JPH11269259A - 光記録媒体用成形材料 - Google Patents
光記録媒体用成形材料Info
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- JPH11269259A JPH11269259A JP10075789A JP7578998A JPH11269259A JP H11269259 A JPH11269259 A JP H11269259A JP 10075789 A JP10075789 A JP 10075789A JP 7578998 A JP7578998 A JP 7578998A JP H11269259 A JPH11269259 A JP H11269259A
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- Japan
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- carbon atoms
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- Polyesters Or Polycarbonates (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 耐熱性および低複屈折性に優れた光記録媒体
用成形材料および成形品を提供する。 【解決手段】一般式（Ａ）および一般式（Ｂ）で表され
る構造単位を有し、一般式（Ａ）の構造単位が全構造単
位中 5〜50mol%であり、かつ極限粘度が0.30〜0.50dl/g
であるポリカーボネート樹脂からなる光記録媒体用成形
材料。 【化１】 【化２】
用成形材料および成形品を提供する。 【解決手段】一般式（Ａ）および一般式（Ｂ）で表され
る構造単位を有し、一般式（Ａ）の構造単位が全構造単
位中 5〜50mol%であり、かつ極限粘度が0.30〜0.50dl/g
であるポリカーボネート樹脂からなる光記録媒体用成形
材料。 【化１】 【化２】
Description
【０００１】
【発明属する技術分野】本発明は、コンパクトディス
ク、レーザーディスク、光カード、ＭＯディスクなどの
光記録媒体を製造するのに好適な耐熱性、成形性などが
優れるとともに複屈折の低減されたポリカーボネート樹
脂光記録媒体用成形材料に関する。
ク、レーザーディスク、光カード、ＭＯディスクなどの
光記録媒体を製造するのに好適な耐熱性、成形性などが
優れるとともに複屈折の低減されたポリカーボネート樹
脂光記録媒体用成形材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】ビスフェノールＡ型ポリカーボネート樹
脂は、その透明性、耐熱性、耐加水分解性、寸法安定性
などの特徴を生かして、最近は光ディスク用基盤材料と
して広く用いられるようになった。しかしながら、光デ
ィスク用にポリカーボネートを用いる場合いくつかの問
題点があった。
脂は、その透明性、耐熱性、耐加水分解性、寸法安定性
などの特徴を生かして、最近は光ディスク用基盤材料と
して広く用いられるようになった。しかしながら、光デ
ィスク用にポリカーボネートを用いる場合いくつかの問
題点があった。
【０００３】光ディスク基盤としての性能のうち、情報
読み取り、書き込みに用いられるレーザー光線を実質的
に弱めてしまう複屈折は最も重要な問題であり、複屈折
が大きい材料ではエラーが増加し、記録媒体としての信
頼性が劣ってしまう。
読み取り、書き込みに用いられるレーザー光線を実質的
に弱めてしまう複屈折は最も重要な問題であり、複屈折
が大きい材料ではエラーが増加し、記録媒体としての信
頼性が劣ってしまう。
【０００４】これらの複屈折低減を目的とした様々なポ
リカーボネート樹脂材料が開発されている。（特開昭６
０−２１５０２０、特開昭６２−１８１１１５）しかし
ながら、これらの複屈折はより高密度化が進む光ディス
クでは十分とは言えなかった。また、最近では成形条件
で改善が困難な斜め入射の複屈折の低減が要求されてい
た。
リカーボネート樹脂材料が開発されている。（特開昭６
０−２１５０２０、特開昭６２−１８１１１５）しかし
ながら、これらの複屈折はより高密度化が進む光ディス
クでは十分とは言えなかった。また、最近では成形条件
で改善が困難な斜め入射の複屈折の低減が要求されてい
た。
【０００５】そのため、複屈折を低減したポリカーボネ
ート−ポリスチレン共重合体（ＰＣ−ＰＳ）が、特開平
２−２９４１２に開示されている。このＰＣ−ＰＳは複
屈折に関しては、従来のものに比べ大幅に改良されてい
るがＰＳを用いているため耐熱性がポリカーボネートよ
り劣るという欠点がある。更に、最近の光ディスクで
は、ピットが短くなり、より高い転写性が要求され、ま
た量産性のために成形時間の短縮化が要求されている。
このため従来より成形温度を高くする要求があるがＰＣ
−ＰＳは耐熱性に問題があり用途が限られていた。
ート−ポリスチレン共重合体（ＰＣ−ＰＳ）が、特開平
２−２９４１２に開示されている。このＰＣ−ＰＳは複
屈折に関しては、従来のものに比べ大幅に改良されてい
るがＰＳを用いているため耐熱性がポリカーボネートよ
り劣るという欠点がある。更に、最近の光ディスクで
は、ピットが短くなり、より高い転写性が要求され、ま
た量産性のために成形時間の短縮化が要求されている。
このため従来より成形温度を高くする要求があるがＰＣ
−ＰＳは耐熱性に問題があり用途が限られていた。
【０００６】一方、ポリカーボネート樹脂としてビナフ
トールから誘導された構造を有する変性ポリカーボネー
ト樹脂が、特開平１０−７７８２に開示されている。し
かしながら、この変性ポリカーボネート樹脂は湿式成形
材料としては知られていたものの光記録媒体用成形材料
としての用途は知られていなかった。
トールから誘導された構造を有する変性ポリカーボネー
ト樹脂が、特開平１０−７７８２に開示されている。し
かしながら、この変性ポリカーボネート樹脂は湿式成形
材料としては知られていたものの光記録媒体用成形材料
としての用途は知られていなかった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の課
題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のビナフト
ールより誘導された構造を有するポリカーボネート樹脂
は、低複屈折性と耐熱性を兼ね備えた良質の光記録媒体
成形材料となることを見い出し、本発明を完成するに至
った。
題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、特定のビナフト
