JPH11291654A - レーザー感応性平版印刷版原版およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】レーザーによる描画可能であり、不感脂化処理
を行うことなく高いインキ反発性を有し、湿し水のコン
トロール幅が広く、湿し水のＩＰＡレス化可能で印刷耐
久性に優れた新規なレーザー感応性平版印刷印刷版原版
を得る。 【解決手段】インキ受容層、感熱層、親水性膨潤層、を
この順に備えた平版印刷版において、感熱層が炭素およ
び／または金属のであって１０００オングストローム以
下の薄膜からなり、インキ受容層が特定の構造を有する
化合物からなる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版原版に関
するものであり、製版工程においてはデジタル処理され
た画像情報をレーザーを用いて描画することが可能であ
り、印刷工程においては不感脂化処理を行うことなく高
いインキ反発性を有し、湿し水のコントロール幅が広
く、湿し水のＩＰＡレス化が可能で印刷耐久性に優れた
新規なレーザー感応性平版印刷版原版に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】平版印刷に供する版としては、親水化処
理されたアルミニウム基板上に親油性の感光層を塗布
し、フォトリソグラフィの技術により画線部には感光層
が残存し、一方非画線部は上記のアルミニウム基板表面
が露出し、表面に湿し水層を形成してインキを反発する
ことを利用して、インキ画像を形成する水ありＰＳ版
と、湿し水の代わりにシリコーンゴム層をインキ反発層
として用いる水なしＰＳ版、いわゆる水なし平版が知ら
れている。

【０００３】水ありＰＳ版は実用上優れた印刷版で、支
持体に通常砂目立てされたアルミニウムが用いられ、さ
らに必要に応じてこの砂目の表面を陽極酸化するなどの
処理が施され、湿し水の保水性の向上と感光層に対する
接着性が補強されている。水ありＰＳ版はその優れた印
刷特性（耐刷性、画像再現性など）から広く使用されて
いるが、その一方で、水ありＰＳ版はこのように製造工
程が複雑であり、その簡略化が望まれている。そこで、
この問題点を解決すべく、アルミニウム基板と同等もし
くはそれ以上の印刷特性有し、しかも材料コストが安く
かつ簡易な製造工程によるアルミニウム基板とは異なる
新規な平版材料の提案がある。例えば、特公昭５６−２
９３８号公報においては、アルミニウム基板に代えて親
水性高分子材料からなるインキ反発層を塗設した支持体
を用い、支持体上に感光層を形成する方法が提案されて
いる。しかしながら、この平版印刷版は、ポリ塩化ビニ
ル、ポリウレタン、ポリビニルアルコールのアルデヒド
縮合物の耐水性層上に親水性層として尿素樹脂が単純塗
布されているものであるため、インキ反発性が不十分で
あるうえ、感光層との密着性にも劣り、耐刷性が不十分
であった。

【０００４】特開平５−１９４６０号公報には、ポリビ
ニルアルコール、架橋剤、酸化チタンなどの無機多孔質
材料からなる平版印刷版が開示されている。この印刷版
は酸化チタンなどの無機多孔質を多量に含有することに
よりポリビニルアルコールの保水力の不足を補っている
が、そのため層自体が硬く、また実質的に膨潤できない
ためインキ反発性は必ずしも良好ではなく、耐刷性も劣
っていた。

【０００５】また、水ありＰＳ版の簡便な形態として、
紙などの支持体上に、トナーなどの画像受理層を有し、
電子写真技術を用いて画像形成し、非画像部をエッチ液
などで不感脂化処理して画像受理層をインキ反発層に変
換させて使用する直描型平版印刷原版が広く実用に供さ
れている。具体的には、耐水性支持体上に水溶性バイン
ダポリマ、無機顔料、耐水化剤等からなる画像受理層を
設けたものが一般的で、ＵＳＰ２５３２８６５号公報、
特公昭４０−２３５８１号公報、特開昭４８−９８０２
号公報、特開昭５７−２０５１９６号公報、特開昭６０
−２３０９号公報、特開昭５７−１７９１号公報、特開
昭５７−１５９９８号公報、特開昭５７−９６９００号
公報、特開昭５７−２０５１９６号公報、特開昭６３−
１６６５９０号公報、特開昭６３−１６６５９１号公
報、特開昭６３−３１７３８８号公報、特開平１−１１
４４８８号公報、特開平４−３６７８６８号公報などが
挙げられる。これらの直描型平版印刷原版は、インキ反
撥層に変換させる画像受理層として、ＰＶＡ、澱粉、ヒ
ドロキシエチルセルロース、カゼイン、ゼラチン、ポリ
ビニルピロリドン、酢酸ビニル−クロトン酸共重合体、
スチレン−マレイン酸共重合体などのような不感脂化処
理する以前から親水性を示す水溶性バインダポリマおよ
びアクリル系樹脂エマルジョン等の水分散性ポリマ、シ
リカ、炭酸カルシウム等のような無機顔料およびメラミ
ン・ホルムアルデヒド樹脂縮合物のような耐水化剤で構
成されているものが提案されている。このような直描型
平版印刷原版は、いずれも画像受理層をインキ反撥層に
変換するために、不感脂化処理が必須であり、処理なし
ではインキ反発性をほとんど示さなかったり、また印刷
時に湿し水として特殊な薬剤を使用する必要があった。

【０００６】さらに、水ありＰＳ版は印刷に際して湿し
水の量を常時コントロールする必要があり、適正な湿し
水量を制御するには相当の技術や経験が必要とされてき
た。また、湿し水に必須成分として添加されるＩＰＡ
（イソプロパノール）が近年、労働衛生環境や廃水処理
の立場から使用が厳しく規制される方向にあり、その対
策が急務となっている。

【０００７】これらのＰＳ版は、原画フィルムを通して
露光、現像といったフォトリソグラフィ技術による製版
工程を経て刷版となるが、近年これらに代替する技術と
して原画フィルムを用いずに、レーザーを用いてデジタ
ル処理された画像情報を直接版面に描画し、レーザー感
応性平版印刷版に関する提案されている。

【０００８】湿し水を必要とする水ありＰＳ版をレーザ
ー感応型にする方法としては、Ｈｅ−ＮｅやＡｒレーザ
ーに感応する高感度フォトポリマを用いて直接描画する
タイプのものが多く提案されているが、高感度であるが
故に明室での版材の取扱ができず、また大規模かつ高額
な自動露光現像製版装置が必要であった。

【０００９】一方、水なし平版印刷版をレーザー感応型
にする方法としては、例えば、ＤＥ−Ａ２５１２０３８
には、親油性面を担持するかまたは、有する支持体上に
ニトロセルロースおよびカーボンブラックを含有する層
および非硬化シリコーン層が積層されたヒートモード記
録材料を用い、レーザーを用いて画像形成を行なったの
ち、露光部分のシリコーン層をナフサなどの溶剤を用い
て溶解し、他の部分のシリコーン層を硬化する方法が提
案されてる。しかしながら、この方法は、製版中の版材
の取扱が困難であり、かつ現像工程においてシリコーン
層の硬化工程が必要であり、また有機溶剤の使用が必須
であることは環境問題の点から不都合なものであった。

