JPH11283350A - 基板用保持部材及びこれを用いた磁気記録装置 - Google Patents
基板用保持部材及びこれを用いた磁気記録装置Info
- Publication number
- JPH11283350A JPH11283350A JP10086299A JP8629998A JPH11283350A JP H11283350 A JPH11283350 A JP H11283350A JP 10086299 A JP10086299 A JP 10086299A JP 8629998 A JP8629998 A JP 8629998A JP H11283350 A JPH11283350 A JP H11283350A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- magnetic
- magnetic disk
- holding
- disk substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B17/00—Guiding record carriers not specifically of filamentary or web form, or of supports therefor
- G11B17/02—Details
- G11B17/022—Positioning or locking of single discs
- G11B17/028—Positioning or locking of single discs of discs rotating during transducing operation
- G11B17/0287—Positioning or locking of single discs of discs rotating during transducing operation by permanent connections, e.g. screws, rivets
Landscapes
- Holding Or Fastening Of Disk On Rotational Shaft (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】磁気記録装置などにおいて、磁気ディスク基板
や磁気ヘッド保持用基板に歪みを発生させることなく、
高精度に保持できるようにするとともに、上記磁気ディ
スク基板や磁気ヘッド保持用基板に搭載する磁気ヘッド
が帯電してもその静電気を逃がすことができ、かつ締め
付け固定時や衝撃が加わっても磁気ディスク基板上に落
下する脱粒片や研削屑等のパーティクルの発生量を大幅
に低減することができる基板用保持部材を提供する。 【解決手段】単数又は複数の基板を所定の間隔に保持す
る基板用保持部材を、導電性付与材として、Fe、C
o、Ni、Crの酸化物のうち1種以上を含み、破壊靱
性値(K1C)が5.0MPam1/2 以上であるジルコニ
アセラミックスにより形成する。
や磁気ヘッド保持用基板に歪みを発生させることなく、
高精度に保持できるようにするとともに、上記磁気ディ
スク基板や磁気ヘッド保持用基板に搭載する磁気ヘッド
が帯電してもその静電気を逃がすことができ、かつ締め
付け固定時や衝撃が加わっても磁気ディスク基板上に落
下する脱粒片や研削屑等のパーティクルの発生量を大幅
に低減することができる基板用保持部材を提供する。 【解決手段】単数又は複数の基板を所定の間隔に保持す
る基板用保持部材を、導電性付与材として、Fe、C
o、Ni、Crの酸化物のうち1種以上を含み、破壊靱
性値(K1C)が5.0MPam1/2 以上であるジルコニ
アセラミックスにより形成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、単数又は複数の磁
気ディスク基板や磁気ヘッド保持用基板を所定の間隔に
保持するためのスペーサ、シム、クランプなどの基板用
保持部材と、これを用いた磁気記録装置に関するもので
ある。
気ディスク基板や磁気ヘッド保持用基板を所定の間隔に
保持するためのスペーサ、シム、クランプなどの基板用
保持部材と、これを用いた磁気記録装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来より用いられている磁気記録装置
は、図4に示すように、回転軸23に固定されたハブ2
4に、複数の磁気ディスク基板25とスペーサ21とを
交互に挿入し、クランプ22で押さえるとともにネジ3
1を締めつけて固定するディスク部20と、磁気ヘッド
26を搭載したヘッドキャリアと呼ばれている複数の磁
気ヘッド保持用基板27とスペーサ28とを交互に配置
し、その両端をキャリアアームと呼ばれている固定部材
29で挟み込んで固定したヘッド部30とから構成され
ている。そして、回転軸23の回転により磁気ディスク
基板25を回転させた状態で、該磁気ディスク基板25
上に磁気ヘッド26を非接触の状態で浮上させつつ移動
させることで、各磁気ディスク基板25の所定位置に情
報の書き込みや読み取りを行うようになっている。
は、図4に示すように、回転軸23に固定されたハブ2
4に、複数の磁気ディスク基板25とスペーサ21とを
交互に挿入し、クランプ22で押さえるとともにネジ3
1を締めつけて固定するディスク部20と、磁気ヘッド
26を搭載したヘッドキャリアと呼ばれている複数の磁
気ヘッド保持用基板27とスペーサ28とを交互に配置
し、その両端をキャリアアームと呼ばれている固定部材
29で挟み込んで固定したヘッド部30とから構成され
ている。そして、回転軸23の回転により磁気ディスク
基板25を回転させた状態で、該磁気ディスク基板25
上に磁気ヘッド26を非接触の状態で浮上させつつ移動
させることで、各磁気ディスク基板25の所定位置に情
報の書き込みや読み取りを行うようになっている。
【0003】また、近年、磁気記録装置には情報の高密
度化、大容量化が要求され、記録密度を高めるためには
浮上した磁気ヘッド26と磁気ディスク基板25との距
離を小さくする必要があることから、磁気ディスク基板
25の材質として変形が少なく平滑面が得やすい、ガラ
ス基板、サファイア基板、セラミック基板が用いられて
おり、該磁気ディスク基板25を高精度に固定、保持す
るスペーサ21やクランプ22などの保持部材として、
アルミナ、ジルコニアなどのセラミックスを用いること
が提案されている(特公平5−80745号公報、特開
昭61−148667号公報参照)。一方、ヘッド部3
0を構成する磁気ヘッド保持用基板27、固定部材2
9、スペーサ28である保持部材はこれまで高い保持精
度が要求されておらず、アルミニウムにより形成されて
いた。
度化、大容量化が要求され、記録密度を高めるためには
浮上した磁気ヘッド26と磁気ディスク基板25との距
