JPH11271213A - マスク検査装置、露光装置及び照明方法 - Google Patents
マスク検査装置、露光装置及び照明方法Info
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- JPH11271213A JPH11271213A JP7925498A JP7925498A JPH11271213A JP H11271213 A JPH11271213 A JP H11271213A JP 7925498 A JP7925498 A JP 7925498A JP 7925498 A JP7925498 A JP 7925498A JP H11271213 A JPH11271213 A JP H11271213A
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- light
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 簡単な光学系の構成で干渉縞を低減させるこ
とが可能なマスク検査装置、露光装置及び照明方法を提
供すること。 【解決手段】 コヒーレント光を発生する光源２１と、
このコヒーレント光の光軸上に配置されてコヒーレント
光を均一化させる均一化手段２４と、この均一化手段２
４を通過したコヒーレント光をパターン形状に応じて透
過させるマスク２８と、該マスク２８を通過したコヒー
レント光の強度を検出する検出手段３０と、を具備する
マスク検査装置２０において、光源２１と均一化手段２
４の間に回転駆動可能に設けられた偏向ミラー２２を有
し、この偏向ミラー２２は回転中心に対しての直交平面
から所定角度傾斜して形成された反射面２３を有するこ
とを特徴としている。
とが可能なマスク検査装置、露光装置及び照明方法を提
供すること。 【解決手段】 コヒーレント光を発生する光源２１と、
このコヒーレント光の光軸上に配置されてコヒーレント
光を均一化させる均一化手段２４と、この均一化手段２
４を通過したコヒーレント光をパターン形状に応じて透
過させるマスク２８と、該マスク２８を通過したコヒー
レント光の強度を検出する検出手段３０と、を具備する
マスク検査装置２０において、光源２１と均一化手段２
４の間に回転駆動可能に設けられた偏向ミラー２２を有
し、この偏向ミラー２２は回転中心に対しての直交平面
から所定角度傾斜して形成された反射面２３を有するこ
とを特徴としている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、可干渉性のレーザ
光を照明光として用いるマスク検査装置や露光装置及び
これに用いられる照明方法に関する。
光を照明光として用いるマスク検査装置や露光装置及び
これに用いられる照明方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】ステッパなどの半導体製造用露光装置や
半導体製造用のマスクの検査装置においては、マスク
（レチクル）を介して照明光をウエハに縮小露光し、こ
の照明後に種々の処理を施すことによりウエハからＤＲ
ＡＭ等の如き半導体チップを形成している。
半導体製造用のマスクの検査装置においては、マスク
（レチクル）を介して照明光をウエハに縮小露光し、こ
の照明後に種々の処理を施すことによりウエハからＤＲ
ＡＭ等の如き半導体チップを形成している。
【０００３】近年、これらマスクを用いた露光装置や検
査装置においては、光源として従来の水銀ランプを用い
たものからエキシマレーザを用いたものへと変わりつつ
ある。この光源から出射される光線は、オプティカル・
インテグレータとしてのフライアイレンズにほぼ平行光
束となって入射される。このフライアイレンズは、マス
ク（レチクル）を一様に照射するために不可欠なもの
で、光線に生じている輝度むらを低減するという機能を
有している。このため、フライアイレンズを通過した光
線は、輝度むらが低減されてマスク（レチクル）に対し
出射されるようになっている。
査装置においては、光源として従来の水銀ランプを用い
たものからエキシマレーザを用いたものへと変わりつつ
ある。この光源から出射される光線は、オプティカル・
インテグレータとしてのフライアイレンズにほぼ平行光
束となって入射される。このフライアイレンズは、マス
ク（レチクル）を一様に照射するために不可欠なもの
で、光線に生じている輝度むらを低減するという機能を
有している。このため、フライアイレンズを通過した光
線は、輝度むらが低減されてマスク（レチクル）に対し
出射されるようになっている。
【０００４】ここで、フライアイレンズは例えば１０×
１０の個数からなるエレメントレンズにより構成されて
おり、夫々のエレメントレンズに光束が分割されて入射
されることで輝度むらが低減される仕組みとなってい
る。
１０の個数からなるエレメントレンズにより構成されて
おり、夫々のエレメントレンズに光束が分割されて入射
されることで輝度むらが低減される仕組みとなってい
る。
【０００５】しかしながら、従来の水銀ランプ光ではな
くコヒーレントなレーザ光をフライアイレンズに入射さ
せた場合、このフライアイレンズから出射した光束に強
弱を生じさせ、ウエハ上に干渉縞を生じさせることがあ
る。このような干渉縞がウエハ上に生じると、露光強度
が均一とならないため、処理にむらを生じさせてしまう
といった不具合が生じている。
くコヒーレントなレーザ光をフライアイレンズに入射さ
せた場合、このフライアイレンズから出射した光束に強
