JPH11274698A - Manufacturing method of printed wiring board - Google Patents
Manufacturing method of printed wiring boardInfo
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- JPH11274698A JPH11274698A JP10074452A JP7445298A JPH11274698A JP H11274698 A JPH11274698 A JP H11274698A JP 10074452 A JP10074452 A JP 10074452A JP 7445298 A JP7445298 A JP 7445298A JP H11274698 A JPH11274698 A JP H11274698A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 高密度基板のソルダレジスト層を、高精度で
低コストで且つ短いリードタイムで製造できるプリント
配線板の製造方法の実現。
【解決手段】 少なくとも絶縁性ベース31と導体層32と
を備えるプリント配線板の製造方法であって、プリント
配線板上に、ソルダレジスト層の材料層35を形成する工
程と、ソルダレジスト層のパターンに従ってレーザビー
ム37をソルダレジスト材料層35に照射する工程とを備え
る。
(57) [Problem] To provide a method of manufacturing a printed wiring board capable of manufacturing a solder resist layer of a high-density substrate with high precision at low cost and with a short lead time. A method of manufacturing a printed wiring board including at least an insulating base (31) and a conductor layer (32), comprising: forming a material layer (35) of a solder resist layer on the printed wiring board; Irradiating the solder resist material layer 35 with the laser beam 37 according to the above.
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、精密なプリント配
線板を低コストで製造するプリント配線板の製造方法に
関し、特に保護層としてプリント配線板の最上位に形成
するソルダーレジスト層を精密に形成する製造方法に関
する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a printed wiring board for manufacturing a precise printed wiring board at a low cost, and more particularly, to precisely forming a solder resist layer to be formed on the top of the printed wiring board as a protective layer. Manufacturing method.
【0002】[0002]
【従来の技術】集積回路の微細化・高集積化に応じて、
プリント配線板の微細化及び高集積化が進められてお
り、配線の微細化と共に、片面基板から、両面基板、更
には両面多層基板と技術が発展している。多層基板につ
いても、スルーホール基板から集積度の高いビルドアッ
プ基板が使用されるようになってきた。本発明は、いず
れのプリント配線板にも適用可能であるが、ビルドアッ
プ基板を例として従来のプリント配線板の製造方法を簡
単に説明する。2. Description of the Related Art In accordance with miniaturization and high integration of integrated circuits,
The miniaturization and high integration of printed wiring boards are being promoted, and with the miniaturization of wiring, technologies have been developed from single-sided substrates to double-sided substrates, and further to double-sided multilayer substrates. As for the multilayer substrate, a build-up substrate having a high degree of integration has been used from a through-hole substrate. Although the present invention can be applied to any printed wiring board, a conventional method for manufacturing a printed wiring board will be briefly described using a build-up board as an example.
【0003】図1は、ビルドアップ基板の構造例を示す
図である。ガラス・エポキシ基板の両面板などをコア基
板11とし、その上に金属導体層12を形成する。この
金属導体層は、例えば、銅箔を接着したり、銅メッキし
て形成する。導体層における配線の形成はフォトリソグ
ラフィで行う。金属導体層を形成した基板の上に感光性
樹脂(フォトレジスト)を塗布するか又はドライフィル
ムレジスト(DFR)を貼付けた後、配線の回路パター
ンを露光して光照射部分のレジストを硬化させる。次
に、現像して未硬化レジスト部分を除去し、配線の回路
パターンに対応したフォトレジスト層を得る。この状態
で溶解液に漬けてエッチングし、露出した銅箔部分を除
去した後、残存したレジスト層を剥離して、第1層目の
導体層12を得る。FIG. 1 is a view showing an example of the structure of a build-up board. A core substrate 11 is a double-sided glass / epoxy substrate or the like, and a metal conductor layer 12 is formed thereon. This metal conductor layer is formed by, for example, bonding a copper foil or plating with copper. The wiring in the conductor layer is formed by photolithography. After applying a photosensitive resin (photoresist) or pasting a dry film resist (DFR) on the substrate on which the metal conductor layer is formed, the circuit pattern of the wiring is exposed and the light-irradiated portion of the resist is cured. Next, development is performed to remove the uncured resist portion, and a photoresist layer corresponding to the circuit pattern of the wiring is obtained. In this state, the substrate is immersed in a solution and etched to remove the exposed portion of the copper foil, and then the remaining resist layer is peeled off to obtain the first conductor layer 12.
