が、前記駆動モ
ータ23によって前記ベルト26を介して回転駆動し
て、前記一方の截頭円錐車21の回転により、前記他方
の截頭円錐車21との間に挾着された前記円盤状薄板1
に回転力を付与して、回転させる。
のラップ装置は、前記回転力付与手段2が、前記駆動モ
ータ23によって前記ベルト26を介して回転駆動し
て、前記一方の截頭円錐車21の回転により、前記他方
の截頭円錐車21との間に挾着された前記円盤状薄板1
に回転力を付与して、回転させる。
【0031】前記ラップ液供給手段7が、前記供給通路
73および前記第1及び第2工具主軸41、42内に同
軸的に形成された前記同軸通路74を介して、前記第1
及び第2工具主軸41、42の対向する軸端に形成した
分配穴72から、前記第1及び第2ラップ盤31、32
の各ラップ面と前記円盤状薄板1の両面との間に砥粒を
含むラップ液を供給する。
73および前記第1及び第2工具主軸41、42内に同
軸的に形成された前記同軸通路74を介して、前記第1
及び第2工具主軸41、42の対向する軸端に形成した
分配穴72から、前記第1及び第2ラップ盤31、32
の各ラップ面と前記円盤状薄板1の両面との間に砥粒を
含むラップ液を供給する。
【0032】前記主軸回転手段4としての対向する前記
2個のモータ4A、4Bによる、前記円盤状薄板1の直
径より小径であって、前記円盤状薄板1に対して下方に
偏心して配設された直径のラップ面30を備えたラップ
盤3の回転によって、該ラップ盤3を回転駆動して、ラ
ップ液が供給され回転している前記円盤状薄板の両面の
全表面のラップ加工を行うものである。
2個のモータ4A、4Bによる、前記円盤状薄板1の直
径より小径であって、前記円盤状薄板1に対して下方に
偏心して配設された直径のラップ面30を備えたラップ
盤3の回転によって、該ラップ盤3を回転駆動して、ラ
ップ液が供給され回転している前記円盤状薄板の両面の
全表面のラップ加工を行うものである。
【0033】上記作用を奏する本実施形態の円盤状薄板
のラップ装置は、前記回転力付与手段2が、回転自在に
支持された前記円盤状薄板1を回転駆動し、前記主軸回
転手段4が、前記円盤状薄板1より小径のラップ面を備
えた前記ラップ盤3を回転駆動して、回転する前記円盤
状薄板1の全表面のラップ加工を可能にするという効果
を奏する。
のラップ装置は、前記回転力付与手段2が、回転自在に
支持された前記円盤状薄板1を回転駆動し、前記主軸回
転手段4が、前記円盤状薄板1より小径のラップ面を備
えた前記ラップ盤3を回転駆動して、回転する前記円盤
状薄板1の全表面のラップ加工を可能にするという効果
を奏する。
【0034】本実施形態の円盤状薄板のラップ装置は、
前記円盤状薄板1より小径のラップ面を備えた前記ラッ
プ盤3によって回転している前記円盤状薄板1の両面の
全表面のラップ加工を行うものであるので、前記ラップ
盤3をコンパクトにするとともに、ベアリングおよび回
転精度の要求を緩和するという効果を奏する。
前記円盤状薄板1より小径のラップ面を備えた前記ラッ
プ盤3によって回転している前記円盤状薄板1の両面の
全表面のラップ加工を行うものであるので、前記ラップ
盤3をコンパクトにするとともに、ベアリングおよび回
転精度の要求を緩和するという効果を奏する。
【0035】すなわち本実施形態の円盤状薄板のラップ
装置は、前記ラップ盤3の前記ラップ面30の直径が、
前記円盤状薄板1の半径以上に設定されているので、コ
ンパクトな前記ラップ盤3によって前記円盤状薄板1の
全表面のラップ加工を可能にするとともに、前記ラップ
盤3およびラップ装置全体をコンパクトにして、ベアリ
ングおよび回転精度の要求を緩和し、上述した従来装置
に比べて大径の前記円盤状薄板1のラップ加工を可能に
するという効果を奏する。
装置は、前記ラップ盤3の前記ラップ面30の直径が、
前記円盤状薄板1の半径以上に設定されているので、コ
ンパクトな前記ラップ盤3によって前記円盤状薄板1の
全表面のラップ加工を可能にするとともに、前記ラップ
盤3およびラップ装置全体をコンパクトにして、ベアリ
ングおよび回転精度の要求を緩和し、上述した従来装置
に比べて大径の前記円盤状薄板1のラップ加工を可能に
するという効果を奏する。
【0036】また本実施形態の円盤状薄板のラップ装置
は、前記回転力付与手段2が、前記第1水平軸線の周り
に前記円盤状薄板1を回転駆動し、前記主軸回転手段4
