JPH11286698A - 洗浄剤組成物 - Google Patents
洗浄剤組成物Info
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- JPH11286698A JPH11286698A JP9031598A JP9031598A JPH11286698A JP H11286698 A JPH11286698 A JP H11286698A JP 9031598 A JP9031598 A JP 9031598A JP 9031598 A JP9031598 A JP 9031598A JP H11286698 A JPH11286698 A JP H11286698A
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- component
- ether
- carbon atoms
- cleaning agent
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 各種部品に付着した切削油、プレス油、引き
抜き油等の各種油、ワックス、グリース、液晶、フラッ
クス等の汚れに対する洗浄力に優れ、かつ環境汚染がな
く、しかもｐＨが安定しているため、金属部品の錆、腐
食等に悪影響のない洗浄剤を提供する。 【解決手段】 （ａ）ジプロピレングリコールモノプロ
ピルエーテル等のアルキレンオキサイド化合物、（ｂ）
オクタン酸等の炭素数１〜１８の脂肪族カルボン酸、
（ｃ）ジエタノールアミン等のアルカノールアミン及び
／または無機アルカリを含有し、（ａ）が洗浄剤全体に
対し１〜９９．９重量％、（ｂ）／（ｃ）が９／１〜１
／９（重量比）、（ｂ）と（ｃ）の合計量が洗浄剤全体
に対し０．１〜２０重量％である洗浄剤。
抜き油等の各種油、ワックス、グリース、液晶、フラッ
クス等の汚れに対する洗浄力に優れ、かつ環境汚染がな
く、しかもｐＨが安定しているため、金属部品の錆、腐
食等に悪影響のない洗浄剤を提供する。 【解決手段】 （ａ）ジプロピレングリコールモノプロ
ピルエーテル等のアルキレンオキサイド化合物、（ｂ）
オクタン酸等の炭素数１〜１８の脂肪族カルボン酸、
（ｃ）ジエタノールアミン等のアルカノールアミン及び
／または無機アルカリを含有し、（ａ）が洗浄剤全体に
対し１〜９９．９重量％、（ｂ）／（ｃ）が９／１〜１
／９（重量比）、（ｂ）と（ｃ）の合計量が洗浄剤全体
に対し０．１〜２０重量％である洗浄剤。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、各種部品に付着し
た切削油、プレス油、引き抜き油などの各種油、ワック
ス、グリース、液晶、フラックス等の汚れ除去性に優
れ、かつ環境汚染がなく、しかも、洗浄液のｐＨが安定
しているため、金属製の部品への影響が少ない洗浄剤に
関する。
た切削油、プレス油、引き抜き油などの各種油、ワック
ス、グリース、液晶、フラックス等の汚れ除去性に優
れ、かつ環境汚染がなく、しかも、洗浄液のｐＨが安定
しているため、金属製の部品への影響が少ない洗浄剤に
関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、各種部品に付着した各種油、ワッ
クス、グリース、液晶、フラックス等の除去には、トリ
クロロトリフルオロエタン等のフロン系溶剤、トリクロ
ロエチレン、トリクロロエタン、テトラクロロエチレン
等の塩素系溶剤、非イオン性界面活性剤及び／またはグ
リコールエーテルに洗浄力アップのため炭化水素を添加
したり、引火点を消去するため水を添加したりした水系
または準水系洗浄剤が用いられてきた。
クス、グリース、液晶、フラックス等の除去には、トリ
クロロトリフルオロエタン等のフロン系溶剤、トリクロ
ロエチレン、トリクロロエタン、テトラクロロエチレン
等の塩素系溶剤、非イオン性界面活性剤及び／またはグ
リコールエーテルに洗浄力アップのため炭化水素を添加
したり、引火点を消去するため水を添加したりした水系
または準水系洗浄剤が用いられてきた。
【０００３】しかし、これらの洗浄剤のうちフロン系及
び塩素系洗浄剤は、高洗浄力かつ難燃性であるが、オゾ
ン層破壊等の環境汚染が原因となり、その使用が問題と
なっている。また、非イオン性界面活性剤及び／または
グリコールエーテルを必須成分とする水系または準水系
洗浄剤は、高洗浄力であり、かつ、環境汚染がないが、
長期に使用していると非イオン性界面活性剤及び／また
はグリコールエーテルの空気酸化や加水分解等により、
洗浄液のｐＨが低下してしまい、金属製の部品に錆、腐
食等の悪影響がでる欠点があった。
び塩素系洗浄剤は、高洗浄力かつ難燃性であるが、オゾ
ン層破壊等の環境汚染が原因となり、その使用が問題と
なっている。また、非イオン性界面活性剤及び／または
グリコールエーテルを必須成分とする水系または準水系
洗浄剤は、高洗浄力であり、かつ、環境汚染がないが、
長期に使用していると非イオン性界面活性剤及び／また
はグリコールエーテルの空気酸化や加水分解等により、
洗浄液のｐＨが低下してしまい、金属製の部品に錆、腐
食等の悪影響がでる欠点があった。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、各種部品に
付着した各種油、ワックス、グリース、液晶、フラック
ス等の汚れに対し高度な洗浄力を有し、かつ環境汚染が
なく、しかも、洗浄液のｐＨが安定しているため金属製
部品に錆や腐食等の悪影響がない洗浄剤を提供すること
を目的とする。
付着した各種油、ワックス、グリース、液晶、フラック
ス等の汚れに対し高度な洗浄力を有し、かつ環境汚染が
なく、しかも、洗浄液のｐＨが安定しているため金属製
部品に錆や腐食等の悪影響がない洗浄剤を提供すること
を目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者は、上記課題を
