JPH1126933A - 無電解めっき用フィルム状接着剤及びこれを用いたプリント配線板の製造方法 - Google Patents
無電解めっき用フィルム状接着剤及びこれを用いたプリント配線板の製造方法Info
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- JPH1126933A JPH1126933A JP17501997A JP17501997A JPH1126933A JP H1126933 A JPH1126933 A JP H1126933A JP 17501997 A JP17501997 A JP 17501997A JP 17501997 A JP17501997 A JP 17501997A JP H1126933 A JPH1126933 A JP H1126933A
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- Adhesive Tapes (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 析出した無電解めっき金属の接着性の良好な
無電解めっき用フィルム状接着剤を提供する。 【解決手段】 めっき析出面を平均粗さが1〜10μm
の粗面とする。この無電解めっき用フィルム状接着剤
は、DIN平均粗さが1〜10μmの粗面を形成したキ
ャリアフィルムの前記粗面上に形成された無電解めっき
用フィルム状接着剤を、キャリアフィルム付きのまま基
板に無電解めっき用フィルム状接着剤が接するようにし
て積層一体化し、キャリアフィルムを除去して無電解め
っき用接着剤付き積層板として、アディティブ法による
プリント配線板の製造に供される。
無電解めっき用フィルム状接着剤を提供する。 【解決手段】 めっき析出面を平均粗さが1〜10μm
の粗面とする。この無電解めっき用フィルム状接着剤
は、DIN平均粗さが1〜10μmの粗面を形成したキ
ャリアフィルムの前記粗面上に形成された無電解めっき
用フィルム状接着剤を、キャリアフィルム付きのまま基
板に無電解めっき用フィルム状接着剤が接するようにし
て積層一体化し、キャリアフィルムを除去して無電解め
っき用接着剤付き積層板として、アディティブ法による
プリント配線板の製造に供される。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、無電解めっき用フ
ィルム状接着剤及びこれを用いたプリント配線板の製造
方法に関する。
ィルム状接着剤及びこれを用いたプリント配線板の製造
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】プリント配線板の製造方法の一つに、基
板上に無電解めっきにより導体回路を形成する方法があ
る。この方法はアディティブ法といわれている。アディ
ティブ法においては、無電解めっきにより析出する金属
と基板との接着を確実なものとするため、基板上に無電
解めっき用接着剤層を形成している。この無電解めっき
用接着剤は、熱硬化性樹脂成分、ゴム成分、無機充填剤
成分を主な構成成分としている。無電解めっきによる金
属の析出には、金属析出の核となるめっき触媒が必要で
ある。めっき触媒は、無電解めっき用接着剤に含有させ
る方法と、後からめっきする表面に付着させる方法とが
あるが、通常は無電解めっき用接着剤中に含有させる方
法がとられている。
板上に無電解めっきにより導体回路を形成する方法があ
る。この方法はアディティブ法といわれている。アディ
ティブ法においては、無電解めっきにより析出する金属
と基板との接着を確実なものとするため、基板上に無電
解めっき用接着剤層を形成している。この無電解めっき
用接着剤は、熱硬化性樹脂成分、ゴム成分、無機充填剤
成分を主な構成成分としている。無電解めっきによる金
属の析出には、金属析出の核となるめっき触媒が必要で
ある。めっき触媒は、無電解めっき用接着剤に含有させ
る方法と、後からめっきする表面に付着させる方法とが
あるが、通常は無電解めっき用接着剤中に含有させる方
法がとられている。
【0003】基板上に無電解めっき用接着剤層を形成す
