JPH1128865A

JPH1128865A - 光記録媒体

Info

Publication number: JPH1128865A
Application number: JP9199257A
Authority: JP
Inventors: Masahiro Shinkai; 正博新海; Emiko Kanbe; 江美子神戸
Original assignee: TDK Corp
Current assignee: TDK Corp
Priority date: 1997-07-09
Filing date: 1997-07-09
Publication date: 1999-02-02
Anticipated expiration: 2017-07-09
Also published as: JP3724530B2

Abstract

(57)【要約】【課題】耐光性に優れ、ポリカーボネート基板を侵さ
ない塗布溶剤に十分な溶解性をもち、６８０nm以下の波
長光で優れた記録再生特性を有する光記録媒体を提供す
る。【解決手段】記録および／または再生波長が６８０nm
以下である光記録媒体において、下記式（Ｉ）で表さ
れ、６３５nmでの複素屈折率の実部ｎが２．０〜２．
８、虚部ｋが０．４以下であるアゾ色素を含有する記録
層を有することを特徴とする光記録媒体。【化２１】［式（１）において、Ｑ₁は５または６員の含窒素芳香
環を形成するための原子群を表し、縮合環を有していて
もよい。Ｑ₂は芳香環を形成するための原子群を表し、
縮合環を有していてもよい。Ｒ₁はアルキル基を表す。
Ｘ^-は対アニオンを表す。］

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射層を有しレー
ザーを照射することによりピットを形成する光記録媒体
に関する。特に、記録再生波長が６００〜６８０nmの光
記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】本発明の発明者らはＣＤ（コンパクトデ
ィスク）規格に対応した記録可能な光記録媒体としてＣ
Ｄ−Ｒ（追記型コンパクトディスク）を開発してきた。
このＣＤ−Ｒに使用する色素として、シアニン色素は溶
解性、波長特性等から広く使用されてきた。しかし、シ
アニン色素には耐光性が弱いという欠点がある。これを
解決する方法として、クエンチャーの添加、Ｎｉ、Ｃｕ
ジチオレン金属錯体との塩形成等が試みられてきた。こ
れら方法では、耐光性が十分向上しなかったり、溶解性
が悪いため、生産性が悪い等の問題点があった。

【０００３】また、カチオン性アゾ色素としては、特開
平８−２４４３５２号に開示されているが、この中では
７８０nmにおける屈折率の実部（Ｎ）が少なくとも１．
８であり、かつ虚部（ｋ）が０．０１〜０．１５となっ
ている。このような色素を利用した場合、６８０〜６０
０nmでの記録再生では、反射率が小さくなりすぎて使用
できない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、耐光
性に優れ、ポリカーボネート基板を侵さない塗布溶剤に
十分な溶解性をもち、６８０nm以下の波長光で優れた記
録再生特性を有する光記録媒体を提供することである。
特に、タクトタイムを向上できるフッ素化アルコール系
溶媒、セロソルブ系溶媒に十分な溶解性を持つ色素を用
いて記録層の塗設が可能となる光記録媒体を提供するこ
とである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）、（２）によって達成される。（１）記録および／または再生波長が６８０nm以下で
ある光記録媒体において、下記式（Ｉ）で表され、６３
５nmでの複素屈折率の実部ｎが２．０〜２．８、虚部ｋ
が０．４以下であるアゾ色素を含有する記録層を有する
ことを特徴とする光記録媒体。

【０００６】

【化２】

【０００７】［式（１）において、Ｑ₁は５または６員
の含窒素芳香環を形成するための原子群を表し、縮合環
を有していてもよい。Ｑ₂は芳香環を形成するための原
子群を表し、縮合環を有していてもよい。Ｒ₁はアルキ
ル基を表す。Ｘ^-は対アニオンを表す。］（２）式（Ｉ）中のＸ^-で表される対アニオンが有機
金属錯体のアニオンである上記（１）の光記録媒体。

【０００８】

【発明の実施の形態】以下、本発明について詳細に説明
する。本発明の光記録媒体は、記録および／または再生
波長が６８０nm以下であり、式（Ｉ）で表されるカチオ
ン性のアゾ色素を含有する記録層を有する。

【０００９】このようなアゾ色素の６３５nmの波長にお
ける複素屈折率の実部（ｎ）は２．０〜２．８であり、
虚部（ｋ）は０．４以下である。このようなｎおよびｋ
のものを用いることによって十分な反射率と信号の変調
度が得られ、６８０nm以下、特に６００〜６８０nmの波
長光での記録および／または再生を良好に行うことがで
きる。これに対し、ｎが２．０未満となると信号の変調
度が小さくなり、ｋが０．４をこえると十分な反射率が
得られない。またｎが２．８をこえる色素の合成は事実
上不可能である。

