JPH11291677A - レリーフｏｖｄパターン画像形成方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】液晶シャッターマスク、及び感光性樹脂の硬化
部と未硬化部の熱変形耐性の差を利用した、レリーフ型
ＯＶＤの新規な形成方法により、顔写真やＩＤ画像のご
とく一枚一枚異なるレリーフＯＶＤパターン画像形成方
法を提供することをにある。 【解決手段】少なくとも、基本レリーフＯＶＤパターン
が、空間周波数と回折方向の異なる複数種類の回折格子
を規則的に並べたパターンであることを特徴とするレリ
ーフＯＶＤパターン画像形成方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性樹脂の硬化
部と未硬化部の熱変形耐性の差を利用した新規なレリー
フＯＶＤパターン画像形成方法に関するものであり、具
体的にはクレジットカード、有価証券、証明書等偽造防
止手段として表面レリーフ型ＯＶＤが利用されている技
術分野に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾
画像を表現し得る、ホログラムや回折格子のようなＯＶ
Ｄ（Optical Variable Device）の開発が進められてい
る。ＯＶＤは高度な製造技術を要し、且つシート状に形
成可能なことから、偽造防止手段としてクレジットカー
ド、有価証券、証明書類等の一部に貼着して使用されて
いる。そして、ＯＶＤをこれらの物品に貼着するための
方法として従来から転写シートを用いてＯＶＤを転写す
る方法が用いられている。

【０００３】ＯＶＤとして最も一般的なものはホログラ
ムであり、レインボウホログラムのごとき立体画像を記
録したもの、ステレオグラムのごとき視差画像を複数記
録したもの、平面グレーティングのごときグレーティン
グの塗り分けによって画像を表現したものなど、多種多
様なホログラムが使用されている。また、ホログラムと
は異なり、微小なエリアに複数種類の単純な回折格子を
配置して画素とし、画像を表現するグレーティングイメ
ージ、ピクセルグラムといったグレーティング画像など
もＯＶＤとして挙げられる。

【０００４】これらＯＶＤの中で特に、微細な凹凸パタ
ーンの回折構造からなるホログラムや回折格子のごとき
ＯＶＤはレリーフ型ＯＶＤと呼ばれ、大量複製が容易な
ことから工業的に広く利用されている。

【０００５】レリーフ型ＯＶＤの作製方法としては様々
な方法があるが、フォトレジスト層をスピンコートなど
の方法によってガラス板上に設けたガラス原版表面に、
レーザー干渉による干渉縞の露光を加えた後、アルカリ
現像などの現像処理によりレリーフ型ＯＶＤを作製する
方法が最も一般的である。また、レリーフ型回折格子の
高精細化に対応するために、ＥＢ露光装置を使用して干
渉縞を１本ずつＥＢレジスト層に描画して作製する方法
もある。

【０００６】これらのレリーフ型ＯＶＤを大量複製する
方法としては、フォトレジスト表面もしくはＥＢレジス
ト表面から電気メッキ法などによりレリーフパターンを
複製したプレス版を複製し、このプレス版を用いて任意
のフィルム、シート基材上に塗布された熱可塑性樹脂な
どからなるＯＶＤ形成層を熱圧成型することにより、Ｏ
ＶＤを大量複製する周知の方法が用いられている。

【０００７】上述のような従来のレリーフ型ＯＶＤの作
製プロセスでは、フォトレジストの塗布、レーザー干渉
縞の露光、湿式現像などの長い工程と煩雑な作業が必要
であることから、製品の高価格化につながるという問題
がある。特にＥＢ露光装置を使用して干渉縞を１本ずつ
ＥＢレジスト層に描画して作製するＯＶＤは、とりわけ
多量の時間と労力が必要であり、従来のＯＶＤよりも製
品の高価格化が大きな問題になっている。

【０００８】更に、これら前述したホログラムや回折格
子のごときＯＶＤは、オリジナルからの同一画像を大量
複製するには適しているが、顔写真やＩＤ画像などの一
枚一枚異なる画像を作製するには適していないという問
題があった。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、上述のごとく従来のフォトレジスト原版や
ＥＢレジスト原版を使用するレリーフ型ＯＶＤの作製方
法に対して、感光性樹脂の硬化部と未硬化部の熱変形耐
性の差などを利用した、安価なレリーフＯＶＤパターン
画像の新規な形成方法を提供し、小ロット製品を生産す
る場合において有用なレリーフＯＶＤパターン画像の形
成方法を実現することを課題とする。