離を小さくする必要があることから、磁気ディスク基板
25の材質として変形が少なく平滑面が得やすい、ガラ
ス基板、サファイア基板、セラミック基板が用いられて
おり、該磁気ディスク基板25を高精度に固定、保持す
るスペーサ21やクランプ22などの保持部材として、
アルミナ、ジルコニアなどのセラミックスを用いること
が提案されている(特公平5−80745号公報、特開
昭61−148667号公報参照)。一方、ヘッド部3
0を構成する磁気ヘッド保持用基板27、固定部材2
9、スペーサ28である保持部材はこれまで高い保持精
度が要求されておらず、アルミニウムにより形成されて
いた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、磁気ディス
ク基板25を保持する保持部材を構成する上記セラミッ
クスは一般的に絶縁材料であることから、磁気ディスク
基板25が帯電すると情報の読み込みや書き込みの際に
ノイズが発生し、記録内容を破壊する恐れがあった。
ク基板25を保持する保持部材を構成する上記セラミッ
クスは一般的に絶縁材料であることから、磁気ディスク
基板25が帯電すると情報の読み込みや書き込みの際に
ノイズが発生し、記録内容を破壊する恐れがあった。
【0005】そこで、本件出願人は、上記保持部材を、
導電性付与材を添加して導電性を持たせたアルミナセラ
ミックスやフォルステライトセラミックスにより形成
し、磁気ディスク基板25に帯電する静電気を保持部材
を介して逃がすことにより記録内容の破壊を防止するこ
とを先に提案している(特開平2−226566号公
報、特開平9−27177号公報参照)。
導電性付与材を添加して導電性を持たせたアルミナセラ
ミックスやフォルステライトセラミックスにより形成
し、磁気ディスク基板25に帯電する静電気を保持部材
を介して逃がすことにより記録内容の破壊を防止するこ
とを先に提案している(特開平2−226566号公
報、特開平9−27177号公報参照)。
【0006】しかしながら、近年、情報の高密度化、大
容量化に伴って磁気抵抗素子を用いたMRヘッドやGM
Rヘッドと呼ばれている磁気ヘッド26が使用されるよ
うになり、これらの磁気ヘッド26を用いた磁気記録装
置においては次のような課題があった。
容量化に伴って磁気抵抗素子を用いたMRヘッドやGM
Rヘッドと呼ばれている磁気ヘッド26が使用されるよ
うになり、これらの磁気ヘッド26を用いた磁気記録装
置においては次のような課題があった。
【0007】保持部材を構成するアルミナやフォルステ
ライトにはボイドが多数存在しており、このボイド中に
付着していた研削屑等がパーティクルとして磁気ディス
ク基板25上に落ちたり、アルミナやフォルステライト
は破壊靱性値が小さいために締め付け固定時や衝撃が加
わると脱粒を生じ易く、これがパーティクルとして磁気
ディスク基板25上に落ちていた。そして、これらのパ
ーティクルはこれまでそれほど問題となっていなかった
がMRヘッドやGMRヘッドの使用に伴い磁気ディスク
基板25との距離が一段と狭くなり、その結果、上記パ
ーティクルが磁気ヘッド26と磁気ディスク基板25と
の間に入り込み、磁気ヘッド26や磁気ディスク基板2
5上の磁性膜を傷付けるために高密度化、高容量化にお
いて大きな問題となっていた。
ライトにはボイドが多数存在しており、このボイド中に
付着していた研削屑等がパーティクルとして磁気ディス
ク基板25上に落ちたり、アルミナやフォルステライト
は破壊靱性値が小さいために締め付け固定時や衝撃が加
わると脱粒を生じ易く、これがパーティクルとして磁気
ディスク基板25上に落ちていた。そして、これらのパ
ーティクルはこれまでそれほど問題となっていなかった
がMRヘッドやGMRヘッドの使用に伴い磁気ディスク
基板25との距離が一段と狭くなり、その結果、上記パ
ーティクルが磁気ヘッド26と磁気ディスク基板25と
の間に入り込み、磁気ヘッド26や磁気ディスク基板2
5上の磁性膜を傷付けるために高密度化、高容量化にお
いて大きな問題となっていた。
【0008】特に近年、磁気記録装置の耐衝撃性を高め
るために、稼働時(読み込みや書き込み時)以外は、磁
気ヘッド26と磁気ディスク基板25の間にある一定の
距離を設けておき、稼働時のみ磁気ヘッド26を磁気デ
ィスク基板25との所定の距離にまで近づける機構を備
えたものも提案されているが、このような構造の場合、
従来のように磁気ヘッド26が磁気ディスク基板25か
ら浮上する構造と異なり、大きなパーティクルを掃き落
とすことができないために、上記パーティクルの発生は
より顕著な問題となっていた。
るために、稼働時(読み込みや書き込み時)以外は、磁
気ヘッド26と磁気ディスク基板25の間にある一定の
距離を設けておき、稼働時のみ磁気ヘッド26を磁気デ
ィスク基板25との所定の距離にまで近づける機構を備
えたものも提案されているが、このような構造の場合、
従来のように磁気ヘッド26が磁気ディスク基板25か
ら浮上する構造と異なり、大きなパーティクルを掃き落
とすことができないために、上記パーティクルの発生は
より顕著な問題となっていた。
【0009】また、記録密度を高めるためには磁気ヘッ
ド26と磁気ディスク基板25との距離をさらに小さく
する必要があるのであるが磁気ディスク基板25側だけ
の対応では難しくなっており、磁気ヘッド26を搭載す
る磁気ヘッド保持用基板27の間隔を高精度に保持する
ことが要求されているが、従来のようにアルミニウムに
より形成したスペーサ28では、精度良く磁気ヘッド2
6を保持することができず、記録密度を高めることがで
きなかった。
ド26と磁気ディスク基板25との距離をさらに小さく
する必要があるのであるが磁気ディスク基板25側だけ
の対応では難しくなっており、磁気ヘッド26を搭載す
る磁気ヘッド保持用基板27の間隔を高精度に保持する
ことが要求されているが、従来のようにアルミニウムに
より形成したスペーサ28では、精度良く磁気ヘッド2
6を保持することができず、記録密度を高めることがで
きなかった。
【0010】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明は上記課
題に鑑み、単数又は複数の基板を所定の間隔に保持する
基板用保持部材を、導電性付与材として、Fe、Co、
Ni、Crの酸化物のうち1種以上を含み、破壊靱性値
(K1C)が5.0MPam1/2 以上であるジルコニアセ
ラミックスにより形成したものである。
題に鑑み、単数又は複数の基板を所定の間隔に保持する
基板用保持部材を、導電性付与材として、Fe、Co、
Ni、Crの酸化物のうち1種以上を含み、破壊靱性値
(K1C)が5.0MPam1/2 以上であるジルコニアセ
ラミックスにより形成したものである。
【0011】また、本発明は、上記基板用保持部材を用