ールより誘導された構造を有するポリカーボネート樹脂
は、低複屈折性と耐熱性を兼ね備えた良質の光記録媒体
成形材料となることを見い出し、本発明を完成するに至
った。
【０００８】
【発明の実施の形態】すなわち、本発明は一般式（Ａ）
および一般式（Ｂ）で表される構造単位を有し、一般式
（Ａ）の構造単位が全構造単位中 5〜50mol%であり、か
つ極限粘度が0.30〜0.50dl/gであるポリカーボネートか
らなる光記録媒体用成形材料を提供するものである。
および一般式（Ｂ）で表される構造単位を有し、一般式
（Ａ）の構造単位が全構造単位中 5〜50mol%であり、か
つ極限粘度が0.30〜0.50dl/gであるポリカーボネートか
らなる光記録媒体用成形材料を提供するものである。
【化５】 （式中のＲ1 〜Ｒ8 は、それぞれ水素、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜
１２のアリール基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素
数１〜６のアルコキシ基又は炭素数７〜１７のアラルキ
ル基を示す。）
臭素、ヨウ素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜
１２のアリール基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素
数１〜６のアルコキシ基又は炭素数７〜１７のアラルキ
ル基を示す。）
【化６】 （式中、Ｒ9 〜Ｒ16は、それぞれ水素、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜
１２のアリール基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素
数１〜６のアルコキシ基又は炭素数７〜１７のアラルキ
ル基を示す。Ｙは、
臭素、ヨウ素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜
１２のアリール基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素
数１〜６のアルコキシ基又は炭素数７〜１７のアラルキ
ル基を示す。Ｙは、
【化７】 であり、ここにＲ17〜Ｒ20はそれぞれ、水素、炭素数１
〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素
数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール
基を表すか、Ｒ17〜Ｒ20が一緒に結合して、炭素環また
は複素環を形成する基を表す。b 、c 、およびd は０〜
２０の整数、e およびf は１〜１００の整数を表す。）
〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素
数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール
基を表すか、Ｒ17〜Ｒ20が一緒に結合して、炭素環また
は複素環を形成する基を表す。b 、c 、およびd は０〜
２０の整数、e およびf は１〜１００の整数を表す。）
【０００９】更に、本発明では、一般式（Ｃ）で表され
る一価フェノール類より誘導される分子末端を有するポ
リカーボネート樹脂であることが好ましい。
る一価フェノール類より誘導される分子末端を有するポ
リカーボネート樹脂であることが好ましい。
【化８】 （式中、Ｒ21は炭素数４〜２０のアルキル基を示し、Ｒ
22〜Ｒ23は、それぞれ水素、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数１〜６のアル
コキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。g は
０または１の整数を表す。）
22〜Ｒ23は、それぞれ水素、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数１〜６のアル
コキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。g は
０または１の整数を表す。）
【００１０】本発明のポリカーボネートは、ビスフェノ
ールＡからポリカーボネートを製造する際に用いられて
いる公知の方法、例えばビスフェノール類とホスゲンと
の直接反応（ホスゲン法）、あるいはビスフェノール類
とジアリールカーボネートとのエステル交換反応（エス
テル交換法）などの方法を採用することができる。
ールＡからポリカーボネートを製造する際に用いられて
いる公知の方法、例えばビスフェノール類とホスゲンと
の直接反応（ホスゲン法）、あるいはビスフェノール類
とジアリールカーボネートとのエステル交換反応（エス
テル交換法）などの方法を採用することができる。
【００１１】ホスゲン法とエステル交換法では、一般式
（Ａ）構造を誘導するビナフトール類の反応性を考慮し
た場合、ホスゲン法の方が好ましい。
（Ａ）構造を誘導するビナフトール類の反応性を考慮し
た場合、ホスゲン法の方が好ましい。
【００１２】前者のホスゲン法においては、通常酸結合
剤および溶媒の存在下において、一般式（Ｂ）を誘導す
るビスフェノール類と本発明における一般式（Ａ）を誘
導するビナフトール類とホスゲンを反応させる。酸結合
剤としては、例えばピリジンや、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物などが用い
られ、また溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロ
ホルム、クロロベンゼン、キシレンなどが用いられる。
さらに、縮重合反応を促進するために、トリエチルアミ
ンのような第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩な
どの触媒を、また重合度調節には、フェノール、ｐ−ｔ
−ブチルフェノール、p-クミルフェノール、一般式
（Ｃ）で表されるフェノール類等一官能基化合物を分子
量調節剤として加える。さらに、所望に応じ亜硫酸ナト
リウム、ハイドロサルファイトなどの酸化防止剤や、フ
ロログルシン、イサチンビスフェノールなど分岐化剤を
小量添加してもよい。反応は通常０〜１５０℃、好まし
くは５〜４０℃の範囲とするのが適当である。反応時間
は反応温度によって左右されるが、通常０．５分〜１０
時間、好ましくは１分〜２時間である。また、反応中
は、反応系のpHを１０以上に保持することが望ましい。