【００１０】またＦＲ−Ａ１４７３７５１においては、
親油性表面を有する基体上に、ニトロセルロース、カー
ボンブラック、およびシリコーンを有する層を用いたヒ
ートモード記録材料が提案されており、レーザーを用い
て画像形成を行なったのち、像形成部分は親油性に変換
される。しかしながら、この方法はインキ着肉部分のシ
リコーンが版面から除去されないため、インキ着肉性が
悪いものであった。

【００１１】またＵＳＰ−５３５３７０５においては、
ニトロセルロースおよびカーボンブラックからなるレー
ザー感応層上にポリビニルアルコールをインキ反発性層
として積層したヒートモード記録材料が提案されてい
る。しかしながら、そのインキ反撥性は湿し水供給下で
も極めて不十分なものであった。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、レーザ
ーを用いてデジタル処理された画像情報を直接版面に描
画可能であり、従来の水ありＰＳ版よりも印刷時の湿し
水のコントロール幅が広く、湿し水のＩＰＡレス化が可
能で、また不感脂化処理するなどの複雑な製版工程を経
ることなく高いインキ反発性を有する新規なレーザー感
応性平版印刷版原版を提供することをその課題とする。

【００１３】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するた
め、本発明のレーザー感応性平版印刷版原版は下記の構
成からなる。

【００１４】（１）基板上に少なくともインキ受容層、
感熱層、親水性膨潤層をこの順に設けてなる平版印刷版
原版であって、感熱層が炭素および／または金属からな
る膜厚１０００オングストローム以下の薄膜であり、イ
ンキ受容層が水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、
イソシアネート基、エポキシ基、を有する単量体から得
られた高分子化合物および／または水酸基、カルボニル
基、カルボキシル基、エポキシ基を有する化合物を含有
することを特徴とするレーザー感応性平版印刷版原版。

【００１５】（２）感熱層が金属薄膜上に炭素薄膜を形
成したものであることを特徴とする（１）に記載のレー
ザー感応性平版印刷版原版。

【００１６】（３）感熱層に用いる金属の融点が２００
０（Ｋ）以下であることを特徴とする（１）〜（２）の
いずれかに記載のレーザー感応性平版印刷版原版。

【００１７】（４）金属として、チタン、アルミニウ
ム、ニッケル、鉄、クロム、テルル、スズ、アンチモ
ン、ガリウム、マグネシウム、ポロニウム、セレン、タ
リウム、亜鉛およびビスマスからなる群から選ばれた１
種以上の金属を用いることを特徴とする（３）に記載の
レーザー感応性平版印刷版原版。

【００１８】（５）感熱層を設けた後に１００℃以上の
温度で加熱するすることを特徴とする（１）〜（４）の
いずれかに記載のレーザー感応性平版印刷版原版の製造
方法。

【００１９】

【発明の実施の形態】本発明のレーザー感応性平版印刷
版原版の構成について説明する。

【００２０】本発明のレーザー感応性平版印刷版原版
は、基板上に少なくともインキ受容層、感熱層、親水性
膨潤層を積層してなるものである。

【００２１】まず、感熱層について説明する。

【００２２】本発明の感熱層は、炭素および／または金
属からなる薄膜から構成される。感熱層の膜厚は、１０
００オングストローム以下であることが好ましく、より
好ましくは７００オングストローム以下である。

【００２３】膜厚が１０００オングストローム以上の場
合には、レーザーに対する感度が低下するため好ましく
ない。

【００２４】また、感熱層の光学濃度は、０．６〜２．
３であることが好ましい。ただし、ここでいう光学濃度
とは、ラッテンフイルター Ｎｏ．１０６を用いて、マ
クベス濃度計ＲＤ−５１４で測定した場合の数値をい
う。

【００２５】本発明の感熱層は、レーザー光を効率よく
吸収して、その熱によって瞬間的に一部または全部が蒸
発、または融解することが重要である。

【００２６】レーザー光を効率よく吸収するためには、
光源として用いられる半導体レーザーなどの波長（８０
０ｎｍ付近）に対する吸収率が重要となってくる。この
８００ｎｍ付近の光に対する吸収率の指標として、感熱
層の光学濃度が重要であり、光学濃度が高いほどレーザ
ー光を効率よく吸収することができる。

【００２７】この光学濃度は、０．６〜２．３が好まし
く、より好ましくは０．８〜１．８である。光学濃度が
０．６よりも小さいと、レーザー光が効率よく吸収され
ないために印刷版の感度が低下しやすく、２．３よりも
大きいと膜厚が厚過ぎて画像を形成するために要するエ
ネルギーが余分に必要となり、感度低下が生じる。

【００２８】より高い光学濃度を実現するためには、炭
素と金属を同時に、または炭素薄膜と金属薄膜を積層す
べく、蒸着またはスパッタリングすることが好ましい。
また、炭素薄膜と金属薄膜の積層に当たっては、金属薄
膜を形成した上に炭素薄膜を形成することが感度の点か
ら好ましい。

【００２９】炭素薄膜は、いわゆるダイアモンド薄膜や
グラファイト薄膜ではなく、非晶質炭素薄膜であること
が好ましい。

【００３０】このような非晶質炭素薄膜はイオンビーム
蒸着、イオン化蒸着の通常の真空蒸着や、イオンビーム
スパッタリングを行えば得ることができ、この時ダイア
モンド薄膜や、グラファイト薄膜はほとんど形成されな
いため、これらの方法で形成された薄膜は、非晶質炭素
薄膜となっている。

【００３１】感熱層に用いる金属は、蒸着やスパッタリ
ングが可能であり、薄膜が形成できれば特に限定されな
いが、融点が２０００（Ｋ）以下の金属が好ましく、よ
り好ましくは１０００（Ｋ）以下である。

【００３２】融点が２０００（Ｋ）よりも高いと、蒸着
あるいはスパッタリングに余分のエネルギーが必要とな
るばかりでなく、レーザーによる画像形成時にも余分の
エネルギーが必要となり好ましくない。

【００３３】具体的に、好ましい金属としては、チタ
ン、アルミ、ニッケル、鉄、テルル、スズ、アンチモ
ン、ガリウム、マグネシウム、ポロニウム、セレン、タ
リウム、亜鉛、ビスマス、などがあり、なかでもテル
ル、スズ、アンチモン、ガリウム、ビスマス、亜鉛、が
より好ましい。これらの金属は、薄膜にレーザー光が照
射された時に、熱によって容易に蒸発、または融解する
ためである。

【００３４】しかしながら、逆に融点が低すぎても印刷
版の形態保持性が低下しやすくなるために、特に好まし
い温度範囲としては５００（Ｋ）〜１０００（Ｋ）であ
る。

【００３５】また、上記の金属を２種類以上用いて、ア
ロイとすることによって、さらに融点を低くして、印刷
版としての感度を高くすることができる。

【００３６】具体的には、テルルとスズ、テルルとアン
チモン、テルルとガリウム、テルルとビスマス、テルル
と亜鉛のアロイが好ましく、より好ましくはテルルと亜
鉛、テルルとスズのアロイである。