が、前記円盤状薄板1より小径のラップ面を備えた前記
第1および第2ラップ盤31、32を回転駆動して、回
転する前記円盤状薄板1の両面に対して前記第1および
第2ラップ盤31、32を加圧して供給された前記ラッ
プ液の存在下において前記円盤状薄板1の両面のラップ
加工をするので、前記円盤状薄板1の両面の全表面のラ
ップ加工を可能にするとともに、ラップ装置全体をコン
パクトにして、ベアリングおよび回転精度の要求を緩和
するという効果を奏する。
は、前記回転力付与手段2が、前記第1水平軸線の周り
に前記円盤状薄板1を回転駆動し、前記主軸回転手段4
が、前記円盤状薄板1より小径のラップ面を備えた前記
第1および第2ラップ盤31、32を回転駆動して、回
転する前記円盤状薄板1の両面に対して前記第1および
第2ラップ盤31、32を加圧して供給された前記ラッ
プ液の存在下において前記円盤状薄板1の両面のラップ
加工をするので、前記円盤状薄板1の両面の全表面のラ
ップ加工を可能にするとともに、ラップ装置全体をコン
パクトにして、ベアリングおよび回転精度の要求を緩和
するという効果を奏する。
【0037】さらに本実施形態の円盤状薄板のラップ装
置は、前記第1及び第2ラップ盤31、32が、回転自
在に垂直に配設された前記円盤状薄板1の軸芯である前
記第2水平軸線の下方に偏心して配置され、前記第1及
び第2ラップ盤31、32の各々の下部を除く外周を包
囲し円盤状薄板1と密接して前記ラップ液飛散防止カバ
ー8が配置されているので、前記ラップ液を下方のラッ
プ液回収トレイTに落下させるとともに、前記ラップ液
の上方への飛散および前記円盤状薄板1の回転に伴う該
円盤状薄板1に付着した前記ラップ液の随伴をブラシ状
の前記ラップ液飛散防止カバー8によって防止するた
め、使用済ラップ液の新しいラップ液への混入の防止お
よび前記案内ローラ50の偏摩耗の防止を実現するとと
もに、作業環境を改善して、作業終了後の前記ラップ液
の清掃作業を緩和するという効果を奏する。
置は、前記第1及び第2ラップ盤31、32が、回転自
在に垂直に配設された前記円盤状薄板1の軸芯である前
記第2水平軸線の下方に偏心して配置され、前記第1及
び第2ラップ盤31、32の各々の下部を除く外周を包
囲し円盤状薄板1と密接して前記ラップ液飛散防止カバ
ー8が配置されているので、前記ラップ液を下方のラッ
プ液回収トレイTに落下させるとともに、前記ラップ液
の上方への飛散および前記円盤状薄板1の回転に伴う該
円盤状薄板1に付着した前記ラップ液の随伴をブラシ状
の前記ラップ液飛散防止カバー8によって防止するた
め、使用済ラップ液の新しいラップ液への混入の防止お
よび前記案内ローラ50の偏摩耗の防止を実現するとと
もに、作業環境を改善して、作業終了後の前記ラップ液
の清掃作業を緩和するという効果を奏する。
【0038】また本実施形態の円盤状薄板のラップ装置
は、前記回転力付与手段を構成する前記駆動モータ23
によって前記ベルト26を介して駆動された前記一対の
截頭円錐車21により、前記ラップ液飛散防止カバー8
の外部の上方である前記円盤状薄板1の略中心を含む水
平面付近において垂直に配設された前記円盤状薄板1の
両端面を挾持して回転が付与されるので、前記ラップ液
が介在しない環境下において前記円盤状薄板1の回転駆
動を可能にするとともに、前記截頭円錐車21の回転駆
動に伴い前記ラップ液の砥粒により前記截頭円錐車21
の偏摩耗や前記円盤状薄板1の表面を傷つけることを防
止するという効果を奏する。
は、前記回転力付与手段を構成する前記駆動モータ23
によって前記ベルト26を介して駆動された前記一対の
截頭円錐車21により、前記ラップ液飛散防止カバー8
の外部の上方である前記円盤状薄板1の略中心を含む水
平面付近において垂直に配設された前記円盤状薄板1の
両端面を挾持して回転が付与されるので、前記ラップ液
が介在しない環境下において前記円盤状薄板1の回転駆
動を可能にするとともに、前記截頭円錐車21の回転駆
動に伴い前記ラップ液の砥粒により前記截頭円錐車21
の偏摩耗や前記円盤状薄板1の表面を傷つけることを防
止するという効果を奏する。
【0039】さらに本実施形態の円盤状薄板のラップ装
置は、加工時には前記可動支持部220によって移動可
能な回転自在に支持された前記他方の截頭円錐車21
を、前記加圧手段9のエアシリンダ222によって前記