解決するために鋭意検討した結果、以下の（ａ）〜
（ｃ）成分を一定の割合で含有する洗浄剤が上記課題を
解決できることを見いだし、本発明をなすに至った。即
ち、本発明は下記の通りである。
解決するために鋭意検討した結果、以下の（ａ）〜
（ｃ）成分を一定の割合で含有する洗浄剤が上記課題を
解決できることを見いだし、本発明をなすに至った。即
ち、本発明は下記の通りである。
【０００６】１）（ａ）下記式（１）または下記式
（２）で表されるアルキレンオキサイド化合物、（ｂ）
炭素数１〜１８の脂肪族カルボン酸、（ｃ）アルカノー
ルアミン及び／または無機アルカリを含有し、該（ａ）
成分の含有量が洗浄剤全体に対し１〜９９．９重量％で
あり、該（ｂ）成分と該（ｃ）成分の配合重量比率が９
／１〜１／９であり、該（ｂ）成分と該（ｃ）成分の合
計含有量が洗浄剤全体に対し０．１〜２０重量％である
洗浄剤。
（２）で表されるアルキレンオキサイド化合物、（ｂ）
炭素数１〜１８の脂肪族カルボン酸、（ｃ）アルカノー
ルアミン及び／または無機アルカリを含有し、該（ａ）
成分の含有量が洗浄剤全体に対し１〜９９．９重量％で
あり、該（ｂ）成分と該（ｃ）成分の配合重量比率が９
／１〜１／９であり、該（ｂ）成分と該（ｃ）成分の合
計含有量が洗浄剤全体に対し０．１〜２０重量％である
洗浄剤。
【０００７】Ｒ1 （Ｘ）（Ｒ2 Ｏ）n Ｈ （１） （式中、Ｒ1 は炭素数８〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ
2 は炭素数２または３のアルキレン基を表す。Ｘは下記
のいずれかを表す。
2 は炭素数２または３のアルキレン基を表す。Ｘは下記
のいずれかを表す。
【０００８】
【化２】
【０００９】また、ｍ、ｎはアルキレンオキサイドの付
加数を表し、１〜２０の整数である。ただし、同一のア
ルキレンオキサイドが単独で付加してもよく、２種類の
アルキレンオキサイドが混合して付加してもよい。） Ｒ3 Ｏ（Ｒ4 Ｏ）p Ｒ5 （２） （式中、Ｒ3 は炭素数１〜８の炭化水素基を表し、Ｒ4
は炭素数２〜５のアルキレン基を表す。また、Ｒ5 は水
素原子または炭素数１〜５のアルキル基またはアシル基
を表す。ｐはアルキレンオキサイドの付加数を表し、１
〜１０の整数である。ただし、同一のアルキレンオキサ
イドが単独で付加してもよく、２種類以上のアルキレン
オキサイドが混合して付加してもよい。） ２）（ｄ）炭素数８〜２０の炭化水素を、洗浄剤全体に
対し１〜９０重量％含有する上記１記載の洗浄剤。
加数を表し、１〜２０の整数である。ただし、同一のア
ルキレンオキサイドが単独で付加してもよく、２種類の
アルキレンオキサイドが混合して付加してもよい。） Ｒ3 Ｏ（Ｒ4 Ｏ）p Ｒ5 （２） （式中、Ｒ3 は炭素数１〜８の炭化水素基を表し、Ｒ4
は炭素数２〜５のアルキレン基を表す。また、Ｒ5 は水
素原子または炭素数１〜５のアルキル基またはアシル基
を表す。ｐはアルキレンオキサイドの付加数を表し、１
〜１０の整数である。ただし、同一のアルキレンオキサ
イドが単独で付加してもよく、２種類以上のアルキレン
オキサイドが混合して付加してもよい。） ２）（ｄ）炭素数８〜２０の炭化水素を、洗浄剤全体に
対し１〜９０重量％含有する上記１記載の洗浄剤。
【００１０】３）（ｅ）水を、洗浄剤全体に対し５〜９
５重量％含有する上記１または２記載の洗浄剤。 本発明の洗浄剤は、各種部品に付着した各種油、ワック
ス、グリース、液晶、フラックス等の汚れに対し高度な
洗浄力を有し、かつ環境汚染がなく、しかも、洗浄液の
ｐＨが安定しているため金属製部品に錆や腐食等の悪影
響がない洗浄剤である。
５重量％含有する上記１または２記載の洗浄剤。 本発明の洗浄剤は、各種部品に付着した各種油、ワック
ス、グリース、液晶、フラックス等の汚れに対し高度な
洗浄力を有し、かつ環境汚染がなく、しかも、洗浄液の
ｐＨが安定しているため金属製部品に錆や腐食等の悪影
響がない洗浄剤である。
【００１１】以下に、本発明について詳細に説明する。
（ａ）成分のアルキレンオキサイド化合物において、上
記式（１）中のＲ1 の炭素数は８〜２０であり、その内
でも、特に、炭素数８〜２０の直鎖または分岐鎖を有す
る鎖状炭化水素や、炭素数５〜１０の直鎖または分岐鎖
が芳香環に付加した芳香族炭化水素が好ましい。上記式
（１）中のＲ2 は炭素数２または３のアルキレン基、す
なわち、エチレン基またはプロピレン基を表す。上記式
（１）中のｍ、ｎは、炭素数２または３のアルキレンオ
キサイド、すなわち、エチレンオキサイドまたはプロピ
レンオキサイドの付加数を表し、１〜２０の整数であ
る。ただし、同一のアルキレンオキサイドが単独で付加
してもよく、２種類のアルキレンオキサイドが混合して
付加してもよい。
（ａ）成分のアルキレンオキサイド化合物において、上
記式（１）中のＲ1 の炭素数は８〜２０であり、その内
でも、特に、炭素数８〜２０の直鎖または分岐鎖を有す
る鎖状炭化水素や、炭素数５〜１０の直鎖または分岐鎖
が芳香環に付加した芳香族炭化水素が好ましい。上記式
（１）中のＲ2 は炭素数２または３のアルキレン基、す
なわち、エチレン基またはプロピレン基を表す。上記式
（１）中のｍ、ｎは、炭素数２または３のアルキレンオ
キサイド、すなわち、エチレンオキサイドまたはプロピ
レンオキサイドの付加数を表し、１〜２０の整数であ
る。ただし、同一のアルキレンオキサイドが単独で付加
してもよく、２種類のアルキレンオキサイドが混合して
付加してもよい。
【００１２】上記式（１）で表される（ａ）成分のアル
キレンオキサイドの具体例としては、オクチルアルコー
ル、ノニルアルコール、ラウリルアルコール、セチルア
ルコール、オレイルアルコール、ステアリルアルコール
等の高級アルコール、オクチルフェノール、ノニルフェ
ノール等のアルキルフェノール、オクチル酸、ノニル
酸、ラウリル酸、セチル酸、オレイル酸、ステアリル酸
等の高級脂肪酸、オクチルアミン、ノニルアミン、ラウ
リルアミン、セチルアミン、オレイルアミン、ステアリ
ルアミン等の高級アミンにエチレンオキサイドまたはプ
ロピレンオキサイドが単独または混合して付加したもの
が挙げられる。上記式（１）で表される（ａ）成分は単
独で用いてもよく、２種類以上を混合して用いてもよ
い。
キレンオキサイドの具体例としては、オクチルアルコー
ル、ノニルアルコール、ラウリルアルコール、セチルア
ルコール、オレイルアルコール、ステアリルアルコール
等の高級アルコール、オクチルフェノール、ノニルフェ
ノール等のアルキルフェノール、オクチル酸、ノニル
酸、ラウリル酸、セチル酸、オレイル酸、ステアリル酸
等の高級脂肪酸、オクチルアミン、ノニルアミン、ラウ
リルアミン、セチルアミン、オレイルアミン、ステアリ
ルアミン等の高級アミンにエチレンオキサイドまたはプ
ロピレンオキサイドが単独または混合して付加したもの
が挙げられる。上記式（１）で表される（ａ）成分は単
独で用いてもよく、２種類以上を混合して用いてもよ
い。
【００１３】（ａ）成分のアルキレンオキサイド化合物
において、上記式（２）中のＲ3 の炭素数は１〜８であ
り、その内でも、特に、炭素数１〜８の直鎖または分岐
鎖を有する鎖状炭化水素が好ましい。上記式（２）中の
Ｒ4 は炭素数２〜５のアルキレン基、すなわち、エチレ
ン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基のいず
れかを表す。上記式（２）中のｐは、炭素数２〜５のア
ルキレンオキサイドの付加数を表し、１〜１０の整数で
ある。ただし、同一のアルキレンオキサイドが単独で付
加してもよく、２種類以上のアルキレンオキサイドが混
合して付加してもよい。
において、上記式（２）中のＲ3 の炭素数は１〜８であ
り、その内でも、特に、炭素数１〜８の直鎖または分岐
鎖を有する鎖状炭化水素が好ましい。上記式（２）中の
Ｒ4 は炭素数２〜５のアルキレン基、すなわち、エチレ
ン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基のいず
れかを表す。上記式（２）中のｐは、炭素数２〜５のア
ルキレンオキサイドの付加数を表し、１〜１０の整数で
ある。ただし、同一のアルキレンオキサイドが単独で付
加してもよく、２種類以上のアルキレンオキサイドが混
合して付加してもよい。
【００１４】上記式（２）で表される（ａ）成分のアル
キレンオキサイドの具体例としては、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、
エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリ
コールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノヘキシ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレ
ングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコール
ジブチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエ
ーテル、エチレングリコールメチルプロピルエーテル、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールメチルプロピルエー
テル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等が
挙げられる。
キレンオキサイドの具体例としては、エチレングリコー
ルモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチル
エーテル、エチレングリコールモノプロピルエーテル、
エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリ
コールモノヘキシルエーテル、エチレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエ
チルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノプロピ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールモノヘキシ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールジメチルエ
ーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレ
ングリコールジプロピルエーテル、エチレングリコール
ジブチルエーテル、エチレングリコールメチルエチルエ
ーテル、エチレングリコールメチルプロピルエーテル、
ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレン
グリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコール
モノプロピルエーテル、ジエチレングリコールモノブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、ジエチレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテ
ート、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテルアセ
テート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジプロピルエーテル、ジエチレングリコールジブチ
ルエーテル、ジエチレングリコールメチルプロピルエー
