JPH11284122A - Resin-sealed semiconductor device - Google Patents
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- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、銅系フレームを使
用した樹脂封止型半導体装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a resin-sealed semiconductor device using a copper frame.
【0002】[0002]
【従来の技術】図8は、従来の銅系フレームを用いた樹
脂封止型半導体装置のダイボンド後の構造を示す断面図
である。図において、1は半導体素子、3はダイボンド
材2を用いて半導体素子1が固定される銅または銅合金
よりなるダイパッド、6aはダイパッド3の周辺部に配
置され、半導体素子1の電極と金属細線で接続されるイ
ンナーリード、11はダイパッド3及びインナーリード
6a等より構成される半導体用のフレームである。近
年、半導体素子1の高速化、高集積化に伴い、半導体素
子1からの発熱量が増える傾向にあり、半導体素子1を
包むパッケージの高放熱化が重要となっている。このた
め、最近では、フレーム11の材料として、従来の鉄系
フレームに代わって、熱伝導度が高い銅及び銅合金より
なる銅系フレームの適用が増えてきている。2. Description of the Related Art FIG. 8 is a sectional view showing a structure of a conventional resin-encapsulated semiconductor device using a copper-based frame after die bonding. In the figure, reference numeral 1 denotes a semiconductor element, 3 denotes a die pad made of copper or a copper alloy to which the semiconductor element 1 is fixed using a die bonding material 2, 6 a is disposed around the die pad 3, and the electrode of the semiconductor element 1 and a thin metal wire Is a semiconductor frame composed of the die pad 3, the inner lead 6a and the like. In recent years, with an increase in the speed and integration of the semiconductor element 1, the amount of heat generated from the semiconductor element 1 tends to increase, and it is important to increase the heat radiation of a package surrounding the semiconductor element 1. Therefore, recently, as a material for the frame 11, a copper-based frame made of copper and a copper alloy having high thermal conductivity has been increasingly used in place of the conventional iron-based frame.
【0003】[0003]
【発明が解決しようとする課題】しかし、銅系フレーム
は、従来の鉄系フレームよりも強度が低く、また、熱膨
張係数が大きいため、図8に示すように、ダイボンド後
に半導体素子1とダイパッド3が上方に反る傾向が大き
くなる。このように、半導体素子1とダイパッド3が上
方に反っている場合、図9に示すように、次工程のワイ
ヤボンディング時にダイパッド3とヒートブロック7と
の間に間隙があるため、ツール8が半導体素子1上の電
極9に接した時に、半導体素子1とダイパッド3が上下
に振動し、金属細線10の接合が不安定となり、接合部
の剥がれ等の接合不良が発生するという問題があった。
また、図10に示すように、半導体素子1上の電極9と
金属細線10の接合を行った後、金属細線10をインナ
ーリード6aへ移動する際にも、前述の半導体素子1及
びダイパッド3の上下方向の振動が残っており、この振
動が電極9から金属細線10に伝わり、金属細線10が
断線するループ不良の問題もあった。However, since the copper frame has lower strength and a larger thermal expansion coefficient than the conventional iron frame, as shown in FIG. 8, the semiconductor element 1 and the die pad are bonded after die bonding. 3 tends to warp upward. As described above, when the semiconductor element 1 and the die pad 3 are warped upward, there is a gap between the die pad 3 and the heat block 7 at the time of the next wire bonding as shown in FIG. When the semiconductor element 1 and the die pad 3 vibrate up and down when they come into contact with the electrode 9 on the element 1, there is a problem that the bonding of the thin metal wires 10 becomes unstable and a bonding failure such as peeling of the bonding portion occurs.
Further, as shown in FIG. 10, after bonding the electrode 9 on the semiconductor element 1 and the thin metal wire 10 and moving the thin metal wire 10 to the inner lead 6a, the semiconductor element 1 and the die pad Vertical vibration remains, and this vibration is transmitted from the electrode 9 to the thin metal wire 10, causing a problem of a loop defect in which the thin metal wire 10 is broken.
【0004】一方、半導体素子とリードフレーム及び封
止樹脂の熱膨張係数の違いに起因するパッケージの反り
やクラックを防止する方法として、例えば特開平3−2
83551号公報では、図11に示すように、リードフ
レーム11の半導体素子1搭載部の裏側に、リードフレ
ーム11よりも熱膨張係数の小さい金属板13を接着剤
14にて接合した樹脂封止型半導体装置が提案されてい
る。この方法によれば、上述の銅系フレームにおいても
強度を向上させることができ、反りを抑制することが可
能であると考えられる。しかしながら、現在の樹脂封止
型半導体装置においては、パッケージの薄型化により封
止樹脂12の厚さも薄くなる傾向にあり、特にリードフ
レーム11の下部の封止樹脂12の厚さは、約0. 2m
m程度となっている。このような薄型化の状況において
リードフレーム11の裏側に金属板13を接合すること
は、パッケージの内容物の体積を増加させることにな
り、封止樹脂12の注入時にリードフレーム11下部に
樹脂が十分に回り込むことができず、封止樹脂12の未
注入による不良の発生を招くという問題があった。ま
た、主に封止樹脂12との密着性向上のために、リード
フレーム11の半導体素子搭載部(図8ではダイパッド
3)に多数の穴が設けられている場合があり、その場
合、金属板13を接合することで穴が塞がれてしまい、
リードフレーム11と封止樹脂12の密着性が損なわれ
るという問題もあった。On the other hand, as a method for preventing a package from warping or cracking due to a difference in thermal expansion coefficient between a semiconductor element, a lead frame and a sealing resin, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No.
In JP-A-83551, as shown in FIG. 11, a resin sealing type in which a metal plate 13 having a smaller thermal expansion coefficient than that of the lead frame 11 is bonded to the back side of the semiconductor element 1 mounting portion of the lead frame 11 by an adhesive 14. Semiconductor devices have been proposed. According to this method, it is considered that the strength can be improved even in the above-described copper-based frame, and the warpage can be suppressed. However, in the current resin-encapsulated semiconductor device, the thickness of the encapsulation resin 12 tends to be reduced due to the reduction in the thickness of the package. In particular, the thickness of the encapsulation resin 12 below the lead frame 11 is about 0. 2m
m. Joining the metal plate 13 to the back side of the lead frame 11 in such a state of thinning increases the volume of the contents of the package. There is a problem in that the sealing resin 12 cannot be sufficiently wrapped around, and a failure due to the non-injection of the sealing resin 12 occurs. In addition, there are cases where a large number of holes are provided in the semiconductor element mounting portion (the die pad 3 in FIG. 8) of the lead frame 11 mainly for improving the adhesion to the sealing resin 12, and in this case, the metal plate The hole is closed by joining 13
There is also a problem that the adhesion between the lead frame 11 and the sealing resin 12 is impaired.
【0005】本発明は、上記のような問題点を解消する
ためになされたもので、ダイボンド後の半導体素子及び
ダイパッドの反りを抑制し、反りに起因する接合不良や
ループ不良を防止すると共に、封止樹脂の未注入による
不良を防止し、さらに封止樹脂とダイパッドの密着性を
損なわない樹脂封止型半導体装置を得ることを目的とす
る。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made to solve the above-described problems, and suppresses warpage of a semiconductor element and a die pad after die bonding, and prevents bonding failure and loop failure due to warpage. It is an object of the present invention to provide a resin-sealed semiconductor device that prevents defects due to non-injection of a sealing resin and does not impair the adhesion between the sealing resin and a die pad.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明に係わる樹脂封止
型半導体装置は、周辺部にリードが配置されたフレーム
のダイパッド上に、ダイボンド材を用いて半導体素子が
固定され、樹脂封止された樹脂封止型半導体装置であっ
て、ダイパッド裏面の周縁部に枠状の金属板が接合され
ているものである。また、金属板の枠内には、枠を補強
する架橋が設けられているものである。また、周辺部に
リードが配置されたフレームのダイパッド上に、ダイボ
ンド材を用いて半導体素子が固定され、樹脂封止された
樹脂封止型半導体装置であって、ダイパッド表面の周縁
部に枠状の金属板が接合されているものである。In a resin-sealed semiconductor device according to the present invention, a semiconductor element is fixed using a die bond material on a die pad of a frame in which leads are arranged in a peripheral portion, and the semiconductor element is sealed with a resin. And a frame-shaped metal plate is joined to a peripheral portion of the back surface of the die pad. Further, a bridge for reinforcing the frame is provided in the frame of the metal plate. Further, a resin-sealed semiconductor device in which a semiconductor element is fixed using a die bonding material on a die pad of a frame in which leads are arranged in a peripheral portion, and is resin-sealed. Are bonded together.