可動支持部220を移動させて前記一方の截頭円錐車2
1に向かって移動させるので、加工時に前記円盤状薄板
1が加圧挾着されて回転される。非加工時にはエアシリ
ンダ222への減圧により図略のバネが可動支持部22
0を後退方向に揺動する。このため、非加工時のラップ
加工済の前記円盤状薄板の取り出し、およびラップ加工
前の前記円盤状薄板の装着を可能にするという効果を奏
する。
置は、加工時には前記可動支持部220によって移動可
能な回転自在に支持された前記他方の截頭円錐車21
を、前記加圧手段9のエアシリンダ222によって前記
可動支持部220を移動させて前記一方の截頭円錐車2
1に向かって移動させるので、加工時に前記円盤状薄板
1が加圧挾着されて回転される。非加工時にはエアシリ
ンダ222への減圧により図略のバネが可動支持部22
0を後退方向に揺動する。このため、非加工時のラップ
加工済の前記円盤状薄板の取り出し、およびラップ加工
前の前記円盤状薄板の装着を可能にするという効果を奏
する。
【0040】また本実施形態の円盤状薄板のラップ装置
は、前記案内手段5を構成する複数の案内ローラ50の
うち上部に配置された案内ローラ50およびハウジング
92を、前記退避機構91によって前記円盤状薄板1の
搬入時に加工位置から揺動退避させるので、ラップ加工
前後の前記円盤状薄板1の搬入・搬出を可能にするとい
う効果を奏する。
は、前記案内手段5を構成する複数の案内ローラ50の
うち上部に配置された案内ローラ50およびハウジング
92を、前記退避機構91によって前記円盤状薄板1の
搬入時に加工位置から揺動退避させるので、ラップ加工
前後の前記円盤状薄板1の搬入・搬出を可能にするとい
う効果を奏する。
【0041】さらに本実施形態の円盤状薄板のラップ装
置は、前記ラップ液供給手段7が、前記供給通路73、
前記第1及び第2工具主軸41、42内に同軸的に形成
された前記同軸通路74を介して、軸端に形成した前記
分配穴72から、前記第1及び第2ラップ盤31、32
の各ラップ面31、32に対向する前記円盤状薄板1の
両面にラップ液を供給するので、前記円盤状薄板1の両
面の同時ラップ加工および一様なラップ加工を可能にす
るという効果を奏する。
置は、前記ラップ液供給手段7が、前記供給通路73、
前記第1及び第2工具主軸41、42内に同軸的に形成
された前記同軸通路74を介して、軸端に形成した前記
分配穴72から、前記第1及び第2ラップ盤31、32
の各ラップ面31、32に対向する前記円盤状薄板1の
両面にラップ液を供給するので、前記円盤状薄板1の両
面の同時ラップ加工および一様なラップ加工を可能にす
るという効果を奏する。
【0042】また本実施形態の円盤状薄板のラップ装置
は、前記円盤状薄板1を垂直に配設してラップ加工を行
うので、ラップ加工時において前記円盤状薄板に不要な
応力が作用しないとともに、ラップ液のラップ液回収ト
レイTへの落下を促進するという効果を奏する。
は、前記円盤状薄板1を垂直に配設してラップ加工を行
うので、ラップ加工時において前記円盤状薄板に不要な
応力が作用しないとともに、ラップ液のラップ液回収ト
レイTへの落下を促進するという効果を奏する。
【0043】さらに本実施形態の円盤状薄板のラップ装
置は、前記加圧力付与手段6が、前記第1ラップ盤31
のみを往復動可能に構成して、前記円盤状薄板1をラッ
プ加工に必要な加圧力を実現するようにしたので、構成
をシンプルにしてコストダウンを可能にするという効果
を奏する。
置は、前記加圧力付与手段6が、前記第1ラップ盤31
のみを往復動可能に構成して、前記円盤状薄板1をラッ
プ加工に必要な加圧力を実現するようにしたので、構成
をシンプルにしてコストダウンを可能にするという効果
を奏する。
【0044】さらに本実施形態の円盤状薄板のラップ装
置は、ラップ軸41,42が発熱して軸方向熱変位して
も、ラップ加圧力は前記加圧力付与手段6(シリンダ6
0)への供給圧力のみで決定され、ラップ軸の熱変位に
影響されない効果を奏する。
置は、ラップ軸41,42が発熱して軸方向熱変位して
も、ラップ加圧力は前記加圧力付与手段6(シリンダ6
0)への供給圧力のみで決定され、ラップ軸の熱変位に
影響されない効果を奏する。
【0045】また本実施形態の円盤状薄板のラップ装置
は、前記第1及び第2ラップ盤31、32の上方および
両側方の外周を包囲するとともに、垂直の前記円盤状薄