いて単数又は複数の磁気ディスク基板や磁気ヘッド保持
用基板を所定の間隔で保持して磁気記録装置を構成した
ものである。
いて単数又は複数の磁気ディスク基板や磁気ヘッド保持
用基板を所定の間隔で保持して磁気記録装置を構成した
ものである。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態について
説明する。
説明する。
【0013】図1は本発明の基板用保持部材の一例であ
るスペーサ1(5)を示す斜視図で、導電性を有するジ
ルコニアセラミックスからなるリング状体2(6)であ
って、上下面を磁気ディスク基板や磁気ヘッド保持用基
板との接触面2a(6a)とし、該接触面2a(6a)
を平坦度3μm以下、中心線平均粗さ(Ra)2.0μ
m以下の平滑とするとともに、平行度を3μm以下とし
てある。また、接触面2a(6a)における内外のエッ
ジにはテーパ状の面取り部2b(6b)を形成してあ
る。なお、スペーサ1(5)の寸法は使用箇所によって
異なるが、例えば、磁気ディスク基板を所定の間隔に保
持するスペーサ1では、外径が6〜40mm、内径が3
〜30mm、厚みが0.3〜6mmのものを用いること
ができ、磁気ヘッド保持用基板を所定の間隔に保持する
スペーサ5では、外径が3〜20mm、内径が3〜12
mm、厚みが0.3〜3mmのものを用いることができ
る。
るスペーサ1(5)を示す斜視図で、導電性を有するジ
ルコニアセラミックスからなるリング状体2(6)であ
って、上下面を磁気ディスク基板や磁気ヘッド保持用基
板との接触面2a(6a)とし、該接触面2a(6a)
を平坦度3μm以下、中心線平均粗さ(Ra)2.0μ
m以下の平滑とするとともに、平行度を3μm以下とし
てある。また、接触面2a(6a)における内外のエッ
ジにはテーパ状の面取り部2b(6b)を形成してあ
る。なお、スペーサ1(5)の寸法は使用箇所によって
異なるが、例えば、磁気ディスク基板を所定の間隔に保
持するスペーサ1では、外径が6〜40mm、内径が3
〜30mm、厚みが0.3〜6mmのものを用いること
ができ、磁気ヘッド保持用基板を所定の間隔に保持する
スペーサ5では、外径が3〜20mm、内径が3〜12
mm、厚みが0.3〜3mmのものを用いることができ
る。
【0014】また、上記面取り部2b(6b)の形状は
テーパ状に限らず曲面状であっても構わない。
テーパ状に限らず曲面状であっても構わない。
【0015】次に、図2は本発明の基板用保持部材の他
の例であるクランプ3を示す斜視図で、導電性を有する
ジルコニアセラミックスからなる円板状体4であって、
図において上面側を磁気ディスク基板と当接する接触面
4aとし、該接触面4aを平坦度3μm以下、中心線平
均粗さ(Ra)2.0μm以下の平滑面としてある。
の例であるクランプ3を示す斜視図で、導電性を有する
ジルコニアセラミックスからなる円板状体4であって、
図において上面側を磁気ディスク基板と当接する接触面
4aとし、該接触面4aを平坦度3μm以下、中心線平
均粗さ(Ra)2.0μm以下の平滑面としてある。
【0016】また、上記接触面4aの中央にはハブ(不
図示)の先端が係合する凹部4cを設けてあり、接触面
4aにおける内外のエッジにはテーパ状の面取り部4b
を形成してある。なお、クランプ3の寸法としては外径
が6〜40mm、内径が3〜30mm、厚みが0.3〜
30mmのものを用いることができ、また、上記面取り
部2b(6b)の形状はテーパ状に限らず曲面状であっ
ても構わない。
図示)の先端が係合する凹部4cを設けてあり、接触面
4aにおける内外のエッジにはテーパ状の面取り部4b
を形成してある。なお、クランプ3の寸法としては外径
が6〜40mm、内径が3〜30mm、厚みが0.3〜
30mmのものを用いることができ、また、上記面取り
部2b(6b)の形状はテーパ状に限らず曲面状であっ
ても構わない。
【0017】次に、これらのスペーサ1(5)やクラン
プ3などの保持部材を用いた磁気記録装置を図3に示
す。なお、従来例と同一部分については同一符号で示
す。
プ3などの保持部材を用いた磁気記録装置を図3に示
す。なお、従来例と同一部分については同一符号で示
す。
【0018】この磁気記録装置は、回転軸23に固定さ
れた金属製のハブ24に、複数の磁気ディスク基板25
とスペーサ1とを交互に挿入し、クランプ22で押さえ
るとともにネジ31を締めつけて固定したディスク部2
0と、磁気ヘッド26を搭載した複数のヘッドキャリア
と呼ばれている磁気ヘッド保持用基板27とスペーサ2
8とを交互に配置し、その両端をキャリアアームと呼ば
れている固定部材29で固定したヘッド部30とからな
る。なお、ディスク部20の磁気ディスク基板5には、
ガラス基板やサファイア基板の表面上に磁性膜を備えた
ものや、アルミナなどのセラミック基板上にグレース層
を形成し、該グレース層上に磁性膜を備えたものを使用
し、ヘッド部30の磁気ヘッド保持用基板27や固定部
材29はアルミニウムにより形成してある。
れた金属製のハブ24に、複数の磁気ディスク基板25
とスペーサ1とを交互に挿入し、クランプ22で押さえ
るとともにネジ31を締めつけて固定したディスク部2
0と、磁気ヘッド26を搭載した複数のヘッドキャリア
と呼ばれている磁気ヘッド保持用基板27とスペーサ2
8とを交互に配置し、その両端をキャリアアームと呼ば
れている固定部材29で固定したヘッド部30とからな
る。なお、ディスク部20の磁気ディスク基板5には、
ガラス基板やサファイア基板の表面上に磁性膜を備えた
ものや、アルミナなどのセラミック基板上にグレース層
を形成し、該グレース層上に磁性膜を備えたものを使用
し、ヘッド部30の磁気ヘッド保持用基板27や固定部
材29はアルミニウムにより形成してある。
【0019】そして、回転軸23の回転により磁気ディ
スク基板25を回転させた状態で、該磁気ディスク基板
25上に磁気ヘッド26を非接触の状態で浮上させつつ
移動させることにより、各磁気ディスク基板25の所定
位置に情報の書き込みや読み取りを行うようになってい
る。
スク基板25を回転させた状態で、該磁気ディスク基板
25上に磁気ヘッド26を非接触の状態で浮上させつつ
移動させることにより、各磁気ディスク基板25の所定
位置に情報の書き込みや読み取りを行うようになってい
る。
【0020】かくして本発明によれば、スペーサ1
(5)やクランプ3などの保持部材が高強度、高靱性を
有するジルコニアセラミックスからなるため、締め付け
固定時に変形することがなく、また、その接触面2a
(6a),4aが平坦でかつ平滑であることから、磁気
ディスク基板25及び磁気ヘッド保持用基板27を極め
て高精度に保持することができる。しかも、高速回転す
るディスク部20では熱が発生する恐れがあるが、スペ
ーサ1、クランプ3、磁気ディスク基板25はいずれも
熱膨張率が小さくかつ互いの熱膨張差が小さいことか
