JPH11284343A - 多層プリント配線板及びその製造方法 - Google Patents
多層プリント配線板及びその製造方法Info
- Publication number
- JPH11284343A JPH11284343A JP10030398A JP10030398A JPH11284343A JP H11284343 A JPH11284343 A JP H11284343A JP 10030398 A JP10030398 A JP 10030398A JP 10030398 A JP10030398 A JP 10030398A JP H11284343 A JPH11284343 A JP H11284343A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- core substrate
- via hole
- blind via
- printed wiring
- wiring board
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Production Of Multi-Layered Print Wiring Board (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 最表面の高密度実装化を実現できる多層プリ
ント配線板及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 導体パターン5を有する上側コア基板1
1及び下側コア基板12と,両者を接着する接着層2と
からなる。上側コア基板11又は/及び下側コア基板1
2は,外側端が被覆パッド51により閉塞され内部端は
開口しているアウターブラインドビアホール3を有して
いる。アウターブラインドビアホール3の内部には内部
端から接着層2の一部が侵入している。
ント配線板及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 導体パターン5を有する上側コア基板1
1及び下側コア基板12と,両者を接着する接着層2と
からなる。上側コア基板11又は/及び下側コア基板1
2は,外側端が被覆パッド51により閉塞され内部端は
開口しているアウターブラインドビアホール3を有して
いる。アウターブラインドビアホール3の内部には内部
端から接着層2の一部が侵入している。
Description
【0001】
【技術分野】本発明は,多層プリント配線板及びその製
造方法に関し,特に外表面の高密度実装化のための構造
に関する。
造方法に関し,特に外表面の高密度実装化のための構造
に関する。
【0002】
【従来技術】多層プリント配線板上には,多数の導体パ
ターンが積層されている。そのため,多層プリント配線
板の最表面は,外部端子接続のために基板のすべての電
気情報が集中して,非常に高密度化が要求される。
ターンが積層されている。そのため,多層プリント配線
板の最表面は,外部端子接続のために基板のすべての電
気情報が集中して,非常に高密度化が要求される。
【0003】
【解決しようとする課題】しかしながら,従来において
は,多層プリント配線板の最表面の高密度配線について
充分に考慮されているものは少ない。その原因は,多層
プリント配線板には,各層の間を電気的に接続するビア
ホールが必要であり,このビアホールが,多層プリント
配線板の最表面に開口するため,最表面の高密度化を妨
げているからである。
は,多層プリント配線板の最表面の高密度配線について
充分に考慮されているものは少ない。その原因は,多層
プリント配線板には,各層の間を電気的に接続するビア
ホールが必要であり,このビアホールが,多層プリント
配線板の最表面に開口するため,最表面の高密度化を妨
げているからである。
【0004】本発明は,かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので,最表面の高密度実装化を実現できる多層
プリント配線板及びその製造方法を提供しようとするも
のである。
されたもので,最表面の高密度実装化を実現できる多層
プリント配線板及びその製造方法を提供しようとするも
のである。
【0005】
【課題の解決手段】本発明は,導体パターンを有する上
側コア基板及び下側コア基板と,上記上側コア基板と下
側コア基板とを接着する接着層とからなる多層プリント
配線板において,上記上側コア基板又は/及び下側コア
基板は,外側端が被覆パッドにより閉塞され内部端は開
口しているアウターブラインドビアホールを有してお
り,該アウターブラインドビアホールの内部には内部端
から上記接着層の一部が侵入していることを特徴とする
多層プリント配線板である。
側コア基板及び下側コア基板と,上記上側コア基板と下
側コア基板とを接着する接着層とからなる多層プリント
配線板において,上記上側コア基板又は/及び下側コア
基板は,外側端が被覆パッドにより閉塞され内部端は開
口しているアウターブラインドビアホールを有してお
り,該アウターブラインドビアホールの内部には内部端
から上記接着層の一部が侵入していることを特徴とする
多層プリント配線板である。
【0006】本発明において最も注目すべきことは,上
側コア基板又は/及び下側コア基板にアウターブライン
ドビアホールを設け,その底部を被覆パッドにより被覆
して多層プリント配線板の上側面,下側面に向けて配置
していることである。これにより,多層プリント配線板
の上側面又は/及び下側面にはアウターブラインドビア
ホールの被覆パッドが配置され,一方多層プリント配線
板の内部にはアウターブラインドビアホールの開口部が
配置される。このため,高密度実装が要求される上側面
又は/及び下側面に,被覆パッドを利用した導体パター
ンを形成できる。例えば,被覆パッドは,外部端子接続
用のパッド,電子部品搭載用パッド,配線パターンな
ど,多数の導電性パターンとして利用できる。
側コア基板又は/及び下側コア基板にアウターブライン
ドビアホールを設け,その底部を被覆パッドにより被覆
して多層プリント配線板の上側面,下側面に向けて配置
していることである。これにより,多層プリント配線板
の上側面又は/及び下側面にはアウターブラインドビア
ホールの被覆パッドが配置され,一方多層プリント配線
板の内部にはアウターブラインドビアホールの開口部が
配置される。このため,高密度実装が要求される上側面
又は/及び下側面に,被覆パッドを利用した導体パター
ンを形成できる。例えば,被覆パッドは,外部端子接続
用のパッド,電子部品搭載用パッド,配線パターンな
ど,多数の導電性パターンとして利用できる。
【0007】また,アウターブラインドビアホールの内
部には,接着層の一部が侵入しているため,この侵入部
が上側コア基板と下側コア基板との接着強度を高める。
そのため,多層プリント配線板は,各層間の接着強度に
優れている。
部には,接着層の一部が侵入しているため,この侵入部
が上側コア基板と下側コア基板との接着強度を高める。
そのため,多層プリント配線板は,各層間の接着強度に
優れている。
【0008】上記アウターブラインドビアホールの底部
に位置する被覆パッドは,粗面であることが好ましい。
これにより,粗面に接着層が食い込み,いわゆるアンカ
ー効果によって,アウターブラインドビアホール底部に
おける接着層の接着強度が高められる。
に位置する被覆パッドは,粗面であることが好ましい。
これにより,粗面に接着層が食い込み,いわゆるアンカ
ー効果によって,アウターブラインドビアホール底部に
おける接着層の接着強度が高められる。
【0009】本発明において,上側コア基板とは,多層
プリント配線板の最も上側に配置されたコア基板をい
う。また,下側コア基板とは,多層プリント配線板の最
も下側に配置されたコア基板をいう。アウターブライン
ドビアホールとは,上側コア基板又は下側コア基板の少
なくとも一方に設けられたブラインドビアホールをい
う。アウターブラインドビアホールは,多層プリント配
線板の外部端は被覆パッドにより被覆されており,また
内部端は開口している。
プリント配線板の最も上側に配置されたコア基板をい
う。また,下側コア基板とは,多層プリント配線板の最
も下側に配置されたコア基板をいう。アウターブライン
ドビアホールとは,上側コア基板又は下側コア基板の少
なくとも一方に設けられたブラインドビアホールをい
う。アウターブラインドビアホールは,多層プリント配
線板の外部端は被覆パッドにより被覆されており,また
内部端は開口している。
【0010】上記上側コア基板,下側コア基板として
は,例えば,ガラスエポキシ基板,ポリイミド基板,ビ
スマレイミドトリアジン基板などの絶縁基板を用いるこ
とができる。接着層としては,例えば,ガラスクロスに
樹脂を含浸したプリプレグ等を用いることができる。導
体パターン,被覆パッドとしては,金属箔のエッチン
グ,金属めっき膜により形成された導電材料を用いて形
成される。
は,例えば,ガラスエポキシ基板,ポリイミド基板,ビ
スマレイミドトリアジン基板などの絶縁基板を用いるこ
とができる。接着層としては,例えば,ガラスクロスに
樹脂を含浸したプリプレグ等を用いることができる。導
体パターン,被覆パッドとしては,金属箔のエッチン
グ,金属めっき膜により形成された導電材料を用いて形
成される。
【0011】アウターブラインドビアホールは,例え
ば,直径0.03〜0.3mmであることが好ましい。
これにより,アウターブラインドビアホールの所要領域
を増やすことができ,また,導通信頼性も向上させるこ
とができる。一方,0.03mm未満の場合には,ビア
ホール内に金属めっきが十分な厚みで付かないおそれが
ある。また,0.3mmを超える場合には配線密度が低
下するおそれがある。
ば,直径0.03〜0.3mmであることが好ましい。
これにより,アウターブラインドビアホールの所要領域
を増やすことができ,また,導通信頼性も向上させるこ
とができる。一方,0.03mm未満の場合には,ビア
ホール内に金属めっきが十分な厚みで付かないおそれが
ある。また,0.3mmを超える場合には配線密度が低
下するおそれがある。
【0012】次に,上記多層プリント配線板を製造する
に当たっては,例えば,絶縁基板に導体パターンを形成
して上側コア基板及び下側コア基板を形成するととも
に,上記上側コア基板又は/及び上記下側コア基板の少
なくとも一方に,アウターブラインドビアホール底部に
位置する部分に被覆パッドを形成し,また,該アウター
ブラインドビアホール形成部分にレーザー照射により穿
設し金属めっき膜を施してアウターブラインドビアホー
ルを形成する工程と,上記上側コア基板と下側コア基板
とを,上記アウターブラインドビアホールの開口部が内
部を向くようにして,接着層を介して積層,圧着する工
程とからなることを特徴とする多層プリント配線板の製
造方法がある。
に当たっては,例えば,絶縁基板に導体パターンを形成
して上側コア基板及び下側コア基板を形成するととも
に,上記上側コア基板又は/及び上記下側コア基板の少
なくとも一方に,アウターブラインドビアホール底部に
位置する部分に被覆パッドを形成し,また,該アウター
ブラインドビアホール形成部分にレーザー照射により穿
設し金属めっき膜を施してアウターブラインドビアホー
ルを形成する工程と,上記上側コア基板と下側コア基板
とを,上記アウターブラインドビアホールの開口部が内
部を向くようにして,接着層を介して積層,圧着する工
程とからなることを特徴とする多層プリント配線板の製
造方法がある。
【0013】本製造方法においては,上側コア基板と下
側コア基板とを,アウターブラインドビアホールの開口
部が内部を向くようにして,接着層を介して積層,圧着
している。そのため,圧着時に,上側コア基板及び下側
コア基板にそれぞれ設けたアウターブラインドビアホー
ルの中に,接着層の一部が侵入して,ホール内部が接着
層で充填される。そのため,接着層に対する上側コア基
板,下側コア基板の接着強度が高まる。
側コア基板とを,アウターブラインドビアホールの開口
部が内部を向くようにして,接着層を介して積層,圧着
している。そのため,圧着時に,上側コア基板及び下側
コア基板にそれぞれ設けたアウターブラインドビアホー
ルの中に,接着層の一部が侵入して,ホール内部が接着
層で充填される。そのため,接着層に対する上側コア基
板,下側コア基板の接着強度が高まる。
【0014】また,アウターブラインドビアホールの底
部に配置した被覆パッドは,多層プリント配線板の外部
に向けて配置されるため,被覆パッドを最外層に設ける
導体パターンの一部として利用できる。
部に配置した被覆パッドは,多層プリント配線板の外部
に向けて配置されるため,被覆パッドを最外層に設ける
導体パターンの一部として利用できる。
【0015】また,上記製造方法において,上記アウタ
ーブラインドビアホールの底部に位置する被覆パッドに
は,粗面化処理を施すことが好ましい。これにより,粗
面に接着層が食い込み,いわゆるアンカー効果によっ
て,アウターブラインドビアホール底部における接着層
の接着強度が高められる。
ーブラインドビアホールの底部に位置する被覆パッドに
は,粗面化処理を施すことが好ましい。これにより,粗
面に接着層が食い込み,いわゆるアンカー効果によっ
て,アウターブラインドビアホール底部における接着層
の接着強度が高められる。
【0016】
【発明の実施の形態】実施形態例1 本発明の実施形態例にかかる多層プリント配線板につい
て,図1〜図7を用いて説明する。本例の多層プリント
配線板8は,図1に示すごとく,導体パターン5をそれ
ぞれ有する上側コア基板11及び下側コア基板12と,
上側コア基板11と下側コア基板12とを接着する接着
層2とからなる。
て,図1〜図7を用いて説明する。本例の多層プリント
配線板8は,図1に示すごとく,導体パターン5をそれ
ぞれ有する上側コア基板11及び下側コア基板12と,
上側コア基板11と下側コア基板12とを接着する接着
層2とからなる。
【0017】上側コア基板11及び下側コア基板12
は,外側端が被覆パッド51により閉塞され内部端は開
口しているアウターブラインドビアホール3を有してい
る。アウターブラインドビアホール3の内部には内部端
から接着層2の一部が侵入している。
は,外側端が被覆パッド51により閉塞され内部端は開
口しているアウターブラインドビアホール3を有してい
る。アウターブラインドビアホール3の内部には内部端
から接着層2の一部が侵入している。
【0018】アウターブラインドビアホール3の底部に
位置する被覆パッド51は,粗面511である(図
7)。アウターブラインドビアホール3は,直径0.1
mmである。また,多層プリント配線板8の上側表面,
下側表面には,インナーブラインドビアホール35が開
口している。このインナーブラインドビアホール35の
底部は,上記アウターブラインドビアホール3と同様に
被覆パッド51により被覆されている。
位置する被覆パッド51は,粗面511である(図
7)。アウターブラインドビアホール3は,直径0.1
mmである。また,多層プリント配線板8の上側表面,
下側表面には,インナーブラインドビアホール35が開
口している。このインナーブラインドビアホール35の
底部は,上記アウターブラインドビアホール3と同様に
被覆パッド51により被覆されている。
【0019】多層プリント配線板8の上側表面,下側表
面は,ソルダーレジスト19により被覆されている。ソ
ルダーレジスト19の一部は,インナーブラインドビア
ホール35の内部に侵入している。また,多層プリント
配線板8の上側面には,外部接続パッド54が設けられ
ており,ここには,半田ボール等の外部端子を介して,
多層プリント配線板8とマザーボードとの間を電気的に
接続する。
面は,ソルダーレジスト19により被覆されている。ソ
ルダーレジスト19の一部は,インナーブラインドビア
ホール35の内部に侵入している。また,多層プリント
配線板8の上側面には,外部接続パッド54が設けられ
ており,ここには,半田ボール等の外部端子を介して,
多層プリント配線板8とマザーボードとの間を電気的に
接続する。
【0020】次に,上記多層プリント配線板を製造する
に当たっては,図2に示す工程を行う。即ち,図2に示
すS0〜S6工程において,図3に示すごとく,下側コ
ア基板12を作製する。
に当たっては,図2に示す工程を行う。即ち,図2に示
すS0〜S6工程において,図3に示すごとく,下側コ
ア基板12を作製する。
【0021】即ち,まず,S0工程において,銅箔の片
面に,粗面化処理を行い,粗面とする。次に,S1工程
において,ガラスエポキシ基板からなる絶縁基板1の両
面に,銅箔50を貼着する(図3(a))。次いで,S
2工程において,銅箔50におけるアウターブラインド
ビアホール形成部分30に,銅箔50のエッチングによ
り開口部501を形成する(図3(a))。開口部50
1は,直径0.2mmの丸穴とする。
面に,粗面化処理を行い,粗面とする。次に,S1工程
において,ガラスエポキシ基板からなる絶縁基板1の両
面に,銅箔50を貼着する(図3(a))。次いで,S
2工程において,銅箔50におけるアウターブラインド
ビアホール形成部分30に,銅箔50のエッチングによ
り開口部501を形成する(図3(a))。開口部50
1は,直径0.2mmの丸穴とする。
【0022】次に,S3工程において,アウターブライ
ンドビアホール形成部分30にレーザーを照射する。す
ると,レーザーは,絶縁基板のアウターブラインドビア
ホール50形成部分を焼失しておき,底部の銅箔50に
到達するとそこで穴明けが停止する。これにより,絶縁
基板1に,開口部501と同一断面形状のアウターブラ
インドビアホール3を穿設する(図3(b))。
ンドビアホール形成部分30にレーザーを照射する。す
ると,レーザーは,絶縁基板のアウターブラインドビア
ホール50形成部分を焼失しておき,底部の銅箔50に
到達するとそこで穴明けが停止する。これにより,絶縁
基板1に,開口部501と同一断面形状のアウターブラ
インドビアホール3を穿設する(図3(b))。
【0023】次いで,S4工程において,アウターブラ
インドビアホール3の内壁に,化学銅めっき・電気銅め
っき処理を行い,金属めっき膜59を被覆する(図3
(c))。次いで,S5工程において,絶縁基板1の表
面における,積層時に内部となる側に,銅箔50のエッ
チングにより導体パターン5及び被覆パッド51を形成
する(図3(d),図5(b)参照)。
インドビアホール3の内壁に,化学銅めっき・電気銅め
っき処理を行い,金属めっき膜59を被覆する(図3
(c))。次いで,S5工程において,絶縁基板1の表
面における,積層時に内部となる側に,銅箔50のエッ
チングにより導体パターン5及び被覆パッド51を形成
する(図3(d),図5(b)参照)。
【0024】次に,S6工程において,絶縁基板1の表
面における,導体パターン5などを形成した側に,黒化
処理を行う。これは,積層時に接着層との接着性を高め
るための処理である。以上により,下側コア基板12を
得る。
面における,導体パターン5などを形成した側に,黒化
処理を行う。これは,積層時に接着層との接着性を高め
るための処理である。以上により,下側コア基板12を
得る。
【0025】次に,上記下側コア基板12の製造工程と
同様の工程(S0〜S6)を行い,図4に示すごとく,
上側コア基板11を作製する。
同様の工程(S0〜S6)を行い,図4に示すごとく,
上側コア基板11を作製する。
【0026】次に,S7工程において,図5に示すごと
く,下側コア基板12の上に,プリプレグからなる接着
層2を介在させて,上側コア基板11を積層し,加熱圧
着して,多層基板10を得る(図5(a))。このと
き,アウターブラインドビアホール3の内部に,その開
口側から接着層2の一部が侵入して,内部全体に充填さ
れる。また,多層基板10の両面にはパターン未形成の
銅箔50が配置される。
く,下側コア基板12の上に,プリプレグからなる接着
層2を介在させて,上側コア基板11を積層し,加熱圧
着して,多層基板10を得る(図5(a))。このと
き,アウターブラインドビアホール3の内部に,その開
口側から接着層2の一部が侵入して,内部全体に充填さ
れる。また,多層基板10の両面にはパターン未形成の
銅箔50が配置される。
【0027】次に,S8工程において,多層基板10の
表面の銅箔50における,インナーブラインドビアホー
ル形成部分350の開口側に,開口部501を形成する
(図5(b))。この開口部502は,直径0.2mm
の丸穴である。次に,S9工程において,図6に示すご
とく,多層基板10のインナーブラインドビアホール形
成部分350にレーザーを照射して,上記アウターブラ
インドビアホール3と同様に,被覆パッド51を底部と
するインナーブラインドビアホール35を穿設する(図
6(a))。
表面の銅箔50における,インナーブラインドビアホー
ル形成部分350の開口側に,開口部501を形成する
(図5(b))。この開口部502は,直径0.2mm
の丸穴である。次に,S9工程において,図6に示すご
とく,多層基板10のインナーブラインドビアホール形
成部分350にレーザーを照射して,上記アウターブラ
インドビアホール3と同様に,被覆パッド51を底部と
するインナーブラインドビアホール35を穿設する(図
6(a))。
【0028】次に,S10工程において,インナーブラ
インドビアホール35の内壁に,化学銅めっき・電気銅
めっき処理を行い,金属めっき膜59を被覆する(図6
(b))。次に,S11工程において,銅箔50のエッ
チングにより,導体パターン5及び外部接続パッド54
を形成する(図6(c))。
インドビアホール35の内壁に,化学銅めっき・電気銅
めっき処理を行い,金属めっき膜59を被覆する(図6
(b))。次に,S11工程において,銅箔50のエッ
チングにより,導体パターン5及び外部接続パッド54
を形成する(図6(c))。
【0029】次に,S12工程において,図1に示すご
とく,多層基板10をソルダーレジスト19により被覆
する。このとき,インナーブラインドビアホール34の
内部にソルダーレジスト19の一部が侵入してその内部
がソルダーレジスト19により充填される。次に,S1
3工程において,外部接続パッド54の表面に,ニッケ
ル・金めっき膜55を形成する。次に,S14工程にお
いて,多層基板を切断して,各多層プリント配線板に個
片化する。以上により,図1に示す多層プリント配線板
8が得られる。
とく,多層基板10をソルダーレジスト19により被覆
する。このとき,インナーブラインドビアホール34の
内部にソルダーレジスト19の一部が侵入してその内部
がソルダーレジスト19により充填される。次に,S1
3工程において,外部接続パッド54の表面に,ニッケ
ル・金めっき膜55を形成する。次に,S14工程にお
いて,多層基板を切断して,各多層プリント配線板に個
片化する。以上により,図1に示す多層プリント配線板
8が得られる。
【0030】本例の作用及び効果について説明する。本
例においては,上側コア基板11及び下側コア基板12
にアウターブラインドビアホール3を設け,その底部を
被覆パッド51により被覆して多層プリント配線板8の
上側面,下側面に向けて配置している。
例においては,上側コア基板11及び下側コア基板12
にアウターブラインドビアホール3を設け,その底部を
被覆パッド51により被覆して多層プリント配線板8の
上側面,下側面に向けて配置している。
【0031】これにより,多層プリント配線板8の上側
面及び下側面にはアウターブラインドビアホール3の被
覆パッド51が配置され,一方多層プリント配線板8の
内部にはアウターブラインドビアホール3の開口部が配
置される。このため,高密度実装が要求される上側面及
び下側面に,被覆パッド51を利用した導体パターン5
を形成できる。
面及び下側面にはアウターブラインドビアホール3の被
覆パッド51が配置され,一方多層プリント配線板8の
内部にはアウターブラインドビアホール3の開口部が配
置される。このため,高密度実装が要求される上側面及
び下側面に,被覆パッド51を利用した導体パターン5
を形成できる。
【0032】また,図1,図7に示すごとく,アウター
ブラインドビアホール3の内部には,接着層2の一部が
侵入しているため,この侵入部22が上側コア基板11
と下側コア基板12との接着強度を高める。そのため,
多層プリント配線板8は,各層間の接着強度に優れてい
る。
ブラインドビアホール3の内部には,接着層2の一部が
侵入しているため,この侵入部22が上側コア基板11
と下側コア基板12との接着強度を高める。そのため,
多層プリント配線板8は,各層間の接着強度に優れてい
る。
【0033】また,図7に示すごとく,アウターブライ
ンドビアホール3の底部に位置する被覆パッド51は,
粗面511である。これにより,粗面511に接着層2
の侵入部22が食い込み,いわゆるアンカー効果によっ
て,アウターブラインドビアホール3底部における接着
層2の接着強度が高められる。
ンドビアホール3の底部に位置する被覆パッド51は,
粗面511である。これにより,粗面511に接着層2
の侵入部22が食い込み,いわゆるアンカー効果によっ
て,アウターブラインドビアホール3底部における接着
層2の接着強度が高められる。
【0034】実施形態例2 本例の多層プリント配線板は,図8に示すごとく,上側
コア基板11と下側コア基板12との間に,中間コア基
板13を設けている。中間コア基板13には,導体パタ
ーン5及び,両端ブラインドビアホール34が設けられ
ている。
コア基板11と下側コア基板12との間に,中間コア基
板13を設けている。中間コア基板13には,導体パタ
ーン5及び,両端ブラインドビアホール34が設けられ
ている。
【0035】本例の多層プリント配線板8を製造するに
当たっては,実施形態例1におけるS0〜S6工程と同
様の工程を行い,上側コア基板11,下側コア基板12
及び中間コア基板13を得る。次いで,下側コア基板1
2,接着層2,中間コア基板13,接着層2,上側コア
基板11の順に下から積層し,これらを加熱圧着する
(S7工程参照)。その後,実施形態例1のS8〜S1
4工程と同様の工程を行い,本例の多層プリント配線板
8を得る。
当たっては,実施形態例1におけるS0〜S6工程と同
様の工程を行い,上側コア基板11,下側コア基板12
及び中間コア基板13を得る。次いで,下側コア基板1
2,接着層2,中間コア基板13,接着層2,上側コア
基板11の順に下から積層し,これらを加熱圧着する
(S7工程参照)。その後,実施形態例1のS8〜S1
4工程と同様の工程を行い,本例の多層プリント配線板
8を得る。
【0036】本例においても,実施形態例1と同様に,
多層ブラインドビアホール8にアウターブラインドビア
ホール3を設けているため,表面の高密度実装化を実現
できる。その他,本例においても,実施形態例1と同様
の効果を得ることができる。
多層ブラインドビアホール8にアウターブラインドビア
ホール3を設けているため,表面の高密度実装化を実現
できる。その他,本例においても,実施形態例1と同様
の効果を得ることができる。
【0037】
【発明の効果】本発明によれば,最表面の高密度実装化
を実現できる多層プリント配線板及びその製造方法を提
供することができる。
を実現できる多層プリント配線板及びその製造方法を提
供することができる。
【図1】実施形態例1の多層プリント配線板の断面図。
【図2】実施形態例1の多層プリント配線板の製造工程
図。
図。
【図3】実施形態例1における,下側コア基板の製造方
法を示す説明図。
法を示す説明図。
【図4】実施形態例1における,上側コア基板の断面
図。
図。
【図5】実施形態例1における多層基板の表面に導体パ
ターンを形成する方法を示す説明図。
ターンを形成する方法を示す説明図。
【図6】実施形態例1における,アウターブラインドビ
アホール,及び導体パターンを形成する方法を示す説明
図。
アホール,及び導体パターンを形成する方法を示す説明
図。
【図7】実施形態例1の多層プリント配線板の用部拡大
断面図。
断面図。
【図8】実施形態例2の多層プリント配線板の断面図。
【符号の説明】 1...絶縁基板, 10...多層基板, 11...上側コア基板, 12...下側コア基板, 13...中間コア基板, 19...ソルダーレジスト, 2...接着層, 3...アウターブラインドビアホール, 30...アウターブラインドビアホール形成部分, 350...インナーブラインドビアホール形成部分, 34...両端ブラインドビアホール, 35...インナーブラインドビアホール, 5...導体パターン, 50...銅箔, 51...被覆パッド, 54...外部接続パッド, 55...ニッケル・金めっき膜, 59...金属めっき膜, 501,502...開口部, 511...粗面, 8...多層プリント配線板,
Claims (4)
- 【請求項1】 導体パターンを有する上側コア基板及び
下側コア基板と,上記上側コア基板と下側コア基板とを
接着する接着層とからなる多層プリント配線板におい
て,上記上側コア基板又は/及び下側コア基板は,外側
端が被覆パッドにより閉塞され内部端は開口しているア
ウターブラインドビアホールを有しており,該アウター
ブラインドビアホールの内部には内部端から上記接着層
の一部が侵入していることを特徴とする多層プリント配
線板。 - 【請求項2】 請求項1において,上記被覆パッドは,
粗面であることを特徴とする多層プリント配線板。 - 【請求項3】 絶縁基板に導体パターンを形成して上側
コア基板及び下側コア基板を形成するとともに,上記上
側コア基板又は/及び上記下側コア基板の少なくとも一
方に,アウターブラインドビアホール底部に位置する部
分に被覆パッドを形成し,また,該アウターブラインド
ビアホール形成部分にレーザー照射により穿設し金属め
っき膜を施してアウターブラインドビアホールを形成す
る工程と,上記上側コア基板と下側コア基板とを,上記
アウターブラインドビアホールの開口部が内部を向くよ
うにして,接着層を介して積層,圧着する工程とからな
ることを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。 - 【請求項4】 請求項3において,上記アウターブライ
ンドビアホールの底部に位置する被覆パッドには,粗面
化処理を施すことを特徴とする多層プリント配線板の製
造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10030398A JPH11284343A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 多層プリント配線板及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10030398A JPH11284343A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 多層プリント配線板及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11284343A true JPH11284343A (ja) | 1999-10-15 |
Family
ID=14270410
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10030398A Pending JPH11284343A (ja) | 1998-03-27 | 1998-03-27 | 多層プリント配線板及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11284343A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9222641B2 (en) | 2010-07-16 | 2015-12-29 | Agc Glass Europe | Translucent conductive substrate for organic light emitting devices |
-
1998
- 1998-03-27 JP JP10030398A patent/JPH11284343A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9222641B2 (en) | 2010-07-16 | 2015-12-29 | Agc Glass Europe | Translucent conductive substrate for organic light emitting devices |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6324067B1 (en) | Printed wiring board and assembly of the same | |
| US7151228B2 (en) | Laminating double-side circuit board, manufacturing method thereof, and multilayer printed circuit board using same | |
| US8178191B2 (en) | Multilayer wiring board and method of making the same | |
| JP3492467B2 (ja) | 多層プリント配線板用片面回路基板、および多層プリント配線板とその製造方法 | |
| JP2010123829A (ja) | プリント配線板とその製造方法 | |
| JP2549393B2 (ja) | 回路基板の製造方法 | |
| JPH1041631A (ja) | チップ埋め込み構造高密度実装基板の製造方法 | |
| JP3179572B2 (ja) | 多層プリント配線板およびその製造方法 | |
| JP2002223076A (ja) | 多層配線基板 | |
| JPH10261854A (ja) | プリント配線板及びその製造方法 | |
| JPH11284343A (ja) | 多層プリント配線板及びその製造方法 | |
| JP3945764B2 (ja) | 配線基板 | |
| JPH11284300A (ja) | プリント配線板 | |
| JP2529987B2 (ja) | 多層印刷配線板装置の製造方法 | |
| JP2004111578A (ja) | ヒートスプレッダー付きビルドアップ型の配線基板の製造方法とヒートスプレッダー付きビルドアップ型の配線基板 | |
| JPH11289165A (ja) | 多層配線基板およびその製造方法 | |
| JPH10117067A (ja) | 多層配線基板及びその製造方法 | |
| JP3786894B2 (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
| JP3610769B2 (ja) | 多層電子部品搭載用基板 | |
| JP4019717B2 (ja) | 部品内蔵多層配線モジュール基板及びその製造方法 | |
| JPH08181452A (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
| JP4176283B2 (ja) | 可撓性微細多層回路基板の製造法 | |
| JPH05299838A (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
| JP2001284809A (ja) | 多層回路基板および、その製造方法 | |
| JP2810604B2 (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Effective date: 20040512 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040622 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20040819 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20041221 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |