JPH11286477A - アリ―ルビニルスルホン溶液の製造方法 - Google Patents
アリ―ルビニルスルホン溶液の製造方法Info
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- JPH11286477A JPH11286477A JP11028894A JP2889499A JPH11286477A JP H11286477 A JPH11286477 A JP H11286477A JP 11028894 A JP11028894 A JP 11028894A JP 2889499 A JP2889499 A JP 2889499A JP H11286477 A JPH11286477 A JP H11286477A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】固体のハンドリングのないアリールビニルスル
ホン溶液の製造方法を提供すること。 【解決手段】一般式（１） で示されるアリールビニルスルホンを含む溶液からアリ
ールビニルスルホンを晶析し、濾過し、溶液化溶媒に溶
解させる一連の操作のうち、少なくとも濾過以降の操作
を密閉系でおこなうことを特徴とするアリールビニルス
ルホン溶液の製造方法。
ホン溶液の製造方法を提供すること。 【解決手段】一般式（１） で示されるアリールビニルスルホンを含む溶液からアリ
ールビニルスルホンを晶析し、濾過し、溶液化溶媒に溶
解させる一連の操作のうち、少なくとも濾過以降の操作
を密閉系でおこなうことを特徴とするアリールビニルス
ルホン溶液の製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アリールビニルス
ルホン溶液の製造方法に関する。
ルホン溶液の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】アリールビニルスルホンは医薬等の中間
体として有用な化合物であり、β−ハロエチルアリール
スルホンを塩基処理する方法［例えばＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈ
ｅｍ．，５８，４５０６（１９９３）］等種々の製造方
法が開発されている。これらの方法では、アリールビニ
ルスルホンを固体で取り出しているが、固体でのハンド
リングには粉立ち等の作業環境の面で問題があった。ま
た、一般にビニルスルホニル基を有する化合物の取扱い
には安全上、注意を払う必要があることが言われている
（Ｃｈｅｍｔｅｃｈ，Ｎｏｖｅｍｂｅｒ，３４（１９９
６））。このようなことから、アリールビニルスルホン
の固体のハンドリングのない製造方法の開発が望まれて
いた。
体として有用な化合物であり、β−ハロエチルアリール
スルホンを塩基処理する方法［例えばＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈ
ｅｍ．，５８，４５０６（１９９３）］等種々の製造方
法が開発されている。これらの方法では、アリールビニ
ルスルホンを固体で取り出しているが、固体でのハンド
リングには粉立ち等の作業環境の面で問題があった。ま
た、一般にビニルスルホニル基を有する化合物の取扱い
には安全上、注意を払う必要があることが言われている
（Ｃｈｅｍｔｅｃｈ，Ｎｏｖｅｍｂｅｒ，３４（１９９
６））。このようなことから、アリールビニルスルホン
の固体のハンドリングのない製造方法の開発が望まれて
いた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】このようなことから、
本発明者らは、アリールビニルスルホンの固体のハンド
リングのない製造方法について検討した結果、本発明に
至った。
本発明者らは、アリールビニルスルホンの固体のハンド
リングのない製造方法について検討した結果、本発明に
至った。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、一般式（１） （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、低級
アルキルアミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基を示
す。なお、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ互いに同一であっても異
なっていてもよい。）で示されるアリールビニルスルホ
ンを含む溶液からアリールビニルスルホンを晶析し、濾
過し、溶液化溶媒に溶解させる一連の操作のうち、少な
くとも濾過以降の操作を密閉系でおこなうことを特徴と
するアリールビニルスルホン溶液の製造方法を提供する
ものである。
キル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、低級
アルキルアミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基を示
す。なお、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ互いに同一であっても異
なっていてもよい。）で示されるアリールビニルスルホ
ンを含む溶液からアリールビニルスルホンを晶析し、濾
過し、溶液化溶媒に溶解させる一連の操作のうち、少な
くとも濾過以降の操作を密閉系でおこなうことを特徴と
するアリールビニルスルホン溶液の製造方法を提供する
ものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】一般式（１）で示されるアリール
ビニルスルホンにおいて、置換基Ｒ1、Ｒ2は水素原子、
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニ
トロ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ（低級ア
ルキル）アミノ基であって、置換基Ｒ 1、Ｒ2はそれぞれ
互いに同一であっても異なっていてもよい。
ビニルスルホンにおいて、置換基Ｒ1、Ｒ2は水素原子、
ハロゲン原子、低級アルキル基、低級アルコキシ基、ニ
トロ基、アミノ基、低級アルキルアミノ基、ジ（低級ア
ルキル）アミノ基であって、置換基Ｒ 1、Ｒ2はそれぞれ
互いに同一であっても異なっていてもよい。
【０００６】ハロゲン原子としては、例えばフッ素原
子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が、低級アル
キル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−プロピル
基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、
ネオペンチル基等の直鎖もしくは分枝状の炭素数１〜６
のアルキル基等が、低級アルコキシ基としては、例えば
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブト
キシ基、ｎ−ペントキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｉ−ブ
トキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ネオ
ペントキシ基等の直鎖もしくは分枝状の炭素数１〜６の
アルコキシ基等が挙げられる。
子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子が、低級アル
キル基としては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｉ−プロピル
基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、
ネオペンチル基等の直鎖もしくは分枝状の炭素数１〜６
のアルキル基等が、低級アルコキシ基としては、例えば
メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｎ−ブト
キシ基、ｎ−ペントキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｉ−ブ
トキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ネオ
ペントキシ基等の直鎖もしくは分枝状の炭素数１〜６の
アルコキシ基等が挙げられる。
【０００７】低級アルキルアミノ基とは１つの低級アル
キル基で置換されたアミノ基であって、低級アルキル基
としては前記と同様のものが挙げられる。かかる低級ア
ルキルアミノ基としてはメチルアミノ基、エチルアミノ
基、ｔ−ブチルアミノ基等が例示される。ジ（低級アル
キル）アミノ基とは２つの低級アルキル基で置換された
アミノ基であって、低級アルキル基としては前記と同様
のものが挙げられ、かかるジ（低級アルキル）アミノ基
としてはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチル
エチルアミノ基、ｔ−ブチルメチルアミノ基等が例示さ
れる。
キル基で置換されたアミノ基であって、低級アルキル基
としては前記と同様のものが挙げられる。かかる低級ア
ルキルアミノ基としてはメチルアミノ基、エチルアミノ
基、ｔ−ブチルアミノ基等が例示される。ジ（低級アル
キル）アミノ基とは２つの低級アルキル基で置換された
アミノ基であって、低級アルキル基としては前記と同様
のものが挙げられ、かかるジ（低級アルキル）アミノ基
としてはジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、メチル
エチルアミノ基、ｔ−ブチルメチルアミノ基等が例示さ
れる。
【０００８】かかるアリールビニルスルホンとしては、
例えばフェニルビニルスルホン、（４−クロロフェニ
ル）ビニルスルホン、（３，４−ジクロロフェニル）ビ
ニルスルホン、（４−ブロモフェニル）ビニルスルホ
ン、（４−フルオロフェニル）ビニルスルホン、（４−
ヨードフェニル）ビニルスルホン、（４−メチルフェニ
ル）ビニルスルホン、（２，４−ジメチルフェニル）ビ
ニルスルホン、（４−エチルフェニル）ビニルスルホ
ン、（４−ｉ−ブチルフェニル）ビニルスルホン、（４