ら、磁気ディスク基板25を高精度のまま保持すること
ができる。その上、ヘッド部30のスペーサ5もセラミ
ックスにより形成してあることから、磁気ヘッド保持用
基板27も高精度に保持することができるため、磁気ヘ
ッド26の磁気ディスク基板25に対する浮上量を極め
て小さくすることができ、記録密度を向上させることが
できる。
(5)やクランプ3などの保持部材が高強度、高靱性を
有するジルコニアセラミックスからなるため、締め付け
固定時に変形することがなく、また、その接触面2a
(6a),4aが平坦でかつ平滑であることから、磁気
ディスク基板25及び磁気ヘッド保持用基板27を極め
て高精度に保持することができる。しかも、高速回転す
るディスク部20では熱が発生する恐れがあるが、スペ
ーサ1、クランプ3、磁気ディスク基板25はいずれも
熱膨張率が小さくかつ互いの熱膨張差が小さいことか
ら、磁気ディスク基板25を高精度のまま保持すること
ができる。その上、ヘッド部30のスペーサ5もセラミ
ックスにより形成してあることから、磁気ヘッド保持用
基板27も高精度に保持することができるため、磁気ヘ
ッド26の磁気ディスク基板25に対する浮上量を極め
て小さくすることができ、記録密度を向上させることが
できる。
【0021】また、スペーサ1(5)やクランプ3など
の保持部材を構成するジルコニアセラミックスは導電性
を有することから、磁気ディスク基板25や磁気ヘッド
26が帯電したとしても静電気を逃がすことができるた
め、記録内容が破壊されることを防ぐことができるとと
もに、ジルコニアセラミックスはセラミックスの中でも
ボイドが少なくかつ高靱性であることから、内外のエッ
ジに形成する面取り部2b(6b),4bの面取り量を
少なくできるため、磁気ディスク基板25や磁気ヘッド
保持用基板27との接触面積率を大きくすることがで
き、磁気ディスク基板25や磁気ヘッド保持用基板27
の歪みを抑制することができるとともに、締め付け固定
時や衝撃が加わった場合でも磁気ディスク基板25への
脱粒や研削屑の落下が殆どないため、磁気ヘッド26と
してMRヘッドやGMRヘッドなど磁気抵抗素子を用い
たものを使用しても、磁気ヘッド26や磁気ディスク基
板25上の磁性膜を傷付けることがなく、信頼性の高い
磁気記録装置を提供することができる。
の保持部材を構成するジルコニアセラミックスは導電性
を有することから、磁気ディスク基板25や磁気ヘッド
26が帯電したとしても静電気を逃がすことができるた
め、記録内容が破壊されることを防ぐことができるとと
もに、ジルコニアセラミックスはセラミックスの中でも
ボイドが少なくかつ高靱性であることから、内外のエッ
ジに形成する面取り部2b(6b),4bの面取り量を
少なくできるため、磁気ディスク基板25や磁気ヘッド
保持用基板27との接触面積率を大きくすることがで
き、磁気ディスク基板25や磁気ヘッド保持用基板27
の歪みを抑制することができるとともに、締め付け固定
時や衝撃が加わった場合でも磁気ディスク基板25への
脱粒や研削屑の落下が殆どないため、磁気ヘッド26と
してMRヘッドやGMRヘッドなど磁気抵抗素子を用い
たものを使用しても、磁気ヘッド26や磁気ディスク基
板25上の磁性膜を傷付けることがなく、信頼性の高い
磁気記録装置を提供することができる。
【0022】なお、図3の磁気記録装置においては、最
上部の磁気ディスク基板25がクランプ3によって保持
された例を示したが、最上部の磁気ディスク基板25が
スペーサ1を介してクランプ3によって保持されたもの
でも良く、また、図3においては、最下部の磁気ディス
ク基板25がスペーサ1を介してハブ24によって保持
された例を示したが、最下部の磁気ディスク基板25を
ハブ24によって直接保持させることもでき、この場合
はハブ24を導電性を有するセラミックスにより形成す
れば良い。また、図3の磁気記録装置では、磁気ディス
ク基板25を保持するスペーサ1とクランプ3、及び磁
気ヘッド保持用基板27を保持するスペーサ3をそれぞ
れ導電性のジルコニアセラミックスにより形成した例を
示したが、例えば、磁気ディスク基板25を保持するス
ペーサ1やクランプ3のみ、又は磁気ヘッド保持用基板
27を保持するスペーサ3のみを導電性のジルコニアセ
ラミックスにより形成したものでも構わない。
上部の磁気ディスク基板25がクランプ3によって保持
された例を示したが、最上部の磁気ディスク基板25が
スペーサ1を介してクランプ3によって保持されたもの
でも良く、また、図3においては、最下部の磁気ディス
ク基板25がスペーサ1を介してハブ24によって保持
された例を示したが、最下部の磁気ディスク基板25を
ハブ24によって直接保持させることもでき、この場合
はハブ24を導電性を有するセラミックスにより形成す
れば良い。また、図3の磁気記録装置では、磁気ディス
ク基板25を保持するスペーサ1とクランプ3、及び磁
気ヘッド保持用基板27を保持するスペーサ3をそれぞ
れ導電性のジルコニアセラミックスにより形成した例を
示したが、例えば、磁気ディスク基板25を保持するス
ペーサ1やクランプ3のみ、又は磁気ヘッド保持用基板
27を保持するスペーサ3のみを導電性のジルコニアセ
ラミックスにより形成したものでも構わない。
【0023】ところで、上記スペーサ1(5)やクラン
プ3などの保持部材を構成する導電性を有するジルコニ
アセラミックスとは、ジルコニア(ZrO2 )を主成分
とし、導電性付与材として、Fe、Co、Ni、Crの
酸化物のうち1種以上を10〜50重量%の範囲で含有
したもので、ジルコニアセラミックスの破壊靱性値(K
1C)が5.0MPam1/2 以上でかつ体積固有抵抗値が
109 Ω・cm以下であるものが良い。
プ3などの保持部材を構成する導電性を有するジルコニ
アセラミックスとは、ジルコニア(ZrO2 )を主成分
とし、導電性付与材として、Fe、Co、Ni、Crの
酸化物のうち1種以上を10〜50重量%の範囲で含有
したもので、ジルコニアセラミックスの破壊靱性値(K
1C)が5.0MPam1/2 以上でかつ体積固有抵抗値が
109 Ω・cm以下であるものが良い。
【0024】ここで、破壊靱性値(K1C)を5.0MP
am1/2 以上とするのは、ボイドの少ないジルコニアセ
ラミックスと言えども破壊靱性値(K1C)が5.0MP
am1/2 未満であると、研削加工後の表面にマイクロク
ラックが多数発生し、締め付け固定時や衝撃が加わった
場合に脱粒を生じ易く、この脱粒片がパーティクルの原
因となるからである。
am1/2 以上とするのは、ボイドの少ないジルコニアセ
ラミックスと言えども破壊靱性値(K1C)が5.0MP
am1/2 未満であると、研削加工後の表面にマイクロク
ラックが多数発生し、締め付け固定時や衝撃が加わった
場合に脱粒を生じ易く、この脱粒片がパーティクルの原