る方法としては、無電解めっき用接着剤を溶剤に溶解し
たワニスを塗布乾燥する方法及び無電解めっき用フィル
ム状接着剤を基板に積層一体化する方法がある。従来は
基板として回路を形成しない絶縁板が用いられていた
が、回路を形成した基板、すなわち、プリント配線板を
基板として無電解めっき用接着剤層の上に無電解めっき
により回路を形成し、これを繰り返して配線層を積み上
げて多層プリント配線板とする方法も行われるようにな
っている。このようにして配線層を積み上げる方法はビ
ルドアップ法といわれているが、ビルドアップ法におい
ては、無電解めっき用接着剤層の形成作業が容易である
ことから、無電解めっき用フィルム状接着剤を基板に積
層一体化する方法が採用されている。
る方法としては、無電解めっき用接着剤を溶剤に溶解し
たワニスを塗布乾燥する方法及び無電解めっき用フィル
ム状接着剤を基板に積層一体化する方法がある。従来は
基板として回路を形成しない絶縁板が用いられていた
が、回路を形成した基板、すなわち、プリント配線板を
基板として無電解めっき用接着剤層の上に無電解めっき
により回路を形成し、これを繰り返して配線層を積み上
げて多層プリント配線板とする方法も行われるようにな
っている。このようにして配線層を積み上げる方法はビ
ルドアップ法といわれているが、ビルドアップ法におい
ては、無電解めっき用接着剤層の形成作業が容易である
ことから、無電解めっき用フィルム状接着剤を基板に積
層一体化する方法が採用されている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】プリント配線板には各
種の電子部品を搭載する。この電子部品搭載工程におい
てはんだリフローなど高温にさらされることから、無電
解めっき用接着剤にも耐熱性が必要である。また、直接
電子部品を搭載する場合には硬度も大きいことが必要で
ある。プリント配線板の表面が軟らかいと、変形して部
品搭載時に位置が不安定となり、自動化の支障となるか
らである。このような事情から、熱硬化性樹脂成分の配
合割合を増加したり、高Tgの熱硬化性樹脂成分を用い
たりするようになったが、これにともない無電解めっき
により析出した金属との接着性が低下した。電子機器の
小型化、多機能化に伴い、プリント配線板には、より配
線密度を増す必要が生じており、配線幅が細線化してい
る。細線化するほど、接着力が高いことが有利になるこ
とはいうまでもないことである。
種の電子部品を搭載する。この電子部品搭載工程におい
てはんだリフローなど高温にさらされることから、無電
解めっき用接着剤にも耐熱性が必要である。また、直接
電子部品を搭載する場合には硬度も大きいことが必要で
ある。プリント配線板の表面が軟らかいと、変形して部
品搭載時に位置が不安定となり、自動化の支障となるか
らである。このような事情から、熱硬化性樹脂成分の配
合割合を増加したり、高Tgの熱硬化性樹脂成分を用い
たりするようになったが、これにともない無電解めっき
により析出した金属との接着性が低下した。電子機器の
小型化、多機能化に伴い、プリント配線板には、より配
線密度を増す必要が生じており、配線幅が細線化してい
る。細線化するほど、接着力が高いことが有利になるこ
とはいうまでもないことである。
【0005】請求項1の発明は、析出した無電解めっき
金属の接着性の良好な無電解めっき用フィルム状接着剤
を提供することを目的とする。また、請求項2の発明は
この無電解めっき用フィルム状接着剤を用いたプリント
配線板の製造方法を提供することを目的とする。
金属の接着性の良好な無電解めっき用フィルム状接着剤
を提供することを目的とする。また、請求項2の発明は
この無電解めっき用フィルム状接着剤を用いたプリント
配線板の製造方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】請求項1の発明は、めっ
き析出面を平均粗さが1〜10μmの粗面としてなる無
電解めっき用フィルム状接着剤である。ここで、平均粗
さは、JIS B 0601に規定される算術平均粗さ
を意味する。
き析出面を平均粗さが1〜10μmの粗面としてなる無
電解めっき用フィルム状接着剤である。ここで、平均粗
さは、JIS B 0601に規定される算術平均粗さ
を意味する。
【0007】また、請求項2の発明は、平均粗さが1〜
10μmの粗面を形成したキャリアフィルムの前記粗面
上に形成された無電解めっき用フィルム状接着剤を、キ
ャリアフィルム付きのまま基板に無電解めっき用フィル
ム状接着剤が接するようにして積層一体化し、キャリア
フィルムを除去した後、無電解めっきすることを特徴と
するプリント配線板の製造方法である。
10μmの粗面を形成したキャリアフィルムの前記粗面
上に形成された無電解めっき用フィルム状接着剤を、キ
ャリアフィルム付きのまま基板に無電解めっき用フィル
ム状接着剤が接するようにして積層一体化し、キャリア
フィルムを除去した後、無電解めっきすることを特徴と
するプリント配線板の製造方法である。
【0008】めっき析出面の平均粗さ1〜10μmの粗
面としてなる無電解めっき用フィルム状接着剤は、無電
解めっき用フィルム状接着剤のワニスを平均粗さ1〜1
0μmのキャリヤフィルム上に塗布乾燥した後キャリヤ
フィルムを除去することにより製造することができる。
無電解めっき用フィルム状接着剤を積層一体化すると
き、基板と無電解めっき用フィルム状接着剤とを重ねて
加熱加圧する。このとき、キャリアフィルムを除いて加
熱加圧すると、無電解めっき用フィルム状接着剤の粗面
が失われてしまう結果となる。平均粗さが1〜10μm
の粗面を形成したキャリアフィルムの前記粗面上に形成
された無電解めっき用フィルム状接着剤を、キャリアフ
ィルム付きのまま基板に無電解めっき用フィルム状接着
剤が接するようにして積層一体化すると、キャリアフィ
ルムを除去した後に、キャリアフィルムの粗面形状が、
基板に一体化された無電解めっき用接着剤層表面に転写
されるので好ましい。
面としてなる無電解めっき用フィルム状接着剤は、無電
解めっき用フィルム状接着剤のワニスを平均粗さ1〜1
0μmのキャリヤフィルム上に塗布乾燥した後キャリヤ
フィルムを除去することにより製造することができる。
無電解めっき用フィルム状接着剤を積層一体化すると
き、基板と無電解めっき用フィルム状接着剤とを重ねて
加熱加圧する。このとき、キャリアフィルムを除いて加
熱加圧すると、無電解めっき用フィルム状接着剤の粗面
が失われてしまう結果となる。平均粗さが1〜10μm
の粗面を形成したキャリアフィルムの前記粗面上に形成
された無電解めっき用フィルム状接着剤を、キャリアフ
ィルム付きのまま基板に無電解めっき用フィルム状接着
剤が接するようにして積層一体化すると、キャリアフィ
ルムを除去した後に、キャリアフィルムの粗面形状が、
基板に一体化された無電解めっき用接着剤層表面に転写
されるので好ましい。
【0009】めっき析出面の平均粗さが1μm未満であ
ると、無電解めっき金属の密着性を良好とすることがで
きない。また、めっき析出面の平均粗さが10μmを超
えると、めっきレジストの密着不良を生じ易くなること
と、凹みの分接着剤層の厚さが小さくなり、絶縁性を損
なう結果となる。このことから、めっき析出面を平均粗
さ2〜8μmとするのがより好ましい。
ると、無電解めっき金属の密着性を良好とすることがで
きない。また、めっき析出面の平均粗さが10μmを超
えると、めっきレジストの密着不良を生じ易くなること
と、凹みの分接着剤層の厚さが小さくなり、絶縁性を損
なう結果となる。このことから、めっき析出面を平均粗
さ2〜8μmとするのがより好ましい。
【0010】
【発明の実施の形態】本発明において、無電解めっき用
接着剤としては、熱硬化性樹脂成分、ゴム成分及び無機
充填剤成分を主な構成成分とする従来公知の無電解めっ
き用接着剤を用いることができる。
接着剤としては、熱硬化性樹脂成分、ゴム成分及び無機
充填剤成分を主な構成成分とする従来公知の無電解めっ
き用接着剤を用いることができる。
【0011】熱硬化性樹脂成分としては、樹脂骨格中に
ベンゾオキサジン環を有する熱硬化性樹脂、エポキシ樹
脂などを硬化剤とともに使用することができる。高耐
熱、高硬度とするためには、樹脂骨格中にベンゾオキサ