【００１０】なお、色素のｎおよびｋは、所定の透明基
板上に色素膜を光記録媒体の記録層程度の厚さ、例えば
４０〜１００nm程度の厚さに記録層と同条件で設層し
て、測定用サンプルを作製し、次いで、この測定用サン
プルの６３５nmにおける反射率および透過率を測定し、
これらの測定値から、例えば、共立全書「光学」石黒浩
三Ｐ１６８〜１７８に準じ、算出したものである。反射
率は測定用サンプルの基板を通しての反射率あるいは色
素膜側からの反射率であり、鏡面反射（５°程度）にて
測定したものである。

【００１１】本発明の光記録媒体の記録層に用いられる
式（Ｉ）で表されるアゾ色素について説明する。式
（Ｉ）について説明すると、Ｑ₁は５または６員の含窒
素芳香環を形成するための原子群を表し、さらに縮合環
を有していてもよい。Ｑ₂は芳香環を形成するための原
子群を表し、さらに縮合環を有していてもよい。Ｒ₁は
アルキル基を表し、Ｘ^-は対アニオンを表す。

【００１２】Ｑ₁で完成される含窒素芳香環としては、
単環であっても、縮合多環や環集合の多環であってもよ
い。このような芳香環としては、ピリジン環、チアゾー
ル環、ベンゾチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオ
キサゾール環、キノリン環、イミダゾール環、ピラジン
環、ピロール環などが挙げられる。なかでも、チアゾー
ル環、イミダゾール環、ピリジン環、キノリン環などが
好ましい。

【００１３】Ｒ₁で表されるアルキル基としては炭素数
１〜６のものが好ましく、直鎖状であっても分岐を有す
るものであってもよいが、直鎖の炭素数１〜４のアルキ
ル基が特に好ましい。また、アルキル基はアルコキシ基
（メトキシ、エトキシ等）などの置換基を有していても
よい。

【００１４】また、Ｑ₁で完成される含窒素芳香環はＲ₁
のほかに、さらに置換基を有していてもよく、このよう
な置換基としてはアルキル基、アルコキシ基、ハロゲン
原子、ニトロ基等が挙げられる。

【００１５】また、Ｑ₂で完成される芳香環としては、
炭素環であっても複素環であってもよく、単環であって
も、縮合多環や環集合の多環であってもよい。このよう
な芳香環としては、ベンゼン環、ナフタレン環、インド
ール環、ピリジン環、チアゾール環、ベンゾチアゾール
環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン
環、イミダゾール環、ピラジン環、ピロール環などが挙
げられ、なかでもベンゼン環、ピロール環、インドール
環などが好ましい。

【００１６】Ｑ₂で完成される芳香環はさらに置換基を
有していてもよく、このような置換基としては、アルキ
ル基、アリール基、アミノ基（特にジアルキルアミノ
基）、アルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基等が挙げ
られる。このなかで、Ｑ₂で完成される芳香環がベンゼ
ン環であるとき、ベンゼン環における−Ｎ＝Ｎ−の結合
位置のｐ位にジアルキルアミノ基を有することが好まし
い。

【００１７】Ｘ^-で表される陰イオンとして、具体的に
はハロゲン化物イオン（Ｃｌ^- 、Ｂｒ^- 、Ｉ^- 等）、Ｃ
ｌＯ₄ ^-、ＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＶＯ₃ ^-、ＶＯ₄ ^3- 、ＷＯ
₄ ^2- 、ＣＨ₃ ＳＯ₃ ^-、ＣＦ₃ ＣＯＯ^- 、ＣＨ₃ ＣＯＯ
^- 、ＨＳＯ₄ ^-、ＣＦ₃ ＳＯ₃ ^-、ＰＯ₄ ・１２ＷＯ₃ ^3- 、
パラトルエンスルホン酸イオン（ＰＴＳ^- ）、ｐ−三フ
ッ化メチルフェニルスルホン酸イオン（ＰＦＳ^- ）等が
挙げられる。なかでも、ＣｌＯ₄ ^-、ＢＦ₄ ^-等が好まし
い。