弱を生じさせ、ウエハ上に干渉縞を生じさせることがあ
る。このような干渉縞がウエハ上に生じると、露光強度
が均一とならないため、処理にむらを生じさせてしまう
といった不具合が生じている。
【０００６】このような不具合を防止するために、従
来、パルス発光のレーザを用い、さらにこのパルス光に
同期させるようにして板状に形成された振動ミラーを一
方向に振動させて干渉縞を低減する構成が開示されてい
る。
来、パルス発光のレーザを用い、さらにこのパルス光に
同期させるようにして板状に形成された振動ミラーを一
方向に振動させて干渉縞を低減する構成が開示されてい
る。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の露光
装置や検査装置においては、上述の如くウエハ上に干渉
縞を生じさせることの他、以下のような課題を有してい
た。すなわち、振動ミラーを用いて照明光を均一にしよ
うとした場合、振動ミラーの振動速さは数ＫＨｚが限界
であり、この程度の振動速さではラインセンサの撮り込
み速度で照明むらを消すことができなくなっている。
装置や検査装置においては、上述の如くウエハ上に干渉
縞を生じさせることの他、以下のような課題を有してい
た。すなわち、振動ミラーを用いて照明光を均一にしよ
うとした場合、振動ミラーの振動速さは数ＫＨｚが限界
であり、この程度の振動速さではラインセンサの撮り込
み速度で照明むらを消すことができなくなっている。
【０００８】また、光量のばらつきの大きいパルス光を
用いている場合には、光量の安定した連続光を使用した
場合と比較して、露光時の総光量を制御する処理が必要
となる。すなわち、パルス光の発振周波数と振動ミラー
の振動周波数とを同期させる等のこれらの間に特定の関
係を持たせる処理を行う必要が生じる。
用いている場合には、光量の安定した連続光を使用した
場合と比較して、露光時の総光量を制御する処理が必要
となる。すなわち、パルス光の発振周波数と振動ミラー
の振動周波数とを同期させる等のこれらの間に特定の関
係を持たせる処理を行う必要が生じる。
【０００９】さらに、振動ミラーを格子状の干渉縞に合
わせて四角や六角等を描く如き二次元的な振動を与える
制御を行うことは困難である。この場合、振動ミラーに
対してその振動角度を連続的に変化させる制御を行う必
要があり、また振動ミラーの角度制御の一例として、の
こぎり波状に角度を制御することも不可能となってい
る。
わせて四角や六角等を描く如き二次元的な振動を与える
制御を行うことは困難である。この場合、振動ミラーに
対してその振動角度を連続的に変化させる制御を行う必
要があり、また振動ミラーの角度制御の一例として、の
こぎり波状に角度を制御することも不可能となってい
る。
【００１０】また、ミラーを振動させる場合には、この
ミラーの振動に伴ってフライアイレンズやラインセンサ
等にもその振動が伝達することがある。このようにマス
ク検査時等にフライアイレンズやラインセンサ等に振動
が伝わると、マスクのパターンがぼけて検出感度が落ち
てしまうといった不具合が生じている。
ミラーの振動に伴ってフライアイレンズやラインセンサ
等にもその振動が伝達することがある。このようにマス
ク検査時等にフライアイレンズやラインセンサ等に振動
が伝わると、マスクのパターンがぼけて検出感度が落ち
てしまうといった不具合が生じている。
【００１１】本発明は上記の事情にもとづきなされたも
ので、その目的とするところは、簡単な光学系の構成で
干渉縞を低減させることが可能なマスク検査装置、露光
装置及び照明装置及び照明方法を提供しようとするもの
である。
ので、その目的とするところは、簡単な光学系の構成で
干渉縞を低減させることが可能なマスク検査装置、露光
装置及び照明装置及び照明方法を提供しようとするもの
である。
【００１２】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、請求項１記載の発明は、コヒーレント光を発生する
光源と、このコヒーレント光の光軸上に配置されてコヒ
ーレント光を均一化させる均一化手段と、この均一化手
段を通過したコヒーレント光をパターン形状に応じて透
過させるマスクと、該マスクを通過したコヒーレント光
の強度を検出する検出手段と、を具備するマスク検査装
置において、上記光源と均一化手段の間に回転駆動可能
に設けられた偏向ミラーを有し、この偏向ミラーは回転
中心に対しての直交平面から所定角度傾斜して形成され
た反射面を有することを特徴とするマスク検査装置であ
る。
に、請求項１記載の発明は、コヒーレント光を発生する
光源と、このコヒーレント光の光軸上に配置されてコヒ
ーレント光を均一化させる均一化手段と、この均一化手
段を通過したコヒーレント光をパターン形状に応じて透
過させるマスクと、該マスクを通過したコヒーレント光
の強度を検出する検出手段と、を具備するマスク検査装
置において、上記光源と均一化手段の間に回転駆動可能
に設けられた偏向ミラーを有し、この偏向ミラーは回転
中心に対しての直交平面から所定角度傾斜して形成され
た反射面を有することを特徴とするマスク検査装置であ
る。
【００１３】請求項２記載の発明は、上記偏向ミラー
は、反射面に凹凸形状が形成されて該凹凸形状により上
記コヒーレント光の光軸角度に変化を生じることを特徴
とする請求項１記載のマスク検査装置である。
は、反射面に凹凸形状が形成されて該凹凸形状により上
記コヒーレント光の光軸角度に変化を生じることを特徴
とする請求項１記載のマスク検査装置である。
【００１４】請求項３記載の発明は、コヒーレント光を