ジン環を有する熱硬化性樹脂又は多官能フェノールノボ
ラック硬化系エポキシ樹脂を用いるのが好ましい。
ベンゾオキサジン環を有する熱硬化性樹脂、エポキシ樹
脂などを硬化剤とともに使用することができる。高耐
熱、高硬度とするためには、樹脂骨格中にベンゾオキサ
ジン環を有する熱硬化性樹脂又は多官能フェノールノボ
ラック硬化系エポキシ樹脂を用いるのが好ましい。
【0012】ゴム成分としては、ジエン系ゴム、天然ゴ
ムなど、クロム−硫酸系酸化剤の処理により一部分解さ
れ、無電解めっき用接着剤の表面を粗化できるものが使
用される。なかでもジエン系ゴムの一種であるアクリロ
ニトリルブタジエンゴムが好ましく用いられる。
ムなど、クロム−硫酸系酸化剤の処理により一部分解さ
れ、無電解めっき用接着剤の表面を粗化できるものが使
用される。なかでもジエン系ゴムの一種であるアクリロ
ニトリルブタジエンゴムが好ましく用いられる。
【0013】無機充填剤としては、微粉砕シリカ、水酸
化アルミニウムなどが使用される。この無機充填剤もク
ロム−硫酸系酸化剤の処理により分解され、無電解めっ
き用接着剤表面に微細な凹凸を形成するのに役立つもの
である。
化アルミニウムなどが使用される。この無機充填剤もク
ロム−硫酸系酸化剤の処理により分解され、無電解めっ
き用接着剤表面に微細な凹凸を形成するのに役立つもの
である。
【0014】無電解めっき用接着剤中に通常配合される
めっき触媒としては、元素周期表の1B族、2B族、8
族の金属、例えば、銅、金、銀、白金、パラジウム、
鉄、コバルト、ニッケルなどが使用され、金属単体、塩
又は酸化物が使用できる。めっき触媒は、粉体、担体表
面に付着担持させたものなどとして無電解めっき用接着
剤中に混合することができる。
めっき触媒としては、元素周期表の1B族、2B族、8
族の金属、例えば、銅、金、銀、白金、パラジウム、
鉄、コバルト、ニッケルなどが使用され、金属単体、塩
又は酸化物が使用できる。めっき触媒は、粉体、担体表
面に付着担持させたものなどとして無電解めっき用接着
剤中に混合することができる。
【0015】熱硬化性樹脂成分は、硬化剤を含んで35
〜55重量%、ゴム成分15〜25重量%及び無機充填
剤成分30〜40重量%の範囲とすることが好ましく、
必要とする特性に応じて適宜選定される。ゴム成分の配
合量が15重量%未満であると可撓性が劣る傾向にあ
り、25重量%を超えると絶縁性が劣化する傾向にあ
る。また、無機充填剤成分の配合量が30重量%未満で
あると絶縁性が劣化する傾向にあり、40重量%を超え
ると可撓性が劣る傾向にある。めっき触媒を配合すると
きは、接着剤に対して5〜15重量%の範囲で配合され
ることが好ましい。めっき触媒の配合量が5重量%未満
であるとめっき触媒としての効果が小さく、15重量%
を超えると絶縁性が劣化する傾向にある。
〜55重量%、ゴム成分15〜25重量%及び無機充填
剤成分30〜40重量%の範囲とすることが好ましく、
必要とする特性に応じて適宜選定される。ゴム成分の配
合量が15重量%未満であると可撓性が劣る傾向にあ
り、25重量%を超えると絶縁性が劣化する傾向にあ
る。また、無機充填剤成分の配合量が30重量%未満で
あると絶縁性が劣化する傾向にあり、40重量%を超え
ると可撓性が劣る傾向にある。めっき触媒を配合すると
きは、接着剤に対して5〜15重量%の範囲で配合され
ることが好ましい。めっき触媒の配合量が5重量%未満
であるとめっき触媒としての効果が小さく、15重量%
を超えると絶縁性が劣化する傾向にある。
【0016】これら無電解めっき用接着剤の構成成分を
溶剤例えばブタノンに溶解してワニスとし、キャリアフ
ィルムに塗布乾燥する。塗布方法としては、ロールコー
ターなど公知の方法によることができる。キャリヤフィ
ルムを除去することにより、キャリヤフィルムの表面形
状が転写されて無電解めっき用フィルム状接着剤表面に
残ることから、キャリヤフィルムは、平均粗さが1〜1
0μmであって、熱処理で表面形状が極端に変化しない
ものであればよく、金属フィルム、有機系フィルムのい
ずれでもよい。ポリエチレンテレフタレートフィルム、
紙、銅はく、アルミニウムはくなどが好ましく用いられ
る。