【００３７】３種類のアロイでは、テルルとスズと亜
鉛、テルルとガリウムと亜鉛、スズとアンチモンと亜
鉛、スズとビスマスと亜鉛、のアロイが好ましく、より
好ましくは、テルルとスズと亜鉛、スズとビスマスと亜
鉛、である。

【００３８】金属と炭素を同時に蒸着またはスパッタリ
ングする場合には、形成された薄膜での炭素の重量％は
１０重量％以上が好ましく、より好ましくは３０重量％
以上である。炭素が１０重量％よりも少ないとレーザー
光の吸収率が低下して、版材の感度が低下し易い。

【００３９】また、炭素薄膜と金属薄膜を積層する場合
には、両者の膜厚比も印刷版の感度に影響を与えるた
め、重要である。具体的には、金属薄膜の膜厚を１とし
た場合、炭素薄膜は１／４〜６であることが好ましい。
炭素膜厚の膜厚比が１／４よりも小さいと、感度の向上
効果が見られず、６よりも大きいと、炭素薄膜を形成す
ることが困難となり易い。

【００４０】さらに、炭素または金属（アロイ）の単層
の場合であっても、炭素および金属（アロイ）を積層す
る場合であっても、感熱層全体の薄膜の膜厚も感度に大
きな影響を与える。すなわち、膜厚が厚すぎると、薄膜
を蒸発、融解させるために要するエネルギーが余分に必
要となるために、版材の感度が低下してしまう。そのた
め、感熱層の膜厚としては１０００オングストローム以
下が好ましく、２００オングストローム以下がさらに好
ましい。

【００４１】このような薄膜の形成方法としては、真空
蒸着、スパッタリングのいずれかの方法で行うことが好
ましい。

【００４２】真空蒸着は、１０^-2〜１０^-7ｍｍＨｇの減
圧容器中で、金属および／または炭素を加熱蒸発させ
て、形成しようとする面の表面に薄膜を形成させる方法
が一般的である。

【００４３】スパッタリングは、１０^-1〜１０^-3ｍｍＨ
ｇの減圧容器中で１対の電極に直流あるいは交流電圧を
加え、グロー放電を起こさせ、陰極のスパッタリング現
象を利用して薄膜を形成することができる。

【００４４】この方法は、融点の高い金属や炭素であっ
ても比較的容易に薄膜を形成することができる。

【００４５】本発明のインキ受容層について説明する。

【００４６】本発明のインキ受容層は、基板と感熱層の
間にあることが好ましい。基板と感熱層の接着性を強固
にすると共に基板が金属などのように熱伝導性の大きい
物質を使用する場合には断熱層としての役割を果たす意
味で、基板と感熱層の間に設けることが好ましい。すな
わち、感熱層が熱反応を起こす際の熱を基板へ拡散させ
ないための熱的な絶縁層の役割を担うものである。

【００４７】また、本発明のインキ受容層には、水酸
基、カルボニル基、カルボキシル基、イソシアネート
基、エポキシ基を有する単量体から得られた高分子化合
物、または水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、エ
ポキシ基を有する化合物を含有することがインキ受容層
と親水性膨潤層の強固な接着性の発現という観点から好
ましい。インキ受容層が上記のような酸素を含む化学結
合や酸素を含む官能基を有していることにより、インキ
受容層とその上層である親水性膨潤層の接着性がとりわ
け強固になり、印刷耐久性が向上する。その機構は必ず
しも明確ではないが、感熱層に用いる金属とこれら化学
結合や官能基との相互作用を検討すると、金属と極性基
（水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、エポキシ
基）や極性基由来の化学結合の影響が大きく、インキ受
容層に極性の大きな部位を有する化合物を用いた場合ほ
ど感熱層の金属元素の結合エネルギーが大きくなり、金
属からこれら極性基や極性基由来の化学結合への電荷移
動により一種の錯体を形成するためにインキ受容層と感
熱層との間の接着性が強固となると推察される。あるい
は、蒸着時にインキ受容層を構成する化合物から例えば
Ｏ原子が叩き出され、金属から金属酸化物が生成し、金
属原子がこの上に堆積することにより、生成した金属酸
化物がインキ受容層と金属層の結合の橋渡して強固な接
着性が発現すると推察される。したがって、酸素を含む
官能基である水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、
イソシアネート基、エポキシ基自体やこれら官能基由来
の酸素を含む化学結合を有する化合物をインキ受容層に
用いることが、インキ受容層の上層である感熱層との接
着性の観点から大変重要である。

【００４８】また、インキ受容層と感熱層の接着性を向
上させる目的で、感熱層を設けた後に１００℃以上の温
度で加熱する工程を設けることが好ましい。加熱温度が
１２０℃以上であればさらに好ましい。

【００４９】本発明のインキ受容層のバインダー樹脂と
しては、公知の樹脂が使用できる。例えば、セルロー
ス、酢酸セルロース、ニトロセルロース、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルブチラー
ル樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステ
ル樹脂、ポリアミド樹脂、セルロースアセテートブチレ
ート樹脂、エチレン酢酸ビニル樹脂、などが挙げられ
る。

【００５０】上記の材料を用いたインキ受容層はレーザ
ーのエネルギーを吸収する目的でレーザー光線吸収剤を
含有してもよい。

【００５１】本発明のインキ受容層には、これらの材料
の他に可塑剤、湿潤剤、艶消し剤、酸化防止剤などが添
加できる。また、公知の架橋剤を添加することも可能で
ある。

【００５２】架橋反応に用いれられる化合物としては、
架橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げられ、ポリ
エポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリ（メ
タ）アクリル化合物、ポリメルカプト化合物、ポリアル
コキシシリル化合物、多価金属塩化合物、ポリアミン化
合物、アルデヒド化合物、ポリビニル化合物、有機チタ
ネート、などが挙げられ、架橋反応は公知の触媒を使用
し、反応を促進してもよい。

【００５３】また、架橋反応に用いる化合物として、化
合物それ自体が水酸基、カルボニル基、カルボキシル
基、イソシアネート基、エポキシ基、を有するもの、ま
たは架橋反応により酸素原子を含む化学結合を生成する
化合物を、上記の樹脂成分と共にインキ受容層を構成す
る成分として好ましく用いることができる。

【００５４】インキ受容層の厚みは、０．１〜２０ｇ／
ｍ²が好ましく、０．３〜１０ｇ／ｍ²がさらに好まし
い。膜厚が０．１ｇ／ｍ²よりも薄い場合には、インキ
受容層の印刷耐久性が低下し、２０ｇ／ｍ²よりも厚い
場合には経済的に不利になる。

【００５５】インキ受容層には、基板とインキ受容層の
接着を強固にし、またインキ着肉性を向上させ、ハレー
ションを防止する目的から、プライマー層を設けてもよ
い。

【００５６】本発明で用いられるプライマー層として、
例えば、特公昭６１−５４２１９号公報に示されるよう
なエポキシ樹脂を含むものの他、ポリウレタン樹脂、フ
ェノ−ル樹脂、アクリル樹脂、アルキッド樹脂、ポリエ
ステル樹脂、ポリアミド樹脂、メラミン樹脂、尿素樹
脂、ベンゾグアナミン樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合体、塩化ビニル樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、
エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリカーボネート樹
脂、ポリアクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリ
エーテル樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ミルクカ
ゼイン、ゼラチン等が挙げられる。これらの樹脂は単独
であるいは二種以上混合して用いることができる。

【００５７】これらの中では、ポリウレタン樹脂、ポリ
エステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、尿素樹脂
等を単独で、あるいは２種以上を混合して用いることが
好ましい。

【００５８】また、上記プライマー層を構成するアンカ
ー剤としては、例えばシランカップリング剤などの、公
知の接着剤を用いることができ、有機チタネートなども
有効である。さらに、塗工性を改良する目的で、界面活
性剤を添加することも任意である。

【００５９】上記のプライマー層を形成するための組成
物は、ＤＭＦ、メチルエチルケトン、メチルイソブチル
ケトン、ジオキサン等の適当な有機溶剤に溶解させるこ
とによって組成物溶液として調整される。かかる組成物
溶液を基板上に均一に塗布し必要な温度で必要な時間加
熱することにより、プライマー層が形成される。

【００６０】プライマ−層の厚さは０．５〜５０ｇ／ｍ
² が好ましく、より好ましくは１〜１０ｇ／ｍ² であ
る。厚さが０．５ｇ／ｍ² よりも薄いと基板表面の形態
欠陥および化学的悪影響の遮断効果がおとり、５０ｇ／
ｍ² よりも厚いと経済的見地から不利となるので上記の
範囲が好ましい。

【００６１】次に、親水性膨潤層について説明する。

【００６２】本発明にいう親水性とは、水に対して実質
的に不溶でかつ水膨潤性を示す性質を意味し、公知の親
水性ポリマを基板上に塗布または転写などにより積層
し、公知の方法を用いて架橋または疑似架橋し、水に不
溶化せしめて水膨潤性とした親水性膨潤層が用いられ
る。

【００６３】ここでいう親水性ポリマとは、公知の水溶
性ポリマ（水に完全に溶解するものを意味する）、疑似
水溶性ポリマ（両親媒性を意味し、マクロには水に溶解
するがミクロには非溶解部分を含むものを意味する）、
水膨潤性ポリマ（水に膨潤するが溶解しないものを意味
する）を指す。すなわち、通常の使用条件下で水を吸着
または吸収するポリマを意味し、水に溶けるか或いは水
に膨潤するポリマを意味する。

【００６４】本発明において親水性ポリマとしては公知
のものを使用することができ、動物系ポリマ、植物系ポ
リマ、合成系ポリマがある。例えば、「Ｆｕｎｃｔｉｏ
ｎａｌ Ｍｏｎｏｍｅｒｓ」（Ｙ．Ｎｙｑｕｉｓｔ著、
Ｄｅｋｋｅｒ）、「水溶性高分子」（中村著、化学工業
社）、「水溶性高分子 水分散型樹脂の最新加工・改質
技術と用途開発 総合技術資料集」（経営開発センター
出版部）、「新・水溶性ポリマの応用と市場」（シーエ
ムシー）などに記載の水溶性ポリマが挙げられる。具体
例を以下に示す。

【００６５】（Ａ）天然高分子類。

【００６６】デンプン−アクリロニトリル系グラフト重
合体加水分解物、デンプン−アクリル酸系グラフト重合
体、デンプン−スチレンスルフォン酸系グラフト重合
体、デンプン−ビニルスルフォン酸系グラフト重合体、
デンプン−アクリルアミド系グラフト重合体、カルボキ
シル化メチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロキ
シプロピルメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロ
ース、キサントゲン酸セルロース、セルロース−アクリ
ロニトリル系グラフト重合体、セルロース−スチレンス
ルフォン酸系グラフト重合体、カルボキシメチルセルロ
ース系架橋体、ヒアルロン酸、アガロース、コラーゲ
ン、ミルクカゼイン、酸カゼイン、レンネットカゼイ
ン、アンモニアカゼイン、カリ化カゼイン、ホウ砂カゼ
イン、グルー、ゼラチン、グルテン、大豆蛋白、アルギ
ン酸塩、アルギン酸アンモニウム、アルギン酸カリウ
ム、アルギン酸ナトリウムアラビヤガム、トラガカント
ガム、カラヤガム、グアールガム、ロカストビーンガ
ム、アイリッシュモス、大豆レシチン、ペクチン酸、澱
粉、カルボキシル化澱粉、寒天、デキストリン、マンナ
ンなど。

【００６７】（Ｂ）合成高分子類。

【００６８】ポリビニルアルコール、ポリエチレンオキ
サイド、ポリ（エチレンオキサイド-co-プロピレンオキ
サイド）、水性ウレタン樹脂、水溶性ポリエステル、ヒ
ドロキシエチル（メタ）アクリレート系ポリマ、ポリ
（ビニルメチルエーテル-co-無水マレイン酸）、無水マ
レイン酸系共重合体、ビニルピロリドン系共重合体、ポ
リエチレングリコールジ（メタ）アクリレート系架橋重
合体、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト系架橋重合体、ポリ（Ｎ−ビニルカルボン酸アミ
ド）、Ｎ−ビニルカルボン酸アミド共重合体、など。

【００６９】なお、上記の親水性ポリマは発明の効果を
損わない範囲で、柔軟性を付与したり、親水性を制御す
る目的から置換基が異なるモノマや共重合成分を、１種
または２種以上を適宜混合して用いることが可能であ
る。

【００７０】本発明に好ましく用いられる親水性ポリマ
の具体例を以下に挙げるが、本発明はこれらの例に限定
されるものではない。

【００７１】（１）マレイン酸または無水マレイン酸、
マレイン酸アミドもしくはマレイン酸イミドなどのマレ
イン酸誘導体とエチレン、プロピレン、ブチレン、イソ
ブチレンまたはジイソブチレンなどの炭素数が２〜１２
好ましくは炭素数２〜８の直鎖または分岐状のα−オレ
フィンとの共重合体と、アルカリ金属化合物、アルカリ
土類金属化合物、アンモニア、アミンとの反応物の架橋
体。

【００７２】（２）マレイン酸またはその誘導体とスチ
レン、酢酸ビニル、メチルビニルエーテル、アクリル酸
エステル、メタクリル酸エステルまたはアクリロニトリ
ルなどのビニルまたはビニリデン化合物との共重合体
と、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、ア
ンモニア、アミンとの反応物の架橋体。

【００７３】（３）アクリル酸またはメタクリル酸と前
記（２）のビニルまたはビニリデン化合物との共重合体
と、アルカリ金属化合物、アルカリ土類金属化合物、ア
ンモニア、アミンとの反応物の架橋体。

【００７４】特公昭５８−３７０２７号公報などに開示
されているポリオキシアルキレン系の親水性ポリマ、特
開昭６０−１０４１０６号公報などに開示されているポ
リビニルピロリドン、スルフォン酸基を親水性基とする
ポリスチレンスルフォン酸、アクリルアミドメチルプロ
パンスルフォン酸共重合体などの架橋体、特開昭６０−
４２４１６号公報などに開示されている水酸基、アミノ
基を有する親水性ポリマにポリイソシアネートを架橋さ
せて得られるポリウレタン樹脂などが挙げられる。

【００７５】次に、親水性ポリマの架橋方法について説
明する。

【００７６】親水性膨潤層は、既述の親水性ポリマの少
なくとも１種以上を必要に応じて架橋または疑似架橋
し、水に不溶化せしめることによって基板上に積層形成
される。架橋には、親水性ポリマの有する反応性官能基
を用いて架橋反応することにより行われる。

【００７７】架橋反応は、共有結合性の架橋であって
も、イオン結合性の架橋であってもよい。

【００７８】架橋反応に用いられる化合物としては、架
橋性を有する公知の多官能性化合物が挙げられ、ポリエ
ポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリ（メ
タ）アクリル化合物、ポリメルカプト化合物、ポリアル
コキシシラン化合物、多価金属塩化合物、ポリアミン化
合物、アルデヒド化合物、ポリビニル化合物などが挙げ
られ、該架橋反応は公知の触媒を添加し、反応を促進す
ることが行われる。

【００７９】これら親水性ポリマは、該親水性膨潤層の
形態保持や水膨潤性の調整などの目的から単体または２
種以上の混合物として用いることが可能であり、疎水性
ポリマをブレンドすることも可能である。

【００８０】本発明の親水性膨潤層は疎水性ポリマを含
有してもよい。このような疎水性ポリマとしては、水性
エマルジョンから主として構成されたものが好ましく用
いられる。

【００８１】本発明にいう水性エマルジョンとは、微細
なポリマ粒子と必要に応じて該粒子を包囲する保護層か
らなる粒子を水中に分散させた疎水性ポリマ懸濁水溶液
を意味する。

【００８２】すなわち、基本的に分散質としてのポリマ
粒子と必要に応じて形成される保護層からなるエマルジ
ョン粒子と分散媒としての希釈水溶液から構成される自
己乳化または強制乳化水溶液を意味する。本発明に用い
られる水性エマルジョンの具体例としては、ビニルポリ
マ系ラテックス、共役ジエンポリマ系ラテックスおよび
水性または水分散ポリウレタン樹脂などが挙げられる。

【００８３】これらの水性エマルジョンの中でも本発明
に特に好ましく用いられる疎水性ポリマとしてはスチレ
ン／ブタジエン系、アクリロニトリル／ブタジエン系、
メタクリル酸メチル／ブタジエン系、クロロプレン系な
どの共役ジエン系化合物を含有するラテックスが挙げら
れる。

【００８４】本発明の親水性膨潤層は上記の親水性ポリ
マと疎水性ポリマを混合し、必要に応じて架橋または擬
似架橋し、水に不溶化せしめることによって基板上に積
層形成される。

【００８５】架橋には親水性ポリマおよび疎水性ポリマ
が有する反応性官能基を用いて架橋反応することが好ま
しい。

【００８６】架橋反応は、共有結合性の架橋であって
も、イオン結合性の架橋であってもよい。

【００８７】本発明の親水性膨潤層の親水性ポリマと疎
水性ポリマを混合する方法としては、３本ロールなどの
ロールミキサ、ニーダーなど混合機を用いて混練りする
方法、ホモジナイザー、ボールミルなどのディスパーサ
ーを用いて湿式混合分散する方法など、塗料やパテを製
造する際に用いられる公知の方法で好ましく混合され
る。

【００８８】また本発明の親水性膨潤層を形成する方法
としては、疎水性ポリマとして水性のエマルジョンを好
ましく用いることから、水溶液系で各成分（親水性ポリ
マ、疎水性ポリマなど）を混合し、必要に応じて架橋剤
が添加される方法が、均質な相分離構造を実現しインキ
反発性を向上させる点から好ましい。

【００８９】従って、用いられる架橋剤としては、水溶
性の多官能性化合物を用いることが特に好ましい。すな
わち、水溶性のポリエポキシ化合物、ポリアミン化合
物、メラミン化合物などを用いることが好ましい。

【００９０】また、下層との接着性向上などの目的か
ら、公知のシランカップリング剤やイソシアネート化合
物、触媒などを添加したり中間層として設けることも可
能である。

【００９１】本発明に用いられる親水性膨潤層は以下の
方法にしたがって算出される吸水量が特定の範囲である
ことが好ましい。

【００９２】吸水量（ｇ／ｍ²）＝Ｗ_WET −Ｗ_DRY Ｗ_DRY ：乾燥状態における重量（ｇ／ｍ²） Ｗ_WET ：水中に２５℃×１０分間浸漬した後の重量（ｇ
／ｍ²） ［吸水量の測定方法］測定しようとする平版印刷版の非
画線部を所定面積に裁断し、２５℃の精製水中に浸漬す
る。１０分間浸漬した後、該印刷版の親水性膨潤層表面
および裏面に付着した余分の液体を「ハイゼガーゼ」
（コットン布：旭化成工業（株）製）にて素速く拭き取
り、該印刷版の膨潤重量Ｗ_WET を秤量する。その後、該
印刷版を６０℃のオーブンにて約３０分間乾燥し、乾燥
重量Ｗ_DRY を秤量する。

【００９３】本発明の親水性膨潤層からなる非画線部の
吸水量は、インキ反発性および形態保持性の観点から１
〜５０ｇ／ｍ²であることが好ましく、１〜１０ｇ／ｍ
² 、さらに２〜７ｇ／ｍ²であることがさらに好まし
い。

【００９４】本発明の親水性膨潤層はゴム弾性を有する
ことが好ましい。すなわち、以下の方法により算出した
親水性膨潤層の初期弾性率が特定の範囲内にあることが
好ましい。

【００９５】［初期弾性率の測定方法］平版印刷版の非
画線部に対応した部分と同一組成の溶液をテフロンシャ
ーレ上に展開し、６０℃×２４時間乾燥硬化させる。得
られた乾燥硬化膜は、剃刀刃などを用いて、長さ４０ｍ
ｍ、幅１．９５ｍｍ、厚み約０．２ｍｍの短冊状のテス
トピースに裁断する。

【００９６】得られたテストピースは、測定前に２５℃
×５０％ＲＨの環境下にて２４時間以上放置し、調湿し
た後、厚みをマイクロゲージにて測定し、下記の引張条
件で初期弾性率を測定した。データ処理は、ＪＩＳ Ｋ
６３０１に準じて行った。

【００９７】 引張速度 ２００ｍｍ／分 チャック間距離 ２０ｍｍ 繰返し回数 ４回 測定機 「ＲＴＭ−１００」（（株）オリエンテッ
ク製） 親水性膨潤層の初期弾性率は、０．０１〜１０ｋｇｆ／
ｍｍ²の範囲内にあることがインキ反発性および形態保
持性の観点から重要であり、０．０１〜５ｋｇｆ／ｍｍ
²の範囲が好ましく、０．０１〜２ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲
がさらに好ましい。初期弾性率が０．０１ｋｇｆ／ｍｍ
²未満の場合は、親水性膨潤層の形態保持性が低下し、
印刷時の耐久性が劣り、初期弾性率が１０ｋｇｆ／ｍｍ
²よりも大きくなるとインキ反発性が極端に低下する。

【００９８】本発明に用いられる親水性膨潤層は以下の
方法にしたがって算出される水膨潤率が特定の範囲であ
ることが好ましい。

【００９９】 水膨潤率（％）＝（Θ_WET−Θ_DRY）／Θ_DRY ×１００ Θ_DRY ：乾燥状態における非画線部からなる親水性膨潤
層の厚み（μｍ） Θ_WET ：膨潤状態における非画線部からなる親水性膨潤
層の厚み（μｍ） ［水膨潤率の測定方法（Ａ）］測定しようとする平版印
刷版の非画線部を含む部位が断面となるように切削して
切片を作製する。この切片を常温にて１昼夜真空乾燥し
た後、光学顕微鏡にて当該部位の親水性膨潤層厚さを観
察し、これをΘ_DRY（μｍ）とする。なお、光学顕微鏡
観察は２３℃、２０％ＲＨの環境下において手早く行っ
た。

【０１００】さらに、この平版印刷版切片に過剰の水滴
を載せ、親水性膨潤層が十分に水膨潤した状態で断面を
光学顕微鏡観察し、当該部位の親水性膨潤層厚さを読み
とり、これをΘ_WET（μｍ）とする。

【０１０１】［水膨潤率の測定方法（Ｂ）］測定しよう
とする平版印刷版の非画線部をＯｓＯ₄水溶液の雰囲気
下に１昼夜さらしてＯｓＯ₄により親水性膨潤層を固定
した後、所定の部位が断面となるようにミクロトームで
切削して超薄切片を作製する。この切片を透過型電子顕
微鏡（ＴＥＭ）にて１〜５万倍程度の倍率で当該部位の
親水性膨潤層厚さを観察し、これをΘ_DRY（μｍ）とす
る。

【０１０２】一方、測定しようとする平版印刷版をＯｓ
Ｏ₄水溶液に２〜３日浸漬し親水性膨潤層を水膨潤状態
で固化／固定する。所定の部位が断面となるようにミク
ロトームで切削して超薄切片を作製し、この切片を透過
型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にて１〜５万倍程度の倍率で当
該部位の親水性膨潤層厚さを読みとり、これをΘ
_WET（μｍ）とする。

【０１０３】本発明の親水性膨潤層からなる非画線部
（インキ反発部分）の水膨潤率は、インキ反発性および
形態保持性の観点から１０〜２０００％であることが好
ましく、５０〜１７００％、さらに５０〜７００％の範
囲であることがより好ましい。水膨潤率が１０％未満に
なると非画線部のインキ反発性が低下し、一方非画線部
の水膨潤率が２０００％を越える場合には該非画線部の
形態保持性が低いため印刷時に該非画線部が損傷を受け
易くなる。

【０１０４】本発明に用いられる親水性膨潤層には上記
した親水性ポリマ、疎水性ポリマおよび必要に応じて加
えられる架橋剤の他にも、ゴム組成物において通常添加
される公知の老化防止剤、酸化防止剤、オゾン劣化防止
剤、紫外線吸収剤、染料、顔料、可塑剤などを添加する
ことが可能である。

【０１０５】また下層との接着性向上などの目的から、
公知のシランカップリング剤やイソシアネート化合物、
触媒などを添加したり基板との間に中間層として設ける
ことも可能である。

【０１０６】また本発明に用いられる親水性膨潤層に
は、染料や顔料、ｐＨ指示薬、ロイコ染料、界面活性
剤、有機酸などの各種添加剤を微量添加することも可能
である。

【０１０７】本発明に用いられる平版印刷版の基板とし
ては、通常の平版印刷機に取り付けられるたわみ性と印
刷時に加わる荷重に耐えうるものである必要がある以外
には一切制限を受けない。

【０１０８】代表的なものとしては、アルミ、銅、鉄、
などの金属板、ポリエステルフィルムやポリプロピレン
フィルムなどのプラスチックフィルムあるいはコート
紙、ゴムシートなどが挙げられる。また、該基板は上記
の素材が複合されたものであってもよい。

【０１０９】また、該基板表面は検版性向上や接着性向
上の目的から、電気化学的処理や酸塩基処理、コロナ放
電処理など各種に表面処理を施すことも可能である。

【０１１０】またこれらの基板上には接着性向上やハレ
ーション防止の目的からコーティングなどを施してプラ
イマー層を形成し、基板とすることも可能である。

【０１１１】本発明のレーザー感応性平版印刷版原版の
製版方法について説明する。

【０１１２】本発明においてレーザー感応性とは、ヒー
トモードで行なわれる画像形成が可能なことを意味す
る。すなわち、レーザー照射に対応した部分のレーザー
感応層および親水性膨潤層が瞬間的に燃焼および／また
は蒸発などの破壊的吸収を生じ、インキ着肉性の凹部が
形成される。レーザー描画処理を行うだけで刷版が得ら
れるが、さらに水道水などで洗浄処理をしてもよい。

【０１１３】本発明に好ましく用いられるレーザーとし
ては、半導体レーザー、Ｎｄ−ＹＡＧレーザー、アルゴ
ンレーザー、ヘリウムネオンレーザー、ヘリウム−カド
ミウムレーザー、炭酸ガスレーザーなどがあり、特に限
定されないが、赤外線タイプのレーザー、例えば半導体
レーザーが好ましい。パワー出力としては、４０〜５０
０００ｍＷのパワー出力のものが好ましく用いられる。
中でも、ヒートモード記録を効率良く行なう点から、５
００〜３００００ｍＷの半導体レーザーが好ましく用い
られる。

【０１１４】通常１回のレーザー照射によって形成され
るインキ着肉性の凹部の直径は３〜１００μｍ程度であ
る。

【０１１５】次に本発明のレーザー感応性平版印刷版原
版から得られた印刷版を用いた印刷方法について説明す
る。

【０１１６】本発明の平版印刷には公知の平版印刷機が
用いられる。すなわち、オフセットおよび直刷り方式の
枚葉および輪転印刷機などが用いられる。

【０１１７】本発明の平版印刷版原版をレーザーにて画
像形成したのち、これらの平版印刷機の版胴に装着し、
版面には接触するインキ着けローラーからインキが供給
される。

【０１１８】版面上の親水性膨潤層を有する非画線部分
は湿し水供給装置から供給される湿し水によって膨潤
し、インキを反発する。一方、画線部分はインキを受容
し、オフセットブランケット胴表面または被印刷体表面
にインキを供給して印刷画像を形成する。

【０１１９】以下に、実施例により本発明をさらに詳し
く説明する。

【０１２０】

【実施例】合成例 １ 酢酸ビニル６０ｇとアクリル酸４０ｇに重合開始剤とし
てベンゾイルパーオキシド０．５ｇを加えたものを、こ
れに分散安定剤として部分ケン化ポリビニルアルコール
３ｇとＮａＣｌ１０ｇを含む水３００ｍｌ中に分散させ
た。

【０１２１】該分散液を６５℃×６時間撹拌し、懸濁重
合を行なった。得られた共重合体のアクリル酸メチル成
分はＮＭＲスペクトルから同定した結果４８モル％であ
った。また３０℃におけるベンゼン溶液中での極限粘度
は２．１０であった。

【０１２２】次に、該共重合体８．６ｇを２００ｇのメ
タノールと１０ｇの水および５ＮのＮａＯＨ４０ｍｌか
らなるケン化反応液中に添加し撹拌懸濁させ、２５℃×
１時間ケン化反応を行なった後、温度を６５℃に昇温
し、さらに５時間ケン化反応を行なった。

【０１２３】得られたケン化反応物はメタノールで十分
に洗浄し、凍結乾燥した。ケン化度は９８．３モル％で
あり、赤外吸収スペクトルの測定の結果、１５７０ｃｍ
^-1に−ＣＯＯ^- 基に帰属される強い吸収が確認された。

【０１２４】実施例 １〜５厚さ０．２mmのアルミ板
（住友軽金属（株）製）に、下記組成物を塗布したの
ち、１４０℃×５分間、加熱硬化して２ｇ／ｍ² の厚み
を有するインキ受容層を塗設した。

【０１２５】 ＜インキ受容層組成（重量部）＞ （１）ポリエステル樹脂「バイロン−２００：東洋紡績（株）製」２０重量部 （２）メラミン樹脂「スミマールＭ−４０Ｓ：住友化学（株）製」１０重量部 （３）トルエン ４０重量部 （４）メチルエチルケトン １０重量部 （５）酢酸ブチル ３０重量部 （６）シクロヘキサノン ５０重量部 次に、インキ受容層上に表１に記載の金属化合物を真空
蒸着法によって形成し、感熱層を設けた。その後、１８
０℃×５分間加熱処理を行った。

【０１２６】

【表１】 さらに、合成例１記載の親水性ポリマを用いて下記組成
物を塗布したのち、１５０℃×６０分間、熱処理して２
ｇ／ｍ² の厚みを有する親水性膨潤層を塗設した。

【０１２７】 ＜親水性膨潤層組成（重量部）＞ （１）合成例１の親水性ポリマ ２８重量部 （２）テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル ５重量部 （３）水性ラテックス「ＪＳＲ０５９６」 ６５重量部 ［カルボキシ変性スチレン−ブタジエン共重合ラテックス：大日本インキ 化学工業（株）製］ （４）２−アミノプロピルトリメトキシシラン ２重量部 （５）精製水 ９００重量部 得られたレーザー感応性平版印刷版原版をＸ−Ｙテーブ
ルに装着した半導体レーザー（ＳＬＤ−３０４ＸＴ、出
力１Ｗ、波長８０９ｎｍ、ソニー（株）製）を用いて、
ビーム直径２０μｍ、露光時間１０μｓでパルス露光を
行った。

【０１２８】続いて、約１分間水道水で水洗処理を行っ
て刷版を得た。

【０１２９】レーザー照射に対応した部分のレーザー感
熱層および親水性膨潤層が燃焼破壊し、除去され、ビー
ム径に対応したスポット径を有するインキ受容層が露出
していた。

【０１３０】この平版印刷版を平版印刷機の版胴に装着
し、版面に接触するインキ着けローラーからインキを供
給し、また同時に湿し水供給装置から水を供給して印刷
を行なった。その結果インキ受容層露出部（画線部）は
インキが受容し、オフセットブランケット胴を介して印
刷物にビーム径に対応した明瞭なインキ画素が形成され
た。

【０１３１】一方、親水性膨潤層は湿し水によって膨潤
し、完全にインキを反発したＰＳ版と同等のコントラス
トを持つ印刷物が得られた。印刷を５０００枚終了した
後も親水性膨潤層はインキ反発性を保持し、印刷物にイ
ンキ汚れは発生しなかった。

【０１３２】比較例 １ 感熱層として１２００オングストロームのモリブデン薄
膜を設けたこと以外は実施例１と同様の方法で平版印刷
用の刷版を作製した。しかしながら、レーザー照射部に
おいて感熱層は十分に燃焼しておらず、親水性膨潤層が
残存しており、インキ着肉部は形成されなかった。

【０１３３】実施例 ６ 感熱層として６０オングストロームの炭素薄膜をスパッ
タリング法にて設けたこと以外は実施例１と同様にし
て、刷版を得た。印刷評価においても、印刷を５０００
枚終了した後も親水性膨潤層はインキ反発性を保持し、
印刷物にインキ汚れは発生しなかった。また、画線部へ
のインキの着肉の程度もＰＳ版と同等であった。

【０１３４】実施例 ７ 感熱層として２５０オングストロームの厚みでスズと炭
素を４：１（重量比）の割合となるように同時蒸着した
こと以外は実施例１と同様にして、刷版を得た。印刷評
価においても、印刷を５０００枚終了した後も親水性膨
潤層はインキ反発性を保持し、印刷物にインキ汚れは発
生しなかった。また、画線部へのインキの着肉の程度も
ＰＳ版と同等であった。

【０１３５】実施例 ８ 感熱層として、真空蒸着法により、１５０オングストロ
ームのスズ薄膜の上に、８０オングストロームの炭素薄
膜を設けたこと以外は実施例１と同様にして、刷版を得
た。印刷評価においても、印刷を５０００枚終了した後
も親水性膨潤層はインキ反発性を保持し、印刷物にイン
キ汚れは発生しなかった。また、画線部へのインキの着
肉の程度もＰＳ版と同等であった。

【０１３６】実施例 ９ 厚さ０．３ｍｍのアルミ板（住友軽金属（株）製）に、
下記組成物を塗布した後、１８０℃×２分間加熱して
１．５ｇ／ｍ²の厚みを有するインキ受容層を塗設し
た。

【０１３７】 ＜インキ受容層組成物（重量部）＞ （１）ポリ酢酸ビニルのケン化物（ケン化度４５％） １００重量部 （２）テトラエチルオルソシリケート １０重量部 （３）γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン ５重量部 （４）０．１規定塩化水素水溶液 ４０重量部 （５）精製水 １５０重量部 （６）メチルエチルケトン ２００重量部 （７）イソプロピルアルコール ５００重量部 次に、インキ受容層上に７０オングストロームのアルミ
ニウム薄膜層をスパッタリング法により設けた。その
後、１９０℃×３分間加熱処理を行った。

【０１３８】さらに、合成例１記載の親水性ポリマを用
いて下記組成物を塗布したのち、１６０℃×１０分間、
熱処理して２．５ｇ／ｍ² の厚みを有する親水性膨潤層
を塗設した。

【０１３９】 ＜親水性膨潤層組成（重量部）＞ （１）合成例１の親水性ポリマ ９０重量部 （２）テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル ５重量部 （４）２−アミノプロピルトリメトキシシラン ５重量部 （５）精製水 ９００重量部 得られたレーザー感応性平版印刷版原版をＸ−Ｙテーブ
ルに装着した半導体レーザー（ＳＬＤ−３０４ＸＴ、出
力１Ｗ、波長８０９ｎｍ、ソニー（株）製）を用いて、
ビーム直径２０μｍ、露光時間１０μｓでパルス露光を
行った。

【０１４０】続いて、約１分間水道水で水洗処理を行っ
て刷版を得た。

【０１４１】レーザー照射に対応した部分のレーザー感
熱層および親水性膨潤層が燃焼破壊し、除去され、ビー
ム径に対応したスポット径を有するインキ受容層が露出
していた。

【０１４２】この平版印刷版を平版印刷機の版胴に装着
し、版面に接触するインキ着けローラーからインキを供
給し、また同時に湿し水供給装置から水を供給して印刷
を行なった。その結果インキ受容層露出部（画線部）は
インキが受容し、オフセットブランケット胴を介して印
刷物にビーム径に対応した明瞭なインキ画素が形成され
た。

【０１４３】一方、親水性膨潤層は湿し水によって膨潤
し、完全にインキを反発したＰＳ版と同等のコントラス
トを持つ印刷物が得られた。印刷を５０００枚終了した
後も親水性膨潤層はインキ反発性を保持し、印刷物にイ
ンキ汚れは発生しなかった。また、画線部へのインキの
着肉の程度もＰＳ版と同等であった。

【０１４４】実施例 １０ 下記のインキ受容層組成物を用いたこと以外は実施例８
と全く同様にして印刷版原版を得、評価を行ったところ
良好な印刷物が得られ、印刷を５０００枚終了した後も
親水性膨潤層はインキ反発性を保持し、印刷物にインキ
汚れは発生しなかった。また、画線部へのインキの着肉
の程度もＰＳ版と同等であった。

【０１４５】 ＜インキ受容層組成物（重量部）＞ （１）ポリビニルピロリドン ７０重量部 （２）ポリビニルホスホン酸 ７０重量部 （３）精製水 ２６０重量部 （４）イソプロピルアルコール ６００重量部 実施例 １１ 下記のインキ受容層組成物を用いたこと以外は実施例８
と全く同様にして印刷版原版を得、評価を行ったところ
良好な印刷物が得られ、印刷を５０００枚終了した後も
親水性膨潤層はインキ反発性を保持し、印刷物にインキ
汚れは発生しなかった。また、画線部へのインキの着肉
の程度もＰＳ版と同等であった。

【０１４６】 ＜インキ受容層組成物（重量部）＞ （１）ポリウレタン樹脂「ニッポラン３１２４」（日本ポリウレタン工業（株） ） ２０重量部 （２）ポリイソシアネート「コロネートＬ」（日本ポリウレタン工業（株）） １０重量部 （３）酢酸ブチル ８０重量部 （４）メチルエチルケトン ４０重量部 実施例 １２ 下記のインキ受容層組成物を用いたこと以外は実施例８
と全く同様にして印刷版原版を得、評価を行ったところ
良好な印刷物が得られ、印刷を５０００枚終了した後も
親水性膨潤層はインキ反発性を保持し、印刷物にインキ
汚れは発生しなかった。また、画線部へのインキの着肉
の程度もＰＳ版と同等であった。

【０１４７】＜インキ受容層組成物（重量部）＞ （１）レゾール樹脂 １５重量部 （２）ジグライム ８５重量部 実施例 １３ 実施例１に用いた平版印刷版と通常のＰＳ版（ＦＮＳ；
富士写真フィルム（株）製）を露光、現像処理して刷版
としたものを、同じ版胴に装着し、湿し水として市販の
精製水を供給しながら実施例１と同様にして印刷を行っ
た。

【０１４８】湿し水の供給量を標準条件から増量した場
合、ＰＳ版を用いた部分では、画線部のインキ濃度が極
端に低下し、いわゆる「水負け」によるインキの着肉不
良が発生した。一方、実施例１に用いた平版印刷版を用
いた部分では、着肉不良の程度が軽微であった。

【０１４９】また、湿し水の供給量を標準条件から減量
した場合、ＰＳ版を用いた部分では、全面にインキ汚れ
が発生した。一方、実施例１に用いた平版印刷版を用い
た部分では、良好な印刷物が得られた。なお、湿し水の
供給量は印刷機のダイヤル目盛り値にて相対的に比較し
た。評価結果を表２に示す。

【０１５０】

【表２】 以上のように本発明の平版印刷版は、湿し水の許容幅が
広く、純水を湿し水として良好な印刷画像を得ることが
できる。

【０１５１】

【発明の効果】本発明のレーザー感応性平版印刷版原版
は、レーザーによる描画が可能であり、また印刷工程に
おいてはインキ反発性が高く、湿し水の許容幅が広く、
湿し水のＩＰＡレス化が可能で印刷耐久性に優れてい
る。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基板上に少なくともインキ受容層、感熱
   層、親水性膨潤層をこの順に設けてなる平版印刷版原版
   であって、感熱層が炭素および／または金属からなる膜
   厚１０００オングストローム以下の薄膜であり、インキ
   受容層が水酸基、カルボニル基、カルボキシル基、イソ
   シアネート基、エポキシ基、を有する単量体から得られ
   た高分子化合物および／または水酸基、カルボニル基、
   カルボキシル基、エポキシ基を有する化合物を含有する
   ことを特徴とするレーザー感応性平版印刷版原版。
2. 【請求項２】感熱層が金属薄膜上に炭素薄膜を形成した
   ものであることを特徴とする請求項１に記載のレーザー
   感応性平版印刷版原版。
3. 【請求項３】感熱層に用いる金属の融点が２０００
   （Ｋ）以下であることを特徴とする請求項１〜２のいず
   れかに記載のレーザー感応性平版印刷版原版。
4. 【請求項４】金属として、チタン、アルミニウム、ニッ
   ケル、鉄、クロム、テルル、スズ、アンチモン、ガリウ
   ム、マグネシウム、ポロニウム、セレン、タリウム、亜
   鉛およびビスマスからなる群から選ばれた１種以上の金
   属を用いることを特徴とする請求項３に記載のレーザー
   感応性平版印刷版原版。
5. 【請求項５】感熱層を設けた後に１００℃以上の温度で
   加熱するすることを特徴とする請求項１〜４のいずれか
   に記載のレーザー感応性平版印刷版原版の製造方法。