因となるからである。
【0025】また、導電性付与材の含有量を10〜50
重量%とするのは、含有量が10重量%より少なくなる
と、ジルコニアセラミックスの体積固有抵抗値が109
Ω・cmより大きくなって絶縁性が高くなるため、磁気
ディスク基板25や磁気エッド保持用基板27に帯電す
る静電気を逃がす効果が得られないからであり、含有量
が50重量%より多くなると、ジルコニアセラミックス
の破壊靱性値(K1C)が5.0MPam1/2 未満となる
からである。なお、より好ましくは導電性付与材を20
〜30重量%の範囲で含有したものが良い。
重量%とするのは、含有量が10重量%より少なくなる
と、ジルコニアセラミックスの体積固有抵抗値が109
Ω・cmより大きくなって絶縁性が高くなるため、磁気
ディスク基板25や磁気エッド保持用基板27に帯電す
る静電気を逃がす効果が得られないからであり、含有量
が50重量%より多くなると、ジルコニアセラミックス
の破壊靱性値(K1C)が5.0MPam1/2 未満となる
からである。なお、より好ましくは導電性付与材を20
〜30重量%の範囲で含有したものが良い。
【0026】一方、主成分のジルコニア(ZrO2 )
は、Y2 O3 、MgO、CaO、CeO2 等の安定化材
で部分安定化したものを使用する。
は、Y2 O3 、MgO、CaO、CeO2 等の安定化材
で部分安定化したものを使用する。
【0027】具体的には、安定化材としてY2 O3 を用
いる時には、ZrO2 に対して3〜9mol%の範囲で
添加し、MgOを用いる時には、ZrO2 に対して16
〜26mol%の範囲で添加し、CaOを用いる時に
は、ZrO2 に対して8〜12mol%の範囲で添加
し、CeO2 を用いる時には、ZrO2 に対して10〜
16mol%の範囲でそれぞれ添加すれば良く、これら
の範囲で安定化材を添加すれば、全ジルコニア量に対す
る単斜晶以外のジルコニア(正方晶ジルコニア及び立方
晶ジルコニア)量を90%以上とすることができるた
め、導電性付与材を含有したことによる機械的特性の劣
化を抑え、破壊靱性値5.0MPam1/2 以上、曲げ強
度580MPa以上でかつビッカース硬度9.5GPa
以上を達成することができる。即ち、ジルコニアの結晶
状態には、立方晶、正方晶、単斜晶の3つの状態があ
り、特に、正方晶ジルコニアは外部応力に対し、応力誘
起変態を受けて単斜晶ジルコニアに相変態し、この時に
生じる体積膨張によってジルコニアの周囲に微小なマイ
クロクラックを形成して外部応力の進行を阻止できる効
果があるため、ジルコニアセラミックスの機械的特性を
高めることができるからである。
いる時には、ZrO2 に対して3〜9mol%の範囲で
添加し、MgOを用いる時には、ZrO2 に対して16
〜26mol%の範囲で添加し、CaOを用いる時に
は、ZrO2 に対して8〜12mol%の範囲で添加
し、CeO2 を用いる時には、ZrO2 に対して10〜
16mol%の範囲でそれぞれ添加すれば良く、これら
の範囲で安定化材を添加すれば、全ジルコニア量に対す
る単斜晶以外のジルコニア(正方晶ジルコニア及び立方
晶ジルコニア)量を90%以上とすることができるた
め、導電性付与材を含有したことによる機械的特性の劣
化を抑え、破壊靱性値5.0MPam1/2 以上、曲げ強
度580MPa以上でかつビッカース硬度9.5GPa
以上を達成することができる。即ち、ジルコニアの結晶
状態には、立方晶、正方晶、単斜晶の3つの状態があ
り、特に、正方晶ジルコニアは外部応力に対し、応力誘
起変態を受けて単斜晶ジルコニアに相変態し、この時に
生じる体積膨張によってジルコニアの周囲に微小なマイ
クロクラックを形成して外部応力の進行を阻止できる効
果があるため、ジルコニアセラミックスの機械的特性を
高めることができるからである。
【0028】なお、ジルコニアセラミックス中における
全ジルコニア量に対し、単斜晶以外のジルコニア量を算
出するには、X線回折により単斜晶ジルコニアのX線回
折強度と正方晶ジルコニア及び立方晶ジルコニアのX線
回折強度をそれぞれ測定し、数1により算出することが
できる。
全ジルコニア量に対し、単斜晶以外のジルコニア量を算
出するには、X線回折により単斜晶ジルコニアのX線回
折強度と正方晶ジルコニア及び立方晶ジルコニアのX線
回折強度をそれぞれ測定し、数1により算出することが
できる。
【0029】
【数1】
【0030】また、ジルコニア(ZrO2 )の平均結晶
粒子径は1.0μm以下、好ましくは0.6μm以下の
ものが良い。
粒子径は1.0μm以下、好ましくは0.6μm以下の
ものが良い。
【0031】さらに、原料粉末中や製造工程中におい
て、Al2 O3 、MnO、SiO2 、Na、Fe等が不
純物として混入する恐れがあるが、これらは2.0重量
%以下の範囲であれば含んでいても構わない。
て、Al2 O3 、MnO、SiO2 、Na、Fe等が不
純物として混入する恐れがあるが、これらは2.0重量
%以下の範囲であれば含んでいても構わない。
【0032】さらに、パーティクルの発生を抑えるため
にはジルコニアセラミックスのボイド率は3.5%以
下、平均ボイド径は5μm以下とすることが良く、この
ような範囲とすることにより、パーティクルとして検出
されるボイド中の研削屑の量を少なくできる。
にはジルコニアセラミックスのボイド率は3.5%以
下、平均ボイド径は5μm以下とすることが良く、この
ような範囲とすることにより、パーティクルとして検出
されるボイド中の研削屑の量を少なくできる。
【0033】このような導電性を有するジルコニアセラ
ミックスを得るには、平均粒子径が0.5〜1.0μm
のZrO2 粉末と安定化材としてのY2 O3 、MgO、
CaO、CeO2 の粉末、および導電性付与材としての
Fe3 O4 、Co3 O4 、NiO、Cr2 O3 のうち1
種類以上の酸化物粉末を用いるか、あるいは焼成中にこ
れらの材料に変化しうる水酸化物粉末や炭酸化粉末等を
用い、安定化材を含むZrO2 が50〜90重量%、導
電性付与材が50〜10重量%となるように調合し、こ
れらを乾式または湿式で混合する。なお、湿式の場合は
スプレードライヤー等で乾燥造粒して顆粒を製作するこ
ともできる。また、ZrO2 と安定化材の混合において
共沈法を用いても良く、共沈法を用いれば微細でかつ均
一に安定化材が分散されたZrO2 を得ることができ
る。
ミックスを得るには、平均粒子径が0.5〜1.0μm
のZrO2 粉末と安定化材としてのY2 O3 、MgO、
CaO、CeO2 の粉末、および導電性付与材としての
Fe3 O4 、Co3 O4 、NiO、Cr2 O3 のうち1
種類以上の酸化物粉末を用いるか、あるいは焼成中にこ
れらの材料に変化しうる水酸化物粉末や炭酸化粉末等を
用い、安定化材を含むZrO2 が50〜90重量%、導
電性付与材が50〜10重量%となるように調合し、こ