溶剤例えばブタノンに溶解してワニスとし、キャリアフ
ィルムに塗布乾燥する。塗布方法としては、ロールコー
ターなど公知の方法によることができる。キャリヤフィ
ルムを除去することにより、キャリヤフィルムの表面形
状が転写されて無電解めっき用フィルム状接着剤表面に
残ることから、キャリヤフィルムは、平均粗さが1〜1
0μmであって、熱処理で表面形状が極端に変化しない
ものであればよく、金属フィルム、有機系フィルムのい
ずれでもよい。ポリエチレンテレフタレートフィルム、
紙、銅はく、アルミニウムはくなどが好ましく用いられ
る。
【0017】このようにして得られた、無電解めっき用
接着剤を基板に重ねてラミネーター又はプレスを用いて
積層一体化する。基板としては、回路を形成しない絶縁
板、回路を形成した基板すなわちプリント配線板いずれ
でもよく、特に制限はない。回路を形成した基板を用い
るときは、回路と無電解めっき用接着剤との密着性を良
くするため、回路表面に酸化還元処理により粗化面を形
成すること、及び、プライマー処理の何れか又は両方を
行うのが好ましい。
接着剤を基板に重ねてラミネーター又はプレスを用いて
積層一体化する。基板としては、回路を形成しない絶縁
板、回路を形成した基板すなわちプリント配線板いずれ
でもよく、特に制限はない。回路を形成した基板を用い
るときは、回路と無電解めっき用接着剤との密着性を良
くするため、回路表面に酸化還元処理により粗化面を形
成すること、及び、プライマー処理の何れか又は両方を
行うのが好ましい。
【0018】無電解めっき用接着剤を基板に積層一体化
した後、必要によりスルーホール接続用の穴あけ加工を
して、キャリアフィルムを除去する。キャリアフィルム
の除去は、銅はくやアルミニウムはくをキャリアフィル
ムとして用いたときは、酸により溶解する化学的方法
で、また、ポリエチレンテレフタレートフィルムや紙の
場合には剥がし取る物理的方法によることができる。
した後、必要によりスルーホール接続用の穴あけ加工を
して、キャリアフィルムを除去する。キャリアフィルム
の除去は、銅はくやアルミニウムはくをキャリアフィル
ムとして用いたときは、酸により溶解する化学的方法
で、また、ポリエチレンテレフタレートフィルムや紙の
場合には剥がし取る物理的方法によることができる。
【0019】この後、めっきレジストを貼り付け、露光
現像して回路形成部以外の部分にめっきレジストを形成
し、次に、回路形成部をクロム−硫酸溶液で粗化処理
し、中和及び水洗工程を経て、無電解めっき液に浸漬し
て、回路形成部に金属を析出させる。なお、スルーホー
ル接続用の穴あけをしたときは、中和及び水洗工程の前
にスルーホール接続用の穴内壁にめっき触媒を付着させ
るためシーディング処理をするのが好ましい。
現像して回路形成部以外の部分にめっきレジストを形成
し、次に、回路形成部をクロム−硫酸溶液で粗化処理
し、中和及び水洗工程を経て、無電解めっき液に浸漬し
て、回路形成部に金属を析出させる。なお、スルーホー
ル接続用の穴あけをしたときは、中和及び水洗工程の前
にスルーホール接続用の穴内壁にめっき触媒を付着させ
るためシーディング処理をするのが好ましい。
【0020】無電解めっき用接着剤の積層一体化から無
電解めっきまでの工程を繰り返すことにより、より多層
のプリント配線板を製造できる。
電解めっきまでの工程を繰り返すことにより、より多層
のプリント配線板を製造できる。
【0021】
実施例1 樹脂骨格中にベンゾオキサジン環を有する熱硬化性樹脂
40部(重量部、以下同じ)、アクリロニトリルブタジ
エンゴム8部、フェノールノボラック樹脂12部、微粉
砕シリカ2部、水酸化アルミニウム15部及び無電解め
っき用触媒6部を、ブタノン83部に溶解して、固形分
量50重量%のワニスとした。なお、樹脂骨格中にベン
ゾオキサジン環を有する熱硬化性樹脂としては、日立化
成工業株式会社製、HR−1001(商品名)を、アク
リロニトリルブタジエンゴムとしては、日本合成ゴム株
式会社製、PNR−H(商品名)を、フェノールノボラ
ック樹脂としては、日立化成工業株式会社製、HP85
0N(商品名)を、微粉砕シリカとしては、日本アエロ