【0004】次に、導体層を含む表面に紫外線などの光
で硬化する感光性樹脂を塗布し、ビアホール(via hol
e)14の部分を除いて硬化用の光を照射する。この光
照射は、例えば、ビアホール14の部分を遮光したマス
クを介して硬化用の光を照射することで行う。光照射し
た感光性樹脂を薬品で現像すると、光が照射されなかっ
たビアホール14の部分の感光性樹脂が除かれ、導体層
が露出する。除かれなかった感光性樹脂は、第1層目の
絶縁層13になる。ここで、必要に応じて加熱して十分
な硬化を行う。次に、絶縁層表面を粗化処理して5μm
〜10μm程度の凹凸を作り、絶縁層に導体層が食い込
み、ピール強度が上がるようにする。次に、無電解メッ
キと電解メッキを続けて行い、2層目の導体層を形成す
る。この時、ビアホール14の内部もメッキされ、下層
の導体層と層間接続される。上記と同様に、フォトリソ
グラフィとエッチッグにより第2層目の導体層15が形
成される。[0004] Next, a photosensitive resin that is cured by light such as ultraviolet light is applied to the surface including the conductor layer to form a via hole.
e) Irradiate light for curing except for part 14. This light irradiation is performed, for example, by irradiating curing light through a mask that shields a portion of the via hole 14 from light. When the photosensitive resin irradiated with light is developed with a chemical, the photosensitive resin in the portion of the via hole 14 not irradiated with light is removed, and the conductor layer is exposed. The photosensitive resin that has not been removed becomes the first insulating layer 13. Here, sufficient curing is performed by heating as necessary. Next, the surface of the insulating layer is roughened to 5 μm
Irregularities of about 10 μm to about 10 μm are formed so that the conductor layer bites into the insulating layer to increase the peel strength. Next, electroless plating and electrolytic plating are successively performed to form a second conductive layer. At this time, the inside of the via hole 14 is also plated, and is interlayer-connected to the lower conductor layer. Similarly to the above, the second conductive layer 15 is formed by photolithography and etching.
【0005】以上の処理を繰り返して層を積み上げてい
く。最後の導体層を形成する時に図1に示すように、ス
ルーホール用の穴18をあけ、最後の導体層19をメッ
キする。この時、スルーホール用の穴18の内面にも導
体層19が形成される。同様に、フォトリソグラフィと
エッチッグにより最後の導体層におけるパターンを形成
する。更にソルダレジスト層20として絶縁性樹脂を形
成してビルドアップ基板が完成する。ソルダレジスト層
20は、耐熱性被覆材料で、ソルダリング(はんだ付
け)作業の際にこの部分にはんだが付かないように保護
するもので、電子部品を接続する導体層の部分にはソル
ダレジスト層がない穴を形成する。The above processes are repeated to build up layers. When forming the last conductor layer, as shown in FIG. 1, a hole 18 for a through hole is made, and the last conductor layer 19 is plated. At this time, the conductor layer 19 is also formed on the inner surface of the through hole 18. Similarly, a pattern in the last conductor layer is formed by photolithography and etching. Further, an insulating resin is formed as the solder resist layer 20 to complete the build-up substrate. The solder resist layer 20 is a heat-resistant coating material that protects this portion from soldering during soldering (soldering) work. A solder resist layer is provided on the conductor layer portion for connecting electronic components. Form no holes.
【0006】ソルダレジスト層20は、これまで主とし
てスクリーン印刷により形成されてきた。スクリーン印
刷法は、印刷した後乾燥して硬化すればよく生産性が高
いので量産に適した方法であるが、スクリーン印刷時の
版の伸縮などのために十分な位置合わせ精度が得られな
いことや、パターンエッジでのかすれやランド部でのに
じみなどによるソルダリングの不具合の発生などの理由
から、高い位置合わせ精度の要求される高密度(高解像
度)のプリント配線板への適用には限界があった。そこ
で、絶縁層と同様に、高密度のプリント配線板では感光
性樹脂を使用して露光・現像するリソグラフィ法が使用
されるようになってきた。リソグラフィ法は、上記のよ
うに高解像度であるという利点を有するが、感光性樹脂
の塗布、露光、現像、熱乾燥という工程が必要な上、パ
ターンの基になるマスクを製作する必要があるので、ス
クリーン印刷法に比べて製造工程が複雑でコストが高く
なるという問題があった。The solder resist layer 20 has been formed mainly by screen printing. The screen printing method is suitable for mass production because it requires only printing and then drying and curing, so productivity is high.However, sufficient alignment accuracy cannot be obtained due to expansion and contraction of the plate during screen printing etc. Limitations on application to high-density (high-resolution) printed wiring boards, which require high alignment accuracy, due to soldering problems such as blurring at pattern edges and bleeding at land areas was there. Therefore, as in the case of the insulating layer, a lithography method of exposing and developing using a photosensitive resin has been used for a high-density printed wiring board. The lithography method has the advantage of high resolution as described above, but requires the steps of coating, exposing, developing, and thermally drying a photosensitive resin, and also requires manufacturing a mask on which a pattern is based. However, there is a problem that the manufacturing process is complicated and the cost is high as compared with the screen printing method.
【0007】[0007]
【発明が解決しようとする課題】近年、プリント配線板
は益々高密度化が進められており、スクリーン印刷法に
よるソルダレジスト層の形成では対応できなくなってい
る。そのため、リソグラフィ法が使用されることが多く
なってきたが、上記のように工程が複雑で高コストであ
るという問題があった。In recent years, the density of printed wiring boards has been increasingly increased, and it has become impossible to cope with the formation of a solder resist layer by a screen printing method. For this reason, the lithography method is often used, but there is a problem that the process is complicated and the cost is high as described above.
【0008】更に、パターンの基になるマスクはフィル
ムで形成され、コンピュータなどからパターンデータを
フィルム露光装置に出力し、フィルム露光装置でパター
ンデータに対応したマスクフィルムを製作していた。マ
スクフィルムはフィルムであるため、温度や湿度により
伸縮し、その分位置合わせ精度が低下するという問題が
あった。Further, a mask on which a pattern is based is formed of a film, and pattern data is output from a computer or the like to a film exposure apparatus, and a mask film corresponding to the pattern data is manufactured by the film exposure apparatus. Since the mask film is a film, it expands and contracts due to temperature and humidity, and there is a problem that the positioning accuracy is reduced accordingly.
【0009】また、近年プリント配線板についても需要
の変化に対応できるフレキシブルな生産が要求されてお
り、多品種少量生産に対応できることが求められてい
る。しかし、マスクフィルムを使用する場合には、プリ
ント配線板の製造を開始する前にマスクフィルムを準備
する必要があり、製造を開始するまでのリードタイムが
長く、フレキシブル生産という点で問題があった。In recent years, there has been a demand for flexible production of printed wiring boards that can respond to changes in demand, and is required to be able to respond to high-mix low-volume production. However, when using a mask film, it is necessary to prepare the mask film before starting the manufacture of the printed wiring board, and the lead time until the start of the manufacture is long, and there is a problem in terms of flexible production. .
【0010】本発明は、このような問題点を解決するこ
とを目的とし、高密度基板のソルダレジスト層を、高精
度で低コストで且つ短いリードタイムで製造できるプリ
ント配線板の製造方法の実現を目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a printed wiring board capable of manufacturing a solder resist layer of a high-density substrate with high precision at low cost and with a short lead time. With the goal.
【0011】[0011]
【課題を解決するための手段】上記目的を実現するた
め、本発明のプリント配線板の製造方法は、ソルダレジ
スト層のパターンに従ってレーザビームをソルダレジス
ト層の材料層に照射して、ソルダレジスト層を形成す
る。すなわち、本発明のプリント配線板の製造方法は、
少なくとも絶縁性ベースと導体層とを備えるプリント配
線板の製造方法であって、プリント配線板上に、保護層
であるソルダレジスト層の材料層を形成する工程と、ソ
ルダレジスト層のパターンに従ってレーザビームをソル
ダレジスト材料層に照射する工程とを備えることを特徴
とする。In order to achieve the above object, a method for manufacturing a printed wiring board according to the present invention comprises irradiating a laser beam to a material layer of a solder resist layer in accordance with a pattern of the solder resist layer. To form That is, the method for manufacturing a printed wiring board of the present invention includes:
A method for manufacturing a printed wiring board including at least an insulating base and a conductive layer, comprising: forming a material layer of a solder resist layer as a protective layer on the printed wiring board; and forming a laser beam according to a pattern of the solder resist layer. And irradiating the solder resist material layer with the above.
【0012】本発明のプリント配線板の製造方法によれ
ば、ソルダレジスト層のパターンはレーザ照射装置の機
械制御及びレーザビームをオン・オフ制御、走査制御す
ることによって形成されるため位置合わせ精度が高く、
高密度のプリント配線板に適用可能である。更に、レー
ザビーム照射装置によるソルダレジスト層のパターン
は、レーザビーム照射装置に直接パターンデータを与え
ることにより行えるため、マスクフィルムを製作する必
要がなく経済的でありリードタイムが短くなる。According to the method of manufacturing a printed wiring board of the present invention, the pattern of the solder resist layer is formed by mechanical control of the laser irradiation device, on / off control of the laser beam, and scanning control, so that the alignment accuracy is high. high,
It is applicable to high density printed wiring boards. Furthermore, since the pattern of the solder resist layer by the laser beam irradiation device can be performed by directly giving pattern data to the laser beam irradiation device, it is not necessary to manufacture a mask film, so that it is economical and the lead time is shortened.