発生する光源と、このコヒーレント光の光軸上に配置さ
れてコヒーレント光を均一化させる均一化手段と、この
均一化手段を通過したコヒーレント光をパターン形状に
応じて透過させて感光性基板に露光させるマスクと、を
具備する露光装置において、上記光源と均一化手段の間
には回転駆動可能に設けられた偏向ミラーを有し、この
偏向ミラーは回転中心に対しての直交平面から所定角度
傾斜して形成された反射面を有することを特徴とする露
光装置である。
発生する光源と、このコヒーレント光の光軸上に配置さ
れてコヒーレント光を均一化させる均一化手段と、この
均一化手段を通過したコヒーレント光をパターン形状に
応じて透過させて感光性基板に露光させるマスクと、を
具備する露光装置において、上記光源と均一化手段の間
には回転駆動可能に設けられた偏向ミラーを有し、この
偏向ミラーは回転中心に対しての直交平面から所定角度
傾斜して形成された反射面を有することを特徴とする露
光装置である。
【００１５】請求項４記載の発明は、上記偏向ミラー
は、反射面に凹凸形状が形成されて該凹凸形状により上
記コヒーレント光の光軸角度に変化を生じることを特徴
とする請求項３記載の露光装置である。
は、反射面に凹凸形状が形成されて該凹凸形状により上
記コヒーレント光の光軸角度に変化を生じることを特徴
とする請求項３記載の露光装置である。
【００１６】請求項５記載の発明は、光源から出射され
るコヒーレント光を被対象物に照射させる照明方法にお
いて、回転軸を中心として反射面を有する反射手段が回
転駆動されると共に、この回転駆動に伴ってコヒーレン
ト光の入射側の光軸に対して反射側のコヒーレント光の
光軸の角度を変化させる回転反射工程と、上記回転反射
工程により反射されたコヒーレント光を均一化手段に入
射させてこのコヒーレント光の均一化を図る均一化工程
と、上記均一化工程を出射したコヒーレント光を入射さ
せて所望のパターン形状に対応して出射させ、このコヒ
ーレント光を被対象物に出射する出射工程と、を具備す
ることを特徴とする照明方法である。
るコヒーレント光を被対象物に照射させる照明方法にお
いて、回転軸を中心として反射面を有する反射手段が回
転駆動されると共に、この回転駆動に伴ってコヒーレン
ト光の入射側の光軸に対して反射側のコヒーレント光の
光軸の角度を変化させる回転反射工程と、上記回転反射
工程により反射されたコヒーレント光を均一化手段に入
射させてこのコヒーレント光の均一化を図る均一化工程
と、上記均一化工程を出射したコヒーレント光を入射さ
せて所望のパターン形状に対応して出射させ、このコヒ
ーレント光を被対象物に出射する出射工程と、を具備す
ることを特徴とする照明方法である。
【００１７】請求項６記載の発明は、上記回転反射工程
は、上記検出手段の認識時間若しくは上記感光性基板へ
の露光時間内にｎ回（ｎは自然数）回転駆動させること
を特徴とする請求項３記載の照明方法である。
は、上記検出手段の認識時間若しくは上記感光性基板へ
の露光時間内にｎ回（ｎは自然数）回転駆動させること
を特徴とする請求項３記載の照明方法である。
【００１８】請求項１の発明によると、光源と均一化手
段の間には回転駆動される偏向ミラーが設けられ、この
偏向ミラーでその回転中心に対しての直交平面から所定
角度傾斜して形成された反射面で反射されるため、この
コヒーレント光の光軸角度が反射面の回転駆動に伴って
変化する。このため、検出手段の所定位置では均一化手
段通過後に生じる干渉縞が移動して検出されるため、蓄
積される明るさが均一化されるものとなる。
段の間には回転駆動される偏向ミラーが設けられ、この
偏向ミラーでその回転中心に対しての直交平面から所定
角度傾斜して形成された反射面で反射されるため、この
コヒーレント光の光軸角度が反射面の回転駆動に伴って
変化する。このため、検出手段の所定位置では均一化手
段通過後に生じる干渉縞が移動して検出されるため、蓄
積される明るさが均一化されるものとなる。
【００１９】請求項２及び請求項４の発明によると、偏
向ミラーは反射面に凹凸形状が形成されて該凹凸形状に
よりコヒーレント光の光軸角度に変化を生じさせるた
め、反射面で反射されたコヒーレント光の照射部位が描
く軌跡とは更に異なる径の軌跡を描いて回転駆動され、
若しくは描く軌跡の位置がずれるようになる。これによ
って、所定の径を有する軌跡を描くのみならず異なる径
の軌跡を描くことで検出手段の全面にわたってコヒーレ
ント光を照射させることが可能となる。
向ミラーは反射面に凹凸形状が形成されて該凹凸形状に
よりコヒーレント光の光軸角度に変化を生じさせるた
め、反射面で反射されたコヒーレント光の照射部位が描
く軌跡とは更に異なる径の軌跡を描いて回転駆動され、
若しくは描く軌跡の位置がずれるようになる。これによ
って、所定の径を有する軌跡を描くのみならず異なる径
の軌跡を描くことで検出手段の全面にわたってコヒーレ
ント光を照射させることが可能となる。
【００２０】請求項３の発明によると、感光性基板に対
して蓄積される明るさを均一化させることができ、よっ
て露光不良の発生を防止することが可能となる。請求項
５の発明によると、回転軸を中心として反射面を有する
反射手段が回転駆動されると共に、この回転駆動に伴っ
てコヒーレント光の入射側の光軸に対して反射側のコヒ
ーレント光の光軸の角度を変化させる回転反射工程を具
備するため、後の均一化手段通過後に生じる干渉縞が回
転することでその蓄積される明るさを均一化させること
が可能となる。
して蓄積される明るさを均一化させることができ、よっ
て露光不良の発生を防止することが可能となる。請求項