ジル株式会社製、アエロジル#200(商品名)を、水
酸化アルミニウムとしては、住友化学工業株式会社製、
CL−310(商品名)を、無電解めっき用触媒として
は、日立化成工業株式会社製、Cat#14F(商品
名)を使用した。
40部(重量部、以下同じ)、アクリロニトリルブタジ
エンゴム8部、フェノールノボラック樹脂12部、微粉
砕シリカ2部、水酸化アルミニウム15部及び無電解め
っき用触媒6部を、ブタノン83部に溶解して、固形分
量50重量%のワニスとした。なお、樹脂骨格中にベン
ゾオキサジン環を有する熱硬化性樹脂としては、日立化
成工業株式会社製、HR−1001(商品名)を、アク
リロニトリルブタジエンゴムとしては、日本合成ゴム株
式会社製、PNR−H(商品名)を、フェノールノボラ
ック樹脂としては、日立化成工業株式会社製、HP85
0N(商品名)を、微粉砕シリカとしては、日本アエロ
ジル株式会社製、アエロジル#200(商品名)を、水
酸化アルミニウムとしては、住友化学工業株式会社製、
CL−310(商品名)を、無電解めっき用触媒として
は、日立化成工業株式会社製、Cat#14F(商品
名)を使用した。
【0022】このワニスを、厚さ35μm、粗化面の平
均粗さが8μmの銅はく(古河サーキットホイル株式会
社製、GTS−35(商品名)を使用した)の粗化面に
塗布し、120℃で4分間加熱乾燥して、厚さ50μm
の接着剤層を形成して接着剤付き銅はくを得た。
均粗さが8μmの銅はく(古河サーキットホイル株式会
社製、GTS−35(商品名)を使用した)の粗化面に
塗布し、120℃で4分間加熱乾燥して、厚さ50μm
の接着剤層を形成して接着剤付き銅はくを得た。
【0023】次に、内層板の両面に、接着剤付き銅はく
の接着剤層が内層板側となるようにして重ね、温度17
0℃、圧力2.45MPaで60分間加熱加圧した。次
に、銅はくを塩酸で溶解除去し、めっきレジストを貼り
付け、露光現像して回路形成部のめっきレジストを除去
した。次に、回路形成部をクロム−硫酸溶液で粗化処理
し、中和及び水洗工程を経て、無電解銅めっき液に浸漬
し、回路形成部に厚さ30μmの銅を析出させて外層回
路パターンを作成した。なお、内層板としては、基板の
厚さが0.6mmで銅はく厚さ18μmの日立化成工業
株式会社製ガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板
(MCL−E−67)に回路加工を施した両面プリント
配線板を用い、また、めっきレジストとしては、日立化
成工業株式会社製、SR−3000(商品名)を、無電
解銅めっき液としては、日立化成工業株式会社製、L−
59めっき液(商品名)用いた。
の接着剤層が内層板側となるようにして重ね、温度17
0℃、圧力2.45MPaで60分間加熱加圧した。次
に、銅はくを塩酸で溶解除去し、めっきレジストを貼り
付け、露光現像して回路形成部のめっきレジストを除去
した。次に、回路形成部をクロム−硫酸溶液で粗化処理
し、中和及び水洗工程を経て、無電解銅めっき液に浸漬
し、回路形成部に厚さ30μmの銅を析出させて外層回
路パターンを作成した。なお、内層板としては、基板の
厚さが0.6mmで銅はく厚さ18μmの日立化成工業
株式会社製ガラス布基材エポキシ樹脂両面銅張積層板
(MCL−E−67)に回路加工を施した両面プリント
配線板を用い、また、めっきレジストとしては、日立化
成工業株式会社製、SR−3000(商品名)を、無電
解銅めっき液としては、日立化成工業株式会社製、L−
59めっき液(商品名)用いた。
【0024】実施例2 樹脂骨格中にベンゾオキサジン環を有する熱硬化性樹脂
に代えて、多官能フェノールノボラック硬化系エポキシ
樹脂、日立化成工業株式会社製、VE−100(商品
名)を用いたほかは実施例1と同様にした。
に代えて、多官能フェノールノボラック硬化系エポキシ
樹脂、日立化成工業株式会社製、VE−100(商品
名)を用いたほかは実施例1と同様にした。
【0025】実施例3 銅はく(GTS−35)に代えて、厚さ100μmで、
平均粗さ5.7μmの離型処理グラシン紙を用い、グラ
シン紙を剥離除去するようにしたほかは実施例1と同様