【0013】ソルダレジスト層を形成する材料としてポ
ジ型又はネガ型の感光性樹脂を使用し、感光性樹脂が感
光する波長のレーザビームを使用してパターン照射を行
った後、現像と乾燥を行ってもよいが、光硬化型、熱硬
化型などの樹脂を使用すれば現像が必要なく、工程が簡
単である。また、レーザビームのエネルギビームとして
の特性に着目して、レーザビームを照射した部分のソル
ダレジスト層を溶融・蒸発・解離・分解させるようにし
てもよい。この場合、ソルダレジスト層の材料層を硬化
させた後レーザビームを照射することが望ましい。A positive or negative photosensitive resin is used as a material for forming a solder resist layer, and pattern irradiation is performed using a laser beam having a wavelength at which the photosensitive resin is exposed, followed by development and drying. However, if a resin such as a photo-curing type or a thermosetting type is used, development is not required and the process is simple. Further, by paying attention to the characteristics of the laser beam as an energy beam, the portion of the solder resist layer irradiated with the laser beam may be melted, evaporated, dissociated, and decomposed. In this case, it is desirable to irradiate a laser beam after curing the material layer of the solder resist layer.
【0014】レーザビームを照射してソルダレジスト層
を溶融・蒸発・解離・分解させる場合、ソルダレジスト
層とその下層の材質の違いにより、レーザビームが照射
された上層のソルダレジスト層は溶融・蒸発・解離・分
解するが、下層の部分は影響されないようにレーザビー
ムのエネルギ密度ショット数及び照射時間などの照射条
件を設定する。ソルダレジスト層に穴を設ける部分は、
電子部品を接続する部分であり、ソルダレジスト層の穴
部分には導体層があるのが一般的である。レーザビーム
が照射されたソルダレジスト層は溶融・蒸発・解離・分
解され導体層が露出される。When the solder resist layer is melted / evaporated / dissociated / decomposed by irradiating a laser beam, the upper solder resist layer irradiated with the laser beam is melted / evaporated due to the difference in the material of the solder resist layer and the lower layer. Irradiation conditions such as the number of laser beam energy density shots and irradiation time are set so that dissociation and decomposition occur, but the lower layer is not affected. The part to make a hole in the solder resist layer is
It is a portion for connecting electronic components, and there is generally a conductor layer in a hole portion of the solder resist layer. The solder resist layer irradiated with the laser beam is melted, evaporated, dissociated and decomposed to expose the conductor layer.
【0015】上記のような条件で、導体層の上のソルダ
レジスト層に穴をあける場合、導体層の範囲外に穴を開
ける場合には、導体層の範囲外については上記の条件が
適用できないので、穴は導体層の範囲内にあることが望
ましい。なお、レーザビームの照射条件を適当に選択す
れば、レーザビームを照射して絶縁層の上のソルダレジ
スト層のみを溶融・蒸発・解離・分解させて穴をあける
こともできる。この場合、光吸収波長の異なるソルダレ
ジスト層と絶縁層を選択し、ソルダレジスト層により吸
収され易いレーザビームを使用する。Under the above conditions, when a hole is formed in the solder resist layer above the conductor layer, when a hole is formed outside the range of the conductor layer, the above conditions cannot be applied outside the range of the conductor layer. Therefore, it is desirable that the hole be within the range of the conductor layer. If the irradiation conditions of the laser beam are appropriately selected, it is possible to make a hole by irradiating the laser beam to melt, evaporate, dissociate, and decompose only the solder resist layer on the insulating layer. In this case, a solder resist layer and an insulating layer having different light absorption wavelengths are selected, and a laser beam that is easily absorbed by the solder resist layer is used.
【0016】また、ソルダレジスト層を溶融・蒸発・解
離・分解させて形成した穴は、エッジがテーパ状で、電
子部品のはんだ付けした時の状態が良好である。なお、
プリント配線板は、片面基板、両面基板、多層基板など
各種あるが、いずれも表面にはソルダレジスト層を形成
するので、本発明はどのような構造のプリント配線板に
も適用可能である。また、プリント配線板のベースとな
る基板は、フレキシブル基板、リジッド基板などどのよ
うなものでもよい。更に、ソルダレジスト層を形成する
前の状態までプリント配線板を形成するのは、サブトラ
クティブ法、アディティブ法、セミアディティブ法など
どのような方法で製作されてもよい。The hole formed by melting, evaporating, dissociating and decomposing the solder resist layer has a tapered edge, and has a good condition when the electronic component is soldered. In addition,
There are various types of printed wiring boards such as a single-sided board, a double-sided board, and a multi-layer board. However, since a solder resist layer is formed on the surface, the present invention can be applied to a printed wiring board having any structure. Further, the substrate serving as the base of the printed wiring board may be any substrate such as a flexible substrate and a rigid substrate. Further, the printed wiring board may be formed up to a state before the formation of the solder resist layer by any method such as a subtractive method, an additive method, and a semi-additive method.
【0017】更に、プリント配線板を構成する絶縁層の
材料もどのようなものでもよいが、例えば、エポキシ樹
脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、フェノール樹
脂、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンオキ
シド樹脂、ビスマレイミド樹脂、トリアジン樹脂などの
少なくとも一種類を主成分とすることが望ましい。更
に、ガラス、アラミド、紙、多孔質ポリテトラフルオロ
エチレン、クォーツなどの織布、不織布などに樹脂類を
含浸させた絶縁樹脂を使用してもよく、樹脂ビーズ、ア
ルミナ粉、酸化チタン粉、炭酸カルシウム粉などの有機
・無機の充填材が充填されていてもよい。Further, the material of the insulating layer constituting the printed wiring board may be any material. For example, epoxy resin, polyimide resin, polyester resin, phenol resin, polyphenylene ether resin, polyphenylene oxide resin, bismaleimide resin, It is desirable that at least one kind such as a triazine resin be a main component. Further, an insulating resin obtained by impregnating a resin into glass, aramid, paper, porous polytetrafluoroethylene, quartz, or other woven fabric or nonwoven fabric may be used. Resin beads, alumina powder, titanium oxide powder, carbon dioxide Organic or inorganic fillers such as calcium powder may be filled.
【0018】更に、プリント配線板を構成する導体層の
材料もどのようなものでもよいが、例えば、銅、ステン
レス、ニクロム、タングステン、アルミニウムなどの金
属箔又は導電ペーストを使用することが好ましく、電解
銅を使用すれば更に好ましい。更に、上にソルダレジス
ト層の穴を形成する導体の部分は導体パッドと呼ばれる
が、この形状は、円形、四角形、矩形、多角形、変形形
状、ティアドロップ形などどのような形状でもよく、ソ
ルダレジスト層の穴も同様にどのような形状でもよく、
その形状は搭載する電子部品の電極の形状により決定さ
れる。Further, any material may be used for the conductor layer constituting the printed wiring board. For example, it is preferable to use a metal foil such as copper, stainless steel, nichrome, tungsten and aluminum or a conductive paste. It is more preferable to use copper. Furthermore, the portion of the conductor on which the hole of the solder resist layer is formed is called a conductor pad, and this shape may be any shape such as a circle, a square, a rectangle, a polygon, a deformed shape, and a teardrop shape. The holes in the resist layer may be of any shape,
Its shape is determined by the shape of the electrodes of the mounted electronic component.
【0019】レーザビームを出力するレーザ照射装置の
光源としては、20μm〜0.01μmの波長のレーザ
が例示できる。好ましくは、2μm〜0.1μmの波長
のレーザである。更に好ましくは、ソルダレジスト層の
材料を解離、分解して熱損傷が少なく、炭化現象がない
ためにデスミア処理が不要な0.4μm〜0.1μmの
レーザである。光源の選択に際しては、使用するソルダ
レジスト層の材料、更には導体層、絶縁層の材料などを
考慮して決定する。As a light source of a laser irradiation device for outputting a laser beam, a laser having a wavelength of 20 μm to 0.01 μm can be exemplified. Preferably, the laser has a wavelength of 2 μm to 0.1 μm. More preferably, it is a laser of 0.4 μm to 0.1 μm which dissociates and decomposes the material of the solder resist layer, causes less heat damage, and does not require desmear treatment because of no carbonization phenomenon. When selecting the light source, the light source is determined in consideration of the material of the solder resist layer to be used, and also the material of the conductor layer and the insulating layer.
【0020】ソルダレジスト層の材料は自然硬化型、熱
硬化型、光硬化型などの各種樹脂が使用可能であり、後
述する実施例では、太陽インキ製造(株)製のアルカリ
現像形ソルダレジスト「PSR−4000 AUS5」
(商品名)を使用したが、他にもエポキシ系、ポリエス
テル系、フェノール系、アクリル系、シリコン系、ポリ
ウレタン系などのソルダレジスト材料が使用できる。As the material of the solder resist layer, various resins such as a natural curing type, a thermosetting type, and a light curing type can be used. In Examples described later, an alkali development type solder resist manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd. PSR-4000 AUS5 "
Although (trade name) was used, other solder resist materials such as epoxy, polyester, phenol, acryl, silicon, and polyurethane can be used.
【0021】また、ソルダレジスト材料層の形成は、塗
布(コーティング)塗装、浸漬(ディップ)、印刷など
どのような方法を使用してもよく、フィルム状のものを
貼り付けてもよい。また、ソルダレジスト層の厚さも特
に限定されないが、ドライの厚みで1〜100μm、よ
り好ましくは1〜50μmである。The solder resist material layer may be formed by any method such as coating (coating), dipping (dipping), and printing, or a film-like material may be attached. Also, the thickness of the solder resist layer is not particularly limited, but is 1 to 100 μm, more preferably 1 to 50 μm in dry thickness.
【0022】[0022]
【発明の実施の形態】図2は、本発明の第1実施例のプ
リント配線板の製造方法を示す図である。ここでは、両
面基板を例とした製造方法を説明するが、どのようなプ
リント配線板でも同じである。まず、厚さ18μmの電
解銅箔32が両面に貼られたガラスエポキシ樹脂板31
の両面プリント基板30にNCドリルにてφ0.25m
mの貫通孔34を形成し、無電解銅メッキにより電解銅
箔の表面及び貫通孔34の内壁面に両面の電解銅箔を接
続するスルーホール33を形成する。従って、表面の電
解銅箔32はメッキの分だけ厚くなる。次に、感光性の
ドライフィルム貼り付け、フォトマスクを用いて紫外線
(UV)露光した後、現像・電解銅箔のエッチング、及
びドライフィルムの剥離を行って、回路パターンを形成
する。この状態が図2の(1)である。FIG. 2 is a diagram showing a method of manufacturing a printed wiring board according to a first embodiment of the present invention. Here, a manufacturing method using a double-sided board as an example will be described, but the same applies to any printed wiring board. First, a glass epoxy resin plate 31 having an electrolytic copper foil 32 having a thickness of 18 μm stuck on both sides.
0.25m with NC drill on the double-sided printed circuit board 30
Then, a through hole 34 is formed on the surface of the electrolytic copper foil and on the inner wall surface of the through hole 34 by electroless copper plating. Therefore, the electrolytic copper foil 32 on the surface becomes thicker by the amount of plating. Next, after a photosensitive dry film is attached and exposed to ultraviolet (UV) light using a photomask, development, etching of the electrolytic copper foil, and peeling of the dry film are performed to form a circuit pattern. This state is (1) in FIG.
【0023】次に、プリント配線板30の全面に太陽イ
ンキ製造(株)製のアルカリ現像形ソルダレジスト「P
SR−4000 AUS5」(商品名)を30μmの厚
さにほぼ全面スクリーン印刷し、80℃で20分間予備
乾燥し、更に150℃で60分間熱硬化し、1000m
J/cm2 の露光量でポストUV露光する。この状態が
図2の(2)である。Next, an alkaline development type solder resist “P” manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd.
"SR-4000 AUS5" (trade name) was screen-printed almost entirely to a thickness of 30 μm, preliminarily dried at 80 ° C. for 20 minutes, and thermally cured at 150 ° C. for 60 minutes, and then 1000 m
Post-UV exposure with an exposure of J / cm 2 . This state is (2) in FIG.
【0024】次に、プリント配線板30を、炭酸ガスレ
ーザ装置の加工テーブルに位置決めしてセットする。炭
酸ガスレーザ装置は、図3に示すように、精密に移動可
能なステージ42にプリント配線板30を載置し、一方
向に移動させる。レーザ照射装置30は、レーザビーム
をプリント配線板30のソルダレジスト層上に収束しな
がら走査する。レーザビームはオン・オフ制御され、ソ
ルダレジスト層の穴を開ける部分にレーザビームを照射
する。一般に、レーザ照射装置41は一方向の走査を高
速に繰り返し、プリント配線板30を載置したステージ
42が走査方向に垂直な方向に移動することにより基板
全面が走査されるようになっている。照射パターンに従
ってレーザビームの走査位置に応じてレーザビームをオ
ン・オフすることにより、所望のパターンに照射するこ
とができる。照射制御部43は、炭酸ガスレーザ装置の
照射を制御する部分で、CADシステムなどで作成され
照射データ記憶手段45に記憶された照射パターンデー
タを読み出し、ステージ制御部44を介してステージ4
2の移動を制御しながらレーザ照射装置41の走査に同
期してレーザビームをオン・オフ制御する。この実施例
で使用する炭酸ガスレーザ装置は、パルス幅50μs、
周波数300Hz、ビーム径120μmである。Next, the printed wiring board 30 is positioned and set on a processing table of a carbon dioxide laser device. As shown in FIG. 3, the carbon dioxide laser device places the printed wiring board 30 on a precisely movable stage 42 and moves it in one direction. The laser irradiation device 30 scans the laser beam while converging it on the solder resist layer of the printed wiring board 30. The on / off control of the laser beam is performed, and the portion of the solder resist layer where a hole is to be formed is irradiated with the laser beam. Generally, the laser irradiation device 41 repeatedly scans in one direction at a high speed, and the entire surface of the substrate is scanned by moving the stage 42 on which the printed wiring board 30 is mounted in a direction perpendicular to the scanning direction. By turning on / off the laser beam according to the scanning position of the laser beam according to the irradiation pattern, it is possible to irradiate a desired pattern. The irradiation control unit 43 controls the irradiation of the carbon dioxide laser device. The irradiation control unit 43 reads out the irradiation pattern data created by the CAD system or the like and stored in the irradiation data storage unit 45, and outputs the stage 4 data through the stage control unit 44.
The laser beam is turned on and off in synchronization with the scanning of the laser irradiation device 41 while controlling the movement of the laser beam. The carbon dioxide laser device used in this embodiment has a pulse width of 50 μs,
The frequency is 300 Hz and the beam diameter is 120 μm.
【0025】図2の(3)に示すように、図3の炭酸ガ
スレーザ装置を使用して、ソルダレジスト層の穴を開け
る部分にレーザビーム37を照射する。レーザビームが
照射されたソルダレジスト層の部分は、溶融して蒸発
し、穴36が形成される。ここでは、IC搭載用に0.
30×0.15mmの長方形の穴を、はんだバンプ用に
直径0.12mmの円形の穴を形成した。穴を形成した
状態で炭化物が残るので、デスミア処理をして表面を清
浄にする。As shown in FIG. 2C, a portion of the solder resist layer where a hole is to be formed is irradiated with a laser beam 37 using the carbon dioxide laser device of FIG. The portion of the solder resist layer irradiated with the laser beam is melted and evaporated to form a hole 36. Here, 0.
A rectangular hole of 30 × 0.15 mm and a circular hole of 0.12 mm in diameter for a solder bump were formed. Since the carbide remains in the state where the holes are formed, desmear treatment is performed to clean the surface.
【0026】次に、残存したソルダレジストの上に搭載
する電子部品の記号などをシルク印刷してプリント配線
板が完成する。以上説明した第1実施例のプリント配線
板の製造方法は、ソルダレジスト層の穴(パッド)が直
接描画できるため、製造工程が簡略となり、しかもレー
ザビームを正確に照射するため、微細で位置精度がよ
い。また、ソルダレジスト層のパッドは、上方部がやや
開いたテーパ状であり、はんだの乗り状態及び切れ状態
が良好であり、電子部品を搭載する時のトラブルが低減
される。Next, the symbols of the electronic components to be mounted on the remaining solder resist are printed by silk to complete the printed wiring board. In the method of manufacturing a printed wiring board according to the first embodiment described above, since the holes (pads) of the solder resist layer can be directly drawn, the manufacturing process is simplified, and the laser beam is accurately irradiated. Is good. Further, the pads of the solder resist layer have a tapered shape in which the upper portion is slightly open, so that the solder can easily be put on and cut off, and troubles when mounting electronic components can be reduced.
【0027】ここで、レーザビームの照射部分における
溶融・蒸発作用について、図4を参照しながら考察す
る。図4の(1)に示すように、基板31の上に金属導
体層32が形成され、その上に基板31の全面に渡って
ソルダレジスト材料層35が形成されているとする。ソ
ルダレジスト材料層35は、乾燥・自然硬化・熱硬化・
光硬化などで硬化している。金属導体層32の上にレー
ザビーム37を照射して穴36を形成する。照射された
レーザビーム37はソルダレジスト材料層35で吸収さ
れ、一部が金属導体層32に達して吸収されると共に反
射される。レーザビーム37を吸収したソルダレジスト
材料層35と金属導体層32は温度が急激に上昇する。
ソルダレジスト材料層35は上層にあるのでレーザビー
ム37をより吸収する上、金属導体層32に比べて熱伝
導率が低く、周囲に熱が拡散しない。更に、金属導体層
32の熱は金属導体層を伝わって他の部分に拡散する。
従って、ソルダレジスト材料層35は金属導体層32よ
り高温になる。更に、ソルダレジスト材料層35は金属
導体層32に比べて溶融温度が低いので、ソルダレジス
ト材料層35は溶融して蒸発するが、金属導体層32は
そのままの状態である。Here, the melting and evaporating action at the laser beam irradiation part will be discussed with reference to FIG. As shown in FIG. 4A, it is assumed that a metal conductor layer 32 is formed on a substrate 31, and a solder resist material layer 35 is formed over the entire surface of the substrate 31. The solder resist material layer 35 is formed by drying, natural curing, heat curing,
It is cured by light curing. A hole 36 is formed by irradiating the laser beam 37 on the metal conductor layer 32. The irradiated laser beam 37 is absorbed by the solder resist material layer 35 and a part reaches the metal conductor layer 32 and is absorbed and reflected. The temperatures of the solder resist material layer 35 and the metal conductor layer 32 that have absorbed the laser beam 37 rise sharply.
Since the solder resist material layer 35 is on the upper layer, it absorbs the laser beam 37 more, has a lower thermal conductivity than the metal conductor layer 32, and does not diffuse heat to the surroundings. Further, the heat of the metal conductor layer 32 propagates through the metal conductor layer and diffuses to other portions.
Therefore, the temperature of the solder resist material layer 35 becomes higher than that of the metal conductor layer 32. Further, since the melting temperature of the solder resist material layer 35 is lower than that of the metal conductor layer 32, the solder resist material layer 35 melts and evaporates, but the metal conductor layer 32 remains as it is.
【0028】第1実施例ではレーザ光源として炭酸ガス
レーザを使用したが、第2実施例では紫外線(UV)レ
ーザを使用する。第1実施例と異なるのは、使用するソ
ルダレジストが〔太陽インキ製造(株)製の熱硬化型S
−22〕であり、それを30μm、140℃20分の硬
化で形成した後、355nmの波長の紫外線レーザを照
射してパターンを形成する点である。UVレーザを使用
した場合、デスミア処理が不要である。In the first embodiment, a carbon dioxide laser is used as a laser light source. In the second embodiment, an ultraviolet (UV) laser is used. The difference from the first embodiment is that the solder resist used is a thermosetting type S manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd.
-22], which is formed by curing at 30 ° C. for 20 minutes at 140 ° C., and then irradiating an ultraviolet laser having a wavelength of 355 nm to form a pattern. When a UV laser is used, desmearing is not required.
【0029】[0029]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
高分解能と精密な位置合わせ精度が要求される高密度基
板のソルダレジスト層を、低コストで且つ短いリードタ
イムで製造できるようになる。As described above, according to the present invention,
A solder resist layer on a high-density substrate that requires high resolution and precise alignment accuracy can be manufactured at low cost and with a short lead time.
【図1】従来のビルドアップ法によるプリント配線板の
構造を説明する図である。FIG. 1 is a diagram illustrating a structure of a printed wiring board according to a conventional build-up method.
【図2】本発明の第1実施例のプリント配線板の製造工
程を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating a manufacturing process of the printed wiring board according to the first embodiment of the present invention.
【図3】第1実施例で使用する炭酸ガスレーザ装置のブ
ロック構成図である。FIG. 3 is a block diagram of a carbon dioxide laser device used in the first embodiment.
【図4】導体層の上のソルダレジスト層に穴を形成する
場合の露光作用を説明する図である。FIG. 4 is a view for explaining an exposure action when a hole is formed in a solder resist layer on a conductor layer.
30…プリント配線板 31…基板(絶縁性ベース、コア) 32…導体層 33…スルーホール導体層 34…スルーホール 35…ソルダレジスト層 36…穴(パッド) 41…レーザ照射装置 42…ステージ Reference Signs List 30 printed wiring board 31 substrate (insulating base, core) 32 conductor layer 33 through-hole conductor layer 34 through hole 35 solder resist layer 36 hole (pad) 41 laser irradiation device 42 stage
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上前 昌己 福島県須賀川市大字岩淵字笠木176−120 ────────────────────────────────────────────────── ─── Continued on the front page (72) Inventor Masami Uema 176-120, Kasagi, Iwabuchi, Ogawa, Sukagawa-shi, Fukushima
Claims (3)
えるプリント配線板の製造方法であって、 当該プリント配線板上に、ソルダレジスト層の材料層を
形成する工程と、 前記ソルダレジスト層のパターンに従ってレーザビーム
を前記ソルダレジスト材料層に照射する工程とを備える
ことを特徴とするプリント配線板の製造方法。1. A method for manufacturing a printed wiring board comprising at least an insulating base and a conductive layer, comprising: forming a material layer of a solder resist layer on the printed wiring board; Irradiating the solder resist material layer with a laser beam according to the following.
方法であって、 前記ソルダレジスト層の材料層を硬化させた後、前記レ
ーザビームの照射された部分の前記ソルダレジスト層の
材料層は、溶融・蒸発・解離、または/及び分解するプ
リント配線板の製造方法。2. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the material layer of the solder resist layer is cured, and then the material layer of the solder resist layer is irradiated with the laser beam. Is a method for manufacturing a printed wiring board that melts, evaporates, dissociates, and / or decomposes.
の製造方法であって、 前記ソルダレジスト層のパターンは、前記導体層上の穴
であり、該穴は前記導体層の範囲内にあるプリント配線
板の製造方法。3. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the pattern of the solder resist layer is a hole on the conductor layer, and the hole is located within a range of the conductor layer. A method of manufacturing a printed wiring board.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10074452A JPH11274698A (en) | 1998-03-23 | 1998-03-23 | Manufacturing method of printed wiring board |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10074452A JPH11274698A (en) | 1998-03-23 | 1998-03-23 | Manufacturing method of printed wiring board |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11274698A true JPH11274698A (en) | 1999-10-08 |
Family
ID=13547656
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10074452A Pending JPH11274698A (en) | 1998-03-23 | 1998-03-23 | Manufacturing method of printed wiring board |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11274698A (en) |
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-
1998
- 1998-03-23 JP JP10074452A patent/JPH11274698A/en active Pending
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