JPH11334236A

JPH11334236A - 直描型平版印刷版原版

Info

Publication number: JPH11334236A
Application number: JP10143964A
Authority: JP
Inventors: Kazuoki Goto; 一起後藤; Ken Kawamura; 建河村; Koichi Nagase; 公一長瀬
Original assignee: Toray Industries Inc
Current assignee: Toray Industries Inc
Priority date: 1998-05-26
Filing date: 1998-05-26
Publication date: 1999-12-07

Abstract

(57)【要約】【課題】レーザー光で直接製版でき、印刷特性に優れた
直描型平版印刷版を提供する。【解決手段】直描型平版印刷版原版を、基板上に、少な
くとも感熱層およびインキ反発層をこの順に積層してな
る直描型平版印刷版原版において、該基板の反射率を５
０％未満とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、湿し水を用いずに
印刷が可能な水なし平版印刷版原版、および従来のＰＳ
版より少ない湿し水量での印刷な平版印刷版に関するも
のであり、特にレーザー光で直接製版できる直描型平版
印刷版原版に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】製版用フィルムを使用しないで、原稿か
ら直接オフセット印刷版を作製する、いわゆるダイレク
ト製版は、熟練度を必要としない簡易性、短時間で印刷
版が得られる迅速性、多様なシステムから品質とコスト
に応じて選択可能である合理性などの特徴を生かして、
軽印刷業界のみでなく、一般オフセット印刷、グラビア
印刷の分野にも進出し始めている。

【０００３】特に最近では、プリプレスシステムやイメ
ージセッター、レーザープリンタなどの出力システムの
急激な進歩によって新しいタイプの各種平版印刷材料が
開発されている。

【０００４】これらの平版印刷版の中でもレーザー光を
用いて製版する方式はその解像度、および製版速度の面
でも優れており、その種類も多い。

【０００５】特に熱破壊方式は、明室で取り扱えるとい
った利点があり、また光源となる半導体レーザーの急激
な進歩によって、最近その有用性が見直されてきてい
る。

【０００６】例えば、特開平６−１９９０６４号公報、
ＵＳＰ５３３９７３７号公報、ＵＳＰ５３５３７０５号
公報、ＵＳＰ５３８５０９２号公報、ＵＳＰ５４８７３
３８号公報、ＥＰ０５８０３９３号公報、特開平６−５
５７２３号公報、ＥＰ０５７３０９１号公報、ＵＳＰ５
３７８５８０号公報、特開平７−１６４７７３号公報、
特開平６−１８６７５０号公報、特開平７−３０９００
１号公報、特開平９−１４６２６４号公報、特開平９−
１４６２６５号公報、特開平９−２３６９２７号公報、
特開平９−２４４２２８号公報、特開平９−８０７４７
号公報、特開平９−２３９９４３号公報、特開平９−２
９２７０３号公報、特開平９−２９７３９５号公報、特
開平９−３１４７９４号公報、特開平９−３１９０７４
号公報、特開平９−３１９０７５号公報、特開平１０−
８５８号公報、特開平１０−２６８２５号公報、特開平
１０−２６８２６号公報、特開平１０−３１３１７号公
報、特開平１０−３４８６８号公報、特開平１０−３９
４９６号公報、特開平１０−３９４９７号公報にはレー
ザー光を光源として用いる直描型水なし平版印刷版原版
およびその製版方法などが記載されている。

【０００７】この熱破壊方式の印刷版原版の感熱層は、
レーザー光吸収化合物として主としてカーボンブラック
を用い、熱分解化合物として主としてニトロセルロース
を使用している。そしてこのカーボンブラックがレーザ
ー光を吸収することによって熱エネルギーに変換され、
さらにその熱で感熱層が破壊される。そして最終的に、
現像によってこの部分を除去することによって、表面の
シリコーンゴム層が同時に剥離され、インキ着肉部とな
る。

【０００８】しかしながらこの印刷版は、感熱層を破壊
して画像を形成することから画線部のセルの深さが深く
なり、微少網点でのインキ着肉性が悪く、インキマイレ
ージが悪いという問題点があった。更に、感熱層を熱破
壊させ易くするために、架橋構造を形成しており印刷版
の耐刷性が劣るという問題もあった。感熱層を柔軟化さ
せると感度が極端に低下し、感熱層の柔軟化は困難であ
った。

【０００９】特開平９−１４６２６４号公報では、光熱
変換層中にレーザー光を熱に変換する化合物、フィルム
形成能を有する高分子化合物、光重合開始剤、および光
重合可能なエチレン性不飽和化合物を有し、シリコーン
ゴム層形成後にエネルギー線による全面露光を施すこと
により光熱変換層と、シリコーンゴム層とを反応させた
ネガ型のレーザー感光性湿し水不要平版印刷版原版が提
案されている。

【００１０】この版材では、シリコーンゴム層塗布後に
全面露光を施すことによる公知の機構によりシリコーン
ゴム層と感光層との接着力を向上させ、その結果とし
て、画像再現性、耐傷性に優れた版材を得ている。しか
しながら、前述のように、感光層の柔軟性と感度のトレ
ードオフ的な関係は存在しており、特に感度が低いとい
う問題を有していた。

【００１１】特開平９−２３９９４２号公報では、レー
ザー感応層中に酸を発生する物質と、酸の作用で分解す
る高分子化合物を含有する剥離現像タイプの印刷版が提
案されているが、レーザー光照射の工程と加熱工程とい
う二つの工程が必要になり、また微細な網点の再現性が
悪いという剥離現像固有の問題が存在する。

【００１２】ＵＳＰ５３７９６９８号公報、特開平７−
３１４９３４号公報、特開平９−２３６９２７号公報、
特開平９−２８６１８３号公報、特開平９−２９７３９
４号公報、特開平９−３０９１９５号公報、特開平９−
３１１４３９号公報、特開平９−３１５０２４号公報に
は、金属薄膜を感熱層として用いる直描型水なし平版印
刷版が記載されている。

【００１３】この印刷版材は、感熱層がかなり薄いため
に、非常にシャープな画像が得られ、印刷版の解像度と
いう面では有利であるが、基材と感熱層の接着性が悪く
印刷中に非画線部の感熱層が剥離し、インキが付着し印
刷物上で欠点となるという問題点があった。また、この
印刷版も感熱層を破壊させて画像を形成させることから
画線部のセルが深くなりインキ着肉性やインキマイレー
ジが劣るという問題点があった。

【００１４】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の欠点に鑑み鋭意検討を行った結果、基板の反射率を
５０％未満とする事により、画像再現性に優れた直描型
水なし平版印刷版を得る技術を見出した。

【００１５】

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は以下
の構成を有する。

【００１６】（１）基板上に、少なくとも感熱層および
インキ反発層をこの順に積層してなり、レーザー光線を
照射した後、レーザー光照射部のインキ反発層、あるい
はインキ反発層と感熱層の一部を除去する事で製版可能
な直描型平版印刷版原版であって、該基板の照射レーザ
ー光と同波長の光に対する反射率が５０％未満であるこ
とを特徴とする直描型平版印刷版原版。

【００１７】（２）基板が赤外線散乱手段を有すること
を特徴とする（１）記載の直描型平版印刷版原版。

【００１８】（３）基板が赤外線吸収手段を有すること
を特徴とする（１）記載の直描型平版印刷版原版。

【００１９】（４）基板が赤外線吸収層を有することを
特徴とする（３）記載の直描型平版印刷版原版。

【００２０】（５）赤外線吸収層が、赤外線吸収色素を
含有することを特徴とする（４）記載の直描型平版印刷
版原版。

【００２１】（６）インキ反発層がシリコーンゴム層、
あるいは乾燥膜厚が５μｍ以下で下記の性質を有する親
水性膨潤層であることを特徴とする（１）〜（５）いず
れか記載の直描型平版印刷版原版。

【００２２】吸水量：１〜５０ｇ／ｍ² 水膨潤率：１０〜２０００％

【００２３】

【発明の実施の形態】以下に本発明を詳しく説明する。

【００２４】本発明の特徴とするところは、基板の反射
率が５０％未満であることである。

【００２５】レーザー光線を使うことの一つのメリット
である高解像度を維持するためには、レーザー光線が照
射された部分が、忠実にインキ着肉層となり、忠実に印
刷物に再現されることが重要である。

【００２６】照射されたレーザー光線が感熱層を透過す
る場合、基板により反射したレーザー光が上層の感熱層
に悪影響を与えるという問題がしばしば認められた。そ
の悪影響の具体例としては、感熱層への下方からの過剰
なエネルギー供与による感熱層の除去・脱落に関するも
の、下方からのハレーションによる微小網点の再現不良
に関するものなどである。これらの結果は、いずれも印
刷物における微小網点再現性の低下という形に顕れる。

【００２７】それ故、基板の反射率が５０％未満、好ま
しくは３０％未満、さらには１０％未満であることが好
ましい。基板の反射率が５０％より高い場合には、上述
のように、感熱層を透過し基板で反射したレーザー光に
より感熱層が下方より影響を受け、不必要な感熱層の除
去・脱落を生じさせるという問題がある。

【００２８】基板の反射率５０％未満を実現するための
手段としては、（１）基板に各種散乱手段を設ける方
法、あるいは（２）基板にレーザー光を透過・吸収する
手段を設ける方法などが挙げられる。

【００２９】（１）散乱手段を設ける方法としては、基
板に陽極酸化やアルカリ処理、砂目立て処理などの粗面
化処理を施す方法が挙げられる。

【００３０】上記のような粗面化処理を施す基板として
は、アルミニウム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、
銅、鉄などの金属の板を用いることが出来る。

【００３１】他方、（２）レーザー光を透過・吸収する
手段を設ける方法としては、基板自体をレーザー光を透
過あるいは吸収性材料にする方法、基板にレーザー光吸
収性材料を混合する方法、あるいは基板上にレーザー光
を吸収する層を塗布する方法などが挙げられる。

【００３２】基板自体をレーザー光透過・吸収性にする
方法としては、レーザー光を透過・吸収するような材質
の基板を用いる、具体的には基板としてレーザー光透過
性フィルムを使用する方法、レーザー光吸収性フィルム
を使用する方法、各種フィルムにレーザー光吸収性材料
を混合する方法などが挙げられる。

【００３３】基板上にレーザー光吸収性層を塗布する方
法としては、レーザー光吸収性物質をエポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、フェノ−ル樹脂、アクリル樹脂、アル
キッド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、尿素
樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、カゼイン、ゼラチン
等を含む組成物に分散、溶解させ、それを基板上に塗布
するというものである。レーザー光吸収性物質として
は、例えば赤外線吸収性染料、顔料などを挙げることが
出来る。レーザー光吸収性層の厚さは被覆層にして０．
５〜５０ｇ／ｍ２であることが好ましく、より好まし
くは１〜１０ｇ／ｍ２である。

【００３４】この方法の場合、下層の基板としては、フ
ィルム、紙はもちろんのことレーザー光を反射する金属
基板を用いることもできる。

【００３５】上記２つの手段のうち、下方からのハレー
ションによる微小網点の再現不良という問題に関して言
えば、後者の基板にレーザー光を透過・吸収する手段を
設ける方法が好ましい。それ故、反射率としては、正反
射率であることが好ましい。

【００３６】また、これら基板と感熱層の接着性を強固
にするために、エッチング処理、コロナ処理、プラズマ
処理などの表面処理を行うことは好ましく行われる。

【００３７】次に感熱層について説明する。

【００３８】本発明において感熱層は、いわゆる金属薄
膜系のものでもよいし、光熱変換物質を含有する有機化
合物層であってもよい。

【００３９】金属薄膜系を構成する金属としては、チタ
ン、アルミ、ニッケル、鉄、テルル、スズ、アンチモ
ン、ガリウム、ゲルマニウム、マグネシウム、ポロニウ
ム、セレン、タリウム、亜鉛、ビスマス、およびこれら
の酸化物、硫化物などが挙げられる。これら金属化合物
は２種類以上を混合し、アロイとすることによって融点
を低くすることが好ましい。

【００４０】金属薄膜の厚さは、１０００オングストロ
ーム以下、さらには２００オングストローム以下が好ま
しい。

【００４１】光熱変換物質としては、カーボンブラッ
ク、チタンブラック、アニリンブラック、シアニンブラ
ックなどの黒色顔料、フタロシアニン、ナフタロシアニ
ン系の緑色顔料、カーボングラファイト、ジアミン系金
属錯体、ジチオール系金属錯体、フェノールチオール系
金属錯体、メルカプトフェノール系金属錯体、結晶水含
有無機化合物、硫酸銅、硫化クロム、珪酸塩化合物や、
酸化チタン、酸化バナジウム、酸化マンガン、酸化鉄、
酸化コバルト、酸化タングステンなどの金属酸化物、こ
れらの金属の水酸化物、硫酸塩、さらにビスマス、鉄、
マグネシウム、アルミの金属粉などの添加剤を添加する
ことが好ましい。

【００４２】これらのなかでも、光熱変換率、経済性お
よび取り扱い性の面から、カーボンブラックが好まし
い。

【００４３】また上記の物質以外に、赤外線または近赤
外線を吸収する染料も、光熱変換物質として好ましく使
用される。

【００４４】このような染料としては、シアニン系色
素、アズレニウム系色素、スクアリリウム系色素、クロ
コニウム系色素、アゾ系分散色素、ビスアゾスチルベン
系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、
ペリレン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシア
ニン金属錯体系色素、ポリメチン系色素、ジチオールニ
ッケル錯体系色素、インドアニリン金属錯体色素、分子
間型ＣＴ色素、ベンゾチオピラン系スピロピラン、ニグ
ロシン染料などが好ましく使用される。

【００４５】これらの光熱変換物質の含有量は、全感熱
層組成物に対して０．１〜４０重量％が好ましく、より
好ましくは０．５〜２５重量％である。０．１重量％よ
りも少ない場合にはレーザー光に対する感度の向上効果
が見られず、４０重量％よりも多い場合には印刷版の耐
刷性が低下しやすい。

【００４６】感熱層に好ましく含まれる他の化合物とし
ては、ニトロセルロースをはじめとするニトロ基含有化
合物やヒドラジン誘導体、アゾ化合物、アジド化合物、
炭酸エステル化合物などの易分解性化合物などを挙げる
ことができる。

【００４７】また、金属キレート化合物を含有する感熱
層も好ましく用いることが出来る。

【００４８】金属キレート化合物としては、Ａｌ、Ｓ
ｉ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇ
ｅ、Ｉｎ、Ｓｎの金属ジケテネート、金属アルコキサイ
ド、アルキル金属、金属カルボン酸塩類、酸化金属キレ
ート化合物、金属錯体、ヘテロ金属キレート化合物が挙
げられ、これらの中で特に好ましく用いられる化合物と
しては、アルミニウム、鉄（III ）、チタンのアセチル
アセトネート（ペンタンジオネート）、エチルアセトア
セトネート（ヘキサンジオネート）、プロピルアセトア
セトネート（ヘプタンジオネート）、テトラメチルヘプ
タンジオネート、ベンゾイルアセトネート類などが挙げ
られる。

【００４９】感熱層中に添加する量としては固形分のう
ち３〜５０重量％が好ましく、さらには１０〜３０重量
％が好ましい。添加量が３重量％未満である場合にはそ
の効果、すなわち画像再現性向上効果が低くなり、一方
３０重量％よりも多い場合には感熱層の物性が低下しや
すく、印刷版としては例えば耐刷性という問題が生じや
すくなるためである。

【００５０】金属キレート化合物を用いる場合には、そ
れとの相互作用という観点から、フェノール性水酸基含
有化合物、アルコール性水酸基含有化合物、アミノ基含
有化合物、カルボキシル基含有化合物、ジケトン基含有
化合物等を添加することが好ましい。

【００５１】これら化合物の添加量は、全感熱層組成物
に対して５〜６０重量％が好ましく、より好ましくは２
０〜５０重量％である。５重量％よりも少ないとその効
果が少なく、逆に６０重量％よりも多いと印刷版の溶剤
耐性が低下しやすい。

【００５２】感熱層が光熱変換物質を有する有機化合物
層である場合には、感熱層がさらにバインダーポリマー
を含有することが好ましい。この際、バインダーポリマ
ーとしては、印刷版の耐刷性の観点から、該ポリマーの
ガラス転移温度（Ｔｇ）が２０℃以下のポリマー、コポ
リマー、さらに好ましくはガラス転移温度が０℃以下の
ポリマー、コポリマーを用いることが好ましい。

【００５３】バインダーポリマーの具体例としては、公
知のビニルポリマー類、未加硫ゴム、ポリオキシド類
（ポリエーテル類）、ポリエステル類、ポリウレタン
類、ポリアミド類などが挙げられる。

【００５４】これらのバインダーの含有量は、全感熱層
組成物に対して５〜７０重量％が好ましく、より好まし
くは１０〜５０重量％である。含有量が５％よりも少な
いと耐刷性や塗液の塗工性に問題が生じやすく、７０重
量％よりも多いと画像再現性に悪影響を与えやすい。

【００５５】このようにして得られる感熱層の物性に関
しては、引張時の初期弾性率が７ｋｇｆ／ｍｍ²〜７８
ｋｇｆ／ｍｍ²の範囲、さらには１０ｋｇｆ／ｍｍ²〜４
０ｋｇｆ／ｍｍ²、さらには１０ｋｇｆ／ｍｍ²〜２５ｋ
ｇｆ／ｍｍ²の範囲にあることが好ましい。

【００５６】感熱層の厚さは、被覆層にして０．１〜１
０ｇ／ｍ２であると、印刷版の耐刷性や、希釈溶剤を揮
散し易く生産性に優れる点で好ましく、より好ましくは
１〜７ｇ／ｍ２である。

【００５７】次にシリコーンゴム層について説明する。
本発明において、シリコーンゴム層としては、従来の水
なし平版印刷版において使用されるシリコーンゴム組成
物からなるものが用いられる。

【００５８】具体的には線状オルガノポリシロキサン
（好ましくはジメチルポリシロキサン）をまばらに架橋
することにより得られるものが挙げられる。

【００５９】架橋方法としては、縮合型のものでも、付
加型のものでもよいが、取扱いなどの面から付加型のも
のが好ましい。

【００６０】縮合型の架橋を行う際には、錫、亜鉛、
鉛、カルシウム、マンガンなどの金属カルボン酸塩、塩
化白金酸のような触媒が添加される事が好ましい。

【００６１】付加型においては、白金単体、塩化白金、
塩化白金酸、オレフィン配位白金などの触媒が添加され
ることが好ましい。

【００６２】また、付加型シリコーンゴム層の硬化速度
を制御する目的で、不飽和基含有化合物などの反応抑制
剤を添加することが好ましい。

【００６３】これらの組成物の他に、付加型シリコーン
ゴム組成物に縮合型シリコーンゴム層の組成物である水
酸基含有オルガノポリシロキサンや加水分解性官能基含
有シラン（もしくはシロキサン）を添加してもよい。

【００６４】また、これらシリコーンゴム層組成物に
は、ゴム強度を向上させる目的で、シリカなどの公知の
充填剤を添加することも行われる。

【００６５】さらに、本発明においてシリコーンゴム層
は上記組成物の他にシランカップリング剤を含有するこ
とが好ましい。

【００６６】これらシリコーンゴム層の膜厚は０．５〜
２０ｇ／ｍ２が好ましく、さらに好ましくは０．５〜５
ｇ／ｍ２である。膜厚が０．５ｇ／ｍ２よりも小さい場
合には印刷版のインキ反撥性や耐傷性、耐刷性が低下す
る傾向があり、２０ｇ／ｍ２よりも大きい場合には経済
的見地から不利であるばかりでなく、インキマイレージ
が悪くなるという問題がある。

【００６７】インキ反発層としては、上記シリコーンゴ
ム層の他に親水性膨潤層を用いることもできる。この場
合の印刷方式は、上記のような湿し水不要（乾式）方式
ではなく、従来のＰＳ版に用いている湿し水存在下、あ
るいは純水存在下での湿式方式となる。

【００６８】親水性膨潤層としては、インキ反発性およ
び形態保持性の観点から吸水量：１〜５０ｇ／ｍ²であ
ることが重要で、１〜１０ｇ／ｍ²、さらには２〜７ｇ
／ｍ²であることが好ましい。

【００６９】また、水膨潤率についても同様に、インキ
反発性および形態保持性の観点から１０〜２０００％、
次いで５０〜１７００％、さらには５０〜７００％の範
囲であることが好ましい。

【００７０】乾燥膜厚に関しては、厚過ぎると版面の水
保持量が多くなりすぎ、印刷時に水負けなどの問題を生
じさせるため、５μｍ以下であることが重要である。さ
らに乾燥膜厚に関しては、０．５μｍから４μｍである
ことが好ましい。乾燥膜厚が薄すぎる場合は、インキ反
発性が不十分になったり、基板表面の形態欠陥などの遮
断効果が劣るためである。

【００７１】このような親水性膨潤層は親水性ポリマー
を主成分とする組成物より得られる。

【００７２】本発明の効果を有効に発現する親水性ポリ
マーとしては、カルボン酸塩系共重合体が挙げられる。

【００７３】本発明に好ましく用いられるカルボン酸塩
系共重合体としては、吸水性および耐久性の観点から、
カルボキシル基、カルボン酸塩、カルボン酸アミド、カ
ルボン酸イミド、カルボン酸無水物などのカルボキシル
基またはカルボキシル基に誘導しうる基を分子中に１個
または２個有するα、β−不飽和化合物をモノマー成分
として含有するカルボン酸系共重合体のケン化反応物が
挙げられる。

【００７４】α、β−不飽和化合物の具体例としては、
アクリル酸、メタクリル酸、（メタ）アクリル酸アミ
ド、無水マレイン酸、マレイン酸、マレイン酸アミド、
マレイン酸イミド、イタコン酸、クロトン酸、フマル酸
などが挙げられ、本発明に必要な親水性を示す範囲で共
重合可能な他のモノマー成分と組合わせることが可能で
ある。

【００７５】このように調製される該重合体の中でも特
に、（メタ）アクリル酸の重合体または共重合体、α−
オレフィン、ビニル化合物と無水マレイン酸との共重合
体が好ましい。

【００７６】このようなカルボン酸塩系共重合体の中で
も、特にビニルエステル／（メタ）アクリル酸エステル
共重合体が、親水性膨潤層が適度な水膨潤性を示し、か
つ印刷耐久性およびインキ反撥性の両者を満足させる点
で好ましい。

【００７７】該共重合体中の（メタ）アクリル酸エステ
ル成分が少ないと吸水性が小さく、多すぎると高吸水状
態となり膜強度が極端に低下する傾向にある。従って、
出発物質となる該共重合体中における（メタ）アクリル
酸エステル成分の割合は、一般に２０〜８０モル％の範
囲にあることが好ましく、吸水性および含水時の力学強
度を両立させるためには３０〜７０モル％であることが
好ましい。

【００７８】本発明に用いられるビニルエステルとして
は、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ステアリン酸ビ
ニルなどが挙げられる。また（メタ）アクリル酸エステ
ルとしては、（メタ）アクリル酸のアルキルエステル、
具体的にはメチルエステル、エチルエステル、ｎ−プロ
ピルエステル、イソプロピルエステル、ｎ−ブチルエス
テル、ｔ−ブチルエステルが挙げられる。

【００７９】上記共重合体は水酸化ナトリウム、水酸化
カリウムなどのアルカリ金属水酸化物などのアルカリ触
媒の存在下でケン化反応することが好ましい。

【００８０】本発明の親水性膨潤層は上記の親水性ポリ
マーを、必要に応じて架橋または疑似架橋し、水に不溶
化、もしくは形態保持性を持たせることによって基板上
に積層形成される。

【００８１】架橋反応に用いられる化合物としては、ポ
リエポキシ化合物、ポリイソシアネート化合物、ポリ
（メタ）アクリル化合物、ポリメルカプト化合物、ポリ
アルコキシシリル化合物、多価金属塩化合物、ポリアミ
ン化合物、ポリアルデヒド化合物、ポリビニル化合物、
ヒドラジンなどが挙げられる。

【００８２】また、本発明の直描型平版印刷版原版に用
いられる親水性膨潤層は、親水性部分の相および疎水性
部分の相の少なくとも２相から構成された相分離構造を
有してもよい。

【００８３】このような相分離構造は上記のように
（１）親水性ポリマー単独および（２）親水性ポリマー
に架橋剤を添加したもの、からも得ることが出来るし、
それらに疎水性ポリマーを添加した混合物、からも得る
ことが出来る。

【００８４】疎水性ポリマーとしては水性エマルジョン
から主として構成されたものが好ましく、その具体例と
しては、ビニルポリマ系ラテックス、共役ジエンポリマ
系ラテックスおよび水性または水分散ポリウレタン樹脂
などが挙げられる。

【００８５】次に、本発明における直描型平版印刷版原
版の製造方法および製版方法について説明する。

【００８６】基板上に、感熱層組成物を塗布し加熱によ
る溶媒の揮散と必要に応じて熱や光の作用での硬化を行
う。この後、インキ反発層組成物を塗布し５０〜２５０
℃の温度で数分間熱処理してインキ反発層を得る。

【００８７】このようにして得られた版には、インキ反
発層を保護する目的で保護フィルムをラミネートするか
あるいは保護層を形成してもよい。

【００８８】それ故、保護フィルムとしてはレーザー光
の照射を妨げることのないものが好ましく、具体的には
ポリエステルフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリ
ビニルアルコールフィルム、エチレン酢酸ビニル共重合
体ケン化物フィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルムなど
が挙げられる。

【００８９】このようにして得られた直描型平版印刷版
原版を、保護フィルムを剥離してから、あるいは好まし
くは保護フィルム上からレーザー光で画像状に露光す
る。

【００９０】本発明の製版露光工程で用いられるレーザ
ー光源としては、発光波長領域が３００ｎｍ〜１５００
ｎｍの範囲にあるものが用いられるが、これらの中でも
近赤外領域付近に発光波長領域が存在する半導体レーザ
ー、ＹＡＧレーザーが好ましく用いられる。

【００９１】レーザー照射後の原版は、水または有機溶
剤の存在もしくは非存在下での摩擦処理により現像がな
される。

【００９２】摩擦処理は、現像液を含浸した不織布、脱
脂綿、布、スポンジ等で版面を拭き取ることによって、
あるいは上記の現像液で版面を前処理した後に水道水な
どをシャワーしながら回転ブラシで擦ることによって行
うことができる。

【００９３】現像処理を行う場合に使用される現像液と
しては、例えば、水や水に界面活性剤を添加したもの、
さらには水にアルコールやケトン、エステル、カルボン
酸などの極性溶媒を添加したものや、脂肪族炭化水素
類、芳香族炭化水素類などの少なくとも１種類からなる
溶媒に極性溶媒を少なくとも１種類添加したものが用い
られる。

【００９４】また、上記の現像液組成には、公知の界面
活性剤を添加することも自由に行われる。さらにアルカ
リ剤、例えば炭酸ナトリウム、モノエタノールアミン、
ジエタノールアミン、ジグリコールアミン、モノグリコ
ールアミン、ケイ酸ナトリウム、水酸化カリウム、ホウ
酸ナトリウムなどを添加することもできる。

【００９５】これらの中では、水あるいは水に界面活性
剤を添加したもの、さらにはアルカリを添加した水が好
ましい。

【００９６】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく
説明する。

【００９７】

【実施例】（親水性ポリマ−１の合成）酢酸ビニル６０
ｇとアクリル酸４０ｇに重合開始剤としてベンゾイルパ
ーオキシド０．５ｇを加えたものを、これに分散安定剤
として部分ケン化ポリビニルアルコール３ｇとＮａＣｌ
１０ｇを含む水３００ｍｌ中に分散させた。

【００９８】該分散液を６５℃×６時間撹拌し、懸濁重
合を行なった。得られた共重合体のアクリル酸メチル成
分はＮＭＲスペクトルから同定した結果４８モル％であ
った。また３０℃におけるベンゼン溶液中での極限粘度
は２．１０であった。

【００９９】次に、該共重合体８．６ｇを２００ｇのメ
タノールと１０ｇの水および５ｇのＮａＯＨ４０ｍｌか
らなるケン化反応液中に添加し撹拌懸濁させ、２５℃×
１時間ケン化反応を行なった後、温度を６５℃に昇温
し、さらに５時間ケン化反応を行なった。

【０１００】得られたケン化反応物はメタノールで十分
に洗浄し、凍結乾燥した。ケン化度は９８．３モル％で
あり、赤外吸収スペクトルの測定の結果、３４００ｃｍ
^-1付近の水酸基に帰属されるブロードな吸収と、１５７
０ｃｍ^-1に−ＣＯＯ^- 基に帰属される強い吸収が確認さ
れた。

【０１０１】（反射率の測定方法）測定装置として、島
津製作所（株）製UV-3101PC型自記分光光度計を用い、
スリット幅：３０ｎｍ｛７．５（６５０−８６０），３
０（−１２５０）｝、SlitProgram Normal、測定速度：
ＳＬＯＷ（約４points／sec）、光源：重水素ランプ
（３４０ｎｍ以下）、検出器：ＰＭＴ（８６０ｎｍ以
下）、ＰｂＳ（８６０ｎｍ以上）、副白版：ＢａＳＯ
４、入射角：５°の条件で近赤外領域（７００〜１２０
０ｎｍ）における基板の正反射スペクトルを測定した。

【０１０２】［実施例１〜７］表１に示した各種基板１
〜７上に、下記感熱層組成を塗布し、１２０℃で２分間
乾燥し、膜厚２ｇ／ｍ２の感熱層を設けた。

【０１０３】

【表１】＜感熱層１＞（ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸
収染料、日本化薬（株）製）：１０重量部（ｂ）鉄（III ）アセチルアセトネート（半井化学薬品
（株）製）：３０重量部（ｃ）“スミライトレジン”ＰＲ５０６２２（フェノー
ルノボラック樹脂、住友デュレズ（株）製）：５０重量
部（ｄ）“サンプレン”Ｔ−１３３１（ポリウレタン樹脂
三洋化成工業（株）製、ガラス転移温度Ｔｇ：−３
７℃）：５０重量部（ｅ）ｍ−キシリレンジアミン／グリシジルメタクリレ
ート／３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン＝
１／３／１ｍｏｌ比付加反応物：１０重量部（ｆ）テトラヒドロフラン：１０００重量部（ｇ）ジメチルホルムアミド：３５０重量部次いで、下記シリコーンゴム層を乾燥膜厚２．０μｍ、
乾燥条件は１２０℃×１分間として塗設した。

【０１０４】＜シリコーンゴム層１＞（ａ）α，ω−ジビニルポリジメチルシロキサン（重合
度７７０）：１００重量部（ｂ）ＨＭＳ−５０１（チッソ（株）製両末端メチル
（メチルハイドロジェンシロキサン）（ジメチルシロキ
サン）共重合体ＳｉＨ基数／分子量＝０．６９mol/
g）：４重量部（ｃ）オレフィン配位白金：０．０２重量部（ｄ）“ＢＹ２４−８０８”（ダウコーニングシリコー
ン（株）製反応抑制剤）：０．３重量部（ｅ）“アイソパー”Ｅ（エッソ化学（株）製）：
１０００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
プロピレンフィルム“トレファン”ＢＯ（東レ（株）
製）をカレンダーローラーを用いてラミネートし、直描
型水なし平版印刷版原版を得た。

【０１０５】この後、この印刷版原版をＦＸ４００−Ａ
Ｐ（製版機、東レエンジニアリング(株)製）に装着し、
半導体レーザー（波長８３０ｎｍ、ビーム直径２０μ
ｍ、出力０．７５Ｗ）を用いて露光時間１０μｓでパル
ス露光を行った。

【０１０６】続いて、東レ（株）製自動現像装置ＴＷＬ
−６５０により上記露光済み版の現像を行ったところ、
レーザー光が照射された部分のシリコーンゴム層が除去
されたネガ型の水なし平版が得られた。

【０１０７】現像の際、前処理液としては東レ（株）製
“ＰＰ−Ｆ”を、現像液としては水を、後処理液として
は東レ（株）製“ＰＡ−Ｆ”を用いた。

【０１０８】さらに、得られた刷版を枚葉オフセット印
刷機「スプリント２５：小森コーポレーション（株）
製」に取り付け、水なし平版用インキ（ドライオカラー
ＮＳＩ藍大日本インキ化学工業（株）製）を使用して
上質紙に印刷を行い、印刷物を観察することで画像再現
性を調べた。結果を表２に示す。

【０１０９】

【表２】また、感熱層の初期弾性率は２２ｋｇｆ／ｍｍ²であっ
た。

【０１１０】［比較例１］基板として基板８を用いた以
外は、実施例１〜７と全く同様に版を作製し、同様に評
価した。結果を表２に示す。

【０１１１】［実施例８および比較例２］基板１および
基板８の上にそれぞれ、下記組成物を塗布量が１．０ｇ
／ｍ²となるよう均一に塗布し、１５０℃×２分間熱処
理し、感熱層を得た。

【０１１２】＜感熱層２＞（１）ニトロセルロース（粘度１／２秒、窒素含有量１
１．０％ “ＢｅｒｇｅｒａｃＮＣ”）（エス・エヌ・ピー・イ
ージャパン（株）製）：１５重量部（２）カーボンブラック（＃３０三菱化学（株）
製）：２０重量部（３）レゾール樹脂“スミラック”ＰＣ−１（住友デュ
レズ（株）製）：１０重量部（４）エポキシ樹脂“デナコール”ＥＸ−４２１（ナガ
セ化成工業（株）製）：１０重量部（５）ブチル化ベンゾグアナミン樹脂“テスアジン”３
０７３−６０（日立化成ポリマー（株）製）：５重量部（６）フッ素系界面活性剤“フロラード”ＦＣ４３０
（住友３Ｍ（株）製）：０．１重量部（７）ジメチルホルムアミド：１００重量部（８）メチルエチルケトン：７００重量部さらに、この感熱層の上に下記の組成を有する親水性膨
潤層組成物をバーコーターで塗布した後、２００℃で１
０分間湿熱硬化させて２．０μｍの親水性膨潤層を設け
た。

【０１１３】＜親水性膨潤層１＞（１）親水性ポリマ−１：７５重量部（２）テトラエチレングリコールジグリシジルエーテ
ル：５重量部（３）水性ラテックス「ＪＳＲ０５４８」［カルボキシ
変性スチレン−ブタジエン共重合ラテックス：日本合成
ゴム製］：１８重量部（４）２−アミノプロピルトリメトキシシラン：２重量
部（５）精製水：９００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型平版印刷
版原版を得た。

【０１１４】この後、この印刷版原版を実施例１〜６と
同様にレーザー露光し、次いで水道水を染み込ませた現
像パッド（３Ｍ製）で擦ることで刷版を得た。その後、
刷版を印刷機ＨＡＭＡＤＡＲＳ４６Ｌ（ハマダ印刷機
械（株）製）に装着し、湿し水として市販の精製水を供
給しながら上質紙（６２．５ｋｇ／菊）を用いて印刷
し、実施例１〜７と同様に画像再現性を調べた。結果を
表２に示す。

【０１１５】非画線部の吸水量、水膨潤率は下記方法に
従って測定した結果、８．７ｇ／ｍ²、２９０％であっ
た。

【０１１６】［吸水量の測定方法］所定面積に裁断した
原版を２５℃の精製水中に１０分間浸漬した後、親水性
膨潤層表面および裏面に付着した余分の液体をコットン
布にて素速く拭き取り、該原版の膨潤重量Ｗ_WET を秤量
した。その後、該原版を６０℃のオーブンにて約３０分
間乾燥し、乾燥重量Ｗ_DRY を秤量し、以下の式にて吸水
量を算出した。

【０１１７】吸水量（ｇ／ｍ²）＝Ｗ_WET −Ｗ_DRY ［水膨潤率の測定方法］平版印刷版を十分に水洗・乾燥
した後、所定の部位が断面となるように切削して切片を
作製した。この切片を常温にて１昼夜真空乾燥した後、
光学顕微鏡にて当該部位の親水性膨潤層厚さを観察し、
これをΘ_DRY（μｍ）とした。なお、光学顕微鏡観察は
２３℃、２０％ＲＨの環境下において手早く行った。

【０１１８】さらに、この平版印刷版切片に過剰の水滴
を載せ、親水性膨潤層が十分に水膨潤した状態で断面を
光学顕微鏡観察し、当該部位の親水性膨潤層厚さを読み
とり、これをΘ_WET（μｍ）とし、以下の式にて水膨潤
率を算出した。

【０１１９】水膨潤率（％）＝（Θ_WET−Θ_DRY）／Θ_DRY×１００［実施例９および比較例３］基板１および基板８の上に
それぞれ、下記組成物を塗布量が１．０ｇ／ｍ²となる
よう均一に塗布し、９０℃×３分間熱処理し、感熱層を
得た。

【０１２０】＜感熱層１＞（ａ）“ＫＡＹＡＳＯＲＢ”ＩＲ−８２０Ｂ（赤外線吸
収染料、日本化薬（株）製）：１０重量部（ｂ）ヒドラゾ基を有する下記アクリル樹脂（Ｉ）：３
５重量部

【化１】（ｃ）“サンプレン”ＩＢ−４６５（ポリウレタン樹脂
三洋化成工業（株）製）：１７０重量部（ｄ）“デナコール”ＥＸ−５１２（ポリグリセロール
ポリグリシジルエーテル、ナガセ化成工業（株）製）：
５重量部（ｅ）テトラヒドロフラン：２００重量部（ｆ）ジメチルホルムアミド：５００重量部（ｇ）メチルイソブチルケトン：２００重量部次いで、下記シリコーンゴム層を乾燥膜厚２．０μｍ、
乾燥条件は１２０℃×１分間として塗設した。

【０１２１】＜シリコーンゴム層２＞（ａ）ポリジメチルシロキサン（分子量約２５，００
０、両末端水酸基）：１００重量部（ｂ）ビニルトリ（メチルエチルケトオキシムシラ
ン）：１０重量部（ｃ）“アイソパー”Ｅ（エッソ化学（株）製）：
９００重量部上記のようにして得られた積層板に、厚さ８μｍのポリ
エステルフィルム“ルミラー”（東レ（株）製）をカレ
ンダーローラーを用いてラミネートし、直描型水なし平
版印刷版原版を得た。

【０１２２】実施例１〜７と同様に、レーザー光照射
後、現像処理して刷版を得た後、同様に評価した。

【０１２３】

【発明の効果】本発明は、直描型水なし平版印刷版原版
において、基板の反射率を５０％未満とすることで、印
刷特性に優れた直描型平版印刷版が得られる。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板上に、少なくとも感熱層およびインキ
反発層をこの順に積層してなり、レーザー光を照射した
後、レーザー光照射部のインキ反発層、あるいはインキ
反発層と感熱層の一部を除去する事で製版可能な直描型
平版印刷版原版であって、該基板の照射レーザー光と同
波長の光に対する反射率が５０％未満であることを特徴
とする直描型平版印刷版原版。
【請求項２】該基板が赤外線散乱手段を有することを特
徴とする請求項１記載の直描型平版印刷版原版。
【請求項３】該基板が赤外線吸収手段を有することを特
徴とする請求項１記載の直描型平版印刷版原版。
【請求項４】該基板が赤外線吸収層を有することを特徴
とする請求項３記載の直描型平版印刷版原版。
【請求項５】該赤外線吸収層が、赤外線吸収色素を含有
することを特徴とする請求項４記載の直描型平版印刷版
原版。
【請求項６】該インキ反発層がシリコーンゴム層、ある
いは乾燥膜厚が５μｍ以下で下記の性質を有する親水性
膨潤層であることを特徴とする請求項１〜５いずれか記
載の直描型平版印刷版原版。吸水量：１〜５０ｇ／ｍ² 水膨潤率：１０〜２０００％