にした。なお、グラシン紙は本州製紙株式会社の製品を
用いた。
平均粗さ5.7μmの離型処理グラシン紙を用い、グラ
シン紙を剥離除去するようにしたほかは実施例1と同様
にした。なお、グラシン紙は本州製紙株式会社の製品を
用いた。
【0026】実施例4 銅はく(GTS−35)に代えて、厚さ75μmで、エ
ンボス処理及び離型処理を行った平均粗さ4.3μmの
ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いたほかは実
施例1と同様にした。なお、ポリエチレンテレフタレー
トフィルムは、帝人株式会社製、S−31(商品名)を
用いた。
ンボス処理及び離型処理を行った平均粗さ4.3μmの
ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いたほかは実
施例1と同様にした。なお、ポリエチレンテレフタレー
トフィルムは、帝人株式会社製、S−31(商品名)を
用いた。
【0027】実施例5 樹脂骨格中にベンゾオキサジン環を有する熱硬化性樹脂
に代えて、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を用い、硬
化促進剤として2−エチル−4−メチルイミダゾール
0.1部を配合したほかは実施例1と同様にした。な
お、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、東都化
成株式会社製、YD−128(商品名)を用いた。
に代えて、ビスフェノールA型エポキシ樹脂を用い、硬
化促進剤として2−エチル−4−メチルイミダゾール
0.1部を配合したほかは実施例1と同様にした。な
お、ビスフェノールA型エポキシ樹脂としては、東都化
成株式会社製、YD−128(商品名)を用いた。
【0028】比較例1 ワニスを銅はくの光沢面(平均粗さが0.7μm)に塗
布したほかは実施例1と同様とした。
布したほかは実施例1と同様とした。
【0029】比較例2 ワニスを銅はくの光沢面(平均粗さが0.7μm)に塗
布したほかは実施例2と同様とした。
布したほかは実施例2と同様とした。
【0030】形成された外層回路パターンの引き剥がし
強度を調べた。その結果を表1に示す。なお、試験方法
は以下の通りとした。JIS C 6481に準拠し
て、幅10mm、長さ100mmのめっき銅が残るよう
にエッチングし、長さ方向の一端を剥がし、剥がした部
分をつかみ具でつかみ、めっき面に垂直になる方向に約
50mm剥がし、この間の荷重の最低値を引き剥がし強
度とした。
強度を調べた。その結果を表1に示す。なお、試験方法
は以下の通りとした。JIS C 6481に準拠し
て、幅10mm、長さ100mmのめっき銅が残るよう
にエッチングし、長さ方向の一端を剥がし、剥がした部
分をつかみ具でつかみ、めっき面に垂直になる方向に約
50mm剥がし、この間の荷重の最低値を引き剥がし強
度とした。
【0031】
【表1】
【0032】
【発明の効果】本発明によれば、析出した無電解めっき
金属の接着性を良好にすることができ、アディティブ法
によるプリント配線板の特性を向上させることができ
る。
金属の接着性を良好にすることができ、アディティブ法
によるプリント配線板の特性を向上させることができ
る。
Claims (2)
- 【請求項1】 めっき析出面を平均粗さが1〜10μm
の粗面としてなる無電解めっき用フィルム状接着剤。 - 【請求項2】 平均粗さが1〜10μmの粗面を形成し
たキャリアフィルムの前記粗面上に形成された無電解め
っき用フィルム状接着剤を、キャリアフィルム付きのま
ま基板に無電解めっき用フィルム状接着剤が接するよう
にして積層一体化し、キャリアフィルムを除去した後、