板1と密接して略U字状に一定間隔を隔てて複数の前記
ラップ液飛散防止カバー8を延在並設して、その間に前
記水供給穴71を開口させ水を供給して下方に落下させ
洗い流すので、前記ラップ液の飛散防止効果を促進する
という効果を奏する。
は、前記第1及び第2ラップ盤31、32の上方および
両側方の外周を包囲するとともに、垂直の前記円盤状薄
板1と密接して略U字状に一定間隔を隔てて複数の前記
ラップ液飛散防止カバー8を延在並設して、その間に前
記水供給穴71を開口させ水を供給して下方に落下させ
洗い流すので、前記ラップ液の飛散防止効果を促進する
という効果を奏する。
【0046】上述の実施形態は、説明のために例示した
もので、本発明としてはそれらに限定されるものでは無
く、特許請求の範囲、発明の詳細な説明および図面の記
載から当業者が認識することができる本発明の技術的思
想に反しない限り、変更および付加が可能である。
もので、本発明としてはそれらに限定されるものでは無
く、特許請求の範囲、発明の詳細な説明および図面の記
載から当業者が認識することができる本発明の技術的思
想に反しない限り、変更および付加が可能である。
【0047】上述の実施形態は、一例としてラップ加工
時において前記円盤状薄板に重力に基づく不要またはア
ンバランスな応力が作用しないとともに、ラップ液の落
下促進の観点より前記円盤状薄板を垂直に配設してラッ
プ加工を行う例について説明したが、本発明としてはそ
れらに限定されるものでは無く、例えば前記円盤状薄板
を水平に配設して、上下両面をラップ加工する実施形態
を採用することが出来るものである。
時において前記円盤状薄板に重力に基づく不要またはア
ンバランスな応力が作用しないとともに、ラップ液の落
下促進の観点より前記円盤状薄板を垂直に配設してラッ
プ加工を行う例について説明したが、本発明としてはそ
れらに限定されるものでは無く、例えば前記円盤状薄板
を水平に配設して、上下両面をラップ加工する実施形態
を採用することが出来るものである。
【0048】上述の実施形態は、一例として前記円盤状
薄板の確実な支持の観点より前記ラップ盤の下方に案内
手段としての下方案内ロールを配置して前記円盤状薄板
を回転自在に支持する例について説明したが、本発明と
してはそれらに限定されるものでは無く、例えば図4に
示されるように前記ラップ盤を包囲して配設されたラッ
プ液飛散防止カバーの側方に案内手段としての下方の案
内ロールを配置して、全ての案内ロールがラップ液に曝
されることが無いようにする実施形態を採用することが
出来るものである。
薄板の確実な支持の観点より前記ラップ盤の下方に案内
手段としての下方案内ロールを配置して前記円盤状薄板
を回転自在に支持する例について説明したが、本発明と
してはそれらに限定されるものでは無く、例えば図4に
示されるように前記ラップ盤を包囲して配設されたラッ
プ液飛散防止カバーの側方に案内手段としての下方の案
内ロールを配置して、全ての案内ロールがラップ液に曝
されることが無いようにする実施形態を採用することが
出来るものである。
【0049】上述の実施形態は、一例として構成をシン
プルにしてコストダウンを可能にする観点より前記加圧
力付与手段6を、前記第1ラップ盤31のみを往復動可
能に構成して、前記円盤状薄板1をラップ加工に必要な
加圧力を実現するようにする例について説明したが、本
発明としてはそれらに限定されるものでは無く、例えば
前記第1及び第2の工具主軸および第1および第2のラ
ップ盤の両方を軸方向に移動可能にして、前記円盤状薄
板1の両面の一様なラップ加工を可能にする実施形態を
採用することが出来るものである。
プルにしてコストダウンを可能にする観点より前記加圧
力付与手段6を、前記第1ラップ盤31のみを往復動可
能に構成して、前記円盤状薄板1をラップ加工に必要な
加圧力を実現するようにする例について説明したが、本
発明としてはそれらに限定されるものでは無く、例えば
前記第1及び第2の工具主軸および第1および第2のラ
ップ盤の両方を軸方向に移動可能にして、前記円盤状薄
板1の両面の一様なラップ加工を可能にする実施形態を
採用することが出来るものである。
【0050】上述の実施形態は、一例として前記円盤状
薄板1の両面の同時ラップ加工および一様なラップ加工
を可能にする観点より、前記第1及び第2工具主軸4
1、42内に形成された前記同軸通路74および軸端に