５の発明によると、回転軸を中心として反射面を有する
反射手段が回転駆動されると共に、この回転駆動に伴っ
てコヒーレント光の入射側の光軸に対して反射側のコヒ
ーレント光の光軸の角度を変化させる回転反射工程を具
備するため、後の均一化手段通過後に生じる干渉縞が回
転することでその蓄積される明るさを均一化させること
が可能となる。
【００２１】請求項６の発明によると、回転反射工程
は、検出手段の認識時間若しくは感光性基板への露光時
間内にｎ回（ｎは自然数）回転駆動させるため、干渉縞
が生じてもこの干渉縞の明部および暗部がｎ回の回転駆
動によって等しい回数だけ被対象物に到達することで、
蓄積される明るさを他の位置と同一にすることが可能と
なる。
は、検出手段の認識時間若しくは感光性基板への露光時
間内にｎ回（ｎは自然数）回転駆動させるため、干渉縞
が生じてもこの干渉縞の明部および暗部がｎ回の回転駆
動によって等しい回数だけ被対象物に到達することで、
蓄積される明るさを他の位置と同一にすることが可能と
なる。
【００２２】
【発明の実施の形態】（第一の実施の形態）以下、本発
明の第一の実施の形態について、図１ないし図４に基づ
いて説明する。
明の第一の実施の形態について、図１ないし図４に基づ
いて説明する。
【００２３】図１はパターン検査装置２０の構成を示す
図である。パターン検査装置２０はレーザ光を発振する
レーザ光発振源２１を有しており、このレーザ光発振源
２１からはパルス発振レーザ光ではなく、連続発振レー
ザ光が出射される仕組みとなっている。
図である。パターン検査装置２０はレーザ光を発振する
レーザ光発振源２１を有しており、このレーザ光発振源
２１からはパルス発振レーザ光ではなく、連続発振レー
ザ光が出射される仕組みとなっている。
【００２４】レーザ光発振源２１からレーザ光が出射さ
れると、偏向ミラー２２へとそのレーザ光が向かう。こ
の偏向ミラー２２は、円筒形状或いは円柱形状から構成
されると共に、図２に示すように、その端面（ミラー面
２３）が筒形状の中心軸線と直交せずにこの直交状態か
ら所定の傾斜角度αを為すように形成されている。すな
わち、ミラー面２３はその形状が楕円平面を為した状態
となっている。
れると、偏向ミラー２２へとそのレーザ光が向かう。こ
の偏向ミラー２２は、円筒形状或いは円柱形状から構成
されると共に、図２に示すように、その端面（ミラー面
２３）が筒形状の中心軸線と直交せずにこの直交状態か
ら所定の傾斜角度αを為すように形成されている。すな
わち、ミラー面２３はその形状が楕円平面を為した状態
となっている。
【００２５】この傾斜角度αは、干渉縞がＮ周期移動す
る角度に相当するものであり、干渉縞の幅との関係によ
って決定される値である。また、ミラー面２３は高い反
射率を有する金属又は誘電体多層膜等が鏡面研磨加工さ
れることで形成されたものである。
る角度に相当するものであり、干渉縞の幅との関係によ
って決定される値である。また、ミラー面２３は高い反
射率を有する金属又は誘電体多層膜等が鏡面研磨加工さ
れることで形成されたものである。
【００２６】偏向ミラー２２から反射されたレーザ光
は、フライアイレンズ２４に入射される。このフライア
イレンズ２４は、例えば１０×１０のエレメントレンズ
２５から構成されて為り、入射されたレーザ光はその輝
度むらが均一化される仕組みとなっている。
は、フライアイレンズ２４に入射される。このフライア
イレンズ２４は、例えば１０×１０のエレメントレンズ
２５から構成されて為り、入射されたレーザ光はその輝
度むらが均一化される仕組みとなっている。
【００２７】上記フライアイレンズ２４を出射したレー
ザ光は、位相板２６に向かって出射される。位相板２６
を通過することにより、位相をランダムにしてその干渉
性が低減される。
ザ光は、位相板２６に向かって出射される。位相板２６
を通過することにより、位相をランダムにしてその干渉
性が低減される。
【００２８】上記位相板２６を通過したレーザ光は、ミ
ラーやレンズ等の複数の光学素子２７を通過し、レチク
ル（マスク）２８に入射される。レチクル２８は、その
パターン形状の大きさが感光性基板である半導体ウエハ
のレジスト上に照射されるパターン形状の大きさの略４
倍乃至５倍程度に形成されており、レーザ光が透過する
部分が透明なガラスを材質として形成されている。
ラーやレンズ等の複数の光学素子２７を通過し、レチク
ル（マスク）２８に入射される。レチクル２８は、その
パターン形状の大きさが感光性基板である半導体ウエハ
のレジスト上に照射されるパターン形状の大きさの略４
倍乃至５倍程度に形成されており、レーザ光が透過する
部分が透明なガラスを材質として形成されている。
【００２９】そして、このレチクル２８を通過して所定
のパターンの光像に加工されたレーザ光は、レンズ２９
に入射されて所望の倍率に変換されてＣＣＤのラインセ
ンサ３０に照射されるようになっている。ラインセンサ
３０は、図３（ａ）に示すように同一方向に並設された
複数のラインセンサ素子３１より構成されている。この
ラインセンサ素子３１のライン数は例えば９６段となっ
ており、夫々のラインセンサ素子３１で認識された情報
を蓄積することで、全体として所定の画像を認識するよ
うに構成されている。
のパターンの光像に加工されたレーザ光は、レンズ２９
に入射されて所望の倍率に変換されてＣＣＤのラインセ
ンサ３０に照射されるようになっている。ラインセンサ
３０は、図３（ａ）に示すように同一方向に並設された
複数のラインセンサ素子３１より構成されている。この