−ｔ−ブチルフェニル）ビニルスルホン、（４−メトキ
シフェニル）ビニルスルホン、（３，４−ジメトキシフ
ェニル）ビニルスルホン、（４−ｔ−ブトキシフェニ
ル）ビニルスルホン、（３−アミノフェニル）ビニルス
ルホン、（３−メチルアミノフェニル）ビニルスルホ
ン、（３−エチルアミノフェニル）ビニルスルホン、
（３−ジメチルアミノフェニル）ビニルスルホン、（３
−ジエチルアミノフェニル）ビニルスルホン、（３−ニ
トロフェニル）ビニルスルホン等が挙げられる。
例えばフェニルビニルスルホン、（４−クロロフェニ
ル）ビニルスルホン、（３，４−ジクロロフェニル）ビ
ニルスルホン、（４−ブロモフェニル）ビニルスルホ
ン、（４−フルオロフェニル）ビニルスルホン、（４−
ヨードフェニル）ビニルスルホン、（４−メチルフェニ
ル）ビニルスルホン、（２，４−ジメチルフェニル）ビ
ニルスルホン、（４−エチルフェニル）ビニルスルホ
ン、（４−ｉ−ブチルフェニル）ビニルスルホン、（４
−ｔ−ブチルフェニル）ビニルスルホン、（４−メトキ
シフェニル）ビニルスルホン、（３，４−ジメトキシフ
ェニル）ビニルスルホン、（４−ｔ−ブトキシフェニ
ル）ビニルスルホン、（３−アミノフェニル）ビニルス
ルホン、（３−メチルアミノフェニル）ビニルスルホ
ン、（３−エチルアミノフェニル）ビニルスルホン、
（３−ジメチルアミノフェニル）ビニルスルホン、（３
−ジエチルアミノフェニル）ビニルスルホン、（３−ニ
トロフェニル）ビニルスルホン等が挙げられる。
【０００９】かかるアリールビニルスルホンを含む溶液
としては、例えば、β−ハロエチルアリールスルホンを
塩基処理して得られる溶液、アリールスルホニルエタノ
ールを硫酸エステル化し、塩基処理して得られる溶液、
アリールスルホニルエタノールをスルホン酸エステル化
し、塩基処理して得られる溶液、アリールスルホニルエ
タノールを硝酸エステル化し、塩基処理して得られる溶
液、アリールスルホニルエタノールをクロロ化し、塩基
処理して得られる溶液、アリールビニルスルフィドを酸
化して得られる溶液等が挙げられる。
としては、例えば、β−ハロエチルアリールスルホンを
塩基処理して得られる溶液、アリールスルホニルエタノ
ールを硫酸エステル化し、塩基処理して得られる溶液、
アリールスルホニルエタノールをスルホン酸エステル化
し、塩基処理して得られる溶液、アリールスルホニルエ
タノールを硝酸エステル化し、塩基処理して得られる溶
液、アリールスルホニルエタノールをクロロ化し、塩基
処理して得られる溶液、アリールビニルスルフィドを酸
化して得られる溶液等が挙げられる。
【００１０】β−ハロエチルアリールスルホンを塩基処
理して得られる溶液としては、例えばベンゼン、テトラ
ヒドロフラン等の疎水性有機溶媒中でβ−ハロエチルア
リールスルホンとトリエチルアミンを反応させ、生じる
塩を分離して得られる溶液［Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，
５８，４５０６（１９９３）、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，１７５４（１９４９）］、トルエン等の疎水性有
機溶媒中でβ−ハロエチルアリールスルホンをアミンの
存在下にアルカリ金属塩水溶液と反応させ、水層を分離
して得られる溶液［特開平１０−２５１２１９号公報］
等が挙げられる。
理して得られる溶液としては、例えばベンゼン、テトラ
ヒドロフラン等の疎水性有機溶媒中でβ−ハロエチルア
リールスルホンとトリエチルアミンを反応させ、生じる
塩を分離して得られる溶液［Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，
５８，４５０６（１９９３）、Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏ
ｃ．，１７５４（１９４９）］、トルエン等の疎水性有
機溶媒中でβ−ハロエチルアリールスルホンをアミンの
存在下にアルカリ金属塩水溶液と反応させ、水層を分離
して得られる溶液［特開平１０−２５１２１９号公報］
等が挙げられる。
【００１１】アリールスルホニルエタノールを硫酸エス
テル化し、塩基処理して得られる溶液としては、例えば
ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒中でアリ
ールスルホニルエタノールと硫酸を反応させ、次いで水
酸化ナトリウム水溶液等の塩基を作用させ、水層を分離
して得られる溶液［ドイツ特許第８４２１９８号（１９
４２年）］等が挙げられる。
テル化し、塩基処理して得られる溶液としては、例えば
ジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒中でアリ
ールスルホニルエタノールと硫酸を反応させ、次いで水
酸化ナトリウム水溶液等の塩基を作用させ、水層を分離
して得られる溶液［ドイツ特許第８４２１９８号（１９
４２年）］等が挙げられる。
【００１２】アリールスルホニルエタノールをスルホン
酸エステル化し、塩基処理して得られる溶液としては、
例えばジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒中