形成した前記分配穴72を介して複数のラップ液供給穴
71から、前記第1及び第2ラップ盤31、32の各ラ
ップ面31、32に対向する前記円盤状薄板1の両面に
ラップ液を供給する例について説明したが、本発明とし
てはそれらに限定されるものでは無く、例えば垂直に配
設された前記円盤状薄板1の上方その他の1か所より前
記円盤状薄板1の両面にラップ液を供給する実施形態を
採用することが出来るものである。
薄板1の両面の同時ラップ加工および一様なラップ加工
を可能にする観点より、前記第1及び第2工具主軸4
1、42内に形成された前記同軸通路74および軸端に
形成した前記分配穴72を介して複数のラップ液供給穴
71から、前記第1及び第2ラップ盤31、32の各ラ
ップ面31、32に対向する前記円盤状薄板1の両面に
ラップ液を供給する例について説明したが、本発明とし
てはそれらに限定されるものでは無く、例えば垂直に配
設された前記円盤状薄板1の上方その他の1か所より前
記円盤状薄板1の両面にラップ液を供給する実施形態を
採用することが出来るものである。
【0051】上述の実施形態は、一例としてブラシ状の
前記ラップ液飛散防止カバー8を用いる例について説明
したが、本発明としてはそれらに限定されるものでは無
く、エアーを用いて左右のラップ盤の外周にエアーを吹
きつけ、エアーカーテンを形成し、ラップ液の飛散を防
止する実施形態を採用することが出来るものである。
前記ラップ液飛散防止カバー8を用いる例について説明
したが、本発明としてはそれらに限定されるものでは無
く、エアーを用いて左右のラップ盤の外周にエアーを吹
きつけ、エアーカーテンを形成し、ラップ液の飛散を防
止する実施形態を採用することが出来るものである。
【図1】本発明の実施形態の円盤状薄板のラップ装置を
示す図2中A−A線に沿う一部欠截断面図である。
示す図2中A−A線に沿う一部欠截断面図である。
【図2】本実施形態の円盤状薄板のラップ装置を示す正
面図である。
面図である。
【図3】本実施形態の円盤状薄板のラップ装置の一部を
拡大して示す一部拡大平面図である。
拡大して示す一部拡大平面図である。
【図4】本発明のその他の実施形態の円盤状薄板のラッ
プ装置の要部を示す一部欠截断面図である。
プ装置の要部を示す一部欠截断面図である。
【図5】従来の円盤状薄板のラップ装置を示す断面図で
ある。
ある。
1 円盤状薄板 2 回転力付与手段 3 ラップ盤 4 主軸回転手段 30 ラップ面
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 阿部 守年 愛知県刈谷市朝日町1丁目1番地 豊田工 機株式会社内 (72)発明者 岩井 英樹 愛知県刈谷市朝日町1丁目1番地 豊田工 機株式会社内 (72)発明者 稲田 豊 愛知県刈谷市朝日町1丁目1番地 豊田工 機株式会社内 (72)発明者 南 秀旻 群馬県安中市中野谷555番地の1 株式会 社スーパーシリコン研究所内 (72)発明者 石川 俊文 群馬県安中市中野谷555番地の1 株式会 社スーパーシリコン研究所内
Claims (5)
- 【請求項1】 ベース上に設けられ、第1水平軸線上で
整列してそれぞれ第1及び第2の工具主軸を回転自在に
支持すると共にこれら工具主軸を回転駆動する主軸回転
手段を含む一対の工具ヘッドと、 前記第1及び第2工具主軸の対向端部にそれぞれ固定さ
れ、加工すべき円盤状薄板の径よりも小径で対向端面に
ラップ面が形成された第1及び第2ラップ盤と、 前記第1水平軸線と偏心した第2水平軸線の周りで円盤
状薄板を回転可能に保持すべく前記円盤状薄板の外周を
案内する案内手段と、 該案内手段により外周が案内された前記円盤状薄板を前
記第2水平軸線の周りに回転駆動するための回転力を該
円盤状薄板に付与する回転力付与手段と、 前記第1及び第2ラップ盤の前記ラップ面間に保持され
た円盤状薄板を挾持するため前記第1及び第2工具主軸
の一方を他方に対して前記第1水平軸線上で相対移動し
前記第1及び第2ラップ盤のラップ面を前記円盤状薄板
の両面に加圧する加圧力付与手段と、 前記第1及び第2ラップ盤の各ラップ面とこれに円盤状
薄板との間にラップ液を供給するラップ液供給手段とか
ら成ることを特徴とする円盤状薄板のラップ装置。 - 【請求項2】 請求項1において、 前記第1水平軸線は、前記第2水平軸線の下方に偏心し
て配置され、 前記第1及び第2ラップ盤の各々の下部を除く外周を包
囲し円盤状薄板と密接して配置されたラップ液飛散防止
カバーを備えていることを特徴とする円盤状薄板のラッ
プ装置。 - 【請求項3】 請求項1又は2において、 前記回転力付与手段を、前記ラップ液飛散防止カバーの
外部で円盤状薄板の両端面を挾持する一対の截頭円錐車
を回転支持する円錐車支持機構と、前記截頭円錐車を駆
動する駆動モータとから成ることを特徴とする円盤状薄
板のラップ装置。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれかにおいて、 前記円錐車支持機構が、 前記一方の截頭円錐車を回転自在に支持するとともに、
前記他方の截頭円錐車に向かって移動できる可動支持部
と、および前記一方の截頭円錐車を他方の截頭円錐車に
向かって押圧するために可動支持部を移動する加圧手段
と、から成ることを特徴とする円盤状薄板のラップ装
置。 - 【請求項5】 請求項1〜4のいずれかにおいて、 前記案内手段を、複数のローラによって構成し、 前記円盤状薄板の搬入時に上部に配置された案内ローラ
を加工位置から退避させる退避機構を備えていることを
特徴とする円盤状薄板のラップ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9234498A JPH11267967A (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | 円盤状薄板のラップ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9234498A JPH11267967A (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | 円盤状薄板のラップ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11267967A true JPH11267967A (ja) | 1999-10-05 |
Family
ID=14051792
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9234498A Pending JPH11267967A (ja) | 1998-03-20 | 1998-03-20 | 円盤状薄板のラップ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11267967A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6649884B2 (en) * | 2001-03-21 | 2003-11-18 | Aisin Seiki Kabushiki Kaisha | Sanitary device |
| CN109531374A (zh) * | 2018-11-20 | 2019-03-29 | 宁波中和汽配有限公司 | 滚针分选机用压块的研磨装置 |
| CN113183012A (zh) * | 2021-05-12 | 2021-07-30 | 佛山市祥源家具制造有限公司 | 一种家具木板加工用双面抛光机及其方法 |
-
1998
- 1998-03-20 JP JP9234498A patent/JPH11267967A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6649884B2 (en) * | 2001-03-21 | 2003-11-18 | Aisin Seiki Kabushiki Kaisha | Sanitary device |
| CN109531374A (zh) * | 2018-11-20 | 2019-03-29 | 宁波中和汽配有限公司 | 滚针分选机用压块的研磨装置 |
| CN113183012A (zh) * | 2021-05-12 | 2021-07-30 | 佛山市祥源家具制造有限公司 | 一种家具木板加工用双面抛光机及其方法 |
| CN113183012B (zh) * | 2021-05-12 | 2022-08-05 | 佛山市祥源家具制造有限公司 | 一种家具木板加工用双面抛光机及其方法 |
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