【0007】また、金属板は、フレームと同じ金属材料
またはフレームの金属と熱膨張係数がほぼ等しい金属材
料よりなるものである。さらに、フレーム及び金属板
は、銅または銅合金よりなるものである。また、金属板
は、ダイパッドに接着材を用いて接合されているもので
ある。また、金属板は、ダイパッドに溶接によって接合
されているものである。The metal plate is made of the same metal material as the frame or a metal material having a coefficient of thermal expansion substantially equal to that of the metal of the frame. Further, the frame and the metal plate are made of copper or a copper alloy. The metal plate is bonded to the die pad using an adhesive. The metal plate is joined to the die pad by welding.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】実施の形態1.以下に、本発明の
実施の形態を図について説明する。図1は、本発明の実
施の形態1である樹脂封止型半導体装置のダイボンド後
の構造を示す断面図、図2は平面図である。図におい
て、1は半導体素子、3はダイボンド材2を用いて半導
体素子1が固定される銅または銅合金よりなるダイパッ
ド、5はダイパッド3裏面の周縁部に接着材層4を介し
て接合された枠状の金属板、6aはダイパッド3の周辺
部に配置され、半導体素子1の電極(図示せず)と金属
細線(図示せず)で接続されるインナーリード、11は
ダイパッド3及びインナーリード6a等より構成される
半導体用のフレームである。本実施の形態による半導体
装置は、周辺部にインナーリード6aが配置されたフレ
ーム11のダイパッド3上に、ダイボンド材2を用いて
半導体素子が固定され、後の封止工程にて樹脂封止され
る樹脂封止型半導体装置であって、ダイパッド3の裏面
に、接着材を用いて枠状の金属板5を接合したことを特
徴とする。金属板5は、フレーム11と同じ金属材料ま
たはフレーム11の金属と熱膨張係数がほぼ等しい金属
材料よりなり、本実施の形態では、フレーム11及び金
属板5は、銅または銅合金よりなるものである。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a sectional view showing a structure after die bonding of a resin-sealed semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a plan view. In the figure, 1 is a semiconductor element, 3 is a die pad made of copper or a copper alloy to which the semiconductor element 1 is fixed using a die bonding material 2, 5 is bonded to the peripheral portion of the back surface of the die pad 3 via an adhesive layer 4. The frame-shaped metal plate 6a is disposed in the periphery of the die pad 3 and is connected to an electrode (not shown) of the semiconductor element 1 by a thin metal wire (not shown), and 11 is the die pad 3 and the inner lead 6a. It is a frame for a semiconductor configured from the above. In the semiconductor device according to the present embodiment, the semiconductor element is fixed on the die pad 3 of the frame 11 in which the inner leads 6a are arranged in the peripheral portion using the die bonding material 2, and is sealed with a resin in a later sealing step. And a frame-shaped metal plate 5 is bonded to the back surface of the die pad 3 using an adhesive. The metal plate 5 is made of the same metal material as the frame 11 or a metal material having a thermal expansion coefficient substantially equal to that of the metal of the frame 11. In the present embodiment, the frame 11 and the metal plate 5 are made of copper or a copper alloy. is there.
【0009】図3は、本実施の形態による樹脂封止後の
樹脂封止型半導体装置を示す断面図である。図におい
て、6bはアウターリード、12は封止樹脂である。近
年のパッケージは薄型化の傾向にあり、その厚みは約1
mm程度である。このうち、半導体素子1の厚みは約
0. 3mm、フレーム11の厚みは約0. 125mmで
あり、封止樹脂12の厚みは上部(L1 )よりも下部
(L2 )の方が薄くなっている。本実施の形態では、金
属板5の厚みをフレーム11と同程度の約0. 125m
mとし、その形状をダイパッド3裏面の周縁部のみを補
強する枠状とすることで、封止樹脂12がダイパッド3
下部に回り込む空間を確保し、封止樹脂12の未注入に
よる不良の発生を防止するものである。また、ダイパッ
ド3には、主に封止樹脂12との密着性向上のために多
数の穴が設けられている場合があり、そのような場合で
も、本実施の形態による枠状の金属板5であれば、ダイ
パッド3の穴の効果を損なうことなく、ダイパッド3を
補強することができる。FIG. 3 is a sectional view showing a resin-sealed semiconductor device after resin sealing according to the present embodiment. In the figure, 6b is an outer lead, and 12 is a sealing resin. In recent years, packages are becoming thinner, and their thickness is about 1
mm. Among them, the thickness of the semiconductor element 1 is about 0.3 mm, the thickness of the frame 11 is about 0.125 mm, and the thickness of the sealing resin 12 is smaller at the lower part (L 2 ) than at the upper part (L 1 ). ing. In the present embodiment, the thickness of the metal plate 5 is about 0.125 m, which is almost the same as that of the frame 11.
m, and the shape is a frame shape that reinforces only the peripheral portion of the back surface of the die pad 3, so that the sealing resin 12
The space around the lower part is ensured, and the occurrence of a failure due to the non-injection of the sealing resin 12 is prevented. Further, the die pad 3 may be provided with a large number of holes mainly for improving the adhesion to the sealing resin 12, and even in such a case, the frame-shaped metal plate 5 according to the present embodiment may be provided. Then, the die pad 3 can be reinforced without impairing the effect of the hole of the die pad 3.
【0010】以上のように、本実施の形態によれば、枠
状の金属板5をダイパッド3裏面の周縁部に接合するこ
とにより、ダイボンド後の半導体素子1及びダイパッド
3の反りを抑制し、次工程のワイヤボンド時において従
来発生していた半導体素子1の上下方向への振動を無く
し、この振動に起因する接合不良やループ不良を防止す
ることができる。また、金属板5を枠状とすることで、
封止樹脂12の回り込む空間を確保し、封止樹脂12の
未注入による不良を防止することができる。さらに、ダ
イパッド3に封止樹脂12との密着性向上のための多数
の穴が設けられている場合にも、全ての穴を塞ぐことが
ないため、密着性を損なうことなくダイパッド3を補強
することが可能である。As described above, according to the present embodiment, by bonding the frame-shaped metal plate 5 to the peripheral portion of the back surface of the die pad 3, the warpage of the semiconductor element 1 and the die pad 3 after die bonding is suppressed. Vibration in the vertical direction of the semiconductor element 1, which has conventionally occurred at the time of wire bonding in the next step, can be eliminated, and bonding failure and loop failure due to this vibration can be prevented. Also, by forming the metal plate 5 in a frame shape,
A space around the sealing resin 12 can be secured, and defects due to the non-injection of the sealing resin 12 can be prevented. Further, even when a large number of holes for improving the adhesion with the sealing resin 12 are provided in the die pad 3, all the holes are not closed, so that the die pad 3 is reinforced without impairing the adhesion. It is possible.
【0011】なお、本実施の形態では、枠状の金属板5
をダイパッド3の裏面に接合したが、図4及び図5に示
すように、枠状の金属板5をダイパッド3の表面に接合
しても良く、同様の効果を奏する。また、接合する金属
板5の枚数は1枚に限らず、半導体素子1の大きさや、
ダイパッド3のパターンの違いによる反りの大きさによ
って、適当な枚数の金属板5を重ねて接合しても良い。
このように、本実施の形態による枠状の金属板5は、反
り量に応じて金属板5の枚数を変化させることができる
ため、汎用性が高い。また、厚みの異なる枠状の金属板
5を数種類用意しても良い。In this embodiment, the frame-shaped metal plate 5
Was bonded to the back surface of the die pad 3, but a frame-shaped metal plate 5 may be bonded to the surface of the die pad 3 as shown in FIGS. Further, the number of metal plates 5 to be joined is not limited to one, and the size of the semiconductor element 1 and
An appropriate number of metal plates 5 may be overlapped and joined depending on the degree of warpage due to the difference in pattern of the die pad 3.