でアリールスルホニルエタノールとメタンスルホニルク
ロリドを反応させ、次いでトリエチルアミンを加えて反
応させ、水を加えて分液処理して得られる溶液［Ｂｕｌ
ｌ．Ｋｏｒｅａｎ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１６，６７０
（１９９５）］等が挙げられる。
酸エステル化し、塩基処理して得られる溶液としては、
例えばジクロロメタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒中
でアリールスルホニルエタノールとメタンスルホニルク
ロリドを反応させ、次いでトリエチルアミンを加えて反
応させ、水を加えて分液処理して得られる溶液［Ｂｕｌ
ｌ．Ｋｏｒｅａｎ Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１６，６７０
（１９９５）］等が挙げられる。
【００１３】アリールスルホニルエタノールを硝酸エス
テル化し、塩基処理して得られる溶液としては、例えば
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒中でアリー
ルスルホニルエタノールと発煙硝酸を反応させ、次いで
水酸化ナトリウム水溶液等の塩基を作用させ、水層を分
離して得られる溶液［特開平１０−３６３３７号公報］
等が挙げられる。
テル化し、塩基処理して得られる溶液としては、例えば
クロロホルム等のハロゲン化炭化水素系溶媒中でアリー
ルスルホニルエタノールと発煙硝酸を反応させ、次いで
水酸化ナトリウム水溶液等の塩基を作用させ、水層を分
離して得られる溶液［特開平１０−３６３３７号公報］
等が挙げられる。
【００１４】アリールスルホニルエタノールをクロロ化
し、塩基処理して得られる溶液としては、例えばトルエ
ン等の疎水性有機溶媒中でアリールスルホニルエタノー
ルにクロロ化剤を作用させ、次いで塩基処理し、水を加
えて分液処理して得られる溶液［特開平１０−１９５０
３９号公報］等が挙げられる。
し、塩基処理して得られる溶液としては、例えばトルエ
ン等の疎水性有機溶媒中でアリールスルホニルエタノー
ルにクロロ化剤を作用させ、次いで塩基処理し、水を加
えて分液処理して得られる溶液［特開平１０−１９５０
３９号公報］等が挙げられる。
【００１５】アリールビニルスルフィドを酸化して得ら
れる溶液としては、例えばアリールビニルスルフィドを
過酸化水素水で酸化し、ジエチルエーテル等のエーテル
系溶媒および水を加え、水層を分離して得られる溶液
［Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，６４，１５７（１９８５）］
等が挙げられる。
れる溶液としては、例えばアリールビニルスルフィドを
過酸化水素水で酸化し、ジエチルエーテル等のエーテル
系溶媒および水を加え、水層を分離して得られる溶液
［Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．，６４，１５７（１９８５）］
等が挙げられる。
【００１６】本発明は、かかるアリールビニルスルホン
を含む溶液からアリールビニルスルホンを晶析し、濾過
し、溶液化溶媒に溶解させる一連の操作のうち、少なく
とも濾過以降の操作を密閉系でおこなうものである。も
ちろん晶析操作も密閉系でおこなってもよい。
を含む溶液からアリールビニルスルホンを晶析し、濾過
し、溶液化溶媒に溶解させる一連の操作のうち、少なく
とも濾過以降の操作を密閉系でおこなうものである。も
ちろん晶析操作も密閉系でおこなってもよい。
【００１７】アリールビニルスルホンを含む溶液からア
リールビニルスルホンを晶析する方法としては、例えば
冷却晶析、蒸発晶析、アリールビニルスルホンを含む溶
液とアリールビニルスルホンを実質的に溶解しない溶媒
（以下、貧溶媒という）を混合する方法等が挙げられ
る。アリールビニルスルホンを含む溶液はそのまま晶析
処理してもよいし、該溶液から溶媒の一部を留去した後
晶析処理してもよい。
リールビニルスルホンを晶析する方法としては、例えば
冷却晶析、蒸発晶析、アリールビニルスルホンを含む溶
液とアリールビニルスルホンを実質的に溶解しない溶媒
（以下、貧溶媒という）を混合する方法等が挙げられ
る。アリールビニルスルホンを含む溶液はそのまま晶析
処理してもよいし、該溶液から溶媒の一部を留去した後
晶析処理してもよい。
【００１８】冷却晶析や蒸発晶析の場合、アリールビニ
ルスルホンを含む溶液中のアリールビニルスルホン濃
度、溶媒等に応じて、晶析温度、操作圧力等を適宜選択
すればよい。
ルスルホンを含む溶液中のアリールビニルスルホン濃
度、溶媒等に応じて、晶析温度、操作圧力等を適宜選択
すればよい。
【００１９】アリールビニルスルホンを含む溶液と貧溶
媒を混合する場合の混合方法としては、該溶液に貧溶媒
を加える方法、該溶液を貧溶媒に加える方法のどちらで
もよいが、後者の方が好ましい。貧溶媒としては、例え
ばヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒が挙げ
られ、その使用量は該溶液中に含まれるアリールビニル