ラインセンサ素子３１のライン数は例えば９６段となっ
ており、夫々のラインセンサ素子３１で認識された情報
を蓄積することで、全体として所定の画像を認識するよ
うに構成されている。
【００３０】なお、上述のラインセンサ３０を用いる構
成とはせずに、レンズ２９を透過した後に感光性基板表
面のレジストに照射される構成としても構わない。以上
のような構成を有するパターン検査装置２０を用いた検
査手法について、以下に説明する。
成とはせずに、レンズ２９を透過した後に感光性基板表
面のレジストに照射される構成としても構わない。以上
のような構成を有するパターン検査装置２０を用いた検
査手法について、以下に説明する。
【００３１】パターン検査装置２０を用いる際には、偏
向ミラー２２を十分な速さで回転駆動させる必要があ
る。例えば、現時点での試算によると、１画素の露光時
間が約３ｍｓであって回転数が約２００００ｒｐｍで干
渉縞を１回転できるものとなっている。そのため、干渉
縞を１画素露光時間中に２回転、３回転と多く回転させ
ることにより、均一な照明を得られる効果がさらに向上
する。
向ミラー２２を十分な速さで回転駆動させる必要があ
る。例えば、現時点での試算によると、１画素の露光時
間が約３ｍｓであって回転数が約２００００ｒｐｍで干
渉縞を１回転できるものとなっている。そのため、干渉
縞を１画素露光時間中に２回転、３回転と多く回転させ
ることにより、均一な照明を得られる効果がさらに向上
する。
【００３２】このような回転数にて回転駆動される偏向
ミラー２２を用いれば、フライアイレンズ２４を通過し
て生じた図４に示すような干渉縞がこの回転に沿って円
周運動を行って移動する。すなわち、ちょうど一周する
ことによって、干渉縞を形成する明部と暗部もこれに伴
って移動し、それによって明るさが重畳されれば蓄積さ
れる明るさの均一化が図られる。
ミラー２２を用いれば、フライアイレンズ２４を通過し
て生じた図４に示すような干渉縞がこの回転に沿って円
周運動を行って移動する。すなわち、ちょうど一周する
ことによって、干渉縞を形成する明部と暗部もこれに伴
って移動し、それによって明るさが重畳されれば蓄積さ
れる明るさの均一化が図られる。
【００３３】なお、実際のラインセンサ３０での認識
は、以下のようになっている。すなわち、上述の構成で
はラインセンサ３０は例えば９６段のラインセンサ素子
３１から構成されたものとして述べているが、以下の説
明では簡略化のためにこれを４段として説明する。
は、以下のようになっている。すなわち、上述の構成で
はラインセンサ３０は例えば９６段のラインセンサ素子
３１から構成されたものとして述べているが、以下の説
明では簡略化のためにこれを４段として説明する。
【００３４】まず、干渉縞が１回転する間にラインセン
サ３０がちょうど端部から端部まで通過したとすると、
夫々１段のラインセンサ素子３１に対しては干渉縞の１
回転のうちの４分の１回転づつを行うこととなる。
サ３０がちょうど端部から端部まで通過したとすると、
夫々１段のラインセンサ素子３１に対しては干渉縞の１
回転のうちの４分の１回転づつを行うこととなる。
【００３５】しかしながら、夫々のラインセンサ素子３
１で認識された情報（明るさ）を４段全てのラインセン
サ素子３１を重畳させることにより、ラインセンサ３０
全体では干渉縞に対して１回転を行った場合の認識と同
様となる。
１で認識された情報（明るさ）を４段全てのラインセン
サ素子３１を重畳させることにより、ラインセンサ３０
全体では干渉縞に対して１回転を行った場合の認識と同
様となる。
【００３６】以上がラインセンサ素子３１が４段の場合
の例であるが、ラインセンサ素子３１が９６段等の場合
であっても基本的には同様となっている。これにより、
ラインセンサ３０全体としては、干渉縞の明暗差が低減
されて均一化された明るさを得ることが可能となる。
の例であるが、ラインセンサ素子３１が９６段等の場合
であっても基本的には同様となっている。これにより、
ラインセンサ３０全体としては、干渉縞の明暗差が低減
されて均一化された明るさを得ることが可能となる。
【００３７】なお、ラインセンサ３０が上述のＴＤＩセ
ンサではなく、エリアセンサの場合には、図３（ｂ）に
示すようにエリア全体で認識を行うので、このような重
畳を行わずに干渉縞の一回転の認識が各画素の露光時間
内に行える。
ンサではなく、エリアセンサの場合には、図３（ｂ）に
示すようにエリア全体で認識を行うので、このような重
畳を行わずに干渉縞の一回転の認識が各画素の露光時間
内に行える。
【００３８】このようなマスク検査装置２０によると、
偏向ミラー２２が回転駆動されることで、フライアイレ
ンズ２４透過後に、レーザ光全体により生じる干渉縞が
回転駆動され、この回転駆動に伴って干渉縞の明部及び
暗部が次々と移り変わることになる。そのためラインセ
ンサ３０の任意の照射位置における蓄積される明るさの
均一化を図ることが可能となる。
偏向ミラー２２が回転駆動されることで、フライアイレ
ンズ２４透過後に、レーザ光全体により生じる干渉縞が
回転駆動され、この回転駆動に伴って干渉縞の明部及び
暗部が次々と移り変わることになる。そのためラインセ
ンサ３０の任意の照射位置における蓄積される明るさの
均一化を図ることが可能となる。
【００３９】この場合、ラインセンサ３０が通過し終え
るまでの間に干渉縞がｎ回（ｎは自然数）だけ回転する
ことにより、干渉縞の明部と暗部が等しい回数だけライ
ンセンサに到達し、これによって蓄積される明るさを他
の位置のそれと平均化させることが可能となる。
るまでの間に干渉縞がｎ回（ｎは自然数）だけ回転する