As described above, the frame-shaped metal plate 5 according to the present embodiment has a high versatility because the number of metal plates 5 can be changed according to the amount of warpage. Further, several kinds of frame-shaped metal plates 5 having different thicknesses may be prepared.
【0012】実施の形態2.図6は、本発明の実施の形
態2である樹脂封止型半導体装置のダイボンド後の構造
を示す断面図である。なお、図中、同一、相当部分には
同一符号を付し説明を省略する。本実施の形態では、枠
状の金属板5をダイパッド3裏面に接合する際に、上記
実施の形態1で用いた接着材層4を介さずに、溶接にて
接合することを特徴とする。本実施の形態においても、
上記実施の形態1と同様の効果が得られ、さらに接着材
層4の厚みが無くなるため省スペース化が図られ、封止
樹脂12の回り込みに有利であり、封止樹脂12の未注
入による不良が防止できる。また、枠状の金属板5をダ
イパッド3の表面に接合する場合にも、本実施の形態に
よる溶接による接合を適用することができ、同様の効果
を奏する。Embodiment 2 FIG. FIG. 6 is a sectional view showing a structure after die bonding of the resin-encapsulated semiconductor device according to the second embodiment of the present invention. In the drawings, the same or corresponding parts have the same reference characters allotted, and description thereof will not be repeated. The present embodiment is characterized in that, when joining the frame-shaped metal plate 5 to the back surface of the die pad 3, the joining is performed by welding without using the adhesive layer 4 used in the first embodiment. Also in the present embodiment,
The same effect as in the first embodiment can be obtained, and further, since the thickness of the adhesive layer 4 is eliminated, space can be saved, which is advantageous for the encapsulation resin 12 to go around, and a defect due to the non-injection of the encapsulation resin 12. Can be prevented. In addition, when the frame-shaped metal plate 5 is joined to the surface of the die pad 3, the joining by welding according to the present embodiment can be applied, and the same effect can be obtained.
【0013】実施の形態3.図7は、本発明の実施の形
態3である樹脂封止型半導体装置に用いられる金属板の
形状例を示す平面図である。図において、5aは枠状の
金属板に2本の平行な架橋を設けた金属板、5bは枠状
の金属板の対角線上でクロスする2本の架橋を設けた金
属板である。上記実施の形態1及び2において、ダイパ
ッド3の周縁部のみを補強する枠状の金属板5の代わり
に、本実施の形態で示したような架橋を設けた金属板5
a、5bを用いてもよく、半導体素子1及びダイパッド
3の反りに対してさらに強い抑制効果が得られる。ただ
し、架橋を設けた金属板5a、5bは、ダイパッド3の
裏面にのみ接合するものとする。なお、架橋の本数及び
位置はこれに限るものではない。また、架橋を設けた金
属板5a、5bも、半導体素子1及びダイパッド3の反
り量に応じて、複数枚重ねて接合してもよい。Embodiment 3 FIG. 7 is a plan view showing a shape example of a metal plate used in the resin-sealed semiconductor device according to the third embodiment of the present invention. In the figure, 5a is a metal plate provided with two parallel bridges on a frame-shaped metal plate, and 5b is a metal plate provided with two bridges crossing diagonally of the frame-shaped metal plate. In the first and second embodiments, instead of the frame-shaped metal plate 5 that reinforces only the peripheral portion of the die pad 3, a metal plate 5 provided with a bridge as shown in the present embodiment is used.
a and 5b may be used, and a stronger effect of suppressing warpage of the semiconductor element 1 and the die pad 3 can be obtained. However, the metal plates 5 a and 5 b provided with the bridge are bonded only to the back surface of the die pad 3. The number and positions of the crosslinks are not limited to the above. Also, a plurality of crosslinked metal plates 5a and 5b may be overlapped and joined according to the amount of warpage of the semiconductor element 1 and the die pad 3.
【0014】[0014]
【発明の効果】以上のように、本発明によれば、周辺部
にリードが配置されたフレームのダイパッド上に、ダイ
ボンド材を用いて半導体素子が固定され、樹脂封止され
た樹脂封止型半導体装置において、ダイパッド裏面また
は表面の周縁部に枠状の金属板を接合することにより、
従来、ダイボンド後に生じていた半導体素子及びダイパ
ッドの反りを抑制することができ、次工程のワイヤボン
ド時に発生していた振動による接合不良やループ不良を
防止することができる。As described above, according to the present invention, a semiconductor element is fixed on a die pad of a frame in which leads are arranged in a peripheral portion by using a die bonding material, and is resin-sealed. In a semiconductor device, by joining a frame-shaped metal plate to the peripheral portion of the rear surface or the front surface of the die pad,
Conventionally, warpage of a semiconductor element and a die pad which has occurred after die bonding can be suppressed, and bonding failure and loop failure due to vibration generated at the time of wire bonding in the next step can be prevented.
【0015】また、ダイパッド裏面に接合する金属板を
枠状とすることで、封止樹脂がダイパッド下部に回り込
む空間を確保し、封止樹脂の未注入による不良を防ぎ、
且つダイパッドと封止樹脂との密着性を損なわない樹脂
封止型半導体装置が得られる。Further, by forming the metal plate joined to the back surface of the die pad into a frame shape, a space where the sealing resin goes around the lower portion of the die pad is secured, and a defect due to the non-injection of the sealing resin is prevented.
In addition, a resin-sealed semiconductor device that does not impair the adhesion between the die pad and the sealing resin can be obtained.
【図1】 本発明の実施の形態1である樹脂封止型半導
体装置のダイボンド後の構造を示す断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view showing a structure after die bonding of a resin-sealed semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】 本発明の実施の形態1である樹脂封止型半導
体装置のダイボンド後の構造を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing a structure after die bonding of the resin-encapsulated semiconductor device according to the first embodiment of the present invention;
【図3】 本発明の実施の形態1である樹脂封止型半導
体装置を示す断面図である。FIG. 3 is a sectional view showing a resin-sealed semiconductor device according to the first embodiment of the present invention;
【図4】 本発明の実施の形態1である別の樹脂封止型
半導体装置のダイボンド後の構造を示す断面図である。FIG. 4 is a sectional view showing a structure after die bonding of another resin-encapsulated semiconductor device according to the first embodiment of the present invention;
【図5】 本発明の実施の形態1である別の樹脂封止型
半導体装置のダイボンド後の構造を示す平面図である。FIG. 5 is a plan view showing a structure after die bonding of another resin-encapsulated semiconductor device according to the first embodiment of the present invention;
【図6】 本発明の実施の形態2である樹脂封止型半導
体装置のダイボンド後の構造を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing a structure after die bonding of a resin-encapsulated semiconductor device according to a second embodiment of the present invention;
【図7】 本発明の実施の形態3である樹脂封止型半導
体装置に用いられる金属板の形状例を示す平面図であ
る。FIG. 7 is a plan view showing a shape example of a metal plate used in a resin-sealed semiconductor device according to a third embodiment of the present invention;
【図8】 従来の樹脂封止型半導体装置のダイボンド後
の構造を示す断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view showing a structure after die bonding of a conventional resin-encapsulated semiconductor device.
【図9】 従来のダイボンド後の樹脂封止型半導体装置
の問題点を説明するための断面図である。FIG. 9 is a cross-sectional view for explaining a problem of the conventional resin-encapsulated semiconductor device after die bonding.
【図10】 従来のダイボンド後の樹脂封止型半導体装
置の問題点を説明するための断面図である。FIG. 10 is a cross-sectional view for explaining a problem of a conventional resin-encapsulated semiconductor device after die bonding.
【図11】 リードフレームの裏面に金属板を接合した
従来の樹脂封止型半導体装置を示す断面図である。FIG. 11 is a cross-sectional view showing a conventional resin-encapsulated semiconductor device in which a metal plate is joined to the back surface of a lead frame.
1 半導体素子、2 ダイボンド材、3 ダイパッド、
4 接着材層、5、5a、5b 金属板、6a インナ
ーリード、6b アウターリード、7 ヒートブロッ
ク、8 ツール、9 電極、10 金属細線、11 フ
レーム、12 封止樹脂、13 金属板、14 接着
剤。1 semiconductor device, 2 die bonding material, 3 die pad,
4 adhesive layer, 5, 5a, 5b metal plate, 6a inner lead, 6b outer lead, 7 heat block, 8 tool, 9 electrode, 10 metal thin wire, 11 frame, 12 sealing resin, 13 metal plate, 14 adhesive .
Claims (7)
ダイパッド上に、ダイボンド材を用いて半導体素子が固
定され、樹脂封止された樹脂封止型半導体装置であっ
て、上記ダイパッド裏面の周縁部に枠状の金属板が接合
されていることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。1. A resin-sealed semiconductor device in which a semiconductor element is fixed using a die bonding material on a die pad of a frame in which leads are arranged in a peripheral portion, and is resin-sealed. A resin-encapsulated semiconductor device, wherein a frame-shaped metal plate is joined to the portion.
設けられていることを特徴とする請求項1記載の樹脂封
止型半導体装置。2. The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1, wherein a bridge for reinforcing the frame is provided in the frame of the metal plate.
ダイパッド上に、ダイボンド材を用いて半導体素子が固
定され、樹脂封止された樹脂封止型半導体装置であっ
て、上記ダイパッド表面の周縁部に枠状の金属板が接合
されていることを特徴とする樹脂封止型半導体装置。3. A resin-sealed semiconductor device in which a semiconductor element is fixed using a die bonding material on a die pad of a frame in which leads are arranged in a peripheral portion, and is resin-sealed. A resin-encapsulated semiconductor device, wherein a frame-shaped metal plate is joined to the portion.
はフレームの金属と熱膨張係数がほぼ等しい金属材料よ
りなることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか
一項に記載の樹脂封止型半導体装置。4. The resin according to claim 1, wherein the metal plate is made of the same metal material as the frame or a metal material having a thermal expansion coefficient substantially equal to that of the metal of the frame. Sealed semiconductor device.
よりなることを特徴とする請求項4記載の樹脂封止型半
導体装置。5. The resin-sealed semiconductor device according to claim 4, wherein the frame and the metal plate are made of copper or a copper alloy.
接合されていることを特徴とする請求項1〜請求項5の
いずれか一項に記載の樹脂封止型半導体装置。6. The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1, wherein the metal plate is bonded to the die pad using an adhesive.
合されていることを特徴とする請求項1〜請求項5のい
ずれか一項に記載の樹脂封止型半導体装置。7. The resin-encapsulated semiconductor device according to claim 1, wherein the metal plate is joined to the die pad by welding.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8541198A JPH11284122A (en) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | Resin-sealed semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8541198A JPH11284122A (en) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | Resin-sealed semiconductor device |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11284122A true JPH11284122A (en) | 1999-10-15 |
Family
ID=13858073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8541198A Pending JPH11284122A (en) | 1998-03-31 | 1998-03-31 | Resin-sealed semiconductor device |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11284122A (en) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7362001B2 (en) | 2002-10-28 | 2008-04-22 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Generator-motor |
| US7411324B2 (en) | 2002-10-28 | 2008-08-12 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Generator-motor |
-
1998
- 1998-03-31 JP JP8541198A patent/JPH11284122A/en active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7362001B2 (en) | 2002-10-28 | 2008-04-22 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Generator-motor |
| US7411324B2 (en) | 2002-10-28 | 2008-08-12 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Generator-motor |
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