JPH1129640A - 光カチオン硬化性組成物の製造方法及び光カチオン硬化性ハードコート剤組成物 - Google Patents
光カチオン硬化性組成物の製造方法及び光カチオン硬化性ハードコート剤組成物Info
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Abstract
化合物からなる光カチオン硬化性組成物の製造方法、及
びこの光カチオン硬化性組成物からなる光カチオン硬化
性ハードコート剤組成物を提供する。 【解決手段】 本発明の光カチオン硬化性組成物の製造
方法は、下記式(I)に示す構造式で表される化合物を
pH7以上の雰囲気下で加水分解することを特徴とす
る。 【化1】
Description
組成物の製造方法及びこの方法により得られた光カチオ
ン硬化性ハードコート剤組成物に関する。本発明の方法
により製造された光カチオン硬化性組成物は、光硬化性
に優れ且つ高硬度の皮膜を形成することから、光カチオ
ン硬化性ハードコート剤組成物として好適である。
硬化の分野においては、多官能アクリレート及び不飽和
ポリエステル等を用いた光開始ラジカル重合が広く検討
され、また工業的に利用されている。
素によって阻害されるという問題がある。特にコーティ
ング剤組成物をラジカル重合によって硬化させる場合、
この組成物の膜厚が薄くなるほど酸素による重合阻害の
影響は顕著となり、組成物を速やかに且つ完全に硬化さ
せるためには不活性雰囲気下で硬化させなければならな
いという制限がある。これに対して光開始カチオン重合
は、上記光開始ラジカル重合とは異なり酸素による重合
阻害を受けないため、空気中においても完全に重合させ
ることが可能である。
モノマーとしては、エポキシド及びビニルエーテルが挙
げられる。特に、モノマーとしてエポキシドを用いた組
成物によると、耐熱性が良く、接着力に優れ、且つ耐薬
品性の良好な硬化物を得ることが可能である。
れるシルセスキオキサンは、ハシゴ状、カゴ状及び三次
元編目状(ランダム状)の構造をとる一連のネットワー
ク状ポリシロキサンの総称である。このシルセスキオキ
サンは、完全な無機物質であるシリカとは異なり一般の
有機溶媒に可溶であることから、取り扱いが容易であ
り、製膜等の加工性や成形性に優れるという特長を有す
る。従来、エポキシ基が導入されたシルセスキオキサン
化合物としては、(3−グリシドキシプロピル)トリメ
トキシシランや2−(3,4−エポキシシクロヘキシ
ル)エチルトリメトキシシラン等を加水分解させたもの
が知られている(Chemical Reviews, 1995, Vol.95,
No.5)。
の光硬化性モノマーからなる組成物は、エポキシ基の光
重合速度が比較的遅いため、特に紙やプラスチック上に
コーティングされる場合のように速やかな光硬化性が要
求される用途に対しては、必ずしも好適とはいい難い。
これに対して、通常オキセタニル基の光重合速度はエポ
キシ基に比べて明らかに速いため、このオキセタニル基
をもつ化合物からなる組成物、特に上記のような特長を
有するシルセスキオキサン化合物であってオキセタニル
基をもつ化合物は、光カチオン硬化性組成物として有用
である。
シルセスキオキサン化合物からなる光カチオン硬化性組
成物の製造方法を提供することにある。本発明の他の目
的は、上記製造方法により得られた光カチオン硬化性組
成物からなる光カチオン硬化性ハードコート剤組成物を
提供することにある。
ニル基及び加水分解性基をもつケイ素化合物を加水分解
して得られた組成物は、光カチオン硬化性に優れ且つ硬
化によって高硬度な皮膜を形成することを見出して、本
発明を完成したのである。
ン硬化性組成物の製造方法は、オキセタニル基をもつシ
ルセスキオキサン化合物からなる光カチオン硬化性組成
物の製造方法であって、下記式(I)に示す構造式で表
される化合物をpH7以上の雰囲気下で加水分解するこ
とを特徴とする。
ように、下記式(II)に示す構造式で表される有機官能
基であることが好ましい。
明のように、アルコキシ基、シクロアルコキシ基又はア
リールオキシ基であることが好ましい。
れた光カチオン硬化性組成物はオキセタニル基を有する
シルセスキオキサン化合物からなり、この化合物は、オ
キセタニル基を有することから光カチオン硬化性に優
れ、更にシルセスキオキサン構造を有することから高硬
度の皮膜を形成する。従って、本発明の方法により得ら
れた光カチオン硬化性組成物は、第4発明のように、光
カチオン硬化性ハードコート剤組成物として好適に用い
られる。
尚、本明細書においては、オキセタニル基を有する化合
物を「オキセタン化合物」と表す。
法においては、原料として上記式(I)に示す構造式で
表されるケイ素化合物を用い、この化合物をpH7以上
の雰囲気下で加水分解する。ここで、加水分解をpH7
以上の雰囲気下で行うのは、酸性雰囲気下で行うとオキ
セタニル基が開環しやすく、これにより系がゲル化する
恐れがあり、またオキセタニル基が消費されて組成物の
硬化性が低下するためである。この加水分解はpH9〜
13の雰囲気下で行うことが好ましい。pHが9未満で
あると、上記ケイ素化合物の加水分解・縮合速度が小さ
いため本発明の組成物の製造効率が低下する。一方、p
Hが13を超える場合には、アルカリ剤等の使用量が多
くなるため経済的ではなく、また反応系からアルカリ剤
等を除去する工程が煩雑となる。
少なくとも一つのオキセタニル基をもつ有機官能基であ
れば特に限定されないが、上記式(II)に示す構造式で
表される基であることが好ましい。この式(II)におい
て、R1は水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基であ
り、R1がエチル基であることが特に好ましい。また、
R2は炭素数2〜6のアルキレン基であり、R2がプロピ
レン基であることが特に好ましい。これは、このような
オキセタン化合物の入手或いは合成が容易なためであ
る。また、この方法により得られた組成物を光カチオン
硬化性ハードコート剤組成物として用いる場合には、R
1又はR2の炭素数が7以上であると、この組成物から形
成された皮膜の硬度が低下しやすいので好ましくない。
有する基であれば特に限定されないが、アルコキシ基、
シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基であることが
好ましい。また、この化合物一分子中には三つのXが含
まれるが、これらは全て同じ基であってもよいし二種以
上の異なる基であってもよい。尚、他の加水分解性基と
してはハロゲン原子が挙げられるが、この場合には加水
分解によりハロゲン化水素が生じるので反応系が酸性雰
囲気となりやすく、このためオキセタニル基が開環する
恐れがある。
トキシ基、エトキシ基、n−及びi−プロポキシ基、n
−、i−及びt−ブトキシ基等が挙げられる。また、
「シクロアルコキシ基」の例としてはシクロヘキシルオ
キシ基等が、「アリールオキシ基」の例としてはフェニ
ルオキシ基等が挙げられる。このうち、アルコキシ基の
加水分解性が良好であることから、Xが炭素数1〜3の
アルコキシ基であることが好ましい。また、原料の入手
が容易であることや、シルセスキオキサン製造における
加水分解反応が制御しやすいことから、Xがエトキシ基
であることが特に好ましい。
際、系をpH7以上の雰囲気とするために通常は系内に
アルカリ剤を添加する。このアルカリ剤としては、アン
モニア、4級アンモニウム塩、有機アミン類等が使用可
能であり、塩基性触媒としての活性が良好であるため4
級アンモニウム塩を用いることが好ましい。加水分解時
におけるその他の反応条件については特に限定されない
が、好ましい反応温度は10〜120℃(より好ましく
は20〜80℃)であり、好適な反応時間は2〜30時
間(より好ましくは4〜24時間)である。また、この
加水分解時に用いる有機溶媒は特に限定されず、例えば
メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルア
ルコール等のアルコール類;アセトン、メチルエチルケ
トン等のケトン類;テトラヒドロフラン、トルエン、
1,4−ジオキサン、ヘキサン、リグロイン等を用いる
ことができる。このうち、反応系を均一に溶解し得るも
のが好ましい。
ン硬化性組成物は、上記式(I)に示す化合物の加水分
解によって生成されたものであれば、ハシゴ状、カゴ状
及びランダム状のいずれの構造を有するシルセスキオキ
サン化合物からなるものであってもよい。また、この組
成物は、一種類のシルセスキオキサン化合物のみを含有
してもよいし、構造又は分子量の異なった二種以上のシ
ルセスキオキサン化合物を含んでもよい。
キオキサン化合物においては、式(I)に示す化合物に
おける加水分解性基の数のうち90%以上が縮合されて
いることが好ましく、加水分解性基の実質的に全てが縮
合されていることが更に好ましい。残存する加水分解性
基の割合が10%を超えると、シルセスキオキサン構造
が十分に形成されないため皮膜の硬度が低下したり、組
成物の貯蔵安定性が低下したりする恐れがある。ここで
「加水分解性基の実質的に全てが縮合されている」こと
は、例えば、得られたシルセスキオキサン化合物のNM
Rチャートにおいて加水分解性基に基づくピークが観察
されないことにより確認できる。
ルセスキオキサン化合物は、その数平均分子量が600
〜5,000であることが好ましく、1,000〜3,
000であることが更に好ましい。数平均分子量が60
0未満であると、この組成物から形成される皮膜におい
て十分な硬度が得られない場合がある。また、組成物の
粘度が低くなるので、この組成物をハードコード剤組成
物として用いる場合において塗布面にハジキを生じやす
い。一方、数平均分子量が5,000を超えると組成物
の粘度が高くなり過ぎて、取り扱い性が困難であるとと
もにこの組成物をハードコード剤組成物として用いる場
合において塗工性が低下する。特に、この組成物をハー
ドコート剤組成物として用いる場合には、組成物中に含
まれる全シルセスキオキサン化合物に対して、数平均分
子量1,000〜3,000のシルセスキオキサン化合
物の割合が50重量%以上であることが好ましく、70
重量%以上であることが更に好ましい。 尚、本明細書中
における数平均分子量は、ゲルパーミエーション・クロ
マトグラフィー(GPC)によるポリスチレン換算の分
子量である。
ば下記式(III) に示す構造式で表される化合物に、ア
ルケニル末端をもつオキセタン化合物を付加させること
により得られる。ここで、オキセタン化合物が「アルケ
ニル末端をもつ」とは、オキセタン化合物がその末端に
ビニル基、アリル基、エチニル基、プロパギル基及びイ
ソプロペニル基等から選択される基を有することをい
う。これらの中でも、原料の入手及び合成が容易である
こと、及び、後述するヒドロシリル化反応が容易に実施
しやすいこと等の理由から、アルケニル末端がアリル基
であることが好ましい。
合物との付加反応は、上記式(III)に示す化合物のもつ
Si−H基とオキセタン化合物のアルケニル末端とのヒ
ドロシリル化反応であって、第8族金属触媒の存在下等
において進行する。この「第8族金属触媒」としては、
コバルト、ニッケル、ルテニウム、ロジウム、パラジウ
ム、イリジウム及び白金等の第8族金属の単体、有機金
属錯体、金属塩及び金属酸化物等が挙げられる。これら
の中で、触媒活性の高さが適当であるとともに取り扱い
が容易であり、且つ比較的安価である等の理由から、白
金の金属単体、有機金属錯体、金属塩及び金属酸化物が
好ましく、有機白金錯体を用いることが特に好ましい。
この触媒は、上記式(III)に示す化合物とオキセタン化
合物との合計量に対して1〜1,000重量ppm用い
ることが好ましい。ヒドロシリル化反応におけるその他
の反応条件については特に限定されないが、好ましい反
応温度は20〜100℃であり、好適な反応時間は2〜
10時間である。
硬化性組成物又は光カチオン硬化性ハードコート剤組成
物は、上記式(I)に示す化合物の加水分解により得ら
れたシルセスキオキサン化合物の他に、光開始剤、粘度
調節剤、レベリング剤、安定剤、シランカップリング剤
等の一般的な添加剤を含むことができる。また、この組
成物は有機溶媒を含んでもよいが、その含有量は組成物
全体に対して20重量%以下であることが好ましく、1
0重量%以下であることが更に好ましい。
明する。
例1〜10の光カチオン硬化性組成物を得た。尚、この
ケイ素化合物は、3−エチル−3−アリルオキシメチル
オキセタンとトリエトキシシランとの付加反応物であ
る。以下において、この式(IV)に示すケイ素化合物を
「Oxe−TRIES」という。
e−TRIES12.37g(38.6mmol)、水
酸化テトラメチルアンモニウム(以下、「Me4NO
H」とも表す)の10%水溶液1.05g(H2O;5
2.5mmol、Me4NOH;1.2mmol)、水
1.14g(63.3mmol)及び溶媒としての1,
4−ジオキサン300mlを仕込み、攪拌しながら16
時間加熱還流させた。このとき、反応系のpHは12.
1であった。 (2)溶媒200mlを留去して反応系を濃縮し、更に6
時間反応を続けた。 (3)反応終了後、減圧下で溶媒等を留去し、200ml
のトルエンで溶媒置換した。 (4)分液ロートで数回水洗し、無水硫酸ナトリウムで脱
水した後、減圧下でトルエンを留去して目的とする組成
物A−1を得た。
トルエン、テトラヒドロフラン、ヘキサン、アセトン等
の種々の溶媒に任意の割合で可溶であった。この組成物
A−1につき、下記の条件でGPC測定を行った。 [測定条件] 装 置;HLC−802A(東ソー株式会社製) カラム;TSK−GEL、2500HXL+1000HXL 溶離液;テトラヒドロフラン(流速;1.0ml/分) 検出器;RI
うに、高分子量側に若干のショルダーがみられるもの
の、ほぼ単峰性であった。このGPC測定結果より求め
た組成物A−1の分子量は下記のとおりであった。 数平均分子量 (Mn);1,870 重量平均分子量(Mw);2,450 分散度 (Mn/Mw);1.31 この単峰性のピークは、Oxe−TRIESの8量体で
あるカゴ構造のシルセスキオキサン(T8)と推察され
る。また、高分子量側にみられるショルダーは、ランダ
ム構造、ハシゴ構造又は10量体以上のカゴ構造シルセ
スキオキサン、或いはこれらの混合物と推察される。
に示す。ここで、981.4cm-1に環状エーテル結合
に基づく吸収がみられることから、組成物A−1はオキ
セタニル基をもつ化合物からなることが判る。111
0.8cm-1の吸収は、Si−O−Si結合及びCH2
−O−CH2結合に基づくものである。
3に示す。4.3〜4.5ppmのピークはオキセタン
環におけるCH2の水素原子を示す。また、このNMR
チャートにおいてエトキシ基(Si−O−C2H5)の水
素原子に相当するピークが観察されなかったことから、
加水分解反応は良好に進行し、Oxe−TRIESの加
水分解性基の実質的に全てが縮合されているものと推察
される。尚、このNMRチャートにおいてブロードなピ
ークと鋭いピークとが同時に観察されたことは、組成物
A−1が構造の異なる種々のシルセスキオキサン化合物
からなる混合物であることを示している。このうち、鋭
いピークはカゴ構造のシルセスキオキサン化合物に、ま
たブロードなピークはハシゴ構造又はランダム構造のシ
ルセスキオキサン化合物に由来すると考えられる。
RIES4.12g(12.9mmol)、Me4NO
Hの10%水溶液0.35g(H2O;17.5mmo
l、Me4NOH;0.4mmol)、水0.38g
(21.1mmol)及び表1に示す溶媒100mlを
仕込み、室温において24時間攪拌することにより反応
を進行させた。尚、反応終了時における反応系のpH
は、いずれも11.8〜12.5の範囲であった。反応
終了後、実施例1と同様の処理を行って、組成物A−2
〜A−8を得た。
成物A−1と同様にGPC測定を行った。得られたGP
Cチャートを図4〜図10に示し、GPC測定から求め
た分子量及び組成物の外観を表1に示す。尚、表1中の
「MeOH」はメチルアルコールを、「EtOH」はエ
チルアルコールを、「IPA」はイソプロピルアルコー
ルを、「MEK」はメチルエチルケトンを、「THF」
はテトラヒドロフランを表す。また、「ピーク5」は残
存したOxe−TRIESである。
ルコールを用いた実施例2ではGPCチャートが二峰性
となり、実施例1に比べて高分子量の化合物が多く生成
された。実施例3〜実施例6では、得られた組成物中に
含まれる化合物は同程度であったが、溶媒としてアルコ
ール類を用いた場合にはケトン系を用いた場合に比べて
組成物の着色が少なくなる傾向であった。これは、アル
コール中ではMe4NOHが安定に存在できるためと考
えられる。また、テトラヒドロフランを用いた実施例7
及びトルエンを用いた実施例8では、未反応のOxe−
TRIESがかなり残存した。この理由としては、テト
ラヒドロフランにはMe4NOHが溶けにくいこと、ま
たトルエンには水が溶解しないこと等が考えられる。
分解を室温で行ったが、この反応温度を溶媒の還流温度
とし、他の点については実施例2と同様の条件として組
成物A−9を合成した。即ち、反応器中にOxe−TR
IES38.6mmol、Me4NOH1.2mmo
l、H2O115.8mmol、及びメチルアルコール
300mlを仕込み、還流温度で24時間攪拌すること
により反応を進行させ、反応液を実施例1と同様に処理
して組成物A−9を得た。尚、反応終了時における反応
系のpHは12.0であった。得られた組成物A−9の
GPCチャートを図11に、GPC測定から求めた分子
量及び組成物の外観を表2に示す。
−TRIESの濃度を高くした他は、実施例9と同様の
条件により組成物A−10を合成した。即ち、反応器中
にOxe−TRIES193.0mmol、Me4NO
H6.0mmol、H2O579.0mmol、及びメ
チルアルコール300mlを仕込み、還流温度で24時
間攪拌することにより反応を進行させ、反応液を実施例
1と同様に処理して組成物A−10を得た。尚、反応終
了時における反応系のpHは12.0であった。得られ
た組成物A−10のGPCチャートを図11に、GPC
測定から求めた分子量及び組成物の外観を表2に示す。
から判るように、反応温度が低いと低分子量化合物の生
成割合が多くなる傾向にあった。これは、低温において
は解重合が抑制されるためと考えられる。また、Oxe
−TRIESの濃度が高いと分子量が増大する傾向にあ
り、これは、縮合が起こりやすくなるのでハシゴ構造や
ランダム構造のシルセスキオキサン化合物が生成しやす
くなるためと考えられる。
1〜A−10を少量のヘキサンで溶解し、光カチオン硬
化性組成物の重量に対して2.5wt%のカチオン系光
開始剤を添加した。これをガラス基板上にバーコーター
で塗布し、溶剤留去後に下記条件で紫外線を照射したと
ころ、いずれの組成物も良好な光カチオン硬化性を示し
た。 [UV照射条件] ランプ:80W/cm高圧水銀ランプ ランプ高さ:10cm コンベアスピード:10m/min 照射雰囲気:大気中 パス回数:5回 開始剤:ビス(ドデシルフェニル)ヨードニウムヘキサ
フルオロアンチモネート(2.5wt%使用)
硬化膜について、JIS K 5400に準じて表面の
鉛筆硬度を測定した。その結果、キズ5H、剥離9H以
上という高硬度のコーティング膜であることが判った。
に示すものに限られず、目的、用途に応じて本発明の範
囲内で種々変更した実施例とすることができる。
ル基をもつシルセスキオキサン化合物からなる光カチオ
ン硬化性組成物を容易に得ることができる。このシルセ
スキオキサン化合物は、光カチオン重合速度の大きいオ
キセタニル基を有するので、エポキシド型のモノマーに
比べて光カチオン重合性に優れる。本発明の製造方法に
より得られた組成物は、種々の有機溶剤に可溶であるた
めシリカに比べて取り扱いが容易であり、製膜等の加工
性や成形性に優れる。また、高硬度の光カチオン硬化物
を形成し得るので、例えばハードコート剤組成物として
有用である。
成物A−1のGPCチャートである。
成物A−1のIRチャートである。
成物A−1の1H−NMRチャートである。
成物A−2のGPCチャートである。
成物A−3のGPCチャートである。
成物A−4のGPCチャートである。
成物A−5のGPCチャートである。
成物A−6のGPCチャートである。
成物A−7のGPCチャートである。
組成物A−8のGPCチャートである。
組成物A−9のGPCチャートである。
性組成物A−10のGPCチャートである。
Claims (4)
- 【請求項1】 オキセタニル基をもつシルセスキオキサ
ン化合物からなる光カチオン硬化性組成物の製造方法で
あって、下記式(I)に示す構造式で表される化合物を
pH7以上の雰囲気下で加水分解することを特徴とする
光カチオン硬化性組成物の製造方法。 【化1】 - 【請求項2】 上記式(I)におけるR0が下記式(I
I)に示す構造式で表される有機官能基である、請求項
1記載の光カチオン硬化性組成物の製造方法。 【化2】 - 【請求項3】 上記式(I)におけるXがアルコキシ
基、シクロアルコキシ基又はアリールオキシ基である請
求項1又は2記載の光カチオン硬化性組成物の製造方
法。 - 【請求項4】 請求項1から3のいずれか一項に記載の
製造方法により得られた光カチオン硬化性組成物からな
る光カチオン硬化性ハードコート剤組成物。
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