剤および溶媒の存在下において、一般式（Ｂ）を誘導す
るビスフェノール類と本発明における一般式（Ａ）を誘
導するビナフトール類とホスゲンを反応させる。酸結合
剤としては、例えばピリジンや、水酸化ナトリウム、水
酸化カリウムなどのアルカリ金属の水酸化物などが用い
られ、また溶媒としては、例えば塩化メチレン、クロロ
ホルム、クロロベンゼン、キシレンなどが用いられる。
さらに、縮重合反応を促進するために、トリエチルアミ
ンのような第三級アミンまたは第四級アンモニウム塩な
どの触媒を、また重合度調節には、フェノール、ｐ−ｔ
−ブチルフェノール、p-クミルフェノール、一般式
（Ｃ）で表されるフェノール類等一官能基化合物を分子
量調節剤として加える。さらに、所望に応じ亜硫酸ナト
リウム、ハイドロサルファイトなどの酸化防止剤や、フ
ロログルシン、イサチンビスフェノールなど分岐化剤を
小量添加してもよい。反応は通常０〜１５０℃、好まし
くは５〜４０℃の範囲とするのが適当である。反応時間
は反応温度によって左右されるが、通常０．５分〜１０
時間、好ましくは１分〜２時間である。また、反応中
は、反応系のpHを１０以上に保持することが望ましい。
【００１３】一方後者のエステル交換法においては、一
般式（Ａ）を誘導するビナフトール類と一般式（Ｂ）を
誘導するビスフェノール類とジアリールカーボネートと
を混合し、減圧下で高温において反応させる。この時、
フェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、p-クミルフェ
ノール、一般式（Ｃ）で表されるフェノール類等一官能
基化合物を分子量調節剤として加えてもよい。反応は通
常１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃の範
囲の温度において行われ、また減圧度は反応の最終段階
で好ましくは１mmHg以下にして、エステル交換反応によ
り生成した該ジアリールカーボネートから由来するフェ
ノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応温度や減
圧度などによって左右されるが、通常１〜４時間程度で
ある。また、反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰
囲気下で行うことが好ましく。更に、所望に応じ、酸化
防止剤や分岐化剤を添加して反応を行ってもよい。
般式（Ａ）を誘導するビナフトール類と一般式（Ｂ）を
誘導するビスフェノール類とジアリールカーボネートと
を混合し、減圧下で高温において反応させる。この時、
フェノール、ｐ−ｔ−ブチルフェノール、p-クミルフェ
ノール、一般式（Ｃ）で表されるフェノール類等一官能
基化合物を分子量調節剤として加えてもよい。反応は通
常１５０〜３５０℃、好ましくは２００〜３００℃の範
囲の温度において行われ、また減圧度は反応の最終段階
で好ましくは１mmHg以下にして、エステル交換反応によ
り生成した該ジアリールカーボネートから由来するフェ
ノール類を系外へ留去させる。反応時間は反応温度や減
圧度などによって左右されるが、通常１〜４時間程度で
ある。また、反応は窒素やアルゴンなどの不活性ガス雰
囲気下で行うことが好ましく。更に、所望に応じ、酸化
防止剤や分岐化剤を添加して反応を行ってもよい。
【００１４】本発明中のポリカーボネートの製造に使用
される一般式（Ｂ）を誘導するビスフェノール類として
は、具体的には4,4'−ビフェニルジオール、ビス（4-ヒ
ドロキシフェニル）メタン、ビス（4-ヒドロキシフェニ
ル）エーテル、ビス（4-ヒドロキシフェニル）スルホ
ン、ビス（4-ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス
（4-ヒドロキシフェニル）スルファイド、ビス（4-ヒド
ロキシフェニル）ケトン、1,1-ビス（4-ヒドロキシフェ
ニル）エタン、2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロ
パン（ビスフェノ−ルＡ；BPA ）、2,2-ビス（4-ヒドロ
キシフェニル）ブタン、1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン（ビスフェノ−ルＺ；BPZ ）、1,1-
ビス（4-ヒドロキシフェニル）-3,3,5−トリメチルシク
ロヘキサン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ−3,5-ジブロモフ
ェニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ−3,5-ジク
ロロフェニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ−3-
ブロモフェニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ−
3-クロロフェニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ
-3−メチルフェニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒドロキ
シ−3,5-ジメチルフェニル）プロパン、1,1-ビス（4-ヒ
ドロキシフェニル）-1−フェニルエタン、ビス（4-ヒド
ロキシフェニル）ジフェニルメタン、α，ω−ビス［2-
（p-ヒドロキシフェニル）エチル］ポリジメチルシロキ
サン、α，ω−ビス［3-（o-ヒドロキシフェニル）プロ
ピル］ポリジメチルシロキサンなどが例示される。これ
らは、２種類以上併用して用いてもよい。これらの中で
も、特に2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパンが
好ましい。
される一般式（Ｂ）を誘導するビスフェノール類として
は、具体的には4,4'−ビフェニルジオール、ビス（4-ヒ
ドロキシフェニル）メタン、ビス（4-ヒドロキシフェニ
ル）エーテル、ビス（4-ヒドロキシフェニル）スルホ
ン、ビス（4-ヒドロキシフェニル）スルホキシド、ビス
（4-ヒドロキシフェニル）スルファイド、ビス（4-ヒド
ロキシフェニル）ケトン、1,1-ビス（4-ヒドロキシフェ
ニル）エタン、2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロ
パン（ビスフェノ−ルＡ；BPA ）、2,2-ビス（4-ヒドロ
キシフェニル）ブタン、1,1-ビス（4-ヒドロキシフェニ
ル）シクロヘキサン（ビスフェノ−ルＺ；BPZ ）、1,1-
ビス（4-ヒドロキシフェニル）-3,3,5−トリメチルシク