ことにより、干渉縞の明部と暗部が等しい回数だけライ
ンセンサに到達し、これによって蓄積される明るさを他
の位置のそれと平均化させることが可能となる。
【００４０】以上、ラインセンサ３０に対してレーザ光
を照射させる場合について述べたが、感光性基板に対し
て照射させる場合にも同様であり、その場合、図１にお
いてラインセンサ３０に代えて感光性基板を露光位置に
位置させる。この場合には感光性基板の表面で露光むら
が生じるのを防ぐことが可能となる。
を照射させる場合について述べたが、感光性基板に対し
て照射させる場合にも同様であり、その場合、図１にお
いてラインセンサ３０に代えて感光性基板を露光位置に
位置させる。この場合には感光性基板の表面で露光むら
が生じるのを防ぐことが可能となる。
【００４１】また、レーザ光を用いた構成とはせずに、
他のコヒーレント光を用いた構成としても構わない。 （第二の実施の形態）以下、本発明の第二の実施の形態
について、図５及び図６に基づいて説明する。
他のコヒーレント光を用いた構成としても構わない。 （第二の実施の形態）以下、本発明の第二の実施の形態
について、図５及び図６に基づいて説明する。
【００４２】本実施の形態においては、偏向ミラー２２
以外の構成は上述の第一の実施の形態で述べた構成と同
様であり、偏向ミラー２２の形状が異なる構成となって
いる。
以外の構成は上述の第一の実施の形態で述べた構成と同
様であり、偏向ミラー２２の形状が異なる構成となって
いる。
【００４３】すなわち、本実施の形態のマスク検査装置
２０では、偏向ミラー４１のミラー面４２の形状が上述
の第一の実施の形態の形状とは異なるものとなってい
る。このミラー面４２は、上記第一の実施の形態のミラ
ー面２３と同様に所定角度αだけ傾斜して設けられた第
１のミラー面４３と、これとは異なりαではなくβだけ
傾斜して設けられた第２のミラー面４４とが合わされる
ことによって構成されている。
２０では、偏向ミラー４１のミラー面４２の形状が上述
の第一の実施の形態の形状とは異なるものとなってい
る。このミラー面４２は、上記第一の実施の形態のミラ
ー面２３と同様に所定角度αだけ傾斜して設けられた第
１のミラー面４３と、これとは異なりαではなくβだけ
傾斜して設けられた第２のミラー面４４とが合わされる
ことによって構成されている。
【００４４】そして、これら第１のミラー面４３と第２
のミラー面４４とが夫々隣り合って配置される構成であ
る（図５においては、第１のミラー面４３と第２のミラ
ー面とが夫々４面の構成を示している。）。
のミラー面４４とが夫々隣り合って配置される構成であ
る（図５においては、第１のミラー面４３と第２のミラ
ー面とが夫々４面の構成を示している。）。
【００４５】以上のような構成を有するマスク検査装置
２０では、第１のミラー面４３のみ（すなわち、第一の
実施の形態におけるミラー面２３）が描く光軸の軌跡は
図６（ａ）に示す通りであるが、本実施の形態の第１の
ミラー面４３と第２のミラー面４４によれば、傾斜角度
βの第２のミラー面４４ではその傾斜角度がαよりも小
さいことから光軸のぶれが小さく、よって図６（ｂ）に
示すように、小径な軌跡と大径な軌跡を交互に描く構成
となる。
２０では、第１のミラー面４３のみ（すなわち、第一の
実施の形態におけるミラー面２３）が描く光軸の軌跡は
図６（ａ）に示す通りであるが、本実施の形態の第１の
ミラー面４３と第２のミラー面４４によれば、傾斜角度
βの第２のミラー面４４ではその傾斜角度がαよりも小
さいことから光軸のぶれが小さく、よって図６（ｂ）に
示すように、小径な軌跡と大径な軌跡を交互に描く構成
となる。
【００４６】これにより、径をずらして軌跡が描かれる
ことで、干渉縞の移動を行うことが可能となり、明るさ
の均一化をより実現することができる。以上、本発明の
第二の実施の形態について述べたが、本発明はこれ以外
にも種々変形可能となっている。以下、それについて述
べる。
ことで、干渉縞の移動を行うことが可能となり、明るさ
の均一化をより実現することができる。以上、本発明の
第二の実施の形態について述べたが、本発明はこれ以外
にも種々変形可能となっている。以下、それについて述
べる。
【００４７】上記実施の形態では、偏向ミラー４１の反
射面４２の形状を第１のミラー面４３及び第２のミラー
面４４からなるものとしたが、これ以外にも、例えば高
さの異なる段差形状や、傾斜角度の異なる二以上のミラ
ー面が含まれる形状としても構わなく、その他、種々の
凹凸形状をミラー面に設ける構成としても構わない。そ
の他、本発明の要旨を変更しない範囲において、種々変
形可能となっている。
射面４２の形状を第１のミラー面４３及び第２のミラー
面４４からなるものとしたが、これ以外にも、例えば高
さの異なる段差形状や、傾斜角度の異なる二以上のミラ
ー面が含まれる形状としても構わなく、その他、種々の
凹凸形状をミラー面に設ける構成としても構わない。そ
の他、本発明の要旨を変更しない範囲において、種々変
形可能となっている。
【００４８】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
コヒーレント光の光軸角度が反射面の回転駆動に伴って
変化する。このため、検出手段の所定位置では均一化手
段経過後に生じる干渉縞が移動して検出されるので、蓄
積される明るさが均一化されるものとなる。
コヒーレント光の光軸角度が反射面の回転駆動に伴って
変化する。このため、検出手段の所定位置では均一化手
段経過後に生じる干渉縞が移動して検出されるので、蓄
