JPH11150366A - 逐次多層配線板の製造方法 - Google Patents
逐次多層配線板の製造方法Info
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- JPH11150366A JPH11150366A JP31736497A JP31736497A JPH11150366A JP H11150366 A JPH11150366 A JP H11150366A JP 31736497 A JP31736497 A JP 31736497A JP 31736497 A JP31736497 A JP 31736497A JP H11150366 A JPH11150366 A JP H11150366A
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Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 板厚精度及び回路埋め込み性に優れた信頼性
の高い逐次多層配線板の製造方法を提供する。 【解決手段】 逐次多層配線板を積層成形するに際し、
樹脂付き金属箔あるいは樹脂シートの樹脂の最低溶融粘
度を500ポイズ以上100000ポイズ以下の範囲に
規定する。これにより樹脂の流れ性を改善して上記の課
題を解決することが可能となり、ひいては高速ディジタ
ル回路及び高周波アナログ回路を提供できる。
の高い逐次多層配線板の製造方法を提供する。 【解決手段】 逐次多層配線板を積層成形するに際し、
樹脂付き金属箔あるいは樹脂シートの樹脂の最低溶融粘
度を500ポイズ以上100000ポイズ以下の範囲に
規定する。これにより樹脂の流れ性を改善して上記の課
題を解決することが可能となり、ひいては高速ディジタ
ル回路及び高周波アナログ回路を提供できる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、複数の金属箔を熱
硬化性樹脂を介して逐次に積層し接着しつつ多層に成形
する逐次多層配線板の製造方法に関する。更に詳しく
は、成形時の樹脂付き金属箔または樹脂シートの樹脂の
最低溶融粘度を所定の範囲に規定することにより、板厚
精度及び回路埋め込み性に優れた逐次多層配線板を得る
逐次多層配線板の製造方法に関するものである。
硬化性樹脂を介して逐次に積層し接着しつつ多層に成形
する逐次多層配線板の製造方法に関する。更に詳しく
は、成形時の樹脂付き金属箔または樹脂シートの樹脂の
最低溶融粘度を所定の範囲に規定することにより、板厚
精度及び回路埋め込み性に優れた逐次多層配線板を得る
逐次多層配線板の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、通信用、民生用、産業用等の電子
機器の分野における実装方法の小型化、高密度化への指
向は著しいものがあり、それに伴って電気用配線板産業
の分野でも高密度な配線を形成しうる積層ビルドアップ
工法の確立が急務とされている。そのため、この積層ビ
ルドアップ工法に用いる材料として、より優れた耐熱性
及び高周波領域での電気特性を有する樹脂付き基材乃至
樹脂シートの開発が行われている。
機器の分野における実装方法の小型化、高密度化への指
向は著しいものがあり、それに伴って電気用配線板産業
の分野でも高密度な配線を形成しうる積層ビルドアップ
工法の確立が急務とされている。そのため、この積層ビ
ルドアップ工法に用いる材料として、より優れた耐熱性
及び高周波領域での電気特性を有する樹脂付き基材乃至
樹脂シートの開発が行われている。
【0003】樹脂付き基材は金属箔の片面に熱硬化性の
樹脂膜を有するもので、従来は例えばエポキシ樹脂付銅
箔がある。この樹脂付き基材に用いられるエポキシ樹脂
は銅張積層板製造用のものであり、一般に溶融粘度が低
く樹脂フローが非常に大きい。また、積層時に金属箔の
片面に当てて一体に加熱加圧される樹脂シートに用いる
熱硬化性の樹脂の場合も、製造条件のコントロール等が
難しかった。
樹脂膜を有するもので、従来は例えばエポキシ樹脂付銅
箔がある。この樹脂付き基材に用いられるエポキシ樹脂
は銅張積層板製造用のものであり、一般に溶融粘度が低
く樹脂フローが非常に大きい。また、積層時に金属箔の
片面に当てて一体に加熱加圧される樹脂シートに用いる
熱硬化性の樹脂の場合も、製造条件のコントロール等が
難しかった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】このように溶融粘度が
低くフローが非常に大きいエポキシ樹脂のような熱硬化
性樹脂を多層配線板の製造に用いると、特にその熱硬化
性樹脂を介して複数枚の金属箔を繰り返し接着しつつ多
層に積層していく逐次多層配線板の製造方法いわゆる高
次積層ビルドアップ工法においては、電気絶縁体として
機能する熱硬化性樹脂の膜厚を配線板内のどこでも一定
として、配線の特性インピーダンスを一定範囲内に収め
るということは難しいという問題点があった。
低くフローが非常に大きいエポキシ樹脂のような熱硬化
性樹脂を多層配線板の製造に用いると、特にその熱硬化
性樹脂を介して複数枚の金属箔を繰り返し接着しつつ多
層に積層していく逐次多層配線板の製造方法いわゆる高
次積層ビルドアップ工法においては、電気絶縁体として
機能する熱硬化性樹脂の膜厚を配線板内のどこでも一定
として、配線の特性インピーダンスを一定範囲内に収め
るということは難しいという問題点があった。
【0005】そこで本発明は、このような従来技術の問
題点に着目してなされたものであり、その目的とすると
ころは、使用する熱硬化性樹脂の成形性を改善して板厚
精度及び回路埋め込み性に優れた信頼性の高い逐次多層
配線板の製造方法を提供することにある。
題点に着目してなされたものであり、その目的とすると
ころは、使用する熱硬化性樹脂の成形性を改善して板厚
精度及び回路埋め込み性に優れた信頼性の高い逐次多層
配線板の製造方法を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上述のよ
うな課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、逐次多
層配線板を積層成形するに際し、樹脂付き金属箔または
樹脂シートに用いる熱硬化性樹脂の最低溶融粘度をある
範囲に規定することにより、本発明の目的に沿った逐次
多層配線板が得られることを見出し本発明を完成するに
至った。
うな課題を解決するため鋭意検討を重ねた結果、逐次多
層配線板を積層成形するに際し、樹脂付き金属箔または
樹脂シートに用いる熱硬化性樹脂の最低溶融粘度をある
範囲に規定することにより、本発明の目的に沿った逐次
多層配線板が得られることを見出し本発明を完成するに
至った。
【0007】すなわち、本発明の請求項1に係る逐次多
層配線板の製造方法は、プレス熱板間に、内層材と熱硬
化性樹脂付き金属箔または熱硬化性樹脂シート及び金属
箔からなる積層体とを重ねて成形するに際し、前記熱硬
化性樹脂の最低溶融粘度を500ポイズ以上10000
0ポイズ以下の範囲とすることを特徴とするものであ
る。
層配線板の製造方法は、プレス熱板間に、内層材と熱硬
化性樹脂付き金属箔または熱硬化性樹脂シート及び金属
箔からなる積層体とを重ねて成形するに際し、前記熱硬
化性樹脂の最低溶融粘度を500ポイズ以上10000
0ポイズ以下の範囲とすることを特徴とするものであ
る。
【0008】また、本発明の請求項2に係る逐次多層配
線板の製造方法は、上記請求項1に係る発明である逐次
多層配線板の製造方法において、熱硬化性樹脂付き金属
箔または熱硬化性樹脂シートの樹脂が熱硬化性ポリフェ
ニレンエーテル系樹脂組成物であることを特徴とするも
のである。
線板の製造方法は、上記請求項1に係る発明である逐次
多層配線板の製造方法において、熱硬化性樹脂付き金属
箔または熱硬化性樹脂シートの樹脂が熱硬化性ポリフェ
ニレンエーテル系樹脂組成物であることを特徴とするも
のである。
【0009】
【発明の実施の形態】以下に、本発明の実施形態の詳細
を説明する。本発明の多層配線板の製造方法の基本は、
内層材(表面に回路が形成されたものでもよい)の表面
に、金属箔の片面に熱硬化性樹脂の膜を有する金属箔を
重ねるか、もしくは内層材の表面に熱硬化性樹脂シート
を重ね更にその上に金属箔を重ねて、プレス熱板間に置
き加熱加圧することにより接着し、その接着した金属箔
を必要に応じて加工して回路パターンを作成した後、そ
の上にさらに熱硬化性樹脂を介して金属箔を加熱加圧し
て接着する操作を1回以上繰り返して逐次多層積層板と
するものである。
を説明する。本発明の多層配線板の製造方法の基本は、
内層材(表面に回路が形成されたものでもよい)の表面
に、金属箔の片面に熱硬化性樹脂の膜を有する金属箔を
重ねるか、もしくは内層材の表面に熱硬化性樹脂シート
を重ね更にその上に金属箔を重ねて、プレス熱板間に置
き加熱加圧することにより接着し、その接着した金属箔
を必要に応じて加工して回路パターンを作成した後、そ
の上にさらに熱硬化性樹脂を介して金属箔を加熱加圧し
て接着する操作を1回以上繰り返して逐次多層積層板と
するものである。
【0010】本発明における内層材とは金属張積層板を
指す。通常は、金属箔と、ガラス布あるいは芳香族ポリ
アミド繊維等の合成繊維から得られる織布または不織布
の基材に熱硬化性樹脂を含浸してなるプリプレグとを用
い、これらを重ねて加熱、加圧することにより製造され
ている。必要に応じてその表面に回路を形成することが
できる。
指す。通常は、金属箔と、ガラス布あるいは芳香族ポリ
アミド繊維等の合成繊維から得られる織布または不織布
の基材に熱硬化性樹脂を含浸してなるプリプレグとを用
い、これらを重ねて加熱、加圧することにより製造され
ている。必要に応じてその表面に回路を形成することが
できる。
【0011】本発明で用いられる金属箔の材質として
は、導電性の金属箔であれば特に限定する必要はない
が、容易に入手できかつ容易にエッチングできることか
ら、銅箔、アルミ箔が好ましく、その中でも銅箔は最も
好ましい。
は、導電性の金属箔であれば特に限定する必要はない
が、容易に入手できかつ容易にエッチングできることか
ら、銅箔、アルミ箔が好ましく、その中でも銅箔は最も
好ましい。
【0012】また、金属箔の厚みも特に限定されない
が、扱い易さの点から500μm以下が好ましく、20
0μm以下がより好ましく、105μm以下が最も好ま
しい。上記金属箔において、熱硬化性樹脂の膜が形成さ
れる側の面または熱硬化性樹脂シートに接する面は、当
該樹脂との密着性を強めるために粗面化及び/またはカ
ップリング処理されていてもよい。配線板製造用として
製造販売されている粗化処理電解銅箔は本発明の樹脂付
基材の製造にそのまま用いることができる。
が、扱い易さの点から500μm以下が好ましく、20
0μm以下がより好ましく、105μm以下が最も好ま
しい。上記金属箔において、熱硬化性樹脂の膜が形成さ
れる側の面または熱硬化性樹脂シートに接する面は、当
該樹脂との密着性を強めるために粗面化及び/またはカ
ップリング処理されていてもよい。配線板製造用として
製造販売されている粗化処理電解銅箔は本発明の樹脂付
基材の製造にそのまま用いることができる。
【0013】本発明で用いられる熱硬化性樹脂付き金属
箔の樹脂あるいは樹脂シートに用いられる熱硬化性樹脂
は、積層成形条件下での最低溶融粘度が500ポイズ以
上100000ポイズ以下の範囲であることが必須であ
る。このように規制することにより、本発明の所望の効
果、即ち板厚精度に優れかつ埋め込み性が良好な多層配
線板を得ることができる。
箔の樹脂あるいは樹脂シートに用いられる熱硬化性樹脂
は、積層成形条件下での最低溶融粘度が500ポイズ以
上100000ポイズ以下の範囲であることが必須であ
る。このように規制することにより、本発明の所望の効
果、即ち板厚精度に優れかつ埋め込み性が良好な多層配
線板を得ることができる。
【0014】当該粘度が500ポイズ未満では樹脂が流
れすぎて、絶縁層の厚みを配線板内で一定に保つことが
できず、したがって配線の特性インピーダンスを一定に
保つことができない。一方、100000ポイズを越え
る場合は、内層回路の埋め込み不良を発生し、多層配線
板の形成が困難である。好ましい最低溶融粘度は、板厚
精度の点から1000ポイズ以上、回路埋め込み性の点
から60000ポイズ以下であり、より好ましくは20
00ポイズ以上40000ポイズ以下とする。
れすぎて、絶縁層の厚みを配線板内で一定に保つことが
できず、したがって配線の特性インピーダンスを一定に
保つことができない。一方、100000ポイズを越え
る場合は、内層回路の埋め込み不良を発生し、多層配線
板の形成が困難である。好ましい最低溶融粘度は、板厚
精度の点から1000ポイズ以上、回路埋め込み性の点
から60000ポイズ以下であり、より好ましくは20
00ポイズ以上40000ポイズ以下とする。
【0015】本発明でいう樹脂の溶融粘度の測定は、例
えば、ダイナミックアナライザーRAD (レオメトリ
ックス社製)にて、φ25mmのパラレルプレートを使
用し、樹脂をφ25mmのディスク状に成形したものを
成形時と同条件で温度掃引して行うことができる。最低
溶融粘度とは、成形条件下での溶融粘度の最小値であ
り、そのときの温度を最低溶融粘度を示す温度とする。
えば、ダイナミックアナライザーRAD (レオメトリ
ックス社製)にて、φ25mmのパラレルプレートを使
用し、樹脂をφ25mmのディスク状に成形したものを
成形時と同条件で温度掃引して行うことができる。最低
溶融粘度とは、成形条件下での溶融粘度の最小値であ
り、そのときの温度を最低溶融粘度を示す温度とする。
【0016】本発明に用いられる熱硬化性樹脂としては
例えば、熱硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂、フェノ
ール樹脂、低誘電率化エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が
挙げられる。このような熱硬化性樹脂は、樹脂自体に変
性が施されたものであってもよく、樹脂単独及び/ また
は樹脂と多官能化合物との混合物であってもよい。ま
た、上記の熱硬化性樹脂の中でも、熱硬化性ポリフェニ
レンエーテル樹脂は溶融粘度の制御及び電気特性の観点
から特に好ましい。このような熱硬化性ポリフェニレン
エーテル樹脂としては、例えば特開平7−165846
号公報記載の組成物、特開平7−166049号公報記
載の組成物、特公平7−37567号公報記載の組成
物、特公平7−26013号公報記載の組成物等が挙げ
られる。
例えば、熱硬化性ポリフェニレンエーテル樹脂、フェノ
ール樹脂、低誘電率化エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂が
挙げられる。このような熱硬化性樹脂は、樹脂自体に変
性が施されたものであってもよく、樹脂単独及び/ また
は樹脂と多官能化合物との混合物であってもよい。ま
た、上記の熱硬化性樹脂の中でも、熱硬化性ポリフェニ
レンエーテル樹脂は溶融粘度の制御及び電気特性の観点
から特に好ましい。このような熱硬化性ポリフェニレン
エーテル樹脂としては、例えば特開平7−165846
号公報記載の組成物、特開平7−166049号公報記
載の組成物、特公平7−37567号公報記載の組成
物、特公平7−26013号公報記載の組成物等が挙げ
られる。
【0017】本発明では熱硬化性樹脂に、その用途に応
じて所望の性能を付与させる目的で本来の性質を損なわ
ない範囲の量の充填剤や添加剤を配合して用いることが
できる。充填剤は繊維状であっても粉末状であってもよ
く、シリカ、アルミナ、タルク、雲母、ガラスビーズ、
ガラス中空球等を挙げることができる。また、添加剤と
しては、難燃剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、
顔料、染料、着色剤等が挙げられる。成形時の溶融粘度
を調節する目的で、可塑剤、増粘剤等を添加しても良
い。
じて所望の性能を付与させる目的で本来の性質を損なわ
ない範囲の量の充填剤や添加剤を配合して用いることが
できる。充填剤は繊維状であっても粉末状であってもよ
く、シリカ、アルミナ、タルク、雲母、ガラスビーズ、
ガラス中空球等を挙げることができる。また、添加剤と
しては、難燃剤、酸化防止剤、熱安定剤、帯電防止剤、
顔料、染料、着色剤等が挙げられる。成形時の溶融粘度
を調節する目的で、可塑剤、増粘剤等を添加しても良
い。
【0018】また本発明では、熱硬化性樹脂に成膜性を
付与する等の目的により、ポリスチレン系重合体、ある
いはジエン系樹脂等の熱可塑性樹脂をブレンドすること
ができる。
付与する等の目的により、ポリスチレン系重合体、ある
いはジエン系樹脂等の熱可塑性樹脂をブレンドすること
ができる。
【0019】樹脂付き金属箔の樹脂膜あるいは樹脂シー
トの樹脂膜の厚さは、ハンドリングのしやすさから乾燥
後の厚さが10μm以上が好ましく、20μm以上がよ
り好ましく、30μm以上が最も好ましい。この膜厚が
極端に小さいと、積層ビルドアップ工法を行うことが困
難になる。
トの樹脂膜の厚さは、ハンドリングのしやすさから乾燥
後の厚さが10μm以上が好ましく、20μm以上がよ
り好ましく、30μm以上が最も好ましい。この膜厚が
極端に小さいと、積層ビルドアップ工法を行うことが困
難になる。
【0020】熱硬化性樹脂膜を形成する方法としては、
どのような手段によっても良いが、好ましい方法として
は例えば、当該樹脂を溶剤に溶解もしくは分散させたワ
ニスを塗布、乾燥させる方法が挙げられる。溶剤は樹脂
の選択に応じて適したものが選ばれる。また、別の好ま
しい方法として、無溶剤で溶融成膜する方法も挙げられ
る。
どのような手段によっても良いが、好ましい方法として
は例えば、当該樹脂を溶剤に溶解もしくは分散させたワ
ニスを塗布、乾燥させる方法が挙げられる。溶剤は樹脂
の選択に応じて適したものが選ばれる。また、別の好ま
しい方法として、無溶剤で溶融成膜する方法も挙げられ
る。
【0021】内層材、樹脂付き金属箔あるいは樹脂シー
トに回路を形成する方法としては、どのような手段によ
っても良いが、通常、金属箔のエッチングあるいはめっ
きにより行われる。導電性ペースト等を用いた印刷によ
り、樹脂表面に回路を形成することもできる。
トに回路を形成する方法としては、どのような手段によ
っても良いが、通常、金属箔のエッチングあるいはめっ
きにより行われる。導電性ペースト等を用いた印刷によ
り、樹脂表面に回路を形成することもできる。
【0022】本発明における樹脂の最低溶融粘度を50
0ポイズ以上100000ポイズ以下、好ましくは10
00ポイズ以上60000ポイズ以下、より好ましくは
2000ポイズ以上40000ポイズ以下に調節する方
法は特に制限されない。例えば樹脂の化学構造、分子量
あるいは組成の調節による方法が挙げられる。溶融粘度
が極端に低い熱硬化性樹脂を熱処理あるいは光化学的処
理等各樹脂に適した方法により部分的に硬化させ、溶融
粘度を調節することも有効な手段として挙げられる。例
えば、エポキシ樹脂のような溶融粘度の低い樹脂はBス
テージ状態として、最低溶融粘度を規定の範囲内に調節
することができる。
0ポイズ以上100000ポイズ以下、好ましくは10
00ポイズ以上60000ポイズ以下、より好ましくは
2000ポイズ以上40000ポイズ以下に調節する方
法は特に制限されない。例えば樹脂の化学構造、分子量
あるいは組成の調節による方法が挙げられる。溶融粘度
が極端に低い熱硬化性樹脂を熱処理あるいは光化学的処
理等各樹脂に適した方法により部分的に硬化させ、溶融
粘度を調節することも有効な手段として挙げられる。例
えば、エポキシ樹脂のような溶融粘度の低い樹脂はBス
テージ状態として、最低溶融粘度を規定の範囲内に調節
することができる。
【0023】また、成形条件により最低溶融粘度を変化
させることもできる。最低溶融粘度は昇温速度により変
化する。また昇温中に保持温度を設ける場合は、保持温
度及び、保持時間によっても最低溶融粘度を変化させる
ことができる。成形条件は樹脂の組成によって考慮すれ
ばよい。
させることもできる。最低溶融粘度は昇温速度により変
化する。また昇温中に保持温度を設ける場合は、保持温
度及び、保持時間によっても最低溶融粘度を変化させる
ことができる。成形条件は樹脂の組成によって考慮すれ
ばよい。
【0024】樹脂付き金属箔あるいは樹脂シートの樹脂
が熱硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物である
場合は、成形を以下の条件で行うことが望ましい。すな
わち、成形温度は150〜250℃が好ましい。より好
ましくは160〜230℃、更に好ましくは170〜2
20℃とする。150℃未満では樹脂が充分に硬化する
までに時間がかかり好ましくない。一方、250℃を超
えると、銅箔の酸化変質等が起こる場合があり、信頼性
に影響を与えるために好ましくない。
が熱硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂組成物である
場合は、成形を以下の条件で行うことが望ましい。すな
わち、成形温度は150〜250℃が好ましい。より好
ましくは160〜230℃、更に好ましくは170〜2
20℃とする。150℃未満では樹脂が充分に硬化する
までに時間がかかり好ましくない。一方、250℃を超
えると、銅箔の酸化変質等が起こる場合があり、信頼性
に影響を与えるために好ましくない。
【0025】成形圧力は5〜60kg/cm2 が好まし
い。5kg/cm2 未満では埋め込み不良を生じたり、
板厚精度が損なわれる場合がある。一方、60kg/c
m2を超えると、樹脂が流れすぎたり、成形ひずみが生
じて信頼性を損なう場合がある。
い。5kg/cm2 未満では埋め込み不良を生じたり、
板厚精度が損なわれる場合がある。一方、60kg/c
m2を超えると、樹脂が流れすぎたり、成形ひずみが生
じて信頼性を損なう場合がある。
【0026】また、昇温速度は1〜10℃/分が好まし
い。より好ましくは3〜7℃/分とする。1℃/分未満
では溶融粘度が充分に低くならず、埋め込み不良を生じ
る場合があり、10℃/分を越える場合は最低溶融粘度
が低くなりすぎて、板厚精度が損なわれる場合がある。
い。より好ましくは3〜7℃/分とする。1℃/分未満
では溶融粘度が充分に低くならず、埋め込み不良を生じ
る場合があり、10℃/分を越える場合は最低溶融粘度
が低くなりすぎて、板厚精度が損なわれる場合がある。
【0027】また昇温中に保持温度を設けることによ
り、溶融粘度を調節する場合は、樹脂温度が(最低溶融
粘度を示す温度−50℃)以上(最低溶融粘度を示す温
度+30℃)以下の温度範囲の温度において、10分以
上定温で保持した後、硬化温度まで昇温することが好ま
しい。このように最低溶融粘度に達する前に一定温度で
保持することにより、溶融粘度が低くなる前に硬化反応
を進め、最低溶融粘度を高くすることができる。また最
低溶融粘度付近で保持することにより、急激な硬化を抑
制し、適当な溶融粘度で充分な埋め込み性を得ることが
できる。保持温度及び時間は樹脂の組成及び目的に応じ
て考慮すればよい。
り、溶融粘度を調節する場合は、樹脂温度が(最低溶融
粘度を示す温度−50℃)以上(最低溶融粘度を示す温
度+30℃)以下の温度範囲の温度において、10分以
上定温で保持した後、硬化温度まで昇温することが好ま
しい。このように最低溶融粘度に達する前に一定温度で
保持することにより、溶融粘度が低くなる前に硬化反応
を進め、最低溶融粘度を高くすることができる。また最
低溶融粘度付近で保持することにより、急激な硬化を抑
制し、適当な溶融粘度で充分な埋め込み性を得ることが
できる。保持温度及び時間は樹脂の組成及び目的に応じ
て考慮すればよい。
【0028】成形圧力については、樹脂温度が(最低溶
融粘度を示す温度−80℃)以上最低溶融粘度を示す温
度以下の温度範囲の温度に達するまで5〜20kg/c
m2、この温度を越えた温度では20〜60kg/cm
2 で加圧して成形することもできる。樹脂の溶融が不十
分な状態では低圧とし、溶融粘度が充分低くなったら加
圧することにより、板厚精度及び埋め込み性に優れた多
層配線板を得ることができる。
融粘度を示す温度−80℃)以上最低溶融粘度を示す温
度以下の温度範囲の温度に達するまで5〜20kg/c
m2、この温度を越えた温度では20〜60kg/cm
2 で加圧して成形することもできる。樹脂の溶融が不十
分な状態では低圧とし、溶融粘度が充分低くなったら加
圧することにより、板厚精度及び埋め込み性に優れた多
層配線板を得ることができる。
【0029】一般に、積層成形には絶縁層内のボイドの
発生を防ぎ、信頼性の高い基板を得るため真空プレスが
よく用いられる。この場合、真空度は50torr以下
とすることが好ましい。
発生を防ぎ、信頼性の高い基板を得るため真空プレスが
よく用いられる。この場合、真空度は50torr以下
とすることが好ましい。
【0030】樹脂付き金属箔の樹脂あるいは樹脂シート
の樹脂を成形すると同時に、内層スルーホールを樹脂で
充填する場合については、樹脂が最低溶融粘度に達した
ときに、スルーホールを樹脂で埋め込むに十分な圧力が
かかるように行う。厚み精度等の観点から、昇温中に保
持温度を設けてもよい。
の樹脂を成形すると同時に、内層スルーホールを樹脂で
充填する場合については、樹脂が最低溶融粘度に達した
ときに、スルーホールを樹脂で埋め込むに十分な圧力が
かかるように行う。厚み精度等の観点から、昇温中に保
持温度を設けてもよい。
【0031】〔実施例〕以下、本発明の実施例を比較例
と対比して説明し、本発明の効果を明確にする。
と対比して説明し、本発明の効果を明確にする。
【0032】この比較試験における樹脂の溶融粘度測定
法及び基板の評価法を以下に示す。 (1)樹脂の溶融粘度 レオメトリックス社製ダイナミックアナライザーRAD
にて、φ25mmのパラレルプレートを使用して行っ
た。 (2)板厚精度 510mm*340mmの基板5枚について、それ
ぞれ10ヶ所の厚みをマイクロメーターを用いて測定し
た。
法及び基板の評価法を以下に示す。 (1)樹脂の溶融粘度 レオメトリックス社製ダイナミックアナライザーRAD
にて、φ25mmのパラレルプレートを使用して行っ
た。 (2)板厚精度 510mm*340mmの基板5枚について、それ
ぞれ10ヶ所の厚みをマイクロメーターを用いて測定し
た。
【0033】板厚ばらつきR:最大厚みと最小厚みの差 基板をエポキシ樹脂で包埋し、研磨した後、断面を
観察し、絶縁層厚み(樹脂付き銅箔樹脂部)を測定し
た。
観察し、絶縁層厚み(樹脂付き銅箔樹脂部)を測定し
た。
【0034】厚みばらつきr:最大厚みと最小厚みの差 (3)埋め込み性 基板をエポキシ樹脂で包埋し、研磨した後、断面を観察
した。 (4)はんだ耐熱試験 基板を50mm角に切り出し、片面は銅箔全て、片面は
半分の銅箔を除去した。これを沸騰蒸留水中で1時間煮
沸し、冷却した後、290℃のはんだ浴に2分間、浸積
した。
した。 (4)はんだ耐熱試験 基板を50mm角に切り出し、片面は銅箔全て、片面は
半分の銅箔を除去した。これを沸騰蒸留水中で1時間煮
沸し、冷却した後、290℃のはんだ浴に2分間、浸積
した。
【0035】(実施例1)熱硬化性樹脂として、熱硬化
性ポリフェニレンエーテル系樹脂を用い、金属箔として
厚さ12μmのプリント基板用電解銅箔を用いて、多層
配線板用樹脂付き銅箔を作成した。樹脂の厚さは60μ
mとした。一方、内層材として、18μmの銅箔を両面
に張った0.7mm厚の両面銅張り積層板(ガラスクロ
スに熱硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂を含浸して
得られたプリプレグ使用)を作成し、この内層材の両面
に残銅率50%の回路をそれぞれ形成した。
性ポリフェニレンエーテル系樹脂を用い、金属箔として
厚さ12μmのプリント基板用電解銅箔を用いて、多層
配線板用樹脂付き銅箔を作成した。樹脂の厚さは60μ
mとした。一方、内層材として、18μmの銅箔を両面
に張った0.7mm厚の両面銅張り積層板(ガラスクロ
スに熱硬化性ポリフェニレンエーテル系樹脂を含浸して
得られたプリプレグ使用)を作成し、この内層材の両面
に残銅率50%の回路をそれぞれ形成した。
【0036】その内層材の両面に上記樹脂付き銅箔を積
層し、プレスした。プレスは昇温速度3℃/分で、20
0℃まで昇温し、60分硬化させて行った。成形圧力は
30kg/cm2 とした。このときの樹脂の最低溶融粘
度は31000ポイズであった。
層し、プレスした。プレスは昇温速度3℃/分で、20
0℃まで昇温し、60分硬化させて行った。成形圧力は
30kg/cm2 とした。このときの樹脂の最低溶融粘
度は31000ポイズであった。
【0037】(実施例2)熱硬化性樹脂として、実施例
1とは異なる組成の熱硬化性ポリフェニレンエーテル系
樹脂を用い、金属箔として厚さ12μmのプリント基板
用電解銅箔を用いて、多層配線板用樹脂付き銅箔を作成
した。樹脂の厚さは60μmとした。実施例1で得られ
た残銅率50%の回路を形成した両面銅張り積層板(内
層板)の両面に上記樹脂付き銅箔を積層し、プレスし
た。プレスは昇温速度3℃/分で、200℃まで昇温
し、60分硬化させて行った。成形圧力は30kg/c
m2 とした。このときの樹脂の最低溶融粘度は1400
0ポイズであった。
1とは異なる組成の熱硬化性ポリフェニレンエーテル系
樹脂を用い、金属箔として厚さ12μmのプリント基板
用電解銅箔を用いて、多層配線板用樹脂付き銅箔を作成
した。樹脂の厚さは60μmとした。実施例1で得られ
た残銅率50%の回路を形成した両面銅張り積層板(内
層板)の両面に上記樹脂付き銅箔を積層し、プレスし
た。プレスは昇温速度3℃/分で、200℃まで昇温
し、60分硬化させて行った。成形圧力は30kg/c
m2 とした。このときの樹脂の最低溶融粘度は1400
0ポイズであった。
【0038】(実施例3)熱硬化性樹脂として、実施例
1及び実施例2とは異なる組成の熱硬化性ポリフェニレ
ンエーテル系樹脂を用い、金属箔として厚さ12μmの
プリント基板用電解銅箔を用いて、多層配線板用樹脂付
き銅箔を作成した。樹脂の厚さは60μmとした。実施
例1で得られた残銅率50%の回路を形成した両面銅張
り積層板の両面に上記樹脂付き銅箔を積層し、プレスし
た。プレスは昇温速度3℃/分で、165℃まで昇温
し、20分保持した後、再び3℃/分で200℃まで昇
温して、60分硬化させて行った。成形圧力は樹脂温度
が110℃に達するまでは10kg/cm2 とし、その
後30kg/cm2 に昇圧した。このときの樹脂の最低
溶融粘度は7000ポイズ、最低溶融粘度点温度は16
3℃であった。
1及び実施例2とは異なる組成の熱硬化性ポリフェニレ
ンエーテル系樹脂を用い、金属箔として厚さ12μmの
プリント基板用電解銅箔を用いて、多層配線板用樹脂付
き銅箔を作成した。樹脂の厚さは60μmとした。実施
例1で得られた残銅率50%の回路を形成した両面銅張
り積層板の両面に上記樹脂付き銅箔を積層し、プレスし
た。プレスは昇温速度3℃/分で、165℃まで昇温
し、20分保持した後、再び3℃/分で200℃まで昇
温して、60分硬化させて行った。成形圧力は樹脂温度
が110℃に達するまでは10kg/cm2 とし、その
後30kg/cm2 に昇圧した。このときの樹脂の最低
溶融粘度は7000ポイズ、最低溶融粘度点温度は16
3℃であった。
【0039】(比較例1)熱硬化性樹脂として、銅張り
積層板用エポキシ樹脂を用い、金属箔として厚さ12μ
mのプリント基板用電解銅箔を用いて、多層配線板用樹
脂付き銅箔を作成した。樹脂の厚さは60μmとした。
実施例1で得られた残銅率50%の回路を形成した両面
銅張り積層板の両面に上記樹脂付き銅箔を積層し、プレ
スした。プレスは昇温速度1.5℃/分で、170℃ま
で昇温して、120分硬化させて行った。成形圧力は2
0kg/cm2 とした。このときの樹脂の最低溶融粘度
は200ポイズであった。
積層板用エポキシ樹脂を用い、金属箔として厚さ12μ
mのプリント基板用電解銅箔を用いて、多層配線板用樹
脂付き銅箔を作成した。樹脂の厚さは60μmとした。
実施例1で得られた残銅率50%の回路を形成した両面
銅張り積層板の両面に上記樹脂付き銅箔を積層し、プレ
スした。プレスは昇温速度1.5℃/分で、170℃ま
で昇温して、120分硬化させて行った。成形圧力は2
0kg/cm2 とした。このときの樹脂の最低溶融粘度
は200ポイズであった。
【0040】(比較例2)熱硬化性樹脂として、実施例
とは異なる組成の熱硬化性ポリフェニレンエーテル系樹
脂を用い、金属箔として厚さ12μmのプリント基板用
電解銅箔を用いて、多層配線板用樹脂付き銅箔を作成し
た。樹脂の厚さは60μmとした。プレスは昇温速度
0.5℃/分で、200℃まで昇温して、60分硬化さ
せて行った。成形圧力は30kg/cm2 とした。この
ときの樹脂の最低溶融粘度は120000ポイズであっ
た。
とは異なる組成の熱硬化性ポリフェニレンエーテル系樹
脂を用い、金属箔として厚さ12μmのプリント基板用
電解銅箔を用いて、多層配線板用樹脂付き銅箔を作成し
た。樹脂の厚さは60μmとした。プレスは昇温速度
0.5℃/分で、200℃まで昇温して、60分硬化さ
せて行った。成形圧力は30kg/cm2 とした。この
ときの樹脂の最低溶融粘度は120000ポイズであっ
た。
【0041】これらの実施例及び比較例について、
(1)〜(4)の項目について評価した結果を表1に示
した。実施例1〜3は、板厚精度と回路埋め込み性の両
方に優れるばかりでなく、逐次多層配線板として実用に
耐え得るはんだ耐熱性を有している。
(1)〜(4)の項目について評価した結果を表1に示
した。実施例1〜3は、板厚精度と回路埋め込み性の両
方に優れるばかりでなく、逐次多層配線板として実用に
耐え得るはんだ耐熱性を有している。
【0042】
【表1】
【0043】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の請求項1
に係る逐次多層配線板の製造方法によれば、内層材に積
層体を重ねて熱硬化性樹脂で接着しつつ多層に成形する
に際し、当該熱硬化性樹脂の最低溶融粘度を500ポイ
ズ以上100000ポイズ以下の範囲に規制したため、
成形時の樹脂の流れを適正に維持できて、板厚精度に優
れ、かつ埋め込み性が良好である信頼性の高い多層配線
板を得られるという効果を奏する。
に係る逐次多層配線板の製造方法によれば、内層材に積
層体を重ねて熱硬化性樹脂で接着しつつ多層に成形する
に際し、当該熱硬化性樹脂の最低溶融粘度を500ポイ
ズ以上100000ポイズ以下の範囲に規制したため、
成形時の樹脂の流れを適正に維持できて、板厚精度に優
れ、かつ埋め込み性が良好である信頼性の高い多層配線
板を得られるという効果を奏する。
【0044】また、請求項2に係る発明によれば、当該
熱硬化性樹脂として熱硬化性ポリフェニレンエーテル系
樹脂組成物を用いることで、上記効果をより確実に得る
ことができる。
熱硬化性樹脂として熱硬化性ポリフェニレンエーテル系
樹脂組成物を用いることで、上記効果をより確実に得る
ことができる。
【0045】従って、本発明により製造される逐次多層
配線板は、高速ディジタル回路及び高周波アナログ回路
に好適である。
配線板は、高速ディジタル回路及び高周波アナログ回路
に好適である。
Claims (2)
- 【請求項1】 プレス熱板間に、内層材と熱硬化性樹脂
付き金属箔または熱硬化性樹脂シート及び金属箔からな
る積層体とを重ねて成形するに際し、前記熱硬化性樹脂
の最低溶融粘度を500ポイズ以上100000ポイズ
以下の範囲とすることを特徴とする逐次多層配線板の製
造方法。 - 【請求項2】 熱硬化性樹脂付き金属箔または熱硬化性
樹脂シートの樹脂が熱硬化性ポリフェニレンエーテル系
樹脂組成物であることを特徴とする請求項1記載の逐次
多層配線板の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31736497A JPH11150366A (ja) | 1997-11-18 | 1997-11-18 | 逐次多層配線板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31736497A JPH11150366A (ja) | 1997-11-18 | 1997-11-18 | 逐次多層配線板の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11150366A true JPH11150366A (ja) | 1999-06-02 |
Family
ID=18087427
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31736497A Withdrawn JPH11150366A (ja) | 1997-11-18 | 1997-11-18 | 逐次多層配線板の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11150366A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002271019A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-20 | Ibiden Co Ltd | 積層配線板の製造方法 |
| JP2002353583A (ja) * | 2001-05-23 | 2002-12-06 | Matsushita Electric Works Ltd | 樹脂付き金属箔及び多層プリント配線板 |
| JP2012104521A (ja) * | 2010-11-05 | 2012-05-31 | Fujitsu Ltd | 回路基板の製造方法 |
| JP2017057352A (ja) * | 2015-09-18 | 2017-03-23 | 三菱瓦斯化学株式会社 | プリプレグ |
-
1997
- 1997-11-18 JP JP31736497A patent/JPH11150366A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002271019A (ja) * | 2001-03-08 | 2002-09-20 | Ibiden Co Ltd | 積層配線板の製造方法 |
| JP2002353583A (ja) * | 2001-05-23 | 2002-12-06 | Matsushita Electric Works Ltd | 樹脂付き金属箔及び多層プリント配線板 |
| JP2012104521A (ja) * | 2010-11-05 | 2012-05-31 | Fujitsu Ltd | 回路基板の製造方法 |
| JP2017057352A (ja) * | 2015-09-18 | 2017-03-23 | 三菱瓦斯化学株式会社 | プリプレグ |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20050201 |