【００１８】また、有機金属錯体の陰イオンが好ましい
ものとして挙げられる。このような有機金属錯体として
は、金属錯体クエンチャーとして知られているものがあ
る。具体的には、アセチルアセトナート系、ビスジチオ
−α−ジケトン系やビスフェニレンジチオール系などの
ビスジチオール系、チオカテコール系、サリチルアルデ
ヒドオキシム系、チオビスフェノレート系等の金属錯体
の陰イオンが挙げられる。なかでも、ビスフェニレンジ
チオール系の金属錯体の陰イオンが好ましい。ビスフェ
ニレンジチオール系の金属錯体の陰イオンとしては下記
式（Ａ−１）で示されるものが好ましい。

【００１９】

【化３】

【００２０】式（Ａ−１）において、Ｍは中心金属を表
わし、中心金属としてはＮｉ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｐｄ、Ｐｔ
等が挙げられ、Ｎｉ、Ｃｕ等が好ましい。Ｒはアルキル
基、アルコキシ基、アルキル置換アミノ基またはハロゲ
ン原子を表す。ｎは１〜４の整数である。

【００２１】Ｒで表されるアルキル基としては直鎖状で
あっても分岐を有していてもよく、炭素数１〜４のもの
が好ましく、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロ
ピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−
ブチル等が挙げられる。アルコキシ基としては炭素数１
〜４のものが好ましく、メトキシ、エトキシ等が挙げら
れる。アルキル置換アミノ基としては炭素数１〜４のア
ルキル基が置換したものが好ましく、ジ−置換体が好ま
しく、ジブチルアミノ等が挙げられる。ハロゲン原子と
してはＣｌ等が挙げられる。

【００２２】ｎは１〜４の整数であるが、特に１〜３の
整数であることが好ましい。

【００２３】式（Ａ−１）で示される陰イオンの具体例
を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものでな
い。ここでは、式（Ａ−１ａ）等の表示に従い、Ｍ、Ｒ
⁰¹等の組合せで示している。

【００２４】

【化４】

【００２５】また、フェニルアゾフェニル金属錯体の陰
イオンが挙げられ、下記式（Ａ−２）で示されるものが
好ましい。

【００２６】

【化５】

【００２７】式（Ａ−２）において、Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ は各々
ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、スルファモイル
基、アルキル基またはアルコキシ基を表し、ｔ〜ｗは各
々０〜４の整数である。Ｍ¹ はコバルトまたはニッケル
を表す。ただし、ｔ、ｕ、ｖおよびｗは同時に０になる
ことはなく、ｔ＋ｕ＋ｖ＋ｗは１〜１６である。

【００２８】式（Ａ−２）についてさらに説明すると、
Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ で表されるハロゲン原子としては、Ｆ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ、Ｉなどが挙げられる。

【００２９】Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ で表されるアミノ基としては、
アルキル基、アルコキシ基、アシル基等の置換基を有す
るものであってよく、さらにこれらの置換基はハロゲン
原子（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等）やヒドロキシ基、アルコキシ
基等で置換されていてもよい。Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ で表されるア
ミノ基として、具体的にはアミノ基、メチルアミノ基、
ジメチルアミノ基、アセチルアミノ基、ベンジルアミノ
基などが挙げられる。このようなアミノ基の総炭素数は
０〜８であることが好ましい。

【００３０】Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ で表されるスルファモイル基と
しては、アルキル基、アルコキシ基等の置換基を有する
ものであってもよく、さらにこれらの置換基はハロゲン
原子（Ｃｌ、Ｂｒ、Ｉ等）やヒドロキシ基、アルコキシ
基等で置換されていてもよい。Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ で表されるス
ルファモイル基として、具体的にはスルファモイル基、
Ｎ−メチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルフ
ァモイル基、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル基、Ｎ，
Ｎ−メチルヒドロキシエチルスルファモイル基、Ｎ，Ｎ
−メトキシエチルスルファモイル基、Ｎ−メトキシエチ
ルスルファモイル基などが挙げられる。このようなスル
ファモイル基の総炭素数は０〜１０であることが好まし
い。

【００３１】Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ で表されるアルキル基として
は、炭素数１〜４のものが好ましく、直鎖状であっても
分岐を有するものであってもよく、置換基（例えばハロ
ゲン原子、アルコキシ基等）を有していてもよく、具体
的にはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、
ｔ−ブチル基、メトキシエチル基などが挙げられる。

【００３２】Ｒ¹ 〜Ｒ⁴ で表されるアルコキシ基として
は、アルキル部分の炭素数が１〜４のものが好ましく、
置換基（例えばハロゲン原子等）を有していてもよく、
具体的にはメトキシ基、エトキシ基などが挙げられる。

【００３３】ｔ〜ｗは各々０〜４の整数であり、これら
は同時に０になることはなく、ｔ＋ｕ＋ｖ＋ｗは１〜１
６である。また、ｔ、ｕ、ｖ、ｗが２以上の整数である
とき、各Ｒ¹ 同士、各Ｒ² 同士、各Ｒ³ 同士、各Ｒ⁴ 同
士は同一でも異なるものであってもよく、隣接するもの
同士が組み合って縮合環（ベンゼン環等）を形成しても
よい。ｔ、ｕ、ｖ、ｗは上記条件下で０、１、２である
ことが好ましく、特に１であることが好ましい。

【００３４】式（Ａ−２）においては、ｔ＝ｕ＝ｖ＝ｗ
＝１で、Ｒ¹＝Ｒ³、Ｒ²＝Ｒ⁴であることが好ましい。

【００３５】式（Ａ−２）において、Ｍ¹ はＣｏまたは
Ｎｉであり、特にＣｏが好ましい。

【００３６】以下に式（Ａ−２）で示される陰イオンの
具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。ここでは式（Ａ−２ａ）、式（Ａ−２ｂ）のＲ¹¹
等の組合せで示しており、Ｒ¹¹〜Ｒ¹⁴等においてすべて
ＨであるときはＨで、また置換基であるときはそのもの
のみを示しＨの表示は省略している。

【００３７】

【化６】

【００３８】

【化７】

【００３９】

【化８】

【００４０】

【化９】

【００４１】

【化１０】

【００４２】陰イオンとしては、特に有機金属錯体の陰
イオンが好ましい。

【００４３】以下に、本発明に用いられる一般式（Ｉ）
のアゾ色素を示すが、本発明はこれらに限定されるもの
でなない。ここでは、式（Ｉ−１）〜式（Ｉ−５）の表
示に従って示し、Ｘ^-が有機金属錯体陰イオンであると
き、先に例示した表示に従って示している。

【００４４】

【化１１】

【００４５】

【化１２】

【００４６】

【化１３】

【００４７】

【化１４】

【００４８】

【化１５】

【００４９】一般式（Ｉ）のアゾ色素は例えば式（Ｉ−
１）の化合物であれば、以下のスキームＡに従って合成
することができる。

【００５０】

【化１６】

【００５１】また、Topics in Applied Chemistry:The
Chemistry and Application of Dyes,D.R.Waring and
G.Hallas,Eds.,Plenum Press,New York,Chap.5.(1990)
に記載されている方法で合成を行うことができる。

【００５２】また、有機金属錯体の陰イオンをもつアゾ
色素を得るには、ＣｌＯ₄ ^-塩やＢＦ₄ ^-塩を合成したの
ち、目的とする有機金属錯体の陰イオンに応じ、有機金
属錯体塩（例えば下記化合物Ｂ１、Ｂ２）を用いて、公
知の方法に従って陰イオンを交換すればよい。

【００５３】

【化１７】

【００５４】

【化１８】

【００５５】本発明のアゾ色素の融点（ｍｐ）は２２０
〜３５０℃であり、λｍａｘ（５０nm厚の色素薄膜で測
定）は４８０〜６３０nmの範囲にある。

【００５６】上記の例示化合物について、λmax、ｎ、
ｋを示す。

【００５７】

【表１】

【００５８】本発明のアゾ色素は、記録層用の色素とし
て、１種のみを用いても２種以上を併用してもよい。

【００５９】これらの色素は、耐光性に優れ、有機溶媒
に対する溶解性が十分であり、光記録媒体の基板材料と
して汎用されているポリカーボネート樹脂（ＰＣ）を侵
すことがない塗布溶媒に対する溶解度が大きくなる。

【００６０】これらの色素を用いた記録層は、特に追記
型の光記録ディスク（ＤＶＤ−Ｒ）に用いることが好ま
しい。このような記録層は、色素含有塗布液を用いて設
層することができ、特に、回転する基板上に塗布液を展
開塗布するスピンコート法によることが好ましい。この
ほか、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピングな
どによってもよい。

【００６１】上記のようなスピンコートの後、必要に応
じて塗膜を乾燥させる。このようにして形成される記録
層の厚さは、目的とする反射率などに応じて適宜設定さ
れるものであるが、通常、５００〜３０００Aである。

【００６２】なお、塗布液における色素含有量は、通常
０．０５〜１０wt% とするのがよい。本発明のアゾ色素
は溶解性が良好であるので、このような含有量の塗布液
を容易に調製することが容易である。具体的に言えば、
本発明のアゾ色素は、主に極性溶媒に良好な溶解性を示
し、アルコールやセロソルブ系ないしアルコキシアルコ
ール系、ジアセトンアルコールなどのケトアルコール、
シクロヘキサンなどのケトン、２，２，３，３−テトラ
フルオロプロパノールなどのフッ素化アルコールなどに
０．５〜１０wt% 溶解する。特にポリカーボネート製デ
ィスクに塗布する際に好適な塗布溶媒である、エチルセ
ロソルブや２，２，３，３−テトラフルオロプロパノー
ルに１wt% 以上溶解し、短時間に良質なスピンコート膜
を成膜することが可能である。

【００６３】また、塗布液には適宜バインダー、分散
剤、安定剤などを含有させてもよい。

【００６４】本発明の光記録媒体の記録層には本発明の
色素のほか、他の種類の光吸収色素を含有させてもよ
い。このような色素としては、シアニン系色素、上記と
は別種の金属錯体色素、スチリル系色素、ポリフィリン
系色素、上記とは別種のアゾ色素、ホルマザン金属錯体
などが挙げられる。このような場合には、塗布液中にこ
のような色素を含有させて記録層を設層すればよい。

【００６５】本発明に用いられる塗布溶媒として、具体
的には、アルコール系（ケトアルコール系、エチレング
リコールモノアルキルエーテル系等のアルコキシアルコ
ール系を含む。）、脂肪族炭化水素系、ケトン系、エス
テル系、エーテル系、芳香族系、ハロゲン化アルキル系
等から適宜選択すればよい。

【００６６】このなかで、アルコール系、脂肪族炭化水
素系などが好ましい。アルコール系のなかでは、アルコ
キシアルコール系、ケトアルコール系などが好ましい。
アルコキシアルコール系は、アルコキシ部分の炭素原子
数が１〜４であることが好ましく、かつアルコール部分
の炭素原子数が１〜５、さらには２〜５であることが好
ましく、総炭素原子数が３〜７であることが好ましい。
具体的には、エチレングリコールモノメチルエーテル
（メチルセロソルブ）やエチレングリコールモノエチル
エーテル（エチルセロソルブ、エトキシエタノールとも
いう）やブチルセロソルブ、２−イソプロポキシ−１−
エタノール等のエチレングリコールモノアルキルエーテ
ル（セロソルブ）系や１−メトキシ−２−プロパノー
ル、１−メトキシ−２−ブタノール、３−メトキシ−１
−ブタノール、４−メトキシ−１−ブタノール、１−エ
トキシ−２−プロパノール等が挙げられる。ケトアルコ
ール系としてはジアセトンアルコール等が挙げられる。
さらには２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール
などのフッ素化アルコールも用いることができる。

【００６７】脂肪族炭化水素系としては、ｎ−ヘキサ
ン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシ
クロヘキサン、シクロオクタン、ジメチルシクロヘキサ
ン、ｎ−オクタン、ｉｓｏ−プロピルシクロヘキサン、
ｔ−ブチルシクロヘキサンなどが好ましく、なかでもエ
チルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサンなどが好
ましい。

【００６８】また、ケトン系としてはシクロヘキサノン
などが挙げられる。

【００６９】本発明では、特にエチレングリコールモノ
アルキルエーテル系等のアルコキシアルコール系が好ま
しく、なかでもエチレングリコールモノエチルエーテ
ル、１−メトキシ−２−プロパノール、１−メトキシ−
２−ブタノール等が好ましく、さらにはこれらの混合溶
媒であってもよく、例えばエチレングリコールモノエチ
ルエーテルと１−メトキシ−２−ブタノールの組合せの
ようなものが挙げられる。また、フッ素アルコールも好
ましく用いられる。

【００７０】本発明の光記録媒体の好ましい態様である
６３５nm、６５０nm程度の短波長で記録・再生を行う追
記型デジタルビデオディスク（ＤＶＤ−Ｒ）の構成例を
図１に示す。図１は部分断面図である。

【００７１】図１で示されるように光記録ディスク１０
は、ＤＶＤ規格に対応した光記録ディスクであり、同様
な構造のディスク２枚の保護膜１５および保護膜２５同
士を貼り合わせて形成する。接着剤層５０の厚さは、１
０〜２００μm 程度である。この場合の基板（通常、ポ
リカーボネート樹脂）一枚当たりの厚さは０．６mmであ
り、グルーブ１２３を有する基板１２上に記録層１３、
反射層１４、保護膜１５を順次形成し、一方グルーブ２
２３を有する基板２２上に同様に記録層２３、反射層２
４、保護膜２５を形成し、上述のように貼り合わされて
得られるものである。貼り合わせの方法としては、ホッ
トメルト接着剤、遅効性ＵＶ接着剤、粘着シート等を利
用できる。

【００７２】基板１２または２２は、ディスク状のもの
であり、基板２の裏面側からの記録および再生を可能と
するために、記録光および再生光（波長６００〜６８０
nm程度、さらには波長６３０〜６８０nm程度、なかでも
波長６３５〜６８０nm程度のレーザー光、特に６３５nm
または６５０nm）に対し、実質的に透明（好ましくは透
過率８８％以上）な樹脂あるいはガラスを用いて形成す
るのがよい。また、大きさは、直径６４〜２００mm程
度、厚さ０．６mm程度のものとする。

【００７３】基板１２または２２の記録層１３または２
３形成面には、図１に示すように、トラッキング用のグ
ルーブ１２３または２２３が形成される。グルーブ１２
３または２２３は、スパイラル状の連続型グルーブであ
ることが好ましく、深さは０．０５〜０．２０μm （５
００〜２０００Ａ）、幅は０．２０〜０．４０μm 、グ
ルーブピッチは０．６５〜０．８５μm であることが好
ましい。グルーブをこのような構成とすることにより、
グルーブの反射レベルを下げることなく、良好なトラッ
キング信号を得ることができる。特にグルーブ幅を０．
２０〜０．４０μm に規制することは重要であり、グル
ーブ幅を０．２μm 未満とすると、十分な大きさのトラ
ッキング信号が得られにくく、記録時のトラッキングの
わずかなオフセットによって、ジッターが大きくなりや
すい。またグルーブ幅が大きくなると波形ひずみが生じ
やすくなる。

【００７４】基板１２または２２は、材質的には、樹脂
を用いることが好ましく、ポリカーボネート樹脂、アク
リル樹脂、アモルファスポリオレフィン、ＴＰＸ、ポリ
スチレン系樹脂等の各種熱可塑性樹脂が好適である。そ
して、このような樹脂を用いて射出成形等の公知の方法
に従って製造することができる。グルーブ１２３または
２２３は、基板１２または２２の成形時に形成すること
が好ましい。なお、基板１２または２２の製造後に２Ｐ
法等によりグルーブ１２３または２２３を有する樹脂層
を形成してもよい。また、場合によってはガラス基板を
用いてもよい。

【００７５】図１に示されるように、基板１２または２
２に設層される記録層１３または２３は、前記の色素含
有塗布液を用い、前記のように、好ましくはスピンコー
ト法により形成されたものである。スピンコートは通常
の条件に従い、内周から外周にかけて、回転数を５００
〜５０００rpm の間で調整するなどして行えばよい。

【００７６】このようにして形成される記録層１３また
は２３の厚さは、５０〜３００nm（５００〜３０００
Ａ）であり、記録光および再生光波長における複素屈折
率は実部ｎ＝２．０〜２．８、虚部ｋ＝０．４以下であ
る。

【００７７】上記の範囲外の厚さでは反射率が低下し
て、良好な再生を行うことが難しくなる。

【００７８】また、上記のようにｎ、ｋを規制すること
によって、良好な記録、再生が行える。ｋが０．４を超
えると、十分な反射率が得られない。ｎが２．０未満で
は信号の変調度が小さすぎる。ｎの上限には特に制限は
ないが、色素化合物の合成上の都合等から通常２．８程
度である。

【００７９】なお、記録層のｎおよびｋは、所定の透明
基板上に記録層を例えば４０〜１００nm程度の厚さに実
際の条件にて設層して、測定用サンプルを作製し、次い
で、この測定用サンプルの基板を通しての反射率あるい
は記録層側からの反射率を測定することによって求め
る。この場合、反射率は、記録再生光波長（６３５nmま
たは６５０nm）を用いて鏡面反射（５°程度）にて測定
する。また、サンプルの透過率を測定する。そして、こ
れらの測定値から、例えば、共立全書「光学」石黒浩三
Ｐ１６８〜１７８に準じ、ｎ、ｋを算出すればよい。

【００８０】図１に示されるように、記録層１３または
２３上には、直接密着して反射層１４または２４が設層
される。反射層１４または２４としては、Ａｕ、Ｃｕ、
Ａｌ、Ａｇ、ＡｇＣｕ等の高反射率金属ないし合金を用
いるのがよい。反射層１４または２４の厚さは５０nm
（５００A）以上であることが好ましく、蒸着、スパッ
タ等により設層すればよい。また、厚さの上限に特に制
限はないが、コスト、生産作業時間等を考慮すると、１
２０nm（１２００A）程度以下であることが好ましい。
これにより、反射層１４または２４単独での反射率は、
９０％以上となり、媒体の未記録部の基板を通しての反
射率は十分である。

【００８１】図１に示されるように、反射層１４または
２４上には、保護膜１５または２５が設層される。保護
膜１５または２５は、例えば紫外線硬化樹脂等の各種樹
脂材質から、通常は、０．５〜１００μm 程度の厚さに
設層すればよい。保護膜１５または２５は、層状であっ
てもシート状であってもよい。保護膜１５または２５
は、スピンコート、グラビア塗布、スプレーコート、デ
ィッピング等の通常の方法により形成すればよい。

【００８２】このような構成の光記録ディスク１に記録
ないし追記を行うには、例えば６３５nmあるいは６５０
nmの記録光を、基板１２または２２を通してパルス状に
照射し、照射部の光反射率を変化させる。なお、記録光
を照射すると、記録層１３または２３が光を吸収して発
熱し、同時に基板１２または２２も加熱される。この結
果、基板１２または２２と記録層１３または２３との界
面近傍において、色素等の記録層材質の融解や分解が生
じ、記録層１３と基板１２、あるいは記録層２３と基板
２２との界面に圧力が加わり、グルーブの底面や側壁を
変形させることがある。

【００８３】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を比較例ととも
に示し、本発明をさらに詳細に説明する。

【００８４】実施例１光記録層用色素として、色素Ｉ−１−１を用い、プリグ
ルーブ（深さ０．１２μm 、幅０．３０μm 、グルーブ
ピッチ０．７４μm ）を有する直径１２０ｍｍ、厚さ
０．６ｍｍのポリカーボネート樹脂基板上に、スピンコ
ート法により色素を含有する記録層を１０００A （１０
０nm）の厚さに形成した。この場合の塗布液として、
１．０wt%の２，２，３，３−テトラフルオロプロパノ
ール溶液を用いた。次に、この記録層にＡｕ反射層を８
５０A の厚さにスパッタ法により形成し、さらに紫外線
硬化型のアクリル樹脂の透明な保護膜（膜厚５μm ）を
形成した。同様にして形成したディスク２枚の保護膜を
内側にして接着剤で貼り付けてディスクを作製した（図
１参照）。

【００８５】これをサンプルNo.１とする。

【００８６】また、サンプルNo.１において、記録層用
の色素として、色素Ｉ−１−１のかわりに色素、Ｉ−２
−１、Ｉ−３−１をそれぞれ用いるほかは同様にしてサ
ンプルを作製した。これらのサンプルをサンプルNo.
２，３とするこのようにして作製したサンプルNo.１，２，３に対
し、レーザー光６３５nm使用して線速３．５ｍ／ｓで信
号を記録し、次にこのディスクを線速３．５m/sの６５
０nmレーザー光で再生し、特性を評価した。なお、レン
ズ孔径ＮＡ＝０．６０であった。特性は６５０nmでの反
射率、変調度（１４ＴＭｏｄ．）、ジッター（Ｊｉｔｔ
ｅｒ）、６３５nmでの最適記録パワー（Ｐ0 ）について
評価した。

【００８７】結果を下記に示す。

【００８８】サンプルNo. Ｐ0(mW) 反射率(%) 変調度(%) ジッター(%) 1 12 50 65 8 2 11 51 60 7.8 3 12 50 63 8

【００８９】以上より、反射率、変調度、ジッター共に
良好であることがわかる。

【００９０】さらに、上記のサンプルNo.１，２，３に
ついて耐光性を調べた。耐光性は８万ルックスのキセノ
ンランプ（島津社製キセノンフェードメーター）を４０
時間照射した後の、ディスクのジッターを測定すること
によって調べた。いずれのサンプルについてもジッター
は変化しなかった。また、８０℃８０％ＲＨ１００時間
の信頼性試験を行ったが、特性の劣化はなかった。

【００９１】実施例２光記録層用色素として、色素Ｉ−１−１と前出の金属錯
体Ｂ１（例示の陰イオンＡ−２ａ−１のＮａ塩）とから
得られた色素Ｉ−１−４を用い、プリグルーブ（深さ
０．１４μm 、幅０．３５μm 、グルーブピッチ０．７
４μm ）を有する直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍのポ
リカーボネート樹脂基板上に、スピンコート法により色
素を含有する記録層を１０００A （１００nm）の厚さに
形成した。この場合の塗布液として、１．２wt%の２，
２，３，３−テトラフルオロプロパノール溶液を用い
た。次に、この記録層にＡｕ反射層を８５０A の厚さに
スパッタ法により形成し、さらに紫外線硬化型のアクリ
ル樹脂の透明な保護膜（膜厚５μm ）を形成した。同様
にして形成したディスク２枚の保護膜を内側にして接着
剤で貼り付けてディスクを作製した（図１参照）。

【００９２】これをサンプルNo.４とする。

【００９３】また、サンプルNo.４において、記録層用
の色素として、色素Ｉ−１−４のかわりに色素Ｉ−２−
１と前出の金属錯体Ｂ２（例示の陰イオンＡ−１ａ−１
のテトラブチルアンモニウム塩）とから得られた色素Ｉ
−２−２を用いるほかは同様にしてサンプルを作製し
た。これらのサンプルをサンプルNo.５とするこのよう
にして作製したサンプルNo.４，５に対し、レーザー光
６３５nm使用して線速３．５ｍ／ｓで信号を記録し、次
にこのディスクを線速３．５m/sの６５０nmレーザー光
で再生し、特性を評価した。なお、レンズ孔径ＮＡ＝
０．６０であった。特性は６５０nmでの反射率、変調度
（１４ＴＭｏｄ．）、ジッター（Ｊｉｔｔｅｒ）、６３
５nmでの最適記録パワー（Ｐ0 ）について評価した。

【００９４】結果を下記に示す。

【００９５】サンプルNo. Ｐ0(mW) 反射率(%) 変調度(%) ジッター(%) 4 9.5 47 65 7.5 5 9.0 45 67 8.2

【００９６】以上より、反射率、変調度、ジッター共に
良好であることがわかる。

【００９７】さらに、上記のサンプルNo.４，５につい
て耐光性を調べた。耐光性は８万ルックスのキセノンラ
ンプ（島津社製キセノンフェードメーター）を４０時間
照射した後の、ディスクのジッターを測定することによ
って調べた。いずれのサンプルについてもジッターは変
化しなかった。また、８０℃８０％ＲＨ１００時間の信
頼性試験を行ったが、特性の劣化はなかった。

【００９８】実施例１、２のサンプルにおいて、色素Ｉ
−１−２、Ｉ−１−３、Ｉ−１−５〜７、Ｉ−２−３〜
６、Ｉ−３−２〜４、Ｉ−４−１〜４、Ｉ−５−１〜４
を各々用いて上記と同様にして特性を調べたところ、ア
ゾ色素の陰イオンに応じ、実施例１、２と同等の結果が
得られた。

【００９９】比較例１シアニン色素Ｔ１（下記）を使用したこと以外は実施例
１と同様にディスクサンプルを作製した。作製したサン
プルの評価では、十分な耐光性が得られず、ジッターの
劣化が大きかった。信頼性試験でも、変調度、ジッター
の劣化が大きかった。

【０１００】

【化１９】

【０１０１】比較例２下記に示す特開平８−２４４３５２号公報のアゾ色素Ｔ
２（上記公報実施例１の色素４）を使用した以外は実施
例１と同様にディスクサンプルを作製し、実施例１と同
様に評価した。この色素Ｔ２の６３５nmにおけるｎ、ｋ
の値は１．８、０．５３であった。ディスク特性は、反
射率が１０％以下であり、変調度も３０％で、ジッター
も悪かった。

【０１０２】

【化２０】

【０１０３】

【発明の効果】本発明によれば、溶解性、耐光性、信頼
性に優れたカチオン性アゾ色素を光吸収層として用いる
ことにより、記録感度と反射率と変調度のバランスに優
れ、記録感度が高くジッターが小さいなどの特性に優れ
た光記録媒体が得られる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光ディスクの一例を示す部分断面図で
ある。

【符号の説明】

１０光記録ディスク１２、２２基板１２３、２２３グルーブ１３、２３記録層１４、２４反射層１５、２５保護層５０接着層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号ＦＩＣ０７Ｄ 277/50 Ｃ０７Ｄ 277/50 417/12 ２０７ 417/12 ２０７

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】記録および／または再生波長が６８０nm
以下である光記録媒体において、下記式（Ｉ）で表され、６３５nmでの複素屈折率の実部
ｎが２．０〜２．８、虚部ｋが０．４以下であるアゾ色
素を含有する記録層を有することを特徴とする光記録媒
体。【化１】［式（１）において、Ｑ₁は５または６員の含窒素芳香
環を形成するための原子群を表し、縮合環を有していて
もよい。Ｑ₂は芳香環を形成するための原子群を表し、
縮合環を有していてもよい。Ｒ₁はアルキル基を表す。
Ｘ^-は対アニオンを表す。］
【請求項２】式（Ｉ）中のＸ^-で表される対アニオン
が有機金属錯体のアニオンである請求項１の光記録媒
体。