【００１０】特に、液晶シャッターマスク、及び感光性
樹脂の硬化部と未硬化部の熱変形耐性の差を利用した、
レリーフ型ＯＶＤの新規な形成方法により、顔写真やＩ
Ｄ画像のごとく一枚一枚異なるレリーフＯＶＤパターン
画像を形成する方法を提供することを課題とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を達
成するため、まず請求項１においては、支持体上に、光
硬化性で室温では固体状態の熱可塑性樹脂組成物層を設
けたシートを、表面に凹凸形状の基本レリーフＯＶＤパ
ターンを有する元型に加熱圧着して基本レリーフＯＶＤ
パターンを熱可塑性樹脂組成物層の表面に複製した後、
液晶シャッターマスクを重ね合わせ、該液晶シャッター
マスクに必要とされる部分が透過性の所望の画像を表示
し、一定の強度の光を照射することにより、必要とされ
る部分を光硬化させ、その後特定の温度下で不必要な部
分のレリーフＯＶＤパターンを加熱軟化消失させ、全面
露光を加えることによって画像化されたレリーフＯＶＤ
パターン画像を定着させることにより、所望の異なるＯ
ＶＤ画像を形成することを特徴とするレリーフＯＶＤパ
ターン画像形成方法としたものである。

【００１２】また、請求項２においては、前記基本レリ
ーフＯＶＤパターンが、空間周波数と回折方向の異なる
複数種類の回折格子を規則的に並べたパターンであるこ
とを特徴とする請求項１記載のレリーフＯＶＤパターン
画像形成方法としたものである。

【００１３】本発明のレリーフＯＶＤパターン画像形成
方法によると、マスクパターンに液晶シャッターを用い
て任意の画像を露光することにより、顔写真やＩＤ画像
のごとく一枚一枚異なるレリーフＯＶＤ画像を作製する
ことが可能となる。

【００１４】更に、基本レリーフＯＶＤパターンを空間
周波数と回折方向の異なる複数種類の回折格子を規則的
に並べたパターンとすることにより、グレーティングイ
メージ、ピクセルグラムといったグレーティング画像を
簡易に作製することが可能となる。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例をいくつか
示すことにより発明の実施の形態を説明する。

【００１６】

【実施例】〈実施例１〉以下、本発明の実施例１につい
て図面を用いて説明する。本実施例１は、小ロット製品
を生産する場合の、簡易なレリーフＯＶＤパターン画像
の製造方法を示すものである。

【００１７】図１は、本実施例１のＯＶＤ画像形成方法
法について示した説明図、図２は本実施例１の熱可塑性
樹脂組成物層を設けたシートの断面図、図３は本実施例
１の基本レリーフＯＶＤパターンを示した模式図、図４
は本実施例１の液晶シャッターマスクに表示された画像
を示した模式図、図５は本実施例１のレリーフＯＶＤパ
ターン画像を示した模式図である。

【００１８】本発明の複版に用いる構成材料としては、
支持体２２の上に熱可塑性樹脂組成物層２１を設けたシ
ート２３が用いられる。

【００１９】熱可塑性樹脂組成物層２１は、光硬化性樹
脂もしくはオリゴマー、モノマー等を少なくとも一成分
とする熱可塑性樹脂組成物から成り、少なくとも２官能
以上で良好な架橋反応を行うアクリレートもしくはメタ
クリレートと一般的な熱可塑性樹脂との混合物に、光重
合開始剤を少量添加したものが使用できる。熱可塑性樹
脂として具体的には、アクリル樹脂、スチレン−アクリ
ル共重合樹脂、ポリエステル樹脂、ポリビニルブチラー
ル、ポリカーボネート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共
重合樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、アクリロニ
トリル−スチレン共重合樹脂、熱可塑性ポリウレタン樹
脂などが使用できる。また、アクリレートもしくはメタ
クリレート単独でも、熱可塑性で室温では固体状態を呈
する樹脂であれば熱可塑性樹脂組成物層２１として使用
することができる。具体的には、種々のウレタンアクリ
レートおよびメタクリレートオリゴマー、分子内にイソ
シアヌレート環構造を有する種々のアクリレートおよび
メタクリレート、分子内にビスフェノールＡ、ビスフェ
ノールＳ等の構造を有するエポキシアクリレートおよび
メタクリレート、ポリブタジエンウレタンメタクリレー
ト、ポリスチリルエチルメタクリレートなどが挙げられ
る。

【００２０】また光重合開始剤としては、ベンゾイン、
ベンジルケタール、アセトフェノンなどの誘導体に代表
される自己開裂型の化合物、およびベンゾフェノン、芳
香族ケトン、ミヒラーズケトンなどの分子構造を有する
水素引き抜き型の光重合開始剤が使用でき、種々の増感
剤と併用することも可能である。

【００２１】支持体２２は、熱可塑性樹脂組成物層２１
との接着性が十分に満たされている限り、金属、紙、高
分子材料、ガラスまたはセラミック等の無機材料を含め
てあらゆる素材のプレート、シートもしくはフィルムが
使用可能である。

【００２２】支持体２２上に光硬化性の熱可塑性樹脂組
成物層２１を設ける方法としては、スピンコート、ナイ
フコート、ロールコート、バーコート等、公知の塗布方
法を用いることができる。また、部分的に熱可塑性樹脂
組成物層２１を形成する場合には、スクリーン印刷、グ
ラビア印刷などの一般的な印刷技術を応用する方法、あ
るいは転写技術を利用することもできる。

【００２３】基本レリーフＯＶＤパターン３１を有する
元型３２は、感光性である熱可塑性樹脂組成物層２１の
表面に基本レリーフＯＶＤパターン３１を熱圧成型によ
って設けるためのものである。元型３２は、通常のホロ
グラムや回折格子のごときＯＶＤを製造するのに用いら
れる公知の方法にて作製することができ、通常Ｎｉ製の
金型が用いられる。また、樹脂型を元型３２に使用する
ことができるが、この場合具備すべき条件としては、少
なくとも熱圧成型時の加熱温度に耐え得る耐熱性を満た
す樹脂材料であれば使用することができる。

【００２４】マスク画像４１、マスク画像４２等は、液
晶シャッターマスク４３を切り換えて表示可能であり、
感光性である熱可塑性樹脂組成物層２１の表面に設けた
基本レリーフＯＶＤパターン３１に、マスクの画像を紫
外線露光するためのものである。

【００２５】次に、本発明のレリーフＯＶＤパターン画
像の形成方法について、製造工程を詳細に説明する。

【００２６】まず、図１−（１）に示すごとく、支持体
２２の上に熱可塑性樹脂組成物層２１を設けたシート２
３の表面に、基本レリーフＯＶＤパターン３１を有する
元型３２を密着させ、熱圧成型によって表面に凹凸形状
の基本レリーフＯＶＤパターン３１を形成する。

【００２７】次いで図１−（２）に示すごとく、基本レ
リーフＯＶＤパターン３１が形成されたシート２３の表
面に液晶シャッターマスク４３を介して紫外線１１を照
射することにより、マスク画像４１の画像状に硬化部１
２と未硬化部１３を形成する。

【００２８】次いで図１−（３）に示すごとく、硬化部
１２と未硬化部１３が形成されたシート２３を特定の温
度条件で加熱することにより、硬化部１２のレリーフパ
ターンは加熱による変形が小さいために凹凸が残り、未
硬化部１３のレリーフパターンは加熱による変形で凹凸
が消失し、レリーフＯＶＤ画像５１を得る。

【００２９】最後に図１−（４）に示すごとく、シート
２３の全面に紫外線１１を照射することにより、レリー
フＯＶＤパターン画像５１または５２を定着する。

【００３０】上記の方法で得られたレリーフＯＶＤパタ
ーン画像５１、５２は、公知の導電性付与、電気メッキ
などの方法により金型を複製し、公知のエンボス成型な
どの方法によりフィルム上に加工、複製され、公知の転
写箔、ラベル構成への加工を行うことにより、大量複製
品としてカードや証書などに貼着して用いられる。

【００３１】以下、本実施例１について具体的かつ詳細
に説明する。まず、基本レリーフＯＶＤパターン３１を
有する元型３２を、以下のように従来のレリーフ型ホロ
グラムの大量複製時に利用される工程によって作製し
た。

【００３２】まず「ＴＯＰ」の文字が撮影された平面原
稿を用い、従来の２ステップ法によりレインボウホログ
ラムをフォトレジスト上に撮影し、アルカリ現像によっ
て基本レリーフＯＶＤパターン３１を有するレリーフ原
版を作製した。

【００３３】次いで、上述の方法により作成したフォト
レジストレリーフ原版の表面に、約４００ÅのＮｉ薄膜
層をスパッタリング法によって設けた後、これを電極と
して約２５０μｍのＮｉ電気メッキを施し、次いで原版
からＮｉメッキ層を剥離すると共にＮｉメッキ層に付着
する余分なフォトレジスト層を除去して得られたＮｉ版
を成型用の元型３２とした。

【００３４】次に、支持体２２の上に熱可塑性樹脂組成
物層２１を設けたシート２３を以下のようにして作製し
た。

【００３５】光硬化性で室温では固体状態の熱可塑性樹
脂組成物層２１として、以下の配合比からなる光硬化性
の重合性単量体を含有する熱可塑性樹脂組成物を、乾燥
後の膜厚が約５μｍとなるように、バーコート法を用い
てＰＭＭＡシート上に塗工し、シート２３を作製した。
なお、乾燥条件は８０℃、２０分、ＰＭＭＡシート基材
の厚みは４００μｍである。

【００３６】 飽和共重合ポリエステル樹脂 …２重量部 アクリル樹脂 …４．５重量部 ペンタエリスリトールヘキサアクリレート …３重量部 トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート …０．５重量部 光重合開始剤 …０．４重量部 ２−ブタノン …１５重量部 トルエン …１０重量部

【００３７】上述の方法で得られた光硬化性の熱可塑性
樹脂組成物層２１の表面に、前述の元型３２のレリーフ
面を密着させ、次いで圧力１０ｋｇ／ｍ² 、温度８０
℃、圧着時間１５秒の条件にて平圧プレスを行い、圧力
を一定に保ったまま室温まで冷却水により急速に冷却し
た後、元型３２を剥離することにより基本レリーフＯＶ
Ｄパターン３１が形成されたシート２３を得た。

【００３８】次に、シート２３上に形成された基本レリ
ーフＯＶＤパターン３１のレリーフ面に液晶シャッター
マスク４３を密着させ、マスク画像４１又はマスク画像
４２を表示して露光量１２００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を
照射することによって、硬化部１２と未硬化部１３を形
成した。なお、マスク画像４１として白黒ポジ画像の格
子模様、マスク画像４２として白黒ポジ画像の縞模様を
用いた。

【００３９】最後に、上述の方法で作製された硬化部１
２と未硬化部１３が形成されたシート２３を、あらかじ
め１１０℃に加熱したホットプレート上に５分間放置す
ることにより、未硬化部のレリーフパターンを消失させ
た後、露光量１２００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線をシート２
３全面に照射することで、レリーフパターンを定着し
た。

【００４０】以下、公知のエンボス成型などの方法によ
りフィルム上に加工、複製し、公知の転写箔構成への加
工を行うことにより、大量複製を行った。すなわち、上
記方法で形成されたレリーフＯＶＤパターン画像５１を
有するシート２３のレリーフ面上に、電極としてＮｉ薄
膜層をスパッタリング法によって設けた後、前述と同様
の電気メッキ工程によりＮｉ版を作製した。

【００４１】次に、大量複製用のフィルム原反を作製
し、転写箔構成に加工した。まず、厚さ２５μｍのＰＥ
Ｔフィルムからなる基材上に、剥離層として以下の配合
比からなる組成物をグラビア印刷法により、乾燥温度１
１０℃、厚さ０．８μｍとなるように塗工した。

【００４２】 アクリル樹脂 …３０部 ポリエステル樹脂 … ５部 トルエン …４０部 メチルエチルケトン …４０部 メチルイソブチルケトン …２０部

【００４３】次いで、ＯＶＤ形成層として以下の配合比
からなる組成物をグラビア印刷法により、乾燥温度１１
０℃、厚さ０．５μｍとなるように塗工した。

【００４４】 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 …２５部 ウレタン樹脂 …１０部 メチルエチルケトン …７０部 トルエン …３０部

【００４５】次いで、前記ＯＶＤ形成層面に前記Ｎｉ版
を圧力６ｋｇ／ｃｍ² 、版面温度１６５℃の条件で接触
させ、ロールエンボス法により約６ｍ／ｍｉｎの速度で
成型を行うことにより、レリーフＯＶＤパターン画像５
１の連続複製を行った。

【００４６】次いで、前記レリーフＯＶＤパターン画像
５１を形成したＯＶＤ形成層面に、反射性薄膜層とし
て、６０ｎｍの厚さのＡｌを真空蒸着法により形成し
た。

【００４７】次いで、接着層として以下の配合比からな
る組成物をグラビア印刷法により、乾燥温度１１０℃、
厚さ１．０μｍとなるように塗工した。

【００４８】 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 …３０部 ポリエステル樹脂 …２０部 メチルエチルケトン …５０部 トルエン …５０部

【００４９】上記の方法により大量複製を行うことで、
レリーフＯＶＤパターン画像５１を大量に有する転写箔
を得ることができた。なお、レリーフＯＶＤパターン画
像５２に関しても同様の方法で転写箔を得た。

【００５０】以上説明してきたように、本発明のレリー
フＯＶＤパターン画像形成方法を用いることで、小ロッ
ト製品を生産する場合において、その都度絵柄に応じた
原版の撮影を必要としないレリーフＯＶＤパターン画像
の製造方法を実現することができた。

【００５１】〈実施例２〉以下、本発明の実施例２につ
いて、実施例１と同様に説明する。本実施例２は、顔写
真やＩＤ画像のごとく一枚一枚異なるＯＶＤ画像を作製
する方法を示すものである。

【００５２】図６は、本実施例２の熱可塑性樹脂組成物
層を設けたフィルムの断面図、図７は、本実施例２のレ
リーフＯＶＤパターン画像形成システムについて示した
説明図、図８は、本実施例２のマスク画像を示した模式
図、図９は本実施例２のレリーフＯＶＤパターン画像を
示した模式図である。

【００５３】本発明に用いるフィルムの構成を、以下に
説明する。支持体としての基材６１上に剥離層６２が形
成され、剥離層６２の上には熱可塑性樹脂組成物層６３
が形成されている。

【００５４】熱可塑性樹脂組成物層６３は、剥離層６２
とは反対側の面に基本レリーフＯＶＤパターン６３１を
有し、前記レリーフＯＶＤパターン６３１の表面上に反
射性薄膜層６４が蒸着またはスパッタリング等により形
成された構成となっている。

【００５５】前記基本レリーフＯＶＤパターン６３１
は、基本レリーフＯＶＤパターン６３１を構成する微細
な凹凸パターンが形成されたニッケル製のプレス版を、
熱可塑性樹脂組成物層６３上に加熱押圧するなどの周知
の方法により形成可能である。

【００５６】反射性薄膜層６４上には接着層６５が形成
されている。

【００５７】基材６１は、厚さ１２μｍの透明なポリエ
チレンテレフタレートフィルムである。基材としては、
他にポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボネー
ト、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン等の合成樹
脂、天然樹脂、紙、合成紙などから単独で選択されたも
の、または上記より選択されて組み合わされた複合体が
使用可能となっている。

【００５８】剥離層６２は、熱可塑性樹脂組成物層６３
以下の層をより効果的に被転写体（図示せず）に転写す
るために設けられたものであり、以下の配合比からなる
組成物がグラビア印刷法により、乾燥温度１１０℃、厚
さ０．８μｍで形成されている。

【００５９】 アクリル樹脂 …３０部 ポリエステル樹脂 … ５部 トルエン …４０部 メチルエチルケトン …４０部 メチルイソブチルケトン …２０部

【００６０】剥離層６２としては、他に熱可塑性アクリ
ル樹脂、塩化ゴム系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重
合樹脂、セルロース系樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂
あるいはこれらにオイルシリコン、脂肪酸アミド、ステ
アリン酸亜鉛を添加したものが使用可能となっている。
または、無機物を使用してもよい。

【００６１】熱可塑性樹脂組成物層６３はエンボス成形
性が良好で、プレスムラが生じ難く、明るい再生像が得
られ、剥離層６２及び反射性薄膜層６４との接着性が良
好である樹脂であって、光硬化性を有する以下の配合比
からなる組成物がグラビア印刷法により、乾燥温度１１
０℃、厚さ１．０μｍで形成されている。

【００６２】 飽和共重合ポリエステル樹脂 …２重量部 アクリル樹脂 …４．５重量部 ペンタエリスリトールヘキサアクリレート …３重量部 トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート…０．５重量部 光重合開始剤 …０．４重量部 ２−ブタノン …６０重量部 トルエン …４０重量部

【００６３】また、基本レリーフＯＶＤパターン６３１
は、熱可塑性樹脂組成物層６３にＮｉ版を圧力６ｋｇ／
ｃｍ² 、版面温度１４０℃の条件で接触させ、ロールエ
ンボス法により約６ｍ／ｍｉｎの速度で成型を行うこと
により形成されている。なお基本レリーフＯＶＤパター
ン６３１は、実施例１と同様のものを用いた。

【００６４】反射性薄膜層６４は、光線を反射する層で
あって、６０ｎｍの厚さのＡｌが真空蒸着法により形成
されている。反射性薄膜層６４を形成する方法として
は、真空蒸着法の他にスパッタリング法、イオンプレー
ティング法等の成膜手段が適用可能であり、膜厚として
は１０〜１５０ｎｍの範囲にあることが好ましい。

【００６５】なお、反射性薄膜層６４としては、他に金
属反射性を有する物質が使用可能で、例えばＡｕ、Ａ
ｇ、Ｃｕなどの金属が考えられる。

【００６６】また、反射性薄膜層６４としては、反射性
と透過性を合わせ持つ高屈折率透明材料を使用すること
も可能である。すなわち、熱可塑性樹脂組成物層６３
（屈折率ｎ＝１．３〜１．７）よりも屈折率が高く、透
明性を持つ材料、例えば次表１に示す無機材料が使用可
能となっている。

【００６７】

【表１】

【００６８】接着層６５は、以下の配合比からなる組成
物がグラビア印刷法により、乾燥温度１１０℃、厚さ
１．０μｍで形成されている。

【００６９】 塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 …３０部 ポリエステル樹脂 …２０部 メチルエチルケトン …５０部 トルエン …５０部

【００７０】なお、接着層６５としては、他にも、反射
性薄膜層６４を変質させたり冒すものでなければ通常用
いられるものでよく、例えばアクリル系接着剤、ポリエ
ステル系ポリアミドなどが使用可能であるが、これらに
限定されるものではない。

【００７１】上記の方法により、基本レリーフＯＶＤパ
ターン６３１を大量に有する転写箔７７を得た。

【００７２】次に、本発明の一枚一枚異なるレリーフＯ
ＶＤ画像の形成方法について、製造方法を詳細に説明す
る。

【００７３】本システムは、紫外線露光装置７１、液晶
シャッターマスク７２、熱現像装置７３、定着用紫外線
露光装置７４、転写装置７５とフィルム搬送装置７６で
構成される。

【００７４】紫外線露光装置７１および定着用紫外線露
光装置７４は、熱可塑性樹脂組成物層６３を十分に光硬
化させることが可能な紫外線を照射する装置である。

【００７５】液晶シャッターマスク７２は、紫外線露光
装置７１から照射された紫外線を遮光する性質を持ち、
紫外線が透過した部分と遮光された部分の光硬化度合い
が大きく異なり、熱現像装置７３において紫外線が透過
した部分と遮光された部分の熱軟化によるレリーフ形状
の変化に差が生じ、目視で回折光率に十分コントラスト
を生じさせるための装置である。

【００７６】熱現像装置７３は、硬化部と未硬化部の熱
軟化度合いの差を利用して未硬化部のレリーフを加熱に
より消失させるための装置であり、加熱方式としては、
ロール加熱、ホットスタンプ、赤外線放射などの方式を
用いることができる。

【００７７】転写装置７５は、物品にレリーフＯＶＤ画
像を転写するための装置で、フィルムが転写箔タイプで
あれば、公知のホットスタンプ、ロール転写、サーマル
ヘッド転写などの方式が一般的に用いられ、フィルムが
ラベルタイプであれば、通常のラベル貼り機構が用いら
れる。

【００７８】フィルム搬送装置７６は、フィルムを搬送
するための機構で、一般的に巻き出し部、巻き取り部、
送りロール、駆動部、制御部などの部位からなる。

【００７９】上記装置のほかに、検討合わせ機構、テン
ションコントロール機構などシステムを制御するのに必
要な装置が含まれている。

【００８０】まず、フィルム搬送装置７６の巻き出し部
からフィルムが送られ、紫外線露光装置７１および液晶
シャッターマスク７２の下部で停止させる。

【００８１】次いで、液晶シャッターマスク７２を使用
し、マスク画像８１の画像でシャッターを閉じ、紫外線
露光装置７１より紫外線をフィルムに照射し、マスク画
像８１によるパターンの露光を行う。

【００８２】次いで、フィルム搬送装置７６により熱現
像装置７３までフィルムを送って停止し、熱現像装置７
３によりフィルムを加熱し、マスク画像８１の画像状に
現像を行う。加熱方式は、ヒーターで加熱した熱板をフ
ィルムに押し当てる方式を採用した。

【００８３】次いで、フィルム搬送装置７６により定着
用紫外線露光装置７４までフィルムを送って停止し、定
着用紫外線露光装置７４より紫外線を全面に照射し、レ
リーフの定着を行う。

【００８４】最後に、搬送装置７６により転写装置７５
までフィルムを送って停止し、転写装置７５によりレリ
ーフＯＶＤパターン画像９１をカードなる媒体に転写
し、カード上にレリーフＯＶＤパターン画像９１を得
た。媒体には白色塩ビカードを用い、転写装置はホット
スタンプ方式を採用した。

【００８５】液晶シャッターマスクで遮光されるマスク
画像８１を変更し、他のマスク画像８２〜８３とするこ
とにより、カードごとに一枚一枚異なるレリーフＯＶＤ
パターン画像９２〜９３を得た。

【００８６】以上説明してきたように、本発明のレリー
フＯＶＤパターン画像形成方法を用いることで、顔写真
やＩＤ画像のごとく一枚一枚異なるレリーフＯＶＤパタ
ーン画像を作製する方法を実現することができた。

【００８７】〈実施例３〉以下、本発明の実施例３につ
いて図面を用いて説明する。本実施例３は、グレーティ
ング画像を構成する画素１つ１つを任意に選択して消失
させることにより、今までとは異なる新規なデザイン
で、グレーティングイメージのようなグレーティング画
像のレリーフＯＶＤパターン画像を簡易に作製する方法
を示すものである。

【００８８】図１０は、本実施例３の基本レリーフＯＶ
Ｄパターンを示した模式図、図１１は、本実施例３のマ
スク画像を示した模式図、図１２は、本実施例３のレリ
ーフＯＶＤパターン画像を示した模式図である。

【００８９】本実施例３は、製造方法、使用材料におい
ては、実施例１と同様である。実施例１と異なるのは、
基本レリーフＯＶＤパターン、マスク画像およびレリー
フＯＶＤパターン画像である。

【００９０】以下に、本実施例１と異なる部分について
説明する。基本レリーフＯＶＤパターン１０１を有する
元型１０２は、以下のように従来のグレーティングの大
量複製時に利用される工程によって作製した。

【００９１】まずＥＢ露光装置を使用し、ＥＢレジスト
上に基本レリーフＯＶＤパターン１０１を描画露光し、
現像処理によって基本レリーフＯＶＤパターン１０１を
有するレリーフ原版を作製した。以下、実施例１と同様
にして基本レリーフＯＶＤパターン１０１が形成された
シートを得た。

【００９２】次に、シート２３上に形成された基本レリ
ーフＯＶＤパターン１０１の画素とマスク画像１１１も
しくはマスク画像１１２の画素が一致するように、液晶
シャッターマスクの位置合わせを行い、露光量１２００
ｍＪ／ｃｍ² の紫外線を照射することによって、硬化部
と未硬化部を形成した。以下、実施例１と同様にしてレ
リーフＯＶＤパターン画像１２１またはレリーフＯＶＤ
パターン画像１２２を大量に有する転写箔を得た。

【００９３】以上説明してきたように、グレーティング
画像を構成する画素１つ１つを液晶シャッターマスクで
任意に選択して消失させることにより、今までとは異な
る新規なデザインで、グレーティングイメージのような
レリーフＯＶＤパターン画像を簡易に作製する製造方法
を実現することができた。

【００９４】

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、支
持体上に、光硬化性で室温では固体状態の熱可塑性樹脂
組成物層を設けたシートを、表面に凹凸形状の特定の基
本レリーフＯＶＤパターンを有する物体に加熱圧着して
基本レリーフＯＶＤパターンを複製した後、必要とされ
る部分が透過性とした画像を表示した液晶シャッターマ
スクを密着させ、一定の強度の光を照射することによ
り、必要とされる部分を光硬化させ、その後特定の温度
化で不必要な部分の基本レリーフＯＶＤパターンを加熱
軟化消失させ、全面露光を加えることによってレリーフ
ＯＶＤパターン画像を定着させるＯＶＤ画像形成方法を
用い、液晶シャッターマスクの表示画像を変えることに
より、その都度画像に応じた原版の撮影を必要とせず、
簡易に異なる画像の安価なレリーフＯＶＤパターン画像
を作製することが可能となる。更に、上記画像形成方法
を用い、基本レリーフＯＶＤパターンを空間周波数と回
折方向の異なる複数種類の回折格子を規則的に並べたパ
ターンとすることにより、グレーティングイメージ、ピ
クセルグラムといったグレーティングのレリーフＯＶＤ
パターン画像を簡易に作製することが可能となる。

【００９５】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るレリーフＯＶＤパターン画像形成
方法の一例について示した説明図で（１）〜（４）はそ
れぞれの工程を示す。

【図２】本発明に係る熱可塑性樹脂組成物層を設けたシ
ートの一例について示した断面図。

【図３】本発明に係る基本レリーフＯＶＤパターンの一
例を示した模式図。

【図４】本発明に係るマスク画像の一例を示した模式
図。

【図５】本発明に係るレリーフＯＶＤパターン画像の一
例を示した模式図。

【図６】本発明に係る熱可塑性樹脂組成物層を設けたフ
ィルムの一例を示した断面図。

【図７】本発明に係るレリーフＯＶＤパターン画像形成
システムの一例について示した説明図。

【図８】本発明に係るマスク画像の一例を示した模式
図。

【図９】本発明に係るレリーフＯＶＤパターン画像の一
例を示した模式図。

【図１０】本発明に係る基本レリーフＯＶＤパターンの
一例を示した模式図。

【図１１】本発明に係るマスク画像の一例を示した模式
図。

【図１２】本発明に係るレリーフＯＶＤパターン画像の
一例を示した模式図。

【符号の説明】

１１‥‥紫外線 １２‥‥硬化部 １３‥‥未硬化部 ２１‥‥熱可塑性樹脂組成物層 ２２‥‥支持体 ２３‥‥シート ３１‥‥レリーフＯＶＤパターン ３２‥‥元型 ４１‥‥マスク画像 ４２‥‥マスク画像 ４３‥‥液晶シャッターマスク ５１、５２‥‥レリーフＯＶＤパターン画像 ６１‥‥基材 ６２‥‥剥離層 ６３‥‥熱可塑性樹脂組成物層 ６３１‥‥基本レリーフＯＶＤパターン ６４‥‥反射性薄膜層 ６５‥‥接着層 ７１‥‥紫外線露光装置 ７２‥‥液晶シャッターマスク ７３‥‥熱現像装置 ７４‥‥定着用紫外線露光装置 ７５‥‥転写装置 ７６‥‥フィルム搬送装置 ８１、８２、８３‥‥マスク画像 ９１、９２、９３‥‥レリーフＯＶＤパターン画像 １０１‥‥基本レリーフＯＶＤパターン １０２‥‥元型 １１１、１１２‥‥マスク画像 １２１、１２２‥‥レリーフＯＶＤパターン画像

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体上に、光硬化性で室温では固体状態
   の熱可塑性樹脂組成物層を設けたシートを、表面に凹凸
   形状の基本レリーフＯＶＤパターンを有する元型に加熱
   圧着して基本レリーフＯＶＤパターンを熱可塑性樹脂組
   成物層の表面に複製した後、液晶シャッターマスクを重
   ね合わせ、該液晶シャッターマスクに必要とされる部分
   が透過性の所望の画像を表示し、一定の強度の光を照射
   することにより、必要とされる部分を光硬化させ、その
   後特定の温度下で不必要な部分のレリーフＯＶＤパター
   ンを加熱軟化消失させ、全面露光を加えることによって
   画像化されたレリーフＯＶＤパターン画像を定着させる
   ことにより、所望の異なるＯＶＤ画像を形成することを
   特徴とするレリーフＯＶＤパターン画像形成方法。
2. 【請求項２】前記基本レリーフＯＶＤパターンが、空間
   周波数と回折方向の異なる複数種類の回折格子を規則的
   に並べたパターンであることを特徴とする請求項１記載
   のレリーフＯＶＤパターン画像形成方法。