JPH11274720A - 多層積層板の製造方法 - Google Patents

多層積層板の製造方法

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JPH11274720A
JPH11274720A JP8000698A JP8000698A JPH11274720A JP H11274720 A JPH11274720 A JP H11274720A JP 8000698 A JP8000698 A JP 8000698A JP 8000698 A JP8000698 A JP 8000698A JP H11274720 A JPH11274720 A JP H11274720A
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thickness
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insulating material
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Daizo Baba
大三 馬場
Manabu Mizutani
学 水谷
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Panasonic Electric Works Co Ltd
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Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ボイドの発生がなくて信頼性の高い多層積層
板を得ることができ、また絶縁層の絶縁特性などを自由
に設定することができる多層積層板の製造方法を提供す
る。 【解決手段】 表面に回路1を有する回路板2に絶縁材
料3を介して金属箔4を重ね合わせる。これを加熱加圧
して回路板2と金属箔4を一体に積層する多層積層板の
製造方法に関する。回路板2の表面の回路1と回路1の
間の直径10mm以上の円が入るような大きさの部分
に、回路1と略同等の厚みを有する厚み補助部5を設け
る。絶縁材料3から形成される絶縁層の厚みが略均一に
なって絶縁性能などの特性を略均一にすることができ
る。絶縁材料3が回路1と回路1の間あるいは回路1と
厚み補助部5の間の隅々まで行き渡る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、計算器や通信機な
どの電子電気機器に使用される多層プリント配線板を形
成するのに用いられる多層積層板の製造方法に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】従来より、多層積層板を形成するにあた
っては、内部や表面に回路を有する回路板の表面に絶縁
材料を介して金属箔を重ね合わせ、これを加熱加圧して
絶縁材料を硬化させると共に硬化した絶縁材料で回路板
と金属箔を一体に接着するようにしている。このように
形成される多層積層板は、回路板が内層回路板(コア
材)となって回路板の回路が内層回路になると共に硬化
した絶縁材料が絶縁層となり、この絶縁層を介して最外
層に金属箔を有するような構造となっており、最外層の
金属箔にエッチングなどの処理を施して外層回路を形成
したり、スルーホールやビアホール及びスルーホールめ
っきやバイアホールめっきを施したりすることによっ
て、多層積層板から多層プリント配線板が形成されるの
である。上記絶縁材料としては、プリプレグ(ガラス基
材入り絶縁シート)が用いられており、この場合、プリ
プレグを回路板に重ね合わせた後、プリプレグの表面に
金属箔を重ね合わせるようにして、回路板の表面に絶縁
材料を介して金属箔を重ね合わせるようにしている。
【0003】また最近では、ビルトアップ工法という多
層積層板の製造方法が提案されている。ビルドアップ工
法は図3(a)〜(d)のようにして行なわれる。まず
図3(a)のように、回路板2の表面に絶縁材料3を介
して金属箔を重ね合わせ、これを加熱加圧して絶縁材料
3の樹脂を硬化させると共に硬化した絶縁材料3で回路
板2と金属箔4を一体に接着する。この時、硬化した絶
縁材料3が絶縁層8となる。次に図3(b)に示すよう
に、金属箔4にエッチング等の回路形成処理を施して絶
縁層8の表面に回路9を形成する。次に図3(c)に示
すように、レーザ加工等により所定の箇所にビアホール
15を形成する。次に図3(d)に示すように、ビアホ
ール15の内面及び回路1、9の表面にめっき層16を
形成する。このようにしてビルドアップ工法により多層
積層板が製造されるのである。尚、図3(d)の後、さ
らに多層化したい場合は、図3(a)〜(d)の工程を
繰り返し行なうようにする。
【0004】図3(a)に示すように、回路板2の表面
に絶縁材料3を介して金属箔を重ね合わせる方法として
は、Bステージ状態にまで硬化させた樹脂フィルム(プ
リプレグのような基材のないフィルム)を回路板2の表
面に配置し、樹脂フィルムの表面に金属箔4を配置する
方法がある。また他の方法としては、金属箔4の片面に
樹脂ワニスを塗布し、樹脂ワニスを乾燥して樹脂をBス
テージ状態にまで硬化させることによって、金属箔に絶
縁材料3を設けた樹脂付き金属箔4を形成し、この樹脂
付き金属箔を回路板2の表面に重ね合わせるように配置
する方法がある。
【0005】しかし上記ビルドアップ工法による多層積
層板の製造方法では、回路板2の表面に回路1が存在す
る部分と回路1が存在していない部分とがあって、回路
板2の表面が凹凸で不均一であるために、回路板2に金
属箔4を一体化する際の加熱加圧において、回路1が存
在していない部分(凹の部分)に絶縁材料3が多く流れ
ることになって、この部分における絶縁層8の厚みが大
きくなると共に回路1が存在している部分(凸の部分)
の絶縁層8の厚みが小さくなり、従って、絶縁層8の厚
みが不均一になって絶縁性能などの特性が不均一にな
り、信頼性の高い多層積層板を形成することができない
という問題があった。また絶縁材料3の流れが不十分な
場合は、回路1が存在していない部分にかすれやボイド
が発生する恐れがあった。
【0006】そこで図4に示すように、二種類の絶縁材
料3a、3bを用いて多層積層板を製造することが行な
われている。この方法では、金属箔4の片面にCステー
ジ状態の絶縁材料3bを重ね合わせ、次にCステージ状
態の絶縁材料3bの表面にBステージ状態の絶縁材料3
aを重ね合わせて樹脂付き金属箔を形成し、次にBステ
ージ状態の絶縁材料3aを回路板2の表面に接触させて
樹脂付き金属箔を回路板2に重ね合わせ、この後、重ね
合わせたものを加熱加圧成形するようにしている。この
方法で形成された多層積層板は、Bステージ状態の絶縁
材料3aの硬化物とCステージ状態の絶縁材料3bの硬
化物とで絶縁層8が形成されている。またBステージ状
態の絶縁材料3aは上記加熱加圧成形により回路1と回
路1の間に一部が埋め込まれて厚みが変わるが、Cステ
ージ状態の絶縁材料3bは上記加熱加圧成形した後でも
厚みはほとんど変わらない。従って、この多層積層板
は、Cステージ状態の絶縁材料3bの硬化物で絶縁層8
の厚みを確保し、Bステージ状態の絶縁材料3aの硬化
物で回路板2の回路1への絶縁層8の埋め込み性(密着
性)を確保するように形成されており、Cステージ状態
の絶縁材料3bの硬化物で絶縁層8の厚みを確保するこ
とによって、図3(a)乃至(d)に示すものよりも絶
縁層8の厚みの不均一さを低減するようにしている。
【0007】しかし上記のように二種類の絶縁材料を用
いて多層積層板を製造する場合であっても、回路板2の
回路1と回路1の間に大きな回路不形成部分(回路が形
成されていない部分)10が存在すると、Bステージ状
態の絶縁材料3aが回路不形成部分10の隅々まで行き
渡りにくくなり、この結果、回路不形成部分10にボイ
ドが発生して多層積層板の信頼性が低くなるという問題
があった。しかもB、Cステージ状態の絶縁材料3aの
接着性や取扱性や成形性を最適にしようとすると、B、
Cステージ状態の絶縁材料3a、3bを形成するための
樹脂の種類がかなり制限されてしまい、絶縁層8の絶縁
特性などを自由に設定することが難しいという問題があ
った。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】そこで本発明は、ボイ
ドの発生がなくて信頼性の高い多層積層板を得ることが
でき、また絶縁層の絶縁特性などを自由に設定すること
ができる多層積層板の製造方法を提供することを目的と
するものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
の発明は、表面に回路1を有する回路板2に絶縁材料3
を介して金属箔4を重ね合わせ、これを加熱加圧して回
路板2と金属箔4を一体に積層する多層積層板の製造方
法であって、回路板2の表面の回路1と回路1の間の直
径10mm以上の円が入るような大きさの部分に、回路
1と略同等の厚みを有する厚み補助部5を設けて成るこ
とを特徴とするものである。
【0010】また本発明の請求項2に記載の発明は、請
求項1の構成に加えて、回路板2の表面の回路1と回路
1の間の直径10mm以上の円が入るような大きさの部
分に、回路1と導通されてない無導通回路7を形成し、
この無導通回路7を厚み補助部5として形成することを
特徴とするものである。また本発明の請求項3に記載の
発明は、請求項1又は2の構成に加えて、回路板2の表
面の回路1と回路1の間の直径10mm以上の円が入る
ような大きさの部分に、樹脂材料を塗布して硬化させて
厚み補助部5を形成することを特徴とするものである。
【0011】また本発明の請求項4に記載の発明は、請
求項3の構成に加えて、フィラーを含有させた樹脂材料
を用いることを特徴とするものである。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を説明
する。本発明で用いる回路板2は、例えば、両面銅張り
積層板の表面の金属箔(銅箔など)にエッチングなどの
回路形成処理を施して表面に回路1を形成すると共に回
路板2の表面において回路1と回路1の間(複数の回路
1で囲まれる部分)の回路不形成部10に厚み補助部5
を設けて形成されるものである。厚み補助部5は回路1
と略同等の厚みを有するものであり、図2に示すよう
に、直径10mm以上の円が入る大きさの回路不形成部
10の部分に厚み補助部5を形成するようにする。特
に、多層積層板に形成した後、打抜き等の加工により除
去される部分において、厚み補助部5を形成するのが好
ましく、このことで、厚み補助部5を多層積層板の加工
時に同時に除去することができ、加工性が向上するもの
である。また回路1の端部と厚み補助部5の端部の間の
寸法が10mm以下、より好ましくは5mm以下となる
ような大きさに厚み補助部5を形成するのが好ましい。
この回路1の端部と厚み補助部5の端部の間の寸法は小
さいほど好ましい。
【0013】尚、回路1と回路1の間は回路板2の種類
などによって異なるものであり、円の直径の上限は特に
設定されないが、通常、回路1と回路1の間は200m
m程度であるので、直径10〜200mmの円が入る大
きさの回路不形成部10の部分に厚み補助部5を形成す
る。もちろん直径200mm以上の円が入る大きさの回
路不形成部10の部分に厚み補助部5を形成してもよ
い。
【0014】厚み補助部5を形成するにあたっては、二
つの方法を採用することができる。その一つは、回路板
2の回路形成工程において、回路1と導通していない無
導通回路部7を金属箔の一部から形成し、このベタ面の
金属箔の無導通回路部7を厚み補助部5として形成する
ようにする。一般的に回路板2の回路1の形成は次のよ
うにして行なわれる。まず両面銅張り積層板の表面の金
属箔にドライフィルム(エッチングレジストフィルム)
を配置すると共にドライフィルムの表面に所望の回路パ
ターンを有するマスクを配置する。次に、露光によりマ
スクで覆われていない部分のドライフィルムを硬化させ
る。次にマスクを除去した後、ドライフィルムのマスク
で覆われていた未硬化の部分を現像により除去して金属
箔を露出させる。この後、金属箔の露出した部分にエッ
チング液を供給するなどしてエッチング処理を施し、不
要部分の金属箔を除去する。このようにしてドライフィ
ルムで覆われてエッチング処理されなかった部分の金属
箔が回路1として回路板2の表面に残存するのである。
【0015】そして本発明では、無導通回路部7として
形成したい部分の金属箔が残存するように、マスクの回
路パターンに無導通回路部パターンを追加して形成し、
このマスクを用いて回路1と無導通回路部7を形成する
ようにしている。そしてこのように回路1と無導通回路
部7を同時に形成するので、厚み補助部5を形成するた
めの工程を必要とせず、厚み補助部5を形成してもコス
トの上昇を抑えることができるものである。
【0016】厚み補助部5を形成する他の方法として
は、上記と同様にして両面銅張り積層板に回路形成処理
を施して回路板2を形成した後、回路不形成部10の部
分に樹脂材料を塗布して乾燥硬化させるようにするもの
である。樹脂材料としては、エッチングレジスト材やソ
ルダーレジスト材、封止剤、穴埋め用樹脂などとして用
いられているものを使用することができる。また樹脂材
料の塗布方法としては、シルクスクリーン印刷などの印
刷を採用するのが簡単であり好ましい。また樹脂材料に
はフィラーを含有させておくのが好ましく、このことで
厚み補助部5の熱膨張率を小さくすることができ、多層
積層板の回路1や厚み補助部5の存在しない部分と厚み
補助部5が形成された部分との加熱時の熱膨張(熱変
形)の差を小さくすることができるものである。フィラ
ーとしてはアルミナ、酸化チタン、二酸化ケイ素(Si
2 )、BN(窒化硼素)、水酸化アルミニウムなどを
用いることができる。また上記のように打抜き等で除去
される部分に厚み補助部5を形成する場合には、銅粉や
鉄粉やカーボン粉末などの導電性材料を用いることも可
能である。
【0017】そして上記のような回路板2を用いて多層
積層板を形成するにあたっては、次のようにして行な
う。まず図1(a)のように、回路板2の表面に絶縁材
料3を介して銅箔などの金属箔4を重ね合わせ、これを
加熱加圧して絶縁材料3の樹脂を硬化させると共に硬化
した絶縁材料3で回路板2と金属箔4を一体に接着す
る。この時、硬化した絶縁材料3が絶縁層8となる。ま
た回路板2の表面に絶縁材料3を介して金属箔4を重ね
合わせる方法としては、エポキシ樹脂などの樹脂を用い
て形成され、Bステージ状態にまで硬化させた樹脂フィ
ルム(プリプレグのような基材のないフィルム)を回路
板の表面に配置し、樹脂フィルムの表面に金属箔4を配
置する方法がある。
【0018】また他の方法としては、金属箔4の片面に
エポキシ樹脂などの樹脂を含む樹脂ワニスを塗布し、樹
脂ワニスを乾燥して樹脂をBステージ状態にまで硬化さ
せることによって、金属箔に絶縁材料を設けた樹脂付き
金属箔を形成し、この樹脂付き金属箔を回路板の表面に
重ね合わせるように配置する方法がある。また次に図1
(b)に示すように、金属箔4にエッチング等の回路形
成処理を施して絶縁層8の表面に回路9を形成する。次
に図1(c)に示すように、レーザ加工等により所定の
箇所にビアホール15を形成する。次に図1(d)に示
すように、ビアホール15の内面及び回路1、9の表面
にめっき層16を形成する。このようにしてビルドアッ
プ工法により多層積層板が製造されるのである。尚、図
1(d)の後、さらに多層化したい場合は、図1(a)
〜(d)の工程を繰り返し行なうようにする。
【0019】そして本発明では、回路板2の表面の回路
1と回路1の間の直径10mm以上の円が入る回路不形
成部分10に、回路1と略同等の厚みを有する厚み補助
部5を設けたので、回路板2に金属箔4を一体化する際
の加熱加圧において、厚み補助部5の存在によって回路
1が存在していない部分に絶縁材料3が多く流れないよ
うにすることができ、このために、絶縁材料3から形成
される絶縁層8の厚みが略均一になって絶縁性能などの
特性を略均一にすることができて、信頼性の高い多層積
層板を形成することができるものである。また厚み補助
部5を設けることによって、回路板2の回路1と回路1
の間に大きな空間(隙間)が存在しないようにすること
ができ、絶縁材料3が回路1と回路1の間あるいは回路
1と厚み補助部5の間の隅々まで行き渡ることになって
ボイドの発生がないようにすることができて、信頼性の
高い多層積層板を形成することができるものである。さ
らに絶縁材料3は任意のものを使用することができ、絶
縁材料3として各種のものを適宜選択して用いることに
よって、絶縁層8の絶縁特性などを自由に設計して設定
することができるものである。
【0020】
【実施例】以下、本発明を実施例によって詳述する。 (実施例1)回路板2としては、厚みが20μmの銅箔
の回路1を有するもので、回路1と回路1の間の回路不
形成部10の大きさが50×50mmに形成されたもの
を用いた。この回路板2の回路不形成部10にレジスト
インキ(太洋インキ製造(株)のPSR−4000)を
45×45mmの大きさに印刷して塗布し、これを乾燥
させることによって、回路1と略同じ厚みを有する厚み
補助部5を形成した。次にこの回路板2に樹脂付き銅箔
を重ね合わせ、170℃で1〜1.5時間、30kg/
cm2 の圧力で加熱加圧し、真空成形により試験用の多
層積層板を形成した。樹脂付き銅箔としては樹脂(絶縁
材料3)の厚みが60μm、銅箔(金属箔4)の厚みが
18μmのものを用い、この樹脂としてはエポキシ樹脂
を用いた。
【0021】(実施例2)回路板2としては、厚みが2
0μmの銅箔の回路1を有するもので、回路1と回路1
の間の回路不形成部10の大きさが50×50mmに形
成されたものを用いた。この回路板2の回路不形成部1
0には回路1の形成時と同時に形成された銅箔の厚み補
助部5(無導通回路部7)が設けられており、この厚み
補助部5は40×40mmの大きさに形成されている。
このような回路板2を用いて上記実施例1と同様にして
多層積層板を形成した。
【0022】(実施例3)回路板2としては、厚みが3
5μmの銅箔の回路1を有するもので、回路1と回路1
の間の回路不形成部10の大きさが50×50mmに形
成されたものを用いた。この回路板2の回路不形成部1
0に埋め込み用樹脂(山栄化学(株)製のPHP−90
0、エポキシ樹脂と無機フィラーを含有している)を4
5×45mmの大きさに印刷して塗布し、これを乾燥さ
せることによって、回路1と略同じ厚みを有する厚み補
助部5を形成した。このような回路板2を用いて上記実
施例1と同様にして多層積層板を形成した。
【0023】(比較例)回路板2としては、厚みが35
μmの銅箔の回路1を有するもので、回路1と回路1の
間の回路不形成部10の大きさが40×40mmに形成
されたものを用いた。このような回路板2を用いて上記
実施例1と同様にして多層積層板を形成した。
【0024】上記のように作製される実施例1乃至3及
び比較例について、マイクロメータにより複数箇所の厚
みを測定し、その平均値、最大値、最小値を求めた。ま
た実施例1乃至3及び比較例について、ボイドの発生の
有無を観察した。尚、外観上、かすれや白化や膨れが発
生しているものにボイドが発生していると認定した。結
果を表1に示す。
【0025】
【表1】
【0026】表1から判るように、実施例1乃至3では
厚みのばらつきが少なく、またボイドの発生も無かった
が、比較例では厚みの最大値と最小値の間に大きな差が
でき、またボイドも発生した。
【0027】
【発明の効果】上記のように本発明の請求項1に記載の
発明は、表面に回路を有する回路板に絶縁材料を介して
金属箔を重ね合わせ、これを加熱加圧して回路板と金属
箔を一体に積層する多層積層板の製造方法であって、回
路板の表面の回路と回路の間の直径10mm以上の円が
入るような大きさの部分に、回路と略同等の厚みを有す
る厚み補助部を設けたので、回路板に金属箔を一体化す
る際の加熱加圧において、厚み補助部の存在によって回
路が存在していない部分に絶縁材料が多く流れないよう
にすることができ、絶縁材料から形成される絶縁層の厚
みが略均一になって絶縁性能などの特性を略均一にする
ことができて、信頼性の高い多層積層板を形成すること
ができるものである。また厚み補助部を設けることによ
って、回路板の回路と回路の間に大きな空間が存在しな
いようにすることができ、絶縁材料が回路と回路の間あ
るいは回路と厚み補助部の間の隅々まで行き渡ることに
なってボイドの発生がないようにすることができて、信
頼性の高い多層積層板を形成することができるものであ
る。さらに絶縁材料は任意のものを使用することがで
き、絶縁材料として各種のものを適宜選択して用いるこ
とによって、絶縁特性などを自由に設定することができ
るものである。従って、この方法で形成される多層積層
板は、特性インピーダンスの安定性が必要な性能の高い
多層プリント配線板を製造するのに好適に用いることが
できるものである。
【0028】また本発明の請求項2に記載の発明は、回
路板の表面の回路と回路の間の直径10mm以上の円が
入るような大きさの部分に、回路と導通されてない無導
通回路部を形成し、この無導通回路部を厚み補助部とし
て形成したので、回路と無導通回路部を同時に形成する
ことができ、厚み補助部を形成するための工程を必要と
せず、厚み補助部を形成してもコストの上昇を抑えるこ
とができるものである。
【0029】また本発明の請求項3に記載の発明は、回
路板の表面の回路と回路の間の直径10mm以上の円が
入るような大きさの部分に、樹脂材料を塗布して硬化さ
せて厚み補助部を形成したので、厚み補助部を簡単に形
成することができるものである。また本発明の請求項4
に記載の発明は、フィラーを含有させた樹脂材料を用い
たので、厚み補助部の熱膨張率を小さくすることがで
き、回路や厚み補助部の存在しない部分と厚み補助部が
形成された部分との加熱時の熱膨張の差を小さくするこ
とができ、耐熱性の高い多層積層板を形成することがで
きるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態の一例を示し、(a)乃至
(d)は断面図である。
【図2】同上の回路板を示す平面図である。
【図3】従来例を示し、(a)乃至(d)は断面図であ
る。
【図4】他の従来例を示す断面図である。
【符号の説明】
1 回路 2 回路板 3 絶縁材料 4 金属箔 5 厚み補助部

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面に回路を有する回路板に絶縁材料を
    介して金属箔を重ね合わせ、これを加熱加圧して回路板
    と金属箔を一体に積層する多層積層板の製造方法であっ
    て、回路板の表面の回路と回路の間の直径10mm以上
    の円が入るような大きさの部分に、回路と略同等の厚み
    を有する厚み補助部を設けて成ることを特徴とする多層
    積層板の製造方法。
  2. 【請求項2】 回路板の表面の回路と回路の間の直径1
    0mm以上の円が入るような大きさの部分に、回路と導
    通されてない無導通回路部を形成し、この無導通回路部
    を厚み補助部として形成することを特徴とする請求項1
    に記載の多層積層板の製造方法。
  3. 【請求項3】 回路板の表面の回路と回路の間の直径1
    0mm以上の円が入るような大きさの部分に、樹脂材料
    を塗布して硬化させて厚み補助部を形成することを特徴
    とする請求項1又は2に記載の多層積層板の製造方法。
  4. 【請求項4】 フィラーを含有させた樹脂材料を用いる
    ことを特徴とする請求項3に記載の多層積層板の製造方
    法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2001308530A (ja) * 2000-04-24 2001-11-02 Ibiden Co Ltd 積層配線板およびその製造方法
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