テル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル等が
挙げられる。
【００１５】また、トリエチレングリコールモノメチル
エーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレン
グリコールモノプロピルエーテルアセテート、トリエチ
レングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエ
チレングリコールモノヘキシルエーテルアセテート、ト
リエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレン
グリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコール
ジプロピルエーテル、トリエチレングリコールジブチル
エーテル、トリエチレングリコールメチルエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールメチルプロピルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール
モノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノヘキ
シルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノヘキシルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロ
ピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコ
ールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチ
ルエーテル、プロピレングリコールメチルエチルエーテ
ル、プロピレングリコールメチルプロピルエーテル等が
挙げられる。
エーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、トリ
エチレングリコールモノプロピルエーテル、トリエチレ
ングリコールモノヘキシルエーテル、トリエチレングリ
コールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、トリエチレン
グリコールモノプロピルエーテルアセテート、トリエチ
レングリコールモノブチルエーテルアセテート、トリエ
チレングリコールモノヘキシルエーテルアセテート、ト
リエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレン
グリコールジエチルエーテル、トリエチレングリコール
ジプロピルエーテル、トリエチレングリコールジブチル
エーテル、トリエチレングリコールメチルエチルエーテ
ル、トリエチレングリコールメチルプロピルエーテル、
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレン
グリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコール
モノプロピルエーテル、プロピレングリコールモノヘキ
シルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテ
ル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテー
ト、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテ
ート、プロピレングリコールモノヘキシルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールモノブチルエーテルアセ
テート、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロ
ピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコ
ールジプロピルエーテル、プロピレングリコールジブチ
ルエーテル、プロピレングリコールメチルエチルエーテ
ル、プロピレングリコールメチルプロピルエーテル等が
挙げられる。
【００１６】さらにまた、ジプロピレングリコールモノ
メチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロ
ピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジ
プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、
ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテルアセテー
ト、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールジプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジ
ブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチル
エーテル、ジプロピレングリコールメチルプロピルエー
テル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、
トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプ
ロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリプロピ
レングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレング
リコールモノヘキシルエーテル、トリプロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、トリプロピレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、トリプロピレ
ングリコールモノプロピルエーテルアセテート、トリプ
ロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ト
リプロピレングリコールモノヘキシルエーテルアセテー
ト、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリ
プロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレ
ングリコールジプロピルエーテル、トリプロピレングリ
コールジブチルエーテル、トリプロピレングリコールメ
チルエチルエーテル、トリプロピレングリコールメチル
プロピルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノー
ル、３−メチル−３−メトキシブタノールアセテート等
が挙げられる。
メチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエーテ
ル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ジプ
ロピレングリコールモノヘキシルエーテル、ジプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピ
レングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロ
ピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、ジ
プロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、
ジプロピレングリコールモノヘキシルエーテルアセテー
ト、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールジエチルエーテル、ジプロピレングリ
コールジプロピルエーテル、ジプロピレングリコールジ
ブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエチル
エーテル、ジプロピレングリコールメチルプロピルエー
テル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテル、
トリプロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプ
ロピレングリコールモノプロピルエーテル、トリプロピ
レングリコールモノブチルエーテル、トリプロピレング
リコールモノヘキシルエーテル、トリプロピレングリコ
ールモノメチルエーテルアセテート、トリプロピレング
リコールモノエチルエーテルアセテート、トリプロピレ
ングリコールモノプロピルエーテルアセテート、トリプ
ロピレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ト
リプロピレングリコールモノヘキシルエーテルアセテー
ト、トリプロピレングリコールジメチルエーテル、トリ
プロピレングリコールジエチルエーテル、トリプロピレ
ングリコールジプロピルエーテル、トリプロピレングリ
コールジブチルエーテル、トリプロピレングリコールメ
チルエチルエーテル、トリプロピレングリコールメチル
プロピルエーテル、３−メチル−３−メトキシブタノー
ル、３−メチル−３−メトキシブタノールアセテート等
が挙げられる。
【００１７】上記式（２）で表される（ａ）成分は単独
で用いてもよく、混合して用いてもよい。（ａ）成分の
含有量は、洗浄剤全体に対し１〜９９．９重量％であ
り、より好ましくは３０〜８０重量％である。（ａ）成
分の含有量が、洗浄剤全体に対し、１重量％〜９９．９
重量％のとき良好な洗浄性を得ることができる。（ｂ）
成分の炭素数１〜１８の脂肪族カルボン酸とは、炭素数
が１〜１８の直鎖脂肪酸、または、分岐鎖脂肪酸であり
分子中のカルボキシル基の数は１〜５である。（ｂ）成
分の具体例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ
酪酸、ピバル酸、ヘキサン酸、吉草酸、イソ吉草酸、２
−エチル酪酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デ
カン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、３，５，５−トリ
メチルヘキサン酸、２−エチルヘキサン酸、シュウ酸、
マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼラ
イン酸、ピメリン酸、セバシン酸、１，９−ノナメチレ
ンジカルボン酸、１，１０−デカメチレンジカルボン
酸、１，１２−ドデカメチレンジカルボン酸、１，１４
−テトラデカメチレンジカルボン酸、１，１５−ペンタ
デカメチレンジカルボン酸、１，１６−ヘキサデカメチ
レンジカルボン酸等が挙げられる。
で用いてもよく、混合して用いてもよい。（ａ）成分の
含有量は、洗浄剤全体に対し１〜９９．９重量％であ
り、より好ましくは３０〜８０重量％である。（ａ）成
分の含有量が、洗浄剤全体に対し、１重量％〜９９．９
重量％のとき良好な洗浄性を得ることができる。（ｂ）
成分の炭素数１〜１８の脂肪族カルボン酸とは、炭素数
が１〜１８の直鎖脂肪酸、または、分岐鎖脂肪酸であり
分子中のカルボキシル基の数は１〜５である。（ｂ）成
分の具体例としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ
酪酸、ピバル酸、ヘキサン酸、吉草酸、イソ吉草酸、２
−エチル酪酸、ヘプタン酸、オクタン酸、ノナン酸、デ
カン酸、ウンデカン酸、ドデカン酸、３，５，５−トリ
メチルヘキサン酸、２−エチルヘキサン酸、シュウ酸、
マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、アゼラ
イン酸、ピメリン酸、セバシン酸、１，９−ノナメチレ
ンジカルボン酸、１，１０−デカメチレンジカルボン
酸、１，１２−ドデカメチレンジカルボン酸、１，１４
−テトラデカメチレンジカルボン酸、１，１５−ペンタ
デカメチレンジカルボン酸、１，１６−ヘキサデカメチ
レンジカルボン酸等が挙げられる。
【００１８】（ｃ）成分のアルカノールアミンの具体例
としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、及びこれらのアルキル化物
等のエタノールアミン類が挙げられる。（ｃ）成分の無
機アルカリの具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化カルシウム等が挙げられる。（ｂ）
成分と（ｃ）成分の配合重量比率は９／１〜１／９であ
り、好ましくは７／３〜３／７、さらに好ましくは６／
４〜４／６である。（ｂ）成分と（ｃ）成分が上記の重
量比率で共存することにより洗浄液のｐＨを安定化する
ことができる。（ｂ）成分と（ｃ）成分の合計含有量は
洗浄剤全体に対し、０．１〜２０重量％であり、好まし
くは１〜１０重量％である。（ｂ）成分と（ｃ）成分の
合計含有量が洗浄剤全体に対し、０．１重量％〜２０重
量％のとき洗浄液のｐＨを安定化でき、かつ、良好な洗
浄性を維持できる。
としては、モノエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、トリエタノールアミン、及びこれらのアルキル化物
等のエタノールアミン類が挙げられる。（ｃ）成分の無
機アルカリの具体例としては、水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化カルシウム等が挙げられる。（ｂ）
成分と（ｃ）成分の配合重量比率は９／１〜１／９であ
り、好ましくは７／３〜３／７、さらに好ましくは６／
４〜４／６である。（ｂ）成分と（ｃ）成分が上記の重
量比率で共存することにより洗浄液のｐＨを安定化する
ことができる。（ｂ）成分と（ｃ）成分の合計含有量は
洗浄剤全体に対し、０．１〜２０重量％であり、好まし
くは１〜１０重量％である。（ｂ）成分と（ｃ）成分の
合計含有量が洗浄剤全体に対し、０．１重量％〜２０重
量％のとき洗浄液のｐＨを安定化でき、かつ、良好な洗
浄性を維持できる。
【００１９】（ｄ）成分として炭化水素を添加すること
により、油性汚れの洗浄性をさらに向上することができ
る。（ｄ）成分の炭化水素は炭素数８〜２０の炭化水素
であれば飽和炭化水素、不飽和炭化水素どちらでもよ
い。また脂肪族、芳香族のいずれの炭化水素でもよい。
炭素数が８〜２０の炭化水素を用いることにより引火の
危険性が少なく、かつ、洗浄液の粘度が高くなることを
防止できるので、部品の狭い隙間の洗浄性も良好にでき
る。（ｄ）成分の含有量は、洗浄剤全体に対し、１〜９
０重量％が好ましい。
により、油性汚れの洗浄性をさらに向上することができ
る。（ｄ）成分の炭化水素は炭素数８〜２０の炭化水素
であれば飽和炭化水素、不飽和炭化水素どちらでもよ
い。また脂肪族、芳香族のいずれの炭化水素でもよい。
炭素数が８〜２０の炭化水素を用いることにより引火の
危険性が少なく、かつ、洗浄液の粘度が高くなることを
防止できるので、部品の狭い隙間の洗浄性も良好にでき
る。（ｄ）成分の含有量は、洗浄剤全体に対し、１〜９
０重量％が好ましい。
【００２０】（ｄ）成分の具体例としては、オクタン、
ノナン、デカン、ドデカン、テトラデカン、ドデセン、
テトラデセン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、メ
シチレン、ナフタレン、テトラリン、ブチルベンゼン、
シクロヘキシルベンゼン、ジエチルベンゼン、ビフェニ
ル、エチルシクロヘキサン、ビシクロヘキシル、ピネ
ン、ジペンテン、リモネン、デカリン、灯油、ソルベン
トナフサ等が挙げられ、これらは単独で用いても、混合
して用いてもよい。
ノナン、デカン、ドデカン、テトラデカン、ドデセン、
テトラデセン、キシレン、エチルベンゼン、クメン、メ
シチレン、ナフタレン、テトラリン、ブチルベンゼン、
シクロヘキシルベンゼン、ジエチルベンゼン、ビフェニ
ル、エチルシクロヘキサン、ビシクロヘキシル、ピネ
ン、ジペンテン、リモネン、デカリン、灯油、ソルベン
トナフサ等が挙げられ、これらは単独で用いても、混合
して用いてもよい。
【００２１】（ｅ）成分として水を添加することによ
り、洗浄液の引火の危険性をなくしたり、洗浄液の粘度
を低下させ狭い隙間の洗浄性を向上させることができ
る。（ｅ）成分の含有量は、洗浄剤全体に対し、５〜９
５重量％が好ましい。（ｅ）成分の含有量が洗浄剤全体
に対し、５重量％〜９５重量％のとき、洗浄液の引火の
危険性が少なくなり、かつ、良好な洗浄性を得ることが
できる。
り、洗浄液の引火の危険性をなくしたり、洗浄液の粘度
を低下させ狭い隙間の洗浄性を向上させることができ
る。（ｅ）成分の含有量は、洗浄剤全体に対し、５〜９
５重量％が好ましい。（ｅ）成分の含有量が洗浄剤全体
に対し、５重量％〜９５重量％のとき、洗浄液の引火の
危険性が少なくなり、かつ、良好な洗浄性を得ることが
できる。
【００２２】本発明の洗浄剤には、その効果を損なわな
い範囲で、必要により、公知の任意成分を配合すること
ができる。たとえば、フェノール系酸化防止剤、消泡
剤、液安定を保つためのアルコール類、グリコール類等
の溶剤、洗浄性や水リンス性アップのための各種界面活
性剤などが配合できる。本発明の洗浄剤は、そのまま原
液で使用することもできるが、水で２〜２０倍に希釈し
て使用することもできる。
い範囲で、必要により、公知の任意成分を配合すること
ができる。たとえば、フェノール系酸化防止剤、消泡
剤、液安定を保つためのアルコール類、グリコール類等
の溶剤、洗浄性や水リンス性アップのための各種界面活
性剤などが配合できる。本発明の洗浄剤は、そのまま原
液で使用することもできるが、水で２〜２０倍に希釈し
て使用することもできる。
【００２３】
【発明の実施の形態】以下、実施例を挙げて本発明をさ
らに具体的に説明する。しかし、本発明はこれらの実施
例に限定されるものではない。なお、評価方法は下記の
通りである。 （１）切削油洗浄性評価 切削油（ユニカットＧＨ３５、日本石油株式会社製）
を、ステンレス製金属板に塗布し、洗浄剤中４０℃で４
分間超音波洗浄（４７ｋＨｚ、０、３Ｗ／ｃｍ2）し
た。続いて、このステンレス製金属板を純水中、４０℃
で４分間超音波リンス（４７ｋＨｚ、０、３Ｗ／ｃ
ｍ2 ）した。さらに８０℃で４分間乾燥した。その際の
汚れ除去性を目視評価した。
らに具体的に説明する。しかし、本発明はこれらの実施
例に限定されるものではない。なお、評価方法は下記の
通りである。 （１）切削油洗浄性評価 切削油（ユニカットＧＨ３５、日本石油株式会社製）
を、ステンレス製金属板に塗布し、洗浄剤中４０℃で４
分間超音波洗浄（４７ｋＨｚ、０、３Ｗ／ｃｍ2）し
た。続いて、このステンレス製金属板を純水中、４０℃
で４分間超音波リンス（４７ｋＨｚ、０、３Ｗ／ｃ
ｍ2 ）した。さらに８０℃で４分間乾燥した。その際の
汚れ除去性を目視評価した。
【００２４】切削油洗浄性評価基準は次の通りである。 ◎：ステンレス製金属板に切削油がまったく残らない ○：ステンレス製金属板に切削油が極微量残る △：ステンレス製金属板に切削油が少量残る ×：ステンレス製金属板に切削油が多量に残る （２）防錆性評価 洗浄剤中に鉄（ＳＣ４６）を浸漬し、５０℃で２４時間
放置後、発錆の有無を目視評価した。
放置後、発錆の有無を目視評価した。
【００２５】防錆性評価基準は次の通りである。 ○：発錆しない ×：発錆した （３）ｐＨ安定性評価 洗浄剤を６０℃で２ヶ月間、開放下放置し、ｐＨの変化
量を評価した。
量を評価した。
【００２６】ｐＨ安定性評価基準は次の通りである。 ○：ｐＨ変化量が２より小さい ×：ｐＨ変化量が２より大きい
【００２７】
【実施例１〜１０】表１に示す組成の洗浄剤を調合し、
各々の切削油洗浄性、金属の防錆性、ｐＨ安定性につき
評価した。その結果を表２に示す。
各々の切削油洗浄性、金属の防錆性、ｐＨ安定性につき
評価した。その結果を表２に示す。
【００２８】
【比較例１〜７】表３に示す組成の洗浄剤を調合し、各
々の切削油洗浄性、金属の防錆性、ｐＨ安定性につき評
価した。その結果を表４に示す。
々の切削油洗浄性、金属の防錆性、ｐＨ安定性につき評
価した。その結果を表４に示す。
【００２９】
【表１】
【００３０】
【表２】
【００３１】
【表３】
【００３２】
【表４】
【００３３】
【発明の効果】本発明の洗浄剤は、各種部品に付着した
切削油、プレス油、引き抜き油等各種油、ワックス、グ
リース、液晶、フラックス等の汚れ洗浄力に優れ、か
つ、環境汚染がなく、しかも洗浄液のｐＨが安定してい
るため、金属製部品に錆や腐食等の悪影響がない洗浄剤
である。
切削油、プレス油、引き抜き油等各種油、ワックス、グ
リース、液晶、フラックス等の汚れ洗浄力に優れ、か
つ、環境汚染がなく、しかも洗浄液のｐＨが安定してい
るため、金属製部品に錆や腐食等の悪影響がない洗浄剤
である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４７ Ｈ０１Ｌ 21/304 ６４７Ａ
Claims (3)
- 【請求項１】 （ａ）下記式（１）または下記式（２）
で表されるアルキレンオキサイド化合物、（ｂ）炭素数
１〜１８の脂肪族カルボン酸、（ｃ）アルカノールアミ
ン及び／または無機アルカリを含有し、該（ａ）成分の
含有量が洗浄剤全体に対し１〜９９．９重量％であり、
該（ｂ）成分と該（ｃ）成分の配合重量比率が９／１〜
１／９であり、該（ｂ）成分と該（ｃ）成分の合計含有
量が洗浄剤全体に対し０．１〜２０重量％である洗浄
剤。 Ｒ1 （Ｘ）（Ｒ2 Ｏ）n Ｈ （１） （式中、Ｒ1 は炭素数８〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ
2 は炭素数２または３のアルキレン基を表す。Ｘは下記
のいずれかを表す。 【化１】 また、ｍ、ｎはアルキレンオキサイドの付加数を表し、
１〜２０の整数である。ただし、同一のアルキレンオキ
サイドが単独で付加してもよく、２種類のアルキレンオ
キサイドが混合して付加してもよい。） Ｒ3 Ｏ（Ｒ4 Ｏ）p Ｒ5 （２） （式中、Ｒ3 は炭素数１〜８の炭化水素基を表し、Ｒ4
は炭素数２〜５のアルキレン基を表す。また、Ｒ5 は水
素原子または炭素数１〜５のアルキル基またはアシル基
を表す。ｐはアルキレンオキサイドの付加数を表し、１
〜１０の整数である。ただし、同一のアルキレンオキサ
イドが単独で付加してもよく、２種類以上のアルキレン
オキサイドが混合して付加してもよい。） - 【請求項２】 （ｄ）炭素数８〜２０の炭化水素を、洗
浄剤全体に対し１〜９０重量％含有する請求項１記載の
洗浄剤。 - 【請求項３】 （ｅ）水を、洗浄剤全体に対し５〜９５
重量％含有する請求項１または請求項２記載の洗浄剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09031598A JP4204091B2 (ja) | 1998-04-02 | 1998-04-02 | 洗浄剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP09031598A JP4204091B2 (ja) | 1998-04-02 | 1998-04-02 | 洗浄剤組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11286698A true JPH11286698A (ja) | 1999-10-19 |
| JP4204091B2 JP4204091B2 (ja) | 2009-01-07 |
Family
ID=13995107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP09031598A Expired - Lifetime JP4204091B2 (ja) | 1998-04-02 | 1998-04-02 | 洗浄剤組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4204091B2 (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002224948A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-08-13 | Daido Chem Ind Co Ltd | 磁気ディスクＮｉ−Ｐ基板の研磨液用洗浄剤組成物及び該洗浄剤組成物を使用する磁気ディスクＮｉ−Ｐ基板の製造方法 |
| JP2010077373A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Risudan Chemical:Kk | 樹脂ワックス皮膜層の剥離剤組成物およびその除去方法 |
| JP2010143997A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Nippon Oil Corp | 切りくず洗浄用原液組成物および洗浄液 |
| JP2010143971A (ja) * | 2008-12-16 | 2010-07-01 | Lion Corp | 洗浄剤組成物および液晶パネルの洗浄方法 |
| JP2010174106A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Tosoh Corp | 水溶性汚れの除去方法 |
| KR101294303B1 (ko) * | 2006-12-29 | 2013-08-07 | 주식회사 엘지생활건강 | 준수계 세정제 조성물 |
| US8685912B2 (en) | 2010-02-23 | 2014-04-01 | Lion Corporation | Detergent for metal |
| JP2017119782A (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | 花王株式会社 | 水溶性フラックス用洗浄剤組成物 |
| WO2023243666A1 (ja) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | 花王株式会社 | 半導体基板の製造方法 |
| WO2023243661A1 (ja) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | 花王株式会社 | 接着剤用洗浄剤組成物 |
-
1998
- 1998-04-02 JP JP09031598A patent/JP4204091B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002224948A (ja) * | 2001-01-26 | 2002-08-13 | Daido Chem Ind Co Ltd | 磁気ディスクＮｉ−Ｐ基板の研磨液用洗浄剤組成物及び該洗浄剤組成物を使用する磁気ディスクＮｉ−Ｐ基板の製造方法 |
| KR101294303B1 (ko) * | 2006-12-29 | 2013-08-07 | 주식회사 엘지생활건강 | 준수계 세정제 조성물 |
| JP2010077373A (ja) * | 2008-09-25 | 2010-04-08 | Risudan Chemical:Kk | 樹脂ワックス皮膜層の剥離剤組成物およびその除去方法 |
| JP2010143971A (ja) * | 2008-12-16 | 2010-07-01 | Lion Corp | 洗浄剤組成物および液晶パネルの洗浄方法 |
| JP2010143997A (ja) * | 2008-12-17 | 2010-07-01 | Nippon Oil Corp | 切りくず洗浄用原液組成物および洗浄液 |
| JP2010174106A (ja) * | 2009-01-28 | 2010-08-12 | Tosoh Corp | 水溶性汚れの除去方法 |
| US8685912B2 (en) | 2010-02-23 | 2014-04-01 | Lion Corporation | Detergent for metal |
| JP2017119782A (ja) * | 2015-12-28 | 2017-07-06 | 花王株式会社 | 水溶性フラックス用洗浄剤組成物 |
| WO2023243666A1 (ja) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | 花王株式会社 | 半導体基板の製造方法 |
| WO2023243661A1 (ja) * | 2022-06-17 | 2023-12-21 | 花王株式会社 | 接着剤用洗浄剤組成物 |
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| JP4204091B2 (ja) | 2009-01-07 |
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