ロヘキサン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ−3,5-ジブロモフ
ェニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ−3,5-ジク
ロロフェニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ−3-
ブロモフェニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ−
3-クロロフェニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒドロキシ
-3−メチルフェニル）プロパン、2,2-ビス（4-ヒドロキ
シ−3,5-ジメチルフェニル）プロパン、1,1-ビス（4-ヒ
ドロキシフェニル）-1−フェニルエタン、ビス（4-ヒド
ロキシフェニル）ジフェニルメタン、α，ω−ビス［2-
（p-ヒドロキシフェニル）エチル］ポリジメチルシロキ
サン、α，ω−ビス［3-（o-ヒドロキシフェニル）プロ
ピル］ポリジメチルシロキサンなどが例示される。これ
らは、２種類以上併用して用いてもよい。これらの中で
も、特に2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパンが
好ましい。
【００１５】一方、炭酸エステル形成性化合物として
は、例えばホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−
ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボ
ネート、ジ−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフ
チルカーボネートなどのビスアリルカーボネートが挙げ
られる。これらの化合物は２種類以上併用して使用する
ことも可能である。
は、例えばホスゲンや、ジフェニルカーボネート、ジ−
ｐ−トリルカーボネート、フェニル−ｐ−トリルカーボ
ネート、ジ−ｐ−クロロフェニルカーボネート、ジナフ
チルカーボネートなどのビスアリルカーボネートが挙げ
られる。これらの化合物は２種類以上併用して使用する
ことも可能である。
【００１６】前記一般式（Ａ）を誘導するビナフトール
類としては、具体的には、1,1'−ビ-2−ナフトール、6,
6'−ジブロモ−1,1'−ビ-2−ナフトール、6,6'−ジメチ
ル−1,1'−ビ-2−ナフトール、6,6'−ジクロロ−1,1'−
ビ-2−ナフトール、6,6'−ジフルオロ−1,1'−ビ-2−ナ
フトール、3,3'−ジフルオロ−1,1'−ビ-2−ナフトー
ル、3,3'−ジメチル−1,1'−ビ-2−ナフトール、3,3'−
ジブロモ−1,1'−ビ-2−ナフトール、3,3'−ジ-t−ブチ
ル−1,1'−ビ-2−ナフトール、5,5'−ジメチル-7,7'-ジ
エチル-1,1'-ビ-2−ナフトール、6,6'−ジフェニル−1,
1'−ビ-2−ナフトール、6,6'−ジアリル−1,1'−ビ-2−
ナフトール等が挙げられる。これらの1,1'−ビ-2−ナフ
トール類は２種類以上組み合わせて用いてもよい。ま
た、これらの1,1'−ビ-2−ナフトール類には光学異性体
が存在するがＲ、Ｓ、ラセミいずれを用いてもよい。前
記1,1'−ビ-2−ナフトール類中でも、反応性や流動性の
観点から1,1'−ビ-2−ナフトールおよび6,6'−ジメチル
−1,1'−ビ-2−ナフトールがより好ましい。
類としては、具体的には、1,1'−ビ-2−ナフトール、6,
6'−ジブロモ−1,1'−ビ-2−ナフトール、6,6'−ジメチ
ル−1,1'−ビ-2−ナフトール、6,6'−ジクロロ−1,1'−
ビ-2−ナフトール、6,6'−ジフルオロ−1,1'−ビ-2−ナ
フトール、3,3'−ジフルオロ−1,1'−ビ-2−ナフトー
ル、3,3'−ジメチル−1,1'−ビ-2−ナフトール、3,3'−
ジブロモ−1,1'−ビ-2−ナフトール、3,3'−ジ-t−ブチ
ル−1,1'−ビ-2−ナフトール、5,5'−ジメチル-7,7'-ジ
エチル-1,1'-ビ-2−ナフトール、6,6'−ジフェニル−1,
1'−ビ-2−ナフトール、6,6'−ジアリル−1,1'−ビ-2−
ナフトール等が挙げられる。これらの1,1'−ビ-2−ナフ
トール類は２種類以上組み合わせて用いてもよい。ま
た、これらの1,1'−ビ-2−ナフトール類には光学異性体
が存在するがＲ、Ｓ、ラセミいずれを用いてもよい。前
記1,1'−ビ-2−ナフトール類中でも、反応性や流動性の
観点から1,1'−ビ-2−ナフトールおよび6,6'−ジメチル
−1,1'−ビ-2−ナフトールがより好ましい。
【００１７】更に本発明の分子量調節剤としては、流動
性改良に効果の期待できる一般式（Ｃ）で表される一価
フェノール類が好ましく、具体的にはブチルフェノー
ル、オクチルフェノール、ノニルフェノール、デカニル
フェノール、テトラデカニルフェノール、ヘプタデカニ
ルフェノール、オクタデカニルフェノール等の長鎖アル
キル置換フェノール類；ヒドロキシ安息香酸ブチル、ヒ
ドロキシ安息香酸オクチル、ヒドロキシ安息香酸ノニ
ル、ヒドロキシ安息香酸デカニル、ヒドロキシ安息香酸
ヘプタデカニル等のヒドロキシ安息香酸長鎖アルキルエ
ステル類が例示される。
性改良に効果の期待できる一般式（Ｃ）で表される一価
フェノール類が好ましく、具体的にはブチルフェノー
ル、オクチルフェノール、ノニルフェノール、デカニル
フェノール、テトラデカニルフェノール、ヘプタデカニ
ルフェノール、オクタデカニルフェノール等の長鎖アル
キル置換フェノール類；ヒドロキシ安息香酸ブチル、ヒ
ドロキシ安息香酸オクチル、ヒドロキシ安息香酸ノニ
ル、ヒドロキシ安息香酸デカニル、ヒドロキシ安息香酸
ヘプタデカニル等のヒドロキシ安息香酸長鎖アルキルエ
ステル類が例示される。
【００１８】これらの反応で合成されたポリカーボネー
ト重合体は、押出成形、射出成形、ブロ−成形、圧縮成
形、湿式成形など公知の成形法で成形可能であるが、光
記録媒体用成形材料としては、容易に押出、射出成形が
できることが望ましく、特に光記録媒体用の精密成形で
は極限粘度が0.30〜0.50dl/gの範囲であることが好まし
い。
ト重合体は、押出成形、射出成形、ブロ−成形、圧縮成
形、湿式成形など公知の成形法で成形可能であるが、光
記録媒体用成形材料としては、容易に押出、射出成形が
できることが望ましく、特に光記録媒体用の精密成形で
は極限粘度が0.30〜0.50dl/gの範囲であることが好まし
い。
【００１９】また、本発明の一般式（Ａ）の構造単位は
成形性、耐熱性、低複屈折性を考慮すると全構造単位中
5〜50mol%が好ましいが、特に耐熱性と低複屈折性をよ
り明確とするためには10〜40mol%が好ましい。一般式
（Ａ）の構造単位が5mol％未満では、複屈折性が大きく
なりすぎ、10mol%以上で複屈折改善効果がより顕著にな
る。40mol%を越えるとガラス転移温度上昇により成形条
件が狭くなるため成形不良や分子配向による複屈折増加
をおこしやすく、50mol%を越えると射出成形が著しく困
難となる。
成形性、耐熱性、低複屈折性を考慮すると全構造単位中
5〜50mol%が好ましいが、特に耐熱性と低複屈折性をよ
り明確とするためには10〜40mol%が好ましい。一般式
（Ａ）の構造単位が5mol％未満では、複屈折性が大きく
なりすぎ、10mol%以上で複屈折改善効果がより顕著にな
る。40mol%を越えるとガラス転移温度上昇により成形条
件が狭くなるため成形不良や分子配向による複屈折増加
をおこしやすく、50mol%を越えると射出成形が著しく困
難となる。
【００２０】また、本発明のポリカーボネート樹脂はガ
ラス転移温度が高く耐熱性に優れた光記録媒体用成形材
料となるが、ガラス転移温度が上がりすぎると流動性が
低下し、そのため特に押出射出成形性が低下する。従来
のポリカーボネート同等以上の耐熱性を示すにはガラス
転移温度は１２０℃以上でかつ十分な成形性を示すには
１８０℃以下が好ましく、さらに良好な射出成形性を示
すには１７０℃以下が好ましい。
ラス転移温度が高く耐熱性に優れた光記録媒体用成形材
料となるが、ガラス転移温度が上がりすぎると流動性が
低下し、そのため特に押出射出成形性が低下する。従来
のポリカーボネート同等以上の耐熱性を示すにはガラス
転移温度は１２０℃以上でかつ十分な成形性を示すには
１８０℃以下が好ましく、さらに良好な射出成形性を示
すには１７０℃以下が好ましい。
【００２１】本発明の光記録媒体用ポリカーボネート成
形材料は、一般の光ディスク用ポリカーボネートと同様
に高度に精製されたものでなければならない。具体的に
は、直径５０μｍ以上のダストが実質上検出されず、直
径０．５〜５０μｍのダストが３×１０4 以下、無機お
よび有機残留塩素が２ｐｐｍ以下、残留アルカリ金属が
２ｐｐｍ以下、残存水酸基２００ｐｐｍ以下、残存窒素
量５ｐｐｍ以下、残存モノマー２０ｐｐｍ以下等の基準
を可能な限り満たすように精製される。また、低分子量
体除去や溶媒除去のため抽出等の後処理が行われる場合
もある。
形材料は、一般の光ディスク用ポリカーボネートと同様
に高度に精製されたものでなければならない。具体的に
は、直径５０μｍ以上のダストが実質上検出されず、直
径０．５〜５０μｍのダストが３×１０4 以下、無機お
よび有機残留塩素が２ｐｐｍ以下、残留アルカリ金属が
２ｐｐｍ以下、残存水酸基２００ｐｐｍ以下、残存窒素
量５ｐｐｍ以下、残存モノマー２０ｐｐｍ以下等の基準
を可能な限り満たすように精製される。また、低分子量
体除去や溶媒除去のため抽出等の後処理が行われる場合
もある。
【００２２】光記録媒体用ポリカーボネート成形材料は
押出や射出成形時に必要な安定性や離型性を確保するた
め、所望に応じて、ヒンダードフェノール系やホスファ
イト系酸化防止剤；シリコン系、脂肪酸エステル系、脂
肪酸系、脂肪酸グリセリド系、密ろう等天然油脂などの
滑剤や離型剤；ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン
系、ジベンゾイルメタン系、サリチレート系等の光安定
剤；ポリアルキレングリコール、脂肪酸グリセリド等帯
電防止剤などを適宜併用してよいものであり、さらには
コスト等から一般の光記録媒体用ポリカーボネートと性
能を損なわない範囲で任意に混合して使用する事も可能
である。また、本成形材料を射出成形する場合の成形温
度は、流動性の観点から280〜360℃が好ましい。
押出や射出成形時に必要な安定性や離型性を確保するた
め、所望に応じて、ヒンダードフェノール系やホスファ
イト系酸化防止剤；シリコン系、脂肪酸エステル系、脂
肪酸系、脂肪酸グリセリド系、密ろう等天然油脂などの
滑剤や離型剤；ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン
系、ジベンゾイルメタン系、サリチレート系等の光安定
剤；ポリアルキレングリコール、脂肪酸グリセリド等帯
電防止剤などを適宜併用してよいものであり、さらには
コスト等から一般の光記録媒体用ポリカーボネートと性
能を損なわない範囲で任意に混合して使用する事も可能
である。また、本成形材料を射出成形する場合の成形温
度は、流動性の観点から280〜360℃が好ましい。
【００２３】
【実施例】次に実施例により、本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。
明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定され
るものではない。
【００２４】実施例１ 8.8%(w/v) の水酸化ナトリウム水溶液58リットルに、1,1'−
ビ-2−ナフトール2.86kg（以下BN1 と略称、10mol ）と
2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパン（以下BPA
と略称、30mol ）6.84kg及びハイドロサルファイト10g
を加え溶解した。これにメチレンクロライド36リットルを加
え、15℃に保ちながら撹拌しつつ、p-t-ブチルフェノー
ル375g（以下PTBPと略称、2.5mol）を加え、ついでホス
ゲン5kgを50分かけて吹き込んだ。吹き込み終了後、ト
リエチルベンジルアンモニウムクロライド5gを加え激し
く撹拌して、反応液を乳化させ、乳化後20mlのトリエチ
ルアミンを加え、約１時間撹拌し重合させた。重合液を
水相と有機相に分離し、有機相をリン酸で中和し、洗液
の導電率が10μＳ以下になるまで水洗を繰り返した後、
精製樹脂液を得た。得られた精製樹脂液を、強攪拌され
ている４５℃の温水に樹脂液をゆっくり滴下し、溶媒を
除去しつつ重合物を固形化した。固形物を濾過後、乾燥
して白色粉末状重合体を得た。この重合体は、塩化メチ
レンを溶媒とする濃度0.5g／dlの溶液の温度20℃におけ
る極限粘度［η］は0.37dl/gであった。得られた上記重
合体を赤外線吸収スペクトルより分析した結果、1770cm
-1付近の位置にカルボニル基による吸収、1240cm-1付近
の位置にエーテル結合による吸収が認められ、カーボネ
ート結合を有することが確認された。また、3650〜3200
cm-1の位置に水酸基由来の吸収はほとんど認められなか
った。さらに、 780cm-1付近にナフタレン環由来の吸収
が認められた。このポリカーボネート中のモノマーをＧ
ＰＣ分析で測定した場合、BN1 及びBPAはいずれも20ppm
以下であった。これらを総合した結果、この重合体は
下記構造単位からなるコポリカーボネート重合体と認め
られた。
ビ-2−ナフトール2.86kg（以下BN1 と略称、10mol ）と
2,2-ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパン（以下BPA
と略称、30mol ）6.84kg及びハイドロサルファイト10g
を加え溶解した。これにメチレンクロライド36リットルを加
え、15℃に保ちながら撹拌しつつ、p-t-ブチルフェノー
ル375g（以下PTBPと略称、2.5mol）を加え、ついでホス
ゲン5kgを50分かけて吹き込んだ。吹き込み終了後、ト
リエチルベンジルアンモニウムクロライド5gを加え激し
く撹拌して、反応液を乳化させ、乳化後20mlのトリエチ
ルアミンを加え、約１時間撹拌し重合させた。重合液を
水相と有機相に分離し、有機相をリン酸で中和し、洗液
の導電率が10μＳ以下になるまで水洗を繰り返した後、
精製樹脂液を得た。得られた精製樹脂液を、強攪拌され
ている４５℃の温水に樹脂液をゆっくり滴下し、溶媒を
除去しつつ重合物を固形化した。固形物を濾過後、乾燥
して白色粉末状重合体を得た。この重合体は、塩化メチ
レンを溶媒とする濃度0.5g／dlの溶液の温度20℃におけ
る極限粘度［η］は0.37dl/gであった。得られた上記重
合体を赤外線吸収スペクトルより分析した結果、1770cm
-1付近の位置にカルボニル基による吸収、1240cm-1付近
の位置にエーテル結合による吸収が認められ、カーボネ
ート結合を有することが確認された。また、3650〜3200
cm-1の位置に水酸基由来の吸収はほとんど認められなか
った。さらに、 780cm-1付近にナフタレン環由来の吸収
が認められた。このポリカーボネート中のモノマーをＧ
ＰＣ分析で測定した場合、BN1 及びBPAはいずれも20ppm
以下であった。これらを総合した結果、この重合体は
下記構造単位からなるコポリカーボネート重合体と認め
られた。
【００２５】
【化９】
【００２６】得られたポリカーボネート粉末にステアリ
ン酸モノグリセリド300ppmを添加し、50μm ポリマーフ
ィルターを付けたベント付き５０ｍｍ押出機にて３００
℃で押出し、溶融ペレット化を行った。得られたペレッ
トを樹脂温度３５０℃で、金型温度１００℃、及び射出
圧２９．４ＭＰａの条件で、外径１２０ｍｍ、厚さ１．
２ｍｍの円盤を射出成形し、２日間室内放置後３０o 斜
め入射時の複屈折を測定した。また、押出ペレットにつ
いてガラス転移温度（Ｔｇ）を測定し、耐熱性の目安と
した。結果を表１に示す。
ン酸モノグリセリド300ppmを添加し、50μm ポリマーフ
ィルターを付けたベント付き５０ｍｍ押出機にて３００
℃で押出し、溶融ペレット化を行った。得られたペレッ
トを樹脂温度３５０℃で、金型温度１００℃、及び射出
圧２９．４ＭＰａの条件で、外径１２０ｍｍ、厚さ１．
２ｍｍの円盤を射出成形し、２日間室内放置後３０o 斜
め入射時の複屈折を測定した。また、押出ペレットにつ
いてガラス転移温度（Ｔｇ）を測定し、耐熱性の目安と
した。結果を表１に示す。
【００２７】実施例２ BN1 を4.58kg（16mol ）、BPA を5.47g （24mol ）、PT
BPをp-ヘプタデカニルフェノール825g（2.5mol）に変更
した以外は、実施例１と同様に行った。結果を表１に示
す。得られた重合体の極限粘度［η］は0.36dl/gで、赤
外吸収スペクトル分析等よりこの重合体は下記構造単位
からなるコポリカーボネート重合体と認められた。
BPをp-ヘプタデカニルフェノール825g（2.5mol）に変更
した以外は、実施例１と同様に行った。結果を表１に示
す。得られた重合体の極限粘度［η］は0.36dl/gで、赤
外吸収スペクトル分析等よりこの重合体は下記構造単位
からなるコポリカーボネート重合体と認められた。
【００２８】
【化１０】
【００２９】実施例３ BN1 の代わりに、6,6'−ジメチル-1,1'-ビ-2−ナフトー
ル2.51kg（以下BN2 と略称、8mol）を用い、BPA を7.3k
g （32mol ）に変更した以外は実施例１と同様に行っ
た。結果を表１に示す。得られた重合体の極限粘度
［η］は0.35dl/gで、赤外吸収スペクトル等よりこの重
合体は下記構造単位を有するコポリカーボネート重合体
と認められた。
ル2.51kg（以下BN2 と略称、8mol）を用い、BPA を7.3k
g （32mol ）に変更した以外は実施例１と同様に行っ
た。結果を表１に示す。得られた重合体の極限粘度
［η］は0.35dl/gで、赤外吸収スペクトル等よりこの重
合体は下記構造単位を有するコポリカーボネート重合体
と認められた。
【００３０】
【化１１】
【００３１】実施例４ BN1 の代わりに、BN2 を1.26Kg（4mol）、BPA を8.21Kg
（36mol ）に変更した以外は実施例１と同様に行った。
結果を表１に示す。得られた重合体の極限粘度［η］は
0.35dl/gで、共重合比以外は実施例３と同様の構造単位
を有するコポリカーボネート重合体と認められた。
（36mol ）に変更した以外は実施例１と同様に行った。
結果を表１に示す。得られた重合体の極限粘度［η］は
0.35dl/gで、共重合比以外は実施例３と同様の構造単位
を有するコポリカーボネート重合体と認められた。
【００３２】実施例５ PTBPの代わりに、p-ヒドロキシ安息香酸n-ブチル310g
（以下PHBBと略称、1.6mol）を用いた以外は実施例１と
同様に行った。結果を表１に示す。得られた重合体の極
限粘度［η］は0.49dl/gで、赤外吸収スペクトル等より
この重合体は下記構造単位を有するコポリカーボネート
重合体と認められた。
（以下PHBBと略称、1.6mol）を用いた以外は実施例１と
同様に行った。結果を表１に示す。得られた重合体の極
限粘度［η］は0.49dl/gで、赤外吸収スペクトル等より
この重合体は下記構造単位を有するコポリカーボネート
重合体と認められた。
【００３３】
【化１２】
【００３４】実施例６ BPA を4.56kg（20mol ）、BN1 を2.86kg（10mol ）、2,
2-ビス（4-ヒドロキシ-3−メチルフェニル）プロパン2.
56kg（以下DMBPA と略称、10mol ）を用いた以外は実施
例１と同様に行った。結果を表１に示す。得られた重合
体の極限粘度［η］は0.37dl/gで、赤外吸収スペクトル
等よりこの重合体は下記構造単位を有するコポリカーボ
ネート重合体と認められた。
2-ビス（4-ヒドロキシ-3−メチルフェニル）プロパン2.
56kg（以下DMBPA と略称、10mol ）を用いた以外は実施
例１と同様に行った。結果を表１に示す。得られた重合
体の極限粘度［η］は0.37dl/gで、赤外吸収スペクトル
等よりこの重合体は下記構造単位を有するコポリカーボ
ネート重合体と認められた。
【００３５】
【化１３】
【００３６】比較例１ 実施例１のポリカーボネートの代わりに、市販光記録媒
体用ＢＰＡ型ポリカーボネート（三菱瓦斯化学（株）製
Ｈ−４０００、［η］＝0.35dl/g）を用いて実施例１と
同様の試験を行った。結果を表１に示す。
体用ＢＰＡ型ポリカーボネート（三菱瓦斯化学（株）製
Ｈ−４０００、［η］＝0.35dl/g）を用いて実施例１と
同様の試験を行った。結果を表１に示す。
【００３７】比較例２ 実施例１のポリカーボネートの代わりに、市販光記録媒
体用ポリカーボネート−ポリスチレン共重合体（三菱瓦
斯化学（株）製ＯＤＸ、［η］＝1.08dl/g）を用いて実
施例１と同様の試験を行った。結果を表１に示す。
体用ポリカーボネート−ポリスチレン共重合体（三菱瓦
斯化学（株）製ＯＤＸ、［η］＝1.08dl/g）を用いて実
施例１と同様の試験を行った。結果を表１に示す。
【００３８】比較例３ BPA を4.1kg （18mol ）、BN1 を6.29kg（22mol ）に変
更した以外は実施例１と同様に行った。結果を表１に示
す。得られた重合体の極限粘度［η］は0.38dl/gで、赤
外吸収スペクトル等よりこの重合体は重合比以外は実施
例１と同等の構造単位を有するコポリカーボネート重合
体と認められた。
更した以外は実施例１と同様に行った。結果を表１に示
す。得られた重合体の極限粘度［η］は0.38dl/gで、赤
外吸収スペクトル等よりこの重合体は重合比以外は実施
例１と同等の構造単位を有するコポリカーボネート重合
体と認められた。
【００３９】
【表１】 斜め複屈折(nm) 耐熱性 外観 BN濃度 極限粘度 中心からの距離 カ゛ラス転移温度 mol% dl/g R=24mm R=42mm R=56mm ℃ ─────────────────────────────────── 実１ ２５ 0.37 １８ １２ １３ １５６ 良好 実２ ４０ 0.36 １１ ８ ９ １５０ 〃 実３ ２０ 0.35 ２０ １５ ２１ １５０ 〃 実４ １０ 0.36 ３１ ２３ ２５ １４９ 〃 実５ ２５ 0.49 １７ １１ １４ １４９ 〃 実６ ２５ 0.37 ２０ １３ １２ １５２ 〃 ─────────────────────────────────── 比１ 0.35 ９２ ７５ ９０ １４３ 良好 比２ 1.08 ２２ １６ １５ １１３ 気泡発生 比３ ５５ 0.38 −− −− −− １７１ 充填不良 ───────────────────────────────────
【００４０】（測定方法） 複屈折：（株）溝尻光学工業製、自動エリフ゜ソメータ-使用。
測定波長 632.8nm。カ゛ラス 転移温度：島津製作所（株）製ＤＳＣにより測
定。 BN濃度：一般式（Ａ）構造単位の全構造単位に対する割
合(mol%) 極限粘度：0.5g/100ccジクロロメタン樹脂溶液を20℃、
ハギンズ定数0.45で極限粘度［η］(dl/g)を求めた。
測定波長 632.8nm。カ゛ラス 転移温度：島津製作所（株）製ＤＳＣにより測
定。 BN濃度：一般式（Ａ）構造単位の全構造単位に対する割
合(mol%) 極限粘度：0.5g/100ccジクロロメタン樹脂溶液を20℃、
ハギンズ定数0.45で極限粘度［η］(dl/g)を求めた。
【００４１】
【発明の効果】本発明より、優れた耐熱性、成形性、低
複屈折性を両立した光記録媒体用成形材料を提供でき
る。特に、高密度記録と信頼性が要求される書換可能な
光ディスクおよび光磁気ディスクに好適である。
複屈折性を両立した光記録媒体用成形材料を提供でき
る。特に、高密度記録と信頼性が要求される書換可能な
光ディスクおよび光磁気ディスクに好適である。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１０年４月９日
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００３
【補正方法】変更
【補正内容】
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】光ディスク基盤として
の性能のうち、情報読み取り、書き込みに用いられるレ
ーザー光線を実質的に弱めてしまう複屈折は最も重要な
問題であり、複屈折が大きい材料ではエラーが増加し、
記録媒体としての信頼性が劣ってしまう。
の性能のうち、情報読み取り、書き込みに用いられるレ
ーザー光線を実質的に弱めてしまう複屈折は最も重要な
問題であり、複屈折が大きい材料ではエラーが増加し、
記録媒体としての信頼性が劣ってしまう。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 渡辺 秀樹 大阪府豊中市神州町２丁目12番地 三菱瓦 斯化学株式会社大阪工場内
Claims (5)
- 【請求項１】 一般式（Ａ）および一般式（Ｂ）で表さ
れる構造単位を有し、一般式（Ａ）の構造単位が全構造
単位中 5〜50mol%であり、かつ極限粘度が0.30〜0.50dl
/gであるポリカーボネート樹脂からなることを特徴とす
る光記録媒体用成形材料。 【化１】 （式中のＲ1 〜Ｒ8 は、それぞれ水素、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜
１２のアリール基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素
数１〜６のアルコキシ基又は炭素数７〜１７のアラルキ
ル基を示す。） 【化２】 （式中、Ｒ9 〜Ｒ16は、それぞれ水素、フッ素、塩素、
臭素、ヨウ素、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数６〜
１２のアリール基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素
数１〜６のアルコキシ基又は炭素数７〜１７のアラルキ
ル基を示す。Ｙは、 【化３】 であり、ここにＲ17〜Ｒ20はそれぞれ、水素、炭素数１
〜６のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素
数１〜６のアルコキシ基又は炭素数６〜１２のアリール
基を表すか、Ｒ17〜Ｒ20が一緒に結合して、炭素環また
は複素環を形成する基を表す。b 、c 、およびd は０〜
２０の整数、e およびf は１〜１００の整数を表す。） - 【請求項２】 一般式（Ａ）で表される構造単位が、1,
1'−ビ-2−ナフトール、6,6'−ジメチル−1,1'−ビ-2−
ナフトールより誘導された請求項１記載の光記録媒体用
成形材料。 - 【請求項３】 一般式（Ｂ）で表される構造単位が2,2-
ビス（4-ヒドロキシフェニル）プロパンより誘導された
請求項１記載の光記録媒体用成形材料。 - 【請求項４】 一般式（Ａ）で表される構造単位が全構
造単位中10〜40mol%である請求項１記載の光記録媒体用
成形材料。 - 【請求項５】 分子末端が一般式（Ｃ）で表される一価
フェノールより誘導された請求項１記載の光記録媒体用
成形材料。 【化４】 （式中、Ｒ21は炭素数４〜２０のアルキル基を示し、Ｒ
22〜Ｒ23は、それぞれ水素、炭素数１〜６のアルキル
基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数１〜６のアル
コキシ基又は炭素数６〜１２のアリール基を表す。g は
０または１の整数を表す。）
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10075789A JPH11269259A (ja) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | 光記録媒体用成形材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10075789A JPH11269259A (ja) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | 光記録媒体用成形材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11269259A true JPH11269259A (ja) | 1999-10-05 |
Family
ID=13586347
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10075789A Pending JPH11269259A (ja) | 1998-03-24 | 1998-03-24 | 光記録媒体用成形材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11269259A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001310935A (ja) * | 2000-02-25 | 2001-11-06 | Mitsubishi Chemicals Corp | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物及びその製造方法 |
| WO2014073496A1 (ja) * | 2012-11-07 | 2014-05-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリカーボネート樹脂、その製造方法および光学成形体 |
| WO2015129921A1 (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-03 | 帝人株式会社 | ポリカーボネートおよびそれらを含む光学部材 |
| JP2017207759A (ja) * | 2013-02-20 | 2017-11-24 | 帝人株式会社 | ポリカーボネート共重合体樹脂組成物からなる光学レンズ |
| CN111094389A (zh) * | 2017-08-30 | 2020-05-01 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚碳酸酯树脂、其制造方法和光学透镜 |
| WO2020175572A1 (ja) * | 2019-02-27 | 2020-09-03 | 帝人株式会社 | 熱可塑性樹脂および光学部材 |
| US11261294B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-03-01 | Teijin Limited | Thermoplastic resin and optical member |
| US11566102B2 (en) | 2018-03-12 | 2023-01-31 | Teijin Limited | Polyester resin or polyester carbonate resin, and optical member using said resin |
| US11578168B2 (en) | 2018-03-30 | 2023-02-14 | Teijin Limited | Polycarbonate resin and optical member containing same |
-
1998
- 1998-03-24 JP JP10075789A patent/JPH11269259A/ja active Pending
Cited By (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001310935A (ja) * | 2000-02-25 | 2001-11-06 | Mitsubishi Chemicals Corp | 芳香族ポリカーボネート樹脂組成物及びその製造方法 |
| WO2014073496A1 (ja) * | 2012-11-07 | 2014-05-15 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリカーボネート樹脂、その製造方法および光学成形体 |
| US9360593B2 (en) | 2012-11-07 | 2016-06-07 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polycarbonate resin, production method therefor, and optical molded body |
| JPWO2014073496A1 (ja) * | 2012-11-07 | 2016-09-08 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリカーボネート樹脂、その製造方法および光学成形体 |
| JP2017207759A (ja) * | 2013-02-20 | 2017-11-24 | 帝人株式会社 | ポリカーボネート共重合体樹脂組成物からなる光学レンズ |
| WO2015129921A1 (ja) * | 2014-02-28 | 2015-09-03 | 帝人株式会社 | ポリカーボネートおよびそれらを含む光学部材 |
| CN106029735A (zh) * | 2014-02-28 | 2016-10-12 | 帝人株式会社 | 聚碳酸酯及含有其的光学部件 |
| JPWO2015129921A1 (ja) * | 2014-02-28 | 2017-03-30 | 帝人株式会社 | ポリカーボネートおよびそれらを含む光学部材 |
| EP3677615A4 (en) * | 2017-08-30 | 2020-09-23 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | POLYCARBONATE RESIN, PROCESS FOR THE PRODUCTION OF THE SAME AND OPTICAL LENS |
| CN111094389A (zh) * | 2017-08-30 | 2020-05-01 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 聚碳酸酯树脂、其制造方法和光学透镜 |
| US11261294B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-03-01 | Teijin Limited | Thermoplastic resin and optical member |
| US11434327B2 (en) | 2017-08-30 | 2022-09-06 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polycarbonate resin, method for producing the same, and optical lens |
| US11952460B2 (en) | 2017-08-30 | 2024-04-09 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Polycarbonate resin, method for producing the same, and optical lens |
| US12240944B2 (en) | 2017-08-30 | 2025-03-04 | Teijin Limited | Optical lens |
| US11566102B2 (en) | 2018-03-12 | 2023-01-31 | Teijin Limited | Polyester resin or polyester carbonate resin, and optical member using said resin |
| US11578168B2 (en) | 2018-03-30 | 2023-02-14 | Teijin Limited | Polycarbonate resin and optical member containing same |
| WO2020175572A1 (ja) * | 2019-02-27 | 2020-09-03 | 帝人株式会社 | 熱可塑性樹脂および光学部材 |
| KR20210090673A (ko) * | 2019-02-27 | 2021-07-20 | 데이진 가부시키가이샤 | 열가소성 수지 및 광학 부재 |
| CN113330051A (zh) * | 2019-02-27 | 2021-08-31 | 帝人株式会社 | 热塑性树脂和光学构件 |
| JPWO2020175572A1 (ja) * | 2019-02-27 | 2021-09-30 | 帝人株式会社 | 熱可塑性樹脂および光学部材 |
| US12281198B2 (en) | 2019-02-27 | 2025-04-22 | Teijin Limited | Thermoplastic resin and optical member |
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