積される明るさが均一化されるものとなる。
【００４９】また、偏向ミラーの反射面に凹凸形状を形
成すれば、この凹凸形状によりコヒーレント光の光軸角
度に変化を生じさせるので、反射面で反射されたコヒー
レント光の照射部位が描く軌跡とは更に異なる径の軌跡
を描くことで検出手段の全面に亘ってコヒーレント光を
均一に照射させることが可能となる。
成すれば、この凹凸形状によりコヒーレント光の光軸角
度に変化を生じさせるので、反射面で反射されたコヒー
レント光の照射部位が描く軌跡とは更に異なる径の軌跡
を描くことで検出手段の全面に亘ってコヒーレント光を
均一に照射させることが可能となる。
【図１】本発明の一実施の形態に係わるマスク検査装置
の構成を示す概略図。
の構成を示す概略図。
【図２】同実施の形態に係わる偏向ミラーの構成を示す
斜視図。
斜視図。
【図３】同実施の形態に係わるラインセンサの構成を示
す平面図。
す平面図。
【図４】同実施の形態に係わる干渉縞の状態を示す概略
図。
図。
【図５】同実施の形態に係わる偏向ミラーの構成を示す
図。
図。
【図６】同実施の形態に係わる偏向ミラーの回転駆動に
よる光軸の軌跡を示す平面図。
よる光軸の軌跡を示す平面図。
２０…マスク検査装置 ２１…レーザ光発振源 ２２，４１…偏向ミラー ２３，４２…ミラー面 ２４…フライアイレンズ ２８…レチクル ３０…ラインセンサ ４３…第１のミラー面 ４４…第２のミラー面
Claims (6)
- 【請求項１】 コヒーレント光を発生する光源と、この
コヒーレント光の光軸上に配置されてコヒーレント光を
均一化させる均一化手段と、この均一化手段を通過した
コヒーレント光をパターン形状に応じて透過させるマス
クと、該マスクを通過したコヒーレント光の強度を検出
する検出手段と、を具備するマスク検査装置において、 上記光源と均一化手段の間に回転駆動可能に設けられた
偏向ミラーを有し、この偏向ミラーは回転中心に対して
の直交平面から所定角度傾斜して形成された反射面を有
することを特徴とするマスク検査装置。 - 【請求項２】 上記偏向ミラーは、反射面に凹凸形状が
形成されて該凹凸形状により上記コヒーレント光の光軸
角度に変化を生じることを特徴とする請求項１記載のマ
スク検査装置。 - 【請求項３】 コヒーレント光を発生する光源と、この
コヒーレント光の光軸上に配置されてコヒーレント光を
均一化させる均一化手段と、この均一化手段を通過した
コヒーレント光をパターン形状に応じて透過させて感光
性基板に露光させるマスクと、を具備する露光装置にお
いて、 上記光源と均一化手段の間には回転駆動可能に設けられ
た偏向ミラーを有し、この偏向ミラーは回転中心に対し
ての直交平面から所定角度傾斜して形成された反射面を
有することを特徴とする露光装置。 - 【請求項４】 上記偏向ミラーは、反射面に凹凸形状が
形成されて該凹凸形状により上記コヒーレント光の光軸
角度に変化を生じることを特徴とする請求項３記載の露
光装置。 - 【請求項５】 光源から出射されるコヒーレント光を被
対象物に照射させる照明方法において、 回転軸を中心として反射面を有する反射手段が回転駆動
されると共に、この回転駆動に伴ってコヒーレント光の
入射側の光軸に対して反射側のコヒーレント光の光軸の
角度を変化させる回転反射工程と、 上記回転反射工程により反射されたコヒーレント光を均
一化手段に入射させてこのコヒーレント光の均一化を図
る均一化工程と、 上記均一化工程を出射したコヒーレント光を入射させて
所望のパターン形状に対応して出射させ、このコヒーレ
ント光を被対象物に出射する出射工程と、 を具備することを特徴とする照明方法。 - 【請求項６】 上記回転反射工程は、上記検出手段の認
識時間若しくは上記感光性基板への露光時間内にｎ回
（ｎは自然数）回転駆動させることを特徴とする請求項
３記載の照明方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7925498A JPH11271213A (ja) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | マスク検査装置、露光装置及び照明方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7925498A JPH11271213A (ja) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | マスク検査装置、露光装置及び照明方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11271213A true JPH11271213A (ja) | 1999-10-05 |
Family
ID=13684727
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7925498A Pending JPH11271213A (ja) | 1998-03-26 | 1998-03-26 | マスク検査装置、露光装置及び照明方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11271213A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6943876B2 (en) | 2002-06-07 | 2005-09-13 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for detecting pattern defects |