れらを乾式または湿式で混合する。なお、湿式の場合は
スプレードライヤー等で乾燥造粒して顆粒を製作するこ
ともできる。また、ZrO2 と安定化材の混合において
共沈法を用いても良く、共沈法を用いれば微細でかつ均
一に安定化材が分散されたZrO2 を得ることができ
る。
【0034】そして、乾式による原料粉末や湿式による
顆粒を型に充填し、メカプレス成型法やラバープレス成
型法等の公知の成型手段により所定の形状に成型する
か、あるいは湿式による泥漿を押出成型法や射出成型
法、テープ成型法等の公知の成型手段により所定形状に
成形したのち、酸化雰囲気中にて1〜3時間程度焼成す
る。この時、焼成温度が1360℃未満であると完全に
焼結させることができず、1450℃より高くなるとシ
ンターオーバーとなるため、いずれもジルコニアセラミ
ックスの機械的特性(強度、破壊靱性値、硬度)を高め
ることができない。
顆粒を型に充填し、メカプレス成型法やラバープレス成
型法等の公知の成型手段により所定の形状に成型する
か、あるいは湿式による泥漿を押出成型法や射出成型
法、テープ成型法等の公知の成型手段により所定形状に
成形したのち、酸化雰囲気中にて1〜3時間程度焼成す
る。この時、焼成温度が1360℃未満であると完全に
焼結させることができず、1450℃より高くなるとシ
ンターオーバーとなるため、いずれもジルコニアセラミ
ックスの機械的特性(強度、破壊靱性値、硬度)を高め
ることができない。
【0035】その為、1360℃〜1450℃の温度範
囲で焼成することが重要である。
囲で焼成することが重要である。
【0036】このような条件にて製作すれば、全ジルコ
ニア量に対する単斜晶以外のジルコニア量が90%以上
であり、破壊靱性5.0MPam1/2 以上、曲げ強度5
80MPa以上、ビッカース硬度(Hv)9.5GPa
以上を有するとともに、体積固有抵抗値が109 Ω・c
m以下と導電性を持たせることができる。
ニア量に対する単斜晶以外のジルコニア量が90%以上
であり、破壊靱性5.0MPam1/2 以上、曲げ強度5
80MPa以上、ビッカース硬度(Hv)9.5GPa
以上を有するとともに、体積固有抵抗値が109 Ω・c
m以下と導電性を持たせることができる。
【0037】(実施例1)ここで、破壊靱性値を異なら
せた導電性ジルコニアセラミックスからなる基板用保持
部材と純度99.5%のアルミナセラミックス及びフォ
ルステライトからなる従来の基板用保持部材とをそれぞ
れ用意し、基板用保持部材に付着しているパーティクル
量について調べる実験を行った。
せた導電性ジルコニアセラミックスからなる基板用保持
部材と純度99.5%のアルミナセラミックス及びフォ
ルステライトからなる従来の基板用保持部材とをそれぞ
れ用意し、基板用保持部材に付着しているパーティクル
量について調べる実験を行った。
【0038】本実験では基板用保持部材を外径24m
m、内径20mm、厚み2mmのリング状をしたスペー
サの形状とし、該基板用保持部材の外周面に存在する2
μm以上のパーティクル量についてレーザ−・パーティ
クル・カウンタで測定した。
m、内径20mm、厚み2mmのリング状をしたスペー
サの形状とし、該基板用保持部材の外周面に存在する2
μm以上のパーティクル量についてレーザ−・パーティ
クル・カウンタで測定した。
【0039】また、導電性を有するジルコニアセラミッ
クスとしては、導電付与材としてFe2 O3 を含み破壊
靱性値が6.0MPam1/2 、5.5MPam1/2 、
4.0MPam1/2 のものをそれぞれ用意した。
クスとしては、導電付与材としてFe2 O3 を含み破壊
靱性値が6.0MPam1/2 、5.5MPam1/2 、
4.0MPam1/2 のものをそれぞれ用意した。
【0040】各材質の特性とそれぞれの結果は表1に示
す通りである。
す通りである。
【0041】
【表1】
【0042】この結果、破壊靱性値が5.0MPam
1/2 以上である導電性ジルコニアからなるものは、他の
セラミックスと比較して破壊靱性値が大きくかつ極めて
ボイドが少ないことから、パーティクル量を従来のアル
ミナ製と比較して12%、従来のフォルステライト製と
比較して10%程度にまで抑えることができた。
1/2 以上である導電性ジルコニアからなるものは、他の
セラミックスと比較して破壊靱性値が大きくかつ極めて
ボイドが少ないことから、パーティクル量を従来のアル
ミナ製と比較して12%、従来のフォルステライト製と
比較して10%程度にまで抑えることができた。
【0043】(実施例2)次に、上記導電性のジルコニ
アセラミックスに含有させるFe2 O3 の含有量を異な
らせた時の機械的特性(曲げ強度、破壊靱性値、ビッカ
ース硬度)及び電気的特性(体積固有抵抗値および静電
気の除去具合)を測定した。
アセラミックスに含有させるFe2 O3 の含有量を異な
らせた時の機械的特性(曲げ強度、破壊靱性値、ビッカ
ース硬度)及び電気的特性(体積固有抵抗値および静電
気の除去具合)を測定した。
【0044】組成及び結果は表2に示す通りである。
【0045】
【表2】
【0046】この結果、Fe2 O3 の含有量が10重量
%未満である試料No.1,2は、十分な機械的特性を
有していたものの、体積固有抵抗値が1010Ω・cmと
絶縁性が高いために静電気の除去効果が得られなかっ
た。
%未満である試料No.1,2は、十分な機械的特性を
有していたものの、体積固有抵抗値が1010Ω・cmと
絶縁性が高いために静電気の除去効果が得られなかっ
た。
【0047】また、Fe2 O3 の含有量が50重量%よ
り多い試料No.9では、破壊靱性値が5.0MPam
1/2 未満であった。
り多い試料No.9では、破壊靱性値が5.0MPam
1/2 未満であった。
【0048】これに対し、Fe2 O3 が10〜50重量
%の範囲にある試料No.3〜8は、破壊靱性5MPa
m1/2 以上、曲げ強度580MPa以上、、ビッカース
硬度(Hv)9.5GPa以上と十分な機械的特性を有
するとともに、体積固有抵抗値が109 Ω・cm以下と
導電性を有することから、静電気を適度な速度で逃がす
ことができ、優れた静電気除去効果を有していた。
%の範囲にある試料No.3〜8は、破壊靱性5MPa
m1/2 以上、曲げ強度580MPa以上、、ビッカース
硬度(Hv)9.5GPa以上と十分な機械的特性を有
するとともに、体積固有抵抗値が109 Ω・cm以下と
導電性を有することから、静電気を適度な速度で逃がす
ことができ、優れた静電気除去効果を有していた。
【0049】(実施例3)次に、Fe2 O3 に代えてN
iO、Co3 O4 、Cr2 O3 からなる導電性付与材を
含有させたジルコニアセラミックスを製作し、実施例2
のように機械的特性と電気的特性を測定する実験を行っ
た。
iO、Co3 O4 、Cr2 O3 からなる導電性付与材を
含有させたジルコニアセラミックスを製作し、実施例2
のように機械的特性と電気的特性を測定する実験を行っ
た。
【0050】それぞれの結果は表3に示す通りである。
【0051】
【表3】
【0052】この結果、導電性付与材として、NiO、
Co3 O4 、Cr2 O3 を用いた場合においてもその含
有量を10〜50重量%とすることでジルコニアの持つ
機械的特性を大きく低下させることなく、優れた静電気
除去効果が得られることが確認できた。なお、導電性付
与材として添加したCo3 O4 はセラミックス中におい
てCoOの状態で存在していた。
Co3 O4 、Cr2 O3 を用いた場合においてもその含
有量を10〜50重量%とすることでジルコニアの持つ
機械的特性を大きく低下させることなく、優れた静電気
除去効果が得られることが確認できた。なお、導電性付
与材として添加したCo3 O4 はセラミックス中におい
てCoOの状態で存在していた。
【0053】
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、単数又
は複数の基板を所定の間隔に保持する基板用保持部材
を、導電性付与材として、Fe、Co、Ni、Crの酸
化物のうち1種以上を含み、破壊靱性値(K1C)が5.
0MPam1/2 以上であるジルコニアセラミックスによ
り形成したことから、締め付け固定時に変形することが
なく、また、保持部材の接触面を平坦でかつ平滑とでき
るため、磁気ディスク基板及び磁気ヘッド保持用基板を
極めて高精度に保持することができる。また、上記ジル
コニアセラミックスは適度な導電性を有することから、
磁気ディスク基板や磁気ヘッドが帯電したとしても静電
気を逃がすことができるため、記録内容が破壊されるこ
とを防ぐことができるとともに、ジルコニアセラミック
スはセラミックスの中でもボイドが少なくかつ高靱性で
あることから、保持部材の接触面における内外のエッジ
に形成する面取り部の面取り量を少なくできるため、磁
気ディスク基板や磁気ヘッド保持用基板との接触面積率
を大きくすることができ、締め付け固定時における磁気
ディスク基板や磁気ヘッド保持用基板の歪みを抑制する
ことができるとともに、磁気ディスク基板に落下する脱
粒片や研削屑等のパーティクルの発生を大幅に抑えるこ
とができる。
は複数の基板を所定の間隔に保持する基板用保持部材
を、導電性付与材として、Fe、Co、Ni、Crの酸
化物のうち1種以上を含み、破壊靱性値(K1C)が5.
0MPam1/2 以上であるジルコニアセラミックスによ
り形成したことから、締め付け固定時に変形することが
なく、また、保持部材の接触面を平坦でかつ平滑とでき
るため、磁気ディスク基板及び磁気ヘッド保持用基板を
極めて高精度に保持することができる。また、上記ジル
コニアセラミックスは適度な導電性を有することから、
磁気ディスク基板や磁気ヘッドが帯電したとしても静電
気を逃がすことができるため、記録内容が破壊されるこ
とを防ぐことができるとともに、ジルコニアセラミック
スはセラミックスの中でもボイドが少なくかつ高靱性で
あることから、保持部材の接触面における内外のエッジ
に形成する面取り部の面取り量を少なくできるため、磁
気ディスク基板や磁気ヘッド保持用基板との接触面積率
を大きくすることができ、締め付け固定時における磁気
ディスク基板や磁気ヘッド保持用基板の歪みを抑制する
ことができるとともに、磁気ディスク基板に落下する脱
粒片や研削屑等のパーティクルの発生を大幅に抑えるこ
とができる。
【0054】その為、上記基板用保持部材を用いて単数
又は複数の磁気ディスク基板や磁気ヘッド保持用基板を
所定の間隔で保持して磁気記録装置を構成することによ
り、磁気ヘッド間の距離、磁気ディスク基板間の距離、
及び磁気ヘッドと磁気ディスク基板との距離を高精度に
かつ極めて小さくすることができるため、情報記録密度
を高め、情報の高密度化、大容量化を実現することがで
きるとともに、上記基板用保持部材から発生するパーテ
ィクル量が少ないことから、MRヘッドやGMRヘッド
など高抵抗素子を用いた磁気ヘッドを使用しても、磁気
ヘッドや磁気ディスク基板上の磁性膜を傷付けることが
なく、信頼性の高い磁気記録装置を提供することができ
る。
又は複数の磁気ディスク基板や磁気ヘッド保持用基板を
所定の間隔で保持して磁気記録装置を構成することによ
り、磁気ヘッド間の距離、磁気ディスク基板間の距離、
及び磁気ヘッドと磁気ディスク基板との距離を高精度に
かつ極めて小さくすることができるため、情報記録密度
を高め、情報の高密度化、大容量化を実現することがで
きるとともに、上記基板用保持部材から発生するパーテ
ィクル量が少ないことから、MRヘッドやGMRヘッド
など高抵抗素子を用いた磁気ヘッドを使用しても、磁気
ヘッドや磁気ディスク基板上の磁性膜を傷付けることが
なく、信頼性の高い磁気記録装置を提供することができ
る。
【図1】(a)は本発明の基板用保持部材の一例である
スペーサを示す斜視図、(b)(a)のX−X線断面図
である。
スペーサを示す斜視図、(b)(a)のX−X線断面図
である。
【図2】(a)は本発明の基板用保持部材の他の例であ
るクランプを示す斜視図、(b)は(a)のY−Y線断
面図である。
るクランプを示す斜視図、(b)は(a)のY−Y線断
面図である。
【図3】本発明の磁気記録装置を示す概略図である。
【図4】従来の磁気記録装置を示す概略図である。
1,5・・・スペーサ 2,6・・・リング状体 2
a,6a・・・接触面 2b,6b・・・面取り部 3・・・クランプ 4・・
・ 4a・・・接触面 4b・・・面取り部 4c・・・凹
部 20・・・ディスク部 23・・・回転軸 24・・・
ハブ 25・・・磁気ディスク基板 26・・・磁気ヘッド 27・・・磁気ヘッド保持用基板 29・・・固定部材
30・・・ヘッド部
a,6a・・・接触面 2b,6b・・・面取り部 3・・・クランプ 4・・
・ 4a・・・接触面 4b・・・面取り部 4c・・・凹
部 20・・・ディスク部 23・・・回転軸 24・・・
ハブ 25・・・磁気ディスク基板 26・・・磁気ヘッド 27・・・磁気ヘッド保持用基板 29・・・固定部材
30・・・ヘッド部
Claims (2)
- 【請求項1】単数又は複数の基板を所定の間隔で保持す
る部材が、導電性付与材として、Fe、Co、Ni、C
rの酸化物のうち1種以上を含み、破壊靱性値(K1C)
が5.0MPam1/2 以上であるジルコニアセラミック
スからなる基板用保持部材。 - 【請求項2】請求項1に記載の基板用保持部材によって
単数又は複数の磁気ディスク基板及び/又は磁気ヘッド
保持用基板を所定の間隔で保持してなる磁気記録装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10086299A JPH11283350A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 基板用保持部材及びこれを用いた磁気記録装置 |
| PCT/JP1998/001882 WO1998049121A1 (en) | 1997-04-25 | 1998-04-22 | Semiconductive zirconia sinter and destaticizing member comprising semiconductive zirconia sinter |
| US09/214,049 US6274524B1 (en) | 1997-04-25 | 1998-04-22 | Semiconductive zirconia sintering body and electrostatic removing member constructed by semiconductive zirconia sintering body |
| US09/853,416 US6602813B2 (en) | 1997-04-25 | 2001-05-10 | Electrostatic removing member having semiconductive zirconia sintered body |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10086299A JPH11283350A (ja) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | 基板用保持部材及びこれを用いた磁気記録装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11283350A true JPH11283350A (ja) | 1999-10-15 |
Family
ID=13882967
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10086299A Pending JPH11283350A (ja) | 1997-04-25 | 1998-03-31 | 基板用保持部材及びこれを用いた磁気記録装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11283350A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008097803A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-04-24 | Sii Micro Precision Kk | ハードディスク装置 |
-
1998
- 1998-03-31 JP JP10086299A patent/JPH11283350A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008097803A (ja) * | 2006-09-15 | 2008-04-24 | Sii Micro Precision Kk | ハードディスク装置 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP0019693A1 (en) | A magnetic head slider assembly | |
| US6274524B1 (en) | Semiconductive zirconia sintering body and electrostatic removing member constructed by semiconductive zirconia sintering body | |
| JPH11283350A (ja) | 基板用保持部材及びこれを用いた磁気記録装置 | |
| KR930023920A (ko) | 수명이 향상된 자기 기록 / 재생 헤드 및 그 재료 | |
| CN100399426C (zh) | 磁头滑块用材料、磁头滑块及磁头滑块用材料的制造方法 | |
| JP2009110571A (ja) | 磁気ヘッド用基板およびこれを用いた磁気ヘッドならびに記録媒体駆動装置 | |
| JP2984199B2 (ja) | 磁気ディスク基板用保持部材および磁気ディスク装置 | |
| JPH06168536A (ja) | 磁気ディスク基板用保持部材およびこれを用いた磁気ディスク装置 | |
| JP3735500B2 (ja) | 磁気ディスク保持部材 | |
| JP3819960B2 (ja) | 導電性セラミックスの製造方法及びこれを用いた磁気ディスク保持部材 | |
| JPS6278715A (ja) | 磁気デイスク基板 | |
| KR100533861B1 (ko) | 반도체성지르코니아소결체및반도체성지르코니아소결체로이루어지는정전기제거부재 | |
| JP3825215B2 (ja) | 導電性セラミックスおよびこれを用いた帯電防止部材 | |
| JPH11189463A (ja) | 半導電性セラミックス及びこれを用いた治工具、磁気ディスク基板用保持部材並びに磁気ディスク装置 | |
| JP4090771B2 (ja) | 半導電性セラミックス、並びにこれを用いた磁気ディスク基板用保持部材及び治工具 | |
| JP4549031B2 (ja) | 磁気ディスク基板用保持部材及びその製造方法 | |
| JP5020210B2 (ja) | 磁気ヘッド用基板および磁気ヘッドならびに磁気記録装置 | |
| JP3502683B2 (ja) | 記録媒体ディスク用基板 | |
| JP5295109B2 (ja) | 磁気ヘッド用基板、磁気ヘッドおよび記録媒体駆動装置 | |
| JPH06101115B2 (ja) | ジルコニア製磁気デイスク基板及びその製法 | |
| JP2001126431A (ja) | 磁気ディスク基板用保持部材及びこれを用いた磁気ディスク装置 | |
| JP3825079B2 (ja) | 非磁性セラミックスの製造方法 | |
| JP2000195212A (ja) | 磁気ディスク基板用保持部材及びこれを用いた磁気ディスク装置 | |
| JPH03127315A (ja) | 浮上型磁気ヘッド | |
| JPS61192006A (ja) | 磁気ヘツド |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040812 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20041012 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20050524 |