スルホンに対して通常１００重量倍以下、好ましくは
０．５〜５０重量倍である。アリールビニルスルホンを
含む溶液と貧溶媒を混合することにより、通常アリール
ビニルスルホンの結晶が析出するが、さらに冷却して多
くのアリールビニルスルホンの結晶を析出させることが
好ましい。
媒を混合する場合の混合方法としては、該溶液に貧溶媒
を加える方法、該溶液を貧溶媒に加える方法のどちらで
もよいが、後者の方が好ましい。貧溶媒としては、例え
ばヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒が挙げ
られ、その使用量は該溶液中に含まれるアリールビニル
スルホンに対して通常１００重量倍以下、好ましくは
０．５〜５０重量倍である。アリールビニルスルホンを
含む溶液と貧溶媒を混合することにより、通常アリール
ビニルスルホンの結晶が析出するが、さらに冷却して多
くのアリールビニルスルホンの結晶を析出させることが
好ましい。
【００２０】かかる晶析処理により得られるアリールビ
ニルスルホンの結晶を含むスラリーは、通常濾過器へ送
られ、濾過によりアリールビニルスルホン結晶と母液に
分離され、結晶は溶液化溶媒を加えて溶液化される。か
かる濾過、溶液化操作は密閉系でおこなわれ、これによ
り固体のアリールビニルスルホンのハンドリングを避け
ることができる。なお、上記濾過操作とは、アリールビ
ニルスルホン結晶と母液を分離する操作をいい、濾過器
で濾過する方法のほか、例えば母液をデカンテーション
により取り除く方法、母液をポンプ等により抜き出す方
法等が挙げられる。
ニルスルホンの結晶を含むスラリーは、通常濾過器へ送
られ、濾過によりアリールビニルスルホン結晶と母液に
分離され、結晶は溶液化溶媒を加えて溶液化される。か
かる濾過、溶液化操作は密閉系でおこなわれ、これによ
り固体のアリールビニルスルホンのハンドリングを避け
ることができる。なお、上記濾過操作とは、アリールビ
ニルスルホン結晶と母液を分離する操作をいい、濾過器
で濾過する方法のほか、例えば母液をデカンテーション
により取り除く方法、母液をポンプ等により抜き出す方
法等が挙げられる。
【００２１】分離されたアリールビニルスルホンの結晶
の溶液化操作は、例えばそのまま濾過器内で、あるいは
結晶を濾過器からそれに続く溶解槽に移し、溶液化溶媒
を加えることによりおこなわれる。また、晶析釜等から
デカンテーションにより母液を取り除いた場合あるいは
母液をポンプ等で抜き出した場合には、晶析釜等内にア
リールビニルスルホンの結晶が残っているので、該晶析
釜等に溶液化溶媒を加えればよい。
の溶液化操作は、例えばそのまま濾過器内で、あるいは
結晶を濾過器からそれに続く溶解槽に移し、溶液化溶媒
を加えることによりおこなわれる。また、晶析釜等から
デカンテーションにより母液を取り除いた場合あるいは
母液をポンプ等で抜き出した場合には、晶析釜等内にア
リールビニルスルホンの結晶が残っているので、該晶析
釜等に溶液化溶媒を加えればよい。
【００２２】そのまま濾過器内で溶液化する場合の方法
としては、例えば、濾過器の液抜き部を閉じておき、濾
過器内に溶液化溶媒を添加し、濾過器内でアリールビニ
ルスルホンの結晶を溶解し、液抜き部を開いてアリール
ビニルスルホン溶液を抜き出す方法が挙げられる。濾過
器の容量や用いる溶液化溶媒へのアリールビニルスルホ
ンの溶解度にあわせて該溶液化処理を繰り返しおこなえ
ばよい。また、濾液を抜き出した後、液抜きラインを別
の受器に切り替え、液抜きラインは開の状態で濾過器内
に溶液化溶媒を添加し、アリールビニルスルホンの結晶
を溶液化しながら、得られる溶液を抜き出してもよい。
としては、例えば、濾過器の液抜き部を閉じておき、濾
過器内に溶液化溶媒を添加し、濾過器内でアリールビニ
ルスルホンの結晶を溶解し、液抜き部を開いてアリール
ビニルスルホン溶液を抜き出す方法が挙げられる。濾過
器の容量や用いる溶液化溶媒へのアリールビニルスルホ
ンの溶解度にあわせて該溶液化処理を繰り返しおこなえ
ばよい。また、濾液を抜き出した後、液抜きラインを別
の受器に切り替え、液抜きラインは開の状態で濾過器内
に溶液化溶媒を添加し、アリールビニルスルホンの結晶
を溶液化しながら、得られる溶液を抜き出してもよい。
【００２３】結晶を濾過器からそれに続く溶解槽に移
し、溶液化溶媒を加えて溶液化する場合は、例えば濾過
器のケーキ排出口にアリールビニルスルホンを溶解させ
る溶解槽を予め接続しておき、濾過した結晶をケーキ排
出口から溶解槽に排出し、溶解槽に溶解化溶媒を添加し
て溶液化する方法が挙げられる。溶液化溶媒は予め溶解
槽に仕込んでおいてもよい。濾過器内に排出残結晶が残
っていることがあるが、この場合には、濾過器の液抜き
部を閉じ、濾過器内に溶液化溶媒を仕込み、残結晶を溶
解させ、その溶液をケーキ排出口から溶解槽に送るよう
にすればよい。
し、溶液化溶媒を加えて溶液化する場合は、例えば濾過
器のケーキ排出口にアリールビニルスルホンを溶解させ
る溶解槽を予め接続しておき、濾過した結晶をケーキ排
出口から溶解槽に排出し、溶解槽に溶解化溶媒を添加し
て溶液化する方法が挙げられる。溶液化溶媒は予め溶解
槽に仕込んでおいてもよい。濾過器内に排出残結晶が残
っていることがあるが、この場合には、濾過器の液抜き
部を閉じ、濾過器内に溶液化溶媒を仕込み、残結晶を溶
解させ、その溶液をケーキ排出口から溶解槽に送るよう
にすればよい。
【００２４】溶液化溶媒の添加は、連続的であってもよ
いし、断続的であってもよい。
いし、断続的であってもよい。
【００２５】かかる溶液化溶媒としては、例えばトルエ
ン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶
媒、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、１，２
−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水
素系溶媒、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等の
非プロトン性極性溶媒、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒等の
単独および混合溶媒系が挙げられ、アリールビニルスル
ホンの使用目的等に応じて適宜選択される。
ン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶
媒、ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジエチル
エーテル等のエーテル系溶媒、ジクロロメタン、１，２
−ジクロロエタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水
素系溶媒、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル等の
非プロトン性極性溶媒、アセトン、メチルエチルケトン
等のケトン系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒等の
単独および混合溶媒系が挙げられ、アリールビニルスル
ホンの使用目的等に応じて適宜選択される。
【００２６】溶液化溶媒の使用量は、アリールビニルス
ルホンの結晶を溶解させるに十分な量であればよく、用
いる溶液化溶媒や目的とするアリールビニルスルホン溶
液の濃度等により適宜決めればよい。
ルホンの結晶を溶解させるに十分な量であればよく、用
いる溶液化溶媒や目的とするアリールビニルスルホン溶
液の濃度等により適宜決めればよい。
【００２７】溶液化温度はアリールビニルスルホンが溶
液化溶媒に溶解する温度であればよく、通常１００℃以
下、好ましくは０〜５０℃である。
液化溶媒に溶解する温度であればよく、通常１００℃以
下、好ましくは０〜５０℃である。
【００２８】かかる一連の操作によりアリールビニルス
ルホン溶液が得られるが、該溶液には、アリールビニル
スルホン結晶に微量付着した母液が混入するため、濾過
したアリールビニルスルホン結晶を予め溶液化の前に洗
浄溶媒で洗浄して付着母液を除いておくことが好まし
い。かかる洗浄溶媒としては、結晶に付着した母液を除
去できるものであればよいが、用いる溶液化溶媒もしく
は溶液化溶媒と共沸する溶媒を用いることが好ましい。
ルホン溶液が得られるが、該溶液には、アリールビニル
スルホン結晶に微量付着した母液が混入するため、濾過
したアリールビニルスルホン結晶を予め溶液化の前に洗
浄溶媒で洗浄して付着母液を除いておくことが好まし
い。かかる洗浄溶媒としては、結晶に付着した母液を除
去できるものであればよいが、用いる溶液化溶媒もしく
は溶液化溶媒と共沸する溶媒を用いることが好ましい。
【００２９】溶液化溶媒もしくは溶液化溶媒と共沸する
溶媒であってアリールビニルスルホンを溶解する溶媒を
洗浄に用いる場合、その使用量は、結晶に付着した母液
の除去に必要最低限の量とすることが好ましい。溶液化
溶媒と共沸する溶媒であってアリールビニルスルホンを
実質的に溶解しない溶媒を洗浄に用いる場合には、その
使用量の制限は特にない。
溶媒であってアリールビニルスルホンを溶解する溶媒を
洗浄に用いる場合、その使用量は、結晶に付着した母液
の除去に必要最低限の量とすることが好ましい。溶液化
溶媒と共沸する溶媒であってアリールビニルスルホンを
実質的に溶解しない溶媒を洗浄に用いる場合には、その
使用量の制限は特にない。
【００３０】こうして得られるアリールビニルスルホン
溶液は濃縮するあるいは溶液化溶媒を追加することによ
り、所定の濃度のアリールビニルスルホン溶液に調製で
きる。かかる濃度調整操作も密閉系でおこなってもよ
い。
溶液は濃縮するあるいは溶液化溶媒を追加することによ
り、所定の濃度のアリールビニルスルホン溶液に調製で
きる。かかる濃度調整操作も密閉系でおこなってもよ
い。
【００３１】アリールビニルスルホン溶液を濃縮する場
合の濃縮温度は溶媒系により適宜選択されるが、通常１
００℃以下、好ましくは３０〜８０℃であり、濃縮温度
によって操作圧力を決定すればよい。
合の濃縮温度は溶媒系により適宜選択されるが、通常１
００℃以下、好ましくは３０〜８０℃であり、濃縮温度
によって操作圧力を決定すればよい。
【００３２】濾過したアリールビニルスルホンの結晶を
溶液化溶媒と共沸する溶媒で洗浄した場合には、該溶液
を濃縮して洗浄溶媒を共沸除去した後所定濃度に調整す
ることが好ましい。
溶液化溶媒と共沸する溶媒で洗浄した場合には、該溶液
を濃縮して洗浄溶媒を共沸除去した後所定濃度に調整す
ることが好ましい。
【００３３】かくして、アリールビニルスルホンを含む
溶液からアリールビニルスルホンを晶析し、濾過し、溶
液化溶媒に溶解させる一連の操作のうち、少なくとも濾
過以降の操作を密閉系でおこなうことにより、アリール
ビニルスルホン溶液を製造することができる。
溶液からアリールビニルスルホンを晶析し、濾過し、溶
液化溶媒に溶解させる一連の操作のうち、少なくとも濾
過以降の操作を密閉系でおこなうことにより、アリール
ビニルスルホン溶液を製造することができる。
【００３４】
【発明の効果】本発明の方法によれば、固体のハンドリ
ングがないため、作業環境面で粉立ち等の問題なくアリ
ールビニルスルホン溶液を得ることができる。さらに得
られたアリールビニルスルホン溶液は、取扱い容易であ
り、アリールビニルスルホン純度もよく、医薬等の合成
原料として何ら問題なく使用できる。
ングがないため、作業環境面で粉立ち等の問題なくアリ
ールビニルスルホン溶液を得ることができる。さらに得
られたアリールビニルスルホン溶液は、取扱い容易であ
り、アリールビニルスルホン純度もよく、医薬等の合成
原料として何ら問題なく使用できる。
【００３５】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳細に説
明するが、本発明はこれにより限定されるものではな
い。 実施例 ２−（フェニルスルホニル）エタノール４０．０２重量
部（純度９７．２９％）にトルエン１８．６０重量部を
加え、さらにピリジン０．８３重量部を加えて内温６０
℃に昇温した後、塩化チオニル２８．８２重量部を６０
〜７０℃で５時間かけて滴下した。その後内温７０℃に
て３時間保温、攪拌した。保温終了後トルエン４０．０
重量部を加え、内温４５℃まで冷却した後、反応マスを
７％重曹水８５．０重量部とトルエン５４．４重量部の
混合液に滴下した。攪拌後、静置、分液処理し、有機層
を得、該有機層に７％重曹水８６．１重量部を加えて洗
浄、分液処理した。
明するが、本発明はこれにより限定されるものではな
い。 実施例 ２−（フェニルスルホニル）エタノール４０．０２重量
部（純度９７．２９％）にトルエン１８．６０重量部を
加え、さらにピリジン０．８３重量部を加えて内温６０
℃に昇温した後、塩化チオニル２８．８２重量部を６０
〜７０℃で５時間かけて滴下した。その後内温７０℃に
て３時間保温、攪拌した。保温終了後トルエン４０．０
重量部を加え、内温４５℃まで冷却した後、反応マスを
７％重曹水８５．０重量部とトルエン５４．４重量部の
混合液に滴下した。攪拌後、静置、分液処理し、有機層
を得、該有機層に７％重曹水８６．１重量部を加えて洗
浄、分液処理した。
【００３６】次いで、洗浄処理した有機層にトリエチル
アミン１．０４重量部を加え、内温６０℃に昇温した
後、２５％炭酸カリウム水溶液を６０℃で３時間かけて
滴下した。滴下終了後、さらに内温６０℃にて５時間保
温、攪拌した。室温まで冷却し、水層を分液し、有機層
を５％硫酸水で２回洗浄処理し、次いで１％重曹水１
５．９重量部で洗浄処理し、さらに水１５．９重量部で
洗浄処理してフェニルビニルスルホンのトルエン溶液を
得た。
アミン１．０４重量部を加え、内温６０℃に昇温した
後、２５％炭酸カリウム水溶液を６０℃で３時間かけて
滴下した。滴下終了後、さらに内温６０℃にて５時間保
温、攪拌した。室温まで冷却し、水層を分液し、有機層
を５％硫酸水で２回洗浄処理し、次いで１％重曹水１
５．９重量部で洗浄処理し、さらに水１５．９重量部で
洗浄処理してフェニルビニルスルホンのトルエン溶液を
得た。
【００３７】得られた溶液からトルエンを一部留去し、
フェニルビニルスルホンの濃度が４３％になるように調
整した後、該濃縮溶液をヘキサン６８．４重量部中に内
温２０〜３０℃で１時間かけて滴下した。滴下終了後、
内温−１０℃まで冷却し、得られたフェニルビニルスル
ホン結晶スラリーを濾過器に送り密閉系で濾過した後、
フェニルビニルスルホンの結晶をヘキサン１６１．１重
量部で洗浄した後、濾過器内のフェニルビニルスルホン
の結晶にアセトニトリル１３７．２重量部を加え、濾過
器内でフェニルビニルスルホンの結晶を溶解させた。得
られた溶液を濃縮釜に移し、内温６０℃、操作圧３００
ｍｍＨｇで溶液に含まれているヘキサンをアセトニトリ
ルと共に共沸除去し、３０．０％フェニルビニルスルホ
ンのアセトニトリル溶液１００．０重量部を得た。溶媒
アセトニトリルを除いたフェニルビニルスルホン純度は
９９．５％であった。
フェニルビニルスルホンの濃度が４３％になるように調
整した後、該濃縮溶液をヘキサン６８．４重量部中に内
温２０〜３０℃で１時間かけて滴下した。滴下終了後、
内温−１０℃まで冷却し、得られたフェニルビニルスル
ホン結晶スラリーを濾過器に送り密閉系で濾過した後、
フェニルビニルスルホンの結晶をヘキサン１６１．１重
量部で洗浄した後、濾過器内のフェニルビニルスルホン
の結晶にアセトニトリル１３７．２重量部を加え、濾過
器内でフェニルビニルスルホンの結晶を溶解させた。得
られた溶液を濃縮釜に移し、内温６０℃、操作圧３００
ｍｍＨｇで溶液に含まれているヘキサンをアセトニトリ
ルと共に共沸除去し、３０．０％フェニルビニルスルホ
ンのアセトニトリル溶液１００．０重量部を得た。溶媒
アセトニトリルを除いたフェニルビニルスルホン純度は
９９．５％であった。
Claims (9)
- 【請求項１】一般式（１） （式中、Ｒ1、Ｒ2は水素原子、ハロゲン原子、低級アル
キル基、低級アルコキシ基、ニトロ基、アミノ基、低級
アルキルアミノ基、ジ（低級アルキル）アミノ基を示
す。なお、Ｒ1、Ｒ2はそれぞれ互いに同一であっても異
なっていてもよい。）で示されるアリールビニルスルホ
ンを含む溶液からアリールビニルスルホンを晶析し、濾
過し、溶液化溶媒に溶解させる一連の操作のうち、少な
くとも濾過以降の操作を密閉系でおこなうことを特徴と
するアリールビニルスルホン溶液の製造方法。 - 【請求項２】濾過して得られるアリールビニルスルホン
を溶液化溶媒もしくは溶液化溶媒と共沸する溶媒で洗浄
後、溶液化溶媒に溶解させる請求項１に記載のアリール
ビニルスルホン溶液の製造方法。 - 【請求項３】アリールビニルスルホンを含む溶液が、β
−ハロエチルアリールスルホンを塩基処理して得られる
溶液である請求項１または２に記載のアリールビニルス
ルホン溶液の製造方法。 - 【請求項４】アリールビニルスルホンを含む溶液が、ア
リールスルホニルエタノールを硫酸エステル化し、塩基
処理して得られる溶液である請求項１または２に記載の
アリールビニルスルホン溶液の製造方法。 - 【請求項５】アリールビニルスルホンを含む溶液が、ア
リールスルホニルエタノールをスルホン酸エステル化
し、塩基処理して得られる溶液である請求項１または２
に記載のアリールビニルスルホン溶液の製造方法。 - 【請求項６】アリールビニルスルホンを含む溶液が、ア
リールスルホニルエタノールを硝酸エステル化し、塩基
処理して得られる溶液である請求項１または２に記載の
アリールビニルスルホン溶液の製造方法。 - 【請求項７】アリールビニルスルホンを含む溶液が、ア
リールスルホニルエタノールをクロロ化し、塩基処理し
て得られる溶液である請求項１または２に記載のアリー
ルビニルスルホン溶液の製造方法。 - 【請求項８】アリールビニルスルホンを含む溶液が、ア
リールビニルスルフィドを酸化して得られる溶液である
請求項１または２に記載のアリールビニルスルホン溶液
の製造方法。 - 【請求項９】溶液化溶媒が、芳香族炭化水素系溶媒、エ
ーテル系溶媒、ハロゲン化炭化水素系溶媒、非プロトン
性極性溶媒、ケトン系溶媒、エステル系溶媒から選ばれ
る少なくとも１種である請求項１または２に記載のアリ
ールビニルスルホン溶液の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11028894A JPH11286477A (ja) | 1998-02-09 | 1999-02-05 | アリ―ルビニルスルホン溶液の製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10-27119 | 1998-02-09 | ||
| JP2711998 | 1998-02-09 | ||
| JP11028894A JPH11286477A (ja) | 1998-02-09 | 1999-02-05 | アリ―ルビニルスルホン溶液の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11286477A true JPH11286477A (ja) | 1999-10-19 |
Family
ID=26365012
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11028894A Pending JPH11286477A (ja) | 1998-02-09 | 1999-02-05 | アリ―ルビニルスルホン溶液の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11286477A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008074860A (ja) * | 2000-05-15 | 2008-04-03 | Kaneka Corp | Ｎ−（１（ｓ）−エトキシカルボニル−３−フェニルプロピル）−ｌ−アラニンｎ−カルボキシ無水物の晶析法 |
-
1999
- 1999-02-05 JP JP11028894A patent/JPH11286477A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008074860A (ja) * | 2000-05-15 | 2008-04-03 | Kaneka Corp | Ｎ−（１（ｓ）−エトキシカルボニル−３−フェニルプロピル）−ｌ−アラニンｎ−カルボキシ無水物の晶析法 |
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