| JP2008160109A (ja) * | 2006-12-21 | 2008-07-10 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置および方法 |
| DE102011009949A1 (de) | 2010-02-04 | 2011-08-04 | Sony Corporation | Beleuchtungseinrichtung und Bildanzeigeeinrichtung vom Projektionstyp |
| WO2011107604A1 (en) * | 2010-03-05 | 2011-09-09 | Micronic Mydata AB | Illumination methods and devices for partially coherent illumination |
| KR101417556B1 (ko) * | 2010-02-22 | 2014-07-09 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 마스크 검사 장치의 조명 시스템 및 투영 오브젝티브 |
| US9235127B2 (en) | 2010-03-05 | 2016-01-12 | Mycronic AB | Method and apparatus for merging multiple geometrical pixel images and generating a single modulator pixel image |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03183903A (ja) * | 1989-12-13 | 1991-08-09 | Kurabo Ind Ltd | 光学測定装置 |
| JPH05118957A (ja) * | 1991-10-24 | 1993-05-14 | Nikon Corp | 投影光学系の検査方法 |
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| JPH06167457A (ja) * | 1991-07-20 | 1994-06-14 | Tet Techno Investment Trust Settlement | 表面検査装置 |
| JPH07148169A (ja) * | 1993-11-30 | 1995-06-13 | Technol Res Assoc Of Medical & Welfare Apparatus | 光走査装置 |
| JPH09180993A (ja) * | 1995-12-27 | 1997-07-11 | Canon Inc | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JPH09270374A (ja) * | 1996-03-29 | 1997-10-14 | Canon Inc | 照度測定方法 |
-
1998
- 1998-03-26 JP JP7925498A patent/JPH11271213A/ja active Pending
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| CN102147562A (zh) * | 2010-02-04 | 2011-08-10 | 索尼公司 | 光源、照明装置、显示装置、显示投影仪和投影显示装置 |
| KR101417556B1 (ko) * | 2010-02-22 | 2014-07-09 | 칼 짜이스 에스엠티 게엠베하 | 마스크 검사 장치의 조명 시스템 및 투영 오브젝티브 |
| WO2011107604A1 (en) * | 2010-03-05 | 2011-09-09 | Micronic Mydata AB | Illumination methods and devices for partially coherent illumination |
| US9235127B2 (en) | 2010-03-05 | 2016-01-12 | Mycronic AB | Method and apparatus for merging multiple geometrical pixel images and generating a single modulator pixel image |
| US9291902B2 (en) | 2010-03-05 | 2016-03-22 | Mycronic AB | Method and apparatus for merging multiple geometrical pixel images and generating a single modulator pixel image |
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|---|---|---|---|
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| A521 | Written amendment |
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|
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