無電解めっきすることを特徴とするプリント配線板の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17501997A JPH1126933A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 無電解めっき用フィルム状接着剤及びこれを用いたプリント配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17501997A JPH1126933A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 無電解めっき用フィルム状接着剤及びこれを用いたプリント配線板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1126933A true JPH1126933A (ja) | 1999-01-29 |
Family
ID=15988804
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17501997A Pending JPH1126933A (ja) | 1997-06-30 | 1997-06-30 | 無電解めっき用フィルム状接着剤及びこれを用いたプリント配線板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1126933A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003008234A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-10 | Ibiden Co Ltd | 多層プリント配線板および多層プリント配線板の製造方法 |
| WO2009091061A1 (ja) | 2008-01-18 | 2009-07-23 | Kyocera Corporation | 真空吸着ノズル |
| US8313831B2 (en) | 2002-12-13 | 2012-11-20 | Kaneka Corporation | Thermoplastic polyimide resin film, multilayer body and method for manufacturing printed wiring board composed of same |
| JP2016211028A (ja) * | 2015-05-01 | 2016-12-15 | 株式会社イオックス | 無電解めっき用転写フィルム用触媒組成物及び無電解めっき用転写フィルム |
-
1997
- 1997-06-30 JP JP17501997A patent/JPH1126933A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003008234A (ja) * | 2001-06-19 | 2003-01-10 | Ibiden Co Ltd | 多層プリント配線板および多層プリント配線板の製造方法 |
| US8313831B2 (en) | 2002-12-13 | 2012-11-20 | Kaneka Corporation | Thermoplastic polyimide resin film, multilayer body and method for manufacturing printed wiring board composed of same |
| WO2009091061A1 (ja) | 2008-01-18 | 2009-07-23 | Kyocera Corporation | 真空吸着ノズル |
| JP2016211028A (ja) * | 2015-05-01 | 2016-12-15 | 株式会社イオックス | 無電解めっき用転写フィルム用触媒組成物及び無電解めっき用転写フィルム |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040402 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060418 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20060815 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |