JPH11296852A

JPH11296852A - 磁気記録媒体の製造方法

Info

Publication number: JPH11296852A
Application number: JP9778698A
Authority: JP
Inventors: Ichiro Kanekawa; 一朗金川; Hiroshi Yatagai; 洋谷田貝
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1998-04-09
Filing date: 1998-04-09
Publication date: 1999-10-29

Abstract

(57)【要約】【課題】非磁性支持体の厚みを薄くしても十分な強度
が保たれるとともにカールが防止され、さらに、優れた
電磁変換特性を有する磁気記録媒体の製造方法を提供す
る。【解決手段】芳香族ポリアミドからなる非磁性支持体
を作製する非磁性支持体作製工程と、上記非磁性支持体
作製工程で作製された上記非磁性支持体上に磁性層とな
る強磁性金属薄膜を真空蒸着法により形成する強磁性金
属薄膜形成工程と、上記強磁性金属薄膜形成工程で形成
された上記強磁性金属薄膜の一部をエッチングするエッ
チング工程と、上記非磁性支持体の上記強磁性金属薄膜
が形成される面とは反対側の面上に、少なくとも結合剤
と針状非磁性顔料とを含有するバックコート層を形成す
るバックコート層形成工程とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、非磁性支持体上に
磁性層として強磁性金属薄膜が形成されてなる磁気記録
媒体の製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】磁性金属あるいは磁性合金の連続膜を磁
性層とする、いわゆる強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体
は、保磁力、角形比等に優れ、短波長域における電磁変
換特性に優れるばかりでなく、磁性層の薄膜化が可能で
あるために、記録減磁や再生時の厚み損失が著しく小さ
いことや、磁性層中に非磁性材料である結合剤等を混入
する必要がないために、磁性材料の充填密度を高くでき
ること等、数々の利点を有している。

【０００３】このような金属薄膜型の磁気記録媒体は、
一般に真空蒸着法により製造されており、真空蒸着法の
中でも、いわゆる連続巻き取り方式斜方蒸着法が採用さ
れている。連続巻取り式斜方蒸着法では、例えば、非磁
性支持体を冷却キャンの外周面に沿って所定の方向に移
動走行させ、この非磁性支持体上に所定の加熱手段によ
って蒸発せしめられた強磁性金属材料を斜め方向から被
着させることによって強磁性金属薄膜からなる磁性層を
形成している。この時、非磁性支持体に対する強磁性金
属材料の入射角を規制するために、冷却キャンの近傍に
は、この冷却キャンの外周面に沿ってマスクが配設され
るが、このマスクが配設される位置付近より非磁性支持
体の表面に対して低入射角側から酸素ガスが導入されて
いる。磁性材料を被着させる際に酸素ガスを導入するこ
とにより、得られる強磁性金属薄膜に耐久性を付与する
とともに、磁気特性の向上を図っている。

【０００４】上述のように、蒸着を行う際に非磁性支持
体の表面に酸素ガスを導入する方法では、適当な磁気特
性を得るために、上記酸素ガスの導入量を適宜設定して
いる。このために、得られた強磁性金属薄膜からなる磁
性層の表面には、必然的に上記酸素ガスの導入量に応じ
てある程度の膜厚を有する表面酸化層が形成される。と
ころが、このような表面酸化層は、耐久性を改善する上
では有益であるものの、表面酸化層自体は非磁性層であ
るため、短波長記録になればなる程、この表面酸化層に
よるスペーシングロスが大きくなり、良好な電磁変換特
性を確保することが困難となる。

【０００５】ところで、磁性層の耐久性確保のために、
強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体の磁性層上にカーボン
からなる保護膜を形成することが提案され実用化されて
いる。ＤＶフォーマットあるいはＡＩＴフォーマットに
用いられる磁気記録媒体では、カーボン保護膜の実用化
により、薄い保護膜にもかかわらず十分な耐久性が得ら
れている。そして、強磁性金属薄膜型の磁気記録媒体で
は、電磁変換特性、特に、高周波短波長領域での電磁変
換特性の改善が今後の最重要課題となっている。

【０００６】電磁変換特性を改善するために、強磁性金
属薄膜の表面酸化層を除去する試みがなされている。例
えば特開平５−１５９２８７号公報には、磁性層にイオ
ン照射して電磁変換特性を改善することが提案されてお
り、また、特開平５−１６６１６５号公報には、逆スパ
ッタ法、イオンエッチング法、ＥＣＲプラズマエッチン
グ法等により表面酸化層を除去して電磁変換特性を改善
することが提案されている。

【０００７】上述したような金属薄膜型磁気記録媒体の
非磁性支持体には、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムが主として用いられている。具体的には、例えば、家
庭用ビデオテープレコーダの８ｍｍテープの非磁性支持
体には、厚みが７μｍ〜１０μｍ程度のポリエチレンテ
レフタレートフィルムが用いられる。また、コンピュー
タのデータバックアップ用のテープストリーマーの非磁
性支持体には、厚みが５μｍ〜７μｍ程度のポリエチレ
ンテレフタレートフィルムが用いられている。

【０００８】ところで、ビデオテープレコーダに使用さ
れるテープ状の磁気記録媒体（以下、磁気テープと称す
る。）では、磁気テープが収納されるビデオカセットの
小型化に伴い、より一層のコンパクト化と長時間記録化
が望まれている。また、近年の情報量の増大化に伴い、
テープストリーマー用の磁気テープにおいても、大容量
化が望まれている。このため、これらの要求に応えるた
めに、磁気テープの厚さを薄くすることが検討されてい
る。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】磁気テープの厚さを薄
くするためには、非磁性支持体の厚さを薄くすることが
容易に考えられる。しかしながら、非磁性支持体として
ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた場合、そ
の厚みを薄くすると、長さ方向あるいは幅方向の強度が
低下してしまう。そして、磁気テープは、長さ方向の強
度が低下すると、ビデオテープレコーダまたはドライブ
での走行時に変形しやすくなる。また、磁気テープは、
幅方向の強度が低下すると、皺や折れが発生しやすくな
り、さらには、磁気ヘッドとの接触不良を生じやすくな
る等の問題があった。

【００１０】そこで、非磁性支持体としてポリアミドフ
ィルムを用いることが検討され、実用化されてきてい
る。ポリアミドフィルムは、ポリエチレンテレフタレー
トフィルムに比べ強度が高い。従って、このポリアミド
フィルムを支持体として用いた磁気記録媒体は、厚さを
薄くすることが可能であり、ビデオカセットフィルムの
長時間記録化、テープストリーマの大容量化に対応した
磁気記録媒体として注目されている。特に、テープスト
リーマにおいては、２年〜３年で容量が倍密度化されて
おり、大容量化に対応するため、ますます磁気記録媒体
の薄型化が望まれる。

【００１１】本発明者らは、高密度、大容量を有する薄
型の磁気記録媒体を得るために、厚さが約５．０μｍ以
下の非磁性支持体上に真空蒸着法により強磁性金属薄膜
からなる磁性層を形成し、当該磁性層上に形成された表
面酸化層をエッチングすることを試みた。

【００１２】しかしながら、非磁性支持体の厚さが薄い
ために機械的強度が十分ではなく、得られた磁気記録媒
体のカールが大きくなってしまった。磁気記録媒体のカ
ールが大きいと磁気ヘッドとの当たりを取りにくいた
め、電磁変換特性の大幅な低下を引き起こしたり、ま
た、磁気ヘッドと接触しやすい縁部が摩耗しやすく、ド
ロップアウトやエラーレートが増加してしまい、実用に
共する磁気記録媒体は得られなかった。

【００１３】非磁性支持体の剛性は、非磁性支持体のヤ
ング率をＥ、厚さをｔとしたときにＥ×ｔ³で表される
ため、例えば、同一の剛性を保ったまま非磁性支持体の
厚さを半分にするには、支持体の材料のヤング率を８倍
にしなければならない。従って、単に非磁性支持体の厚
みを薄くしただけでは、機械的強度が不十分である。

【００１４】本発明は、上述したような従来の実情に鑑
みて提案されたものであり、非磁性支持体の厚みを薄く
しても十分な強度が保たれるとともにカールが防止さ
れ、さらに、優れた電磁変換特性を有する磁気記録媒体
の製造方法を提供することを目的とする。

【００１５】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体の
製造方法は、芳香族ポリアミドからなる非磁性支持体を
作製する非磁性支持体作製工程と、上記非磁性支持体作
製工程で作製された上記非磁性支持体上に磁性層となる
強磁性金属薄膜を真空蒸着法により形成する強磁性金属
薄膜形成工程と、上記強磁性金属薄膜形成工程で形成さ
れた上記強磁性金属薄膜の一部をエッチングするエッチ
ング工程と、上記非磁性支持体の上記強磁性金属薄膜が
形成される面とは反対側の面上に、少なくとも結合剤と
針状非磁性顔料とを含有するバックコート層を形成する
バックコート層形成工程とを備えることを特徴とする。

【００１６】上述したような本発明に係る磁気記録媒体
の製造方法では、非磁性支持体作製工程で強化剤を含有
する芳香族ポリアミドからなる非磁性支持体を形成する
ので、強度の大きい非磁性支持体が得られる。また、強
磁性金属薄膜形成工程では、上記非磁性支持体上に磁性
層となる強磁性金属薄膜を真空蒸着法により形成するの
で、電磁変換特性に優れた磁性層が形成される。また、
エッチング工程では、上記強磁性金属薄膜の一部をエッ
チングするので、強磁性金属薄膜の表面酸化層が除去さ
れて磁性層の電磁変換特性がさらに向上する。また、バ
ックコート層形成工程では、上記非磁性支持体の上記強
磁性金属薄膜が形成される面とは反対側の面上に、少な
くとも結合剤と針状非磁性顔料とを含有するバックコー
ト層を形成するバックコート層を形成するので、磁気記
録媒体の剛性が高まり、走行時の変形が極力抑えられて
耐久性が向上する。

【００１７】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、芳香
族ポリアミドからなる非磁性支持体を作製する非磁性支
持体作製工程と、上記非磁性支持体作製工程で作製され
た上記非磁性支持体上に磁性層となる強磁性金属薄膜を
真空蒸着法により形成する強磁性金属薄膜形成工程と、
上記強磁性金属薄膜形成工程で形成された上記強磁性金
属薄膜の一部をエッチングするエッチング工程と、上記
非磁性支持体の上記強磁性金属薄膜が形成される面とは
反対側の面上に、金属薄膜を形成する金属薄膜形成工程
とを備えることを特徴とする。

【００１８】上述したような本発明に係る磁気記録媒体
の製造方法では、非磁性支持体作製工程で強化剤を含有
する芳香族ポリアミドからなる非磁性支持体を形成する
ので、強度の大きい非磁性支持体が得られる。また、強
磁性金属薄膜形成工程では、上記非磁性支持体上に磁性
層となる強磁性金属薄膜を真空蒸着法により形成するの
で、電磁変換特性に優れた磁性層が形成される。また、
エッチング工程では、上記強磁性金属薄膜の一部をエッ
チングするので、強磁性金属薄膜の表面酸化層が除去さ
れて磁性層の電磁変換特性がさらに向上する。また、金
属薄膜形成工程では、上記非磁性支持体の上記強磁性金
属薄膜が形成される面とは反対側の面上に、金属薄膜を
形成するので、磁気記録媒体の剛性が高まり、走行時の
変形が極力抑えられて耐久性が向上する。

【００１９】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、芳香
族ポリアミドからなる非磁性支持体を作製する非磁性支
持体作製工程と、上記非磁性支持体作製工程で作製され
た上記非磁性支持体上に磁性層となる強磁性金属薄膜を
真空蒸着法により形成する強磁性金属薄膜形成工程と、
上記強磁性金属薄膜形成工程で形成された上記強磁性金
属薄膜の一部をエッチングするエッチング工程と、上記
非磁性支持体の上記強磁性金属薄膜が形成される面とは
反対側の面上に、プラズマにより重合可能な化合物をプ
ラズマ重合法により重合させてプラズマ重合体層を形成
するプラズマ重合体層形成工程とを備えることを特徴と
する。

【００２０】上述したような本発明に係る磁気記録媒体
の製造方法では、非磁性支持体作製工程で強化剤を含有
する芳香族ポリアミドからなる非磁性支持体を形成する
ので、強度の大きい非磁性支持体が得られる。また、強
磁性金属薄膜形成工程では、上記非磁性支持体上に磁性
層となる強磁性金属薄膜を真空蒸着法により形成するの
で、電磁変換特性に優れた磁性層が形成される。また、
エッチング工程では、上記強磁性金属薄膜の一部をエッ
チングするので、強磁性金属薄膜の表面酸化層が除去さ
れて磁性層の電磁変換特性がさらに向上する。また、プ
ラズマ重合体層形成工程では、上記非磁性支持体の上記
強磁性金属薄膜が形成される面とは反対側の面上に、プ
ラズマにより重合可能な化合物をプラズマ重合法により
重合させてプラズマ重合体層を形成するので、磁気記録
媒体の剛性が高まり、走行時の変形が極力抑えられて耐
久性が向上する。

【００２１】本発明の磁気記録媒体の製造方法は、芳香
族ポリアミドからなる非磁性支持体を作製する非磁性支
持体作製工程と、上記非磁性支持体作製工程で作製され
た上記非磁性支持体上に磁性層となる強磁性金属薄膜を
真空蒸着法により形成する強磁性金属薄膜形成工程と、
上記強磁性金属薄膜形成工程で形成された上記強磁性金
属薄膜の一部をエッチングするエッチング工程と、上記
非磁性支持体の上記磁性層が形成される面とは反対側の
面上に、化合物を電子線により重合させて電子線重合体
層を形成する電子線重合体層形成工程とを備えることを
特徴とする。

【００２２】上述したような本発明に係る磁気記録媒体
の製造方法では、非磁性支持体作製工程で強化剤を含有
する芳香族ポリアミドからなる非磁性支持体を形成する
ので、強度の大きい非磁性支持体が得られる。また、強
磁性金属薄膜形成工程では、上記非磁性支持体上に磁性
層となる強磁性金属薄膜を真空蒸着法により形成するの
で、電磁変換特性に優れた磁性層が形成される。また、
エッチング工程では、上記強磁性金属薄膜の一部をエッ
チングするので、強磁性金属薄膜の表面酸化層が除去さ
れて磁性層の電磁変換特性がさらに向上する。また、電
子線重合体層形成工程では、上記非磁性支持体の上記強
磁性金属薄膜が形成される面とは反対側の面上に、化合
物を電子線により重合させて電子線重合体層を形成する
ので、磁気記録媒体の剛性が高まり、走行時の変形が極
力抑えられて耐久性が向上する。

【００２３】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。

【００２４】図１は、本実施の形態に係る磁気記録媒体
の一構成例を示す断面図である。この磁気記録媒体１
は、長尺状の非磁性支持体２の一主面２ａ上に強磁性金
属薄膜３が形成されているとともに、非磁性支持体２の
強磁性金属薄膜３が形成される面とは反対側の一主面２
ｂ上にバックコート層４が形成されている。

【００２５】非磁性支持体２は、芳香族ポリアミドフィ
ルムからなる。そして、非磁性支持体２の厚さは１．０
μｍ〜５．０μｍであることが好ましい。

【００２６】芳香族ポリアミドフィルムとして、下に示
すような化学式（１）又は化学式（２）、又は化学式
（１）と化学式（２）との共重合体を構成成分として有
したポリアミド樹脂をフィルム状に成膜したものが好ま
しい。

【００２７】

【化１】

【００２８】

【化２】

【００２９】なお、この芳香族ポリアミドには、上記化
学式（１）又は化学式（２）で示される成分以外のポリ
マーが共重合されていてもよいし、上記化学式（１）又
は化学式（２）で示される成分以外のポリマーが混合さ
れていてもよい。芳香族ポリアミドに化学式（１）又は
化学式（２）以外のポリマーを共重合又は混合する場合
には、その量は芳香族ポリアミドの約２０％以下とす
る。

【００３０】また、磁気記録媒体１では、後述するよう
に磁性層が強磁性金属薄膜３からなり、その厚さが薄い
ことから、磁性層が非磁性支持体２の表面性の影響を受
けやすく、非磁性支持体２の表面形状がそのまま磁性層
の表面形状に反映される。従って、磁気記録媒体１にお
いては、非磁性支持体２の表面形状が制御されているこ
とが好ましい。すなわち、非磁性支持体２表面に微細突
起が形成されていることが好ましい。非磁性支持体２表
面に微細突起が形成されていることで、磁気記録媒体１
の走行性が向上する。

【００３１】非磁性支持体２表面に微細突起を形成する
方法としては、例えば、非磁性支持体２となる芳香族ポ
リアミドフィルム中へ不活性微粒子を添加する方法や、
非磁性支持体２上に不活性微粒子を含有した高分子被膜
を設ける方法、又はこれらを組み合わせた方法等が挙げ
られる。

【００３２】このような不活性微粒子としては、例え
ば、シリカ、炭酸カルシウム、二酸化チタン、アルミ
ナ、カオリン、タルク、グラファイト、長石、二酸化モ
リブデン、カーボンブラック、硝酸バリウム等の無機質
系微細粒子、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレー
ト、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレ
ート共重合体の架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、
ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、
ベンゾグアナミン樹脂等の有機質系微細粒子等が挙げら
れるが、真球状粒子を得やすいコロイダルシリカ、架橋
高分子による粒子を用いることが好ましい。

【００３３】強磁性金属薄膜３は、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ、
又はこれらの合金等の強磁性金属材料が、斜方蒸着法、
垂直蒸着法、スパッタリング法等の手法により非磁性支
持体２上に連続膜として形成される。強磁性金属薄膜３
の厚さは、０．０１μｍ〜０．４μｍであることが好ま
しく、より好ましい膜厚は０．１μｍ〜０．２μｍであ
る。

【００３４】バックコート層４は、少なくとも結合剤と
針状非磁性顔料とからなり、非磁性支持体２の強磁性金
属薄膜３が形成される側の面とは反対側の面２ｂ上に形
成される。

【００３５】この結合剤としては、例えば、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニ
ルアルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニルーマレ
イン酸共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合
体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル
酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エ
ステル−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステ
ル−スチレン共重合体、熱可塑性ポリウレタン樹脂、フ
ェノキシ樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−ア
クリロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリ
ル−メタクリル酸共重合体、ポリビニルブチラール、セ
ルロース誘導体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリ
エステル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、尿素−ホルムアルデ
ヒド樹脂又はこれらの混合物が挙げられる。これらの樹
脂は、イソシアネート化合物を架橋剤として使用してよ
り耐久性を向上させたり、適当な極性基を導入したもの
でも良い。

【００３６】また、本発明におけるバックコート層４に
含有される針状非磁性顔料としては、長軸と短軸との
比、すなわちアスペクト比が１０以上の針状非磁性顔料
を用いることが好ましい。アスペクト比が１０以上の針
状非磁性顔料を用いることにより、磁気記録媒体１の厚
さ方向だけでなく、長手方向や幅方向等の平面方向の引
っ張り強度や折曲げ強度等の機械的強度をも向上させる
ことが可能となる。上記針状非磁性顔料の材料として
は、特に制限されるものではなく、例えば、ヘマタイ
ト、ゲータイト、酸化チタン、酸化アルミニウム等が挙
げられる。

【００３７】なお、バックコート層４に含有される結合
剤の量をＢとし、針状非磁性顔料の量をＰとすると、こ
れら結合剤と針状非磁性顔料との比率Ｐ／Ｂは、０．５
〜５．０であることが好ましい。このＰ／Ｂ比が０．５
より小さいと、針状非磁性顔料の含有量が少ないので、
磁気記録媒体１の平面方向における機械的強度を補強す
る効果が表れない。また、Ｐ／Ｂ比が５より大きいと、
結合剤の含有量が少ないので、バックコート層４自体の
強度が弱く、粉落ち現象が生じたり、バックコート層４
自体の耐久性が悪くなる。

【００３８】さらに、このバックコート層４の厚さとし
ては、０．１μｍ〜０．６μｍであることが好ましい。
バックコート層４の厚さが薄すぎると、磁気記録媒体１
の機械的強度を補強する効果が表れず、バックコート層
４の厚さが厚すぎると、磁気記録媒体１にクラックが生
じ易い。

【００３９】また、この磁気記録媒体１では、図２に示
すように、強磁性金属薄膜３上に保護膜５を形成するこ
とが好ましい。強磁性金属薄膜３上に保護膜５を形成す
ることで、強磁性金属薄膜３の耐久性が向上する。

【００４０】保護膜５は、強磁性金属薄膜３上に例えば
カーボンをスパッタリング等により被着させて形成され
る。保護膜５の膜厚は３ｎｍ〜１５ｎｍであることが好
ましく、より好ましい膜厚は５ｎｍ〜１０ｎｍである。
保護膜５の膜厚が薄すぎると、保護膜５の耐久性が低下
し、強磁性金属薄膜３を保護することができない。ま
た、保護膜５の膜厚が厚すぎると、スペーシングロスが
増加し、短波長記録を行う際に十分な出力が得られな
い。保護膜５の膜厚を３ｎｍ〜１５ｎｍとすることで、
スペーシングロスを増加させることなく、強磁性金属薄
膜３を十分に保護することができる。

【００４１】また、磁気記録媒体１は、保護膜５の表面
に潤滑剤を存在せしめることが好ましい。潤滑剤を存在
せしめることで、非磁性支持体２表面の微細突起の形状
に基づく走行性改善効果をさらに高めることができる。

【００４２】さらに、この磁気記録媒体１は、その表
面、保護膜５、強磁性金属薄膜３の空隙、保護膜５と強
磁性金属薄膜３との界面、強磁性金属薄膜３と非磁性支
持体２との界面、非磁性支持体２内等に、必要に応じて
公知の手段で防錆剤、帯電防止剤、防カビ剤等の各種添
加剤を存在せしめることができる。

【００４３】以下、上述したような磁気記録媒体１の製
造方法について説明する。

【００４４】まず、フィルム状の非磁性支持体２を作製
する。非磁性支持体２は、芳香族ポリアミドフィルムか
らなる。

【００４５】芳香族ポリアミドフィルムは、下に示すよ
うな化学式（１）又は化学式（２）、又は化学式（１）
と化学式（２）との共重合体を構成成分として有したポ
リアミド樹脂を溶液成形等の手法によりフィルム状に形
成することにより得られる。

【００４６】

【化３】

【００４７】

【化４】

【００４８】上述したような構造を有する芳香族ポリア
ミド樹脂は、芳香族ジアミン類と芳香族ジカルボン酸類
との重合又は結合によって得られる。芳香族ジアミン類
としては、例えば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェ
ニレンジアミン、ｏ−フェニレンジアミン、２−ニトロ
−ｐ−フェニレンジアミン、２−クロロ−ｐ−フェニレ
ンジアミン、４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’
−クロルベンジン等が挙げられる。また、芳香族ジカル
ボン酸類としては、テレフタル酸クロライド、２−クロ
ルテレフタル酸クロライド、テレフタル酸ヒドラジド、
ｐ−アミノ安息香酸ヒドラジド、ｐ−アミノ安息香酸ク
ロライド等が挙げられる。

【００４９】なお、この芳香族ポリアミドには、上記化
学式（１）又は化学式（２）で示される成分以外のポリ
マーが共重合されていてもよいし、上記化学式（１）又
は化学式（２）で示される成分以外のポリマーが混合さ
れていてもよい。芳香族ポリアミドに化学式（１）又は
化学式（２）以外のポリマーを共重合又は混合する場合
には、その量は芳香族ポリアミドの約２０％以下とす
る。

【００５０】芳香族ポリアミドフィルムを作製する際に
は、ジメチルアセトアミド、ジメチルホルムアミド、ｎ
−メチルピロリドン、ヘキサメチルホスホルアミド、γ
−ブチロラクトン、テトラメチル尿素、ジオキサン等、
又はこれらの混合溶媒、あるいはこれらに重合原液の中
和生成物として塩化リチウム、塩化カルシウム、炭酸リ
チウム、硝酸リチウム等の無機塩を添加した溶媒等が用
いられる。

【００５１】さらに、芳香族ポリアミドフィルムを作製
する際に用いられる溶媒中に不活性粒子を含有させるこ
とで、芳香族ポリアミドフィルムの表面に微細突起が形
成され、磁気記録媒体１の走行性を向上することができ
る。不活性微粒子は、重合前の溶媒中へ添加してもよい
し、重合に使用する溶媒全部に分散させるようにしても
よい。また、ポリマー溶液の調整工程中で添加するよう
にしてもよい。

【００５２】このような不活性微粒子としては、例え
ば、シリカ、炭酸カルシウム、二酸化チタン、アルミ
ナ、カオリン、タルク、グラファイト、長石、二酸化モ
リブデン、カーボンブラック、硝酸バリウム等の無機質
系微細粒子、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレー
ト、メチルメタクリレート共重合体、メチルメタクリレ
ート共重合体の架橋体、ポリテトラフルオロエチレン、
ポリビニリデンフルオライド、ポリアクリロニトリル、
ベンゾグアナミン樹脂等の有機質系微細粒子等が挙げら
れるが、真球状粒子を得やすいコロイダルシリカ、架橋
高分子による粒子を用いることが好ましい。

【００５３】また、芳香族ポリアミドフィルム中へ不活
性微粒子を含有させる代わりに、上述したような不活性
微粒子を水溶性高分子中に分散させてなる塗料を、芳香
族ポリアミドフィルムの強磁性金属薄膜３が形成される
主面にコーティングすることにより、芳香族ポリアミド
フィルムの表面に微細突起を形成してもよい。このと
き、水溶性高分子としては、ポリビニルアルコール、ト
ラガントゴム、カゼイン、ゼラチン、メチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチルセ
ルロース、ポリエステル等が挙げられる。

【００５４】以上のようにして得られた芳香族ポリアミ
ドフィルムを長さ方向及び幅方向に延伸し、所望の厚さ
の非磁性支持体２を得る。

【００５５】次に、この非磁性支持体２を図３に示すよ
うな連続巻き取り式の真空蒸着装置内に設置して、非磁
性支持体２の一方の主面上に強磁性金属薄膜３を形成す
る。図３は、連続巻き取り式の真空蒸着装置の概略構成
図である。

【００５６】この真空蒸着装置１０は、斜方蒸着用とし
て用いられ、内部が例えば約１０^-3Ｐａ程度の真空状態
とされた真空室１１内に、例えば、―２０℃程度に冷却
され図３中矢印Ａ方向に回転する冷却キャン１２と、こ
の冷却キャン１２と対向する位置に配された金属薄膜用
の蒸着源１３とを備える。この蒸着源１３は、坩堝等の
容器に強磁性金属材料が収容されたものである。

【００５７】また、この真空蒸着装置１０は、図３に示
すように、回転自在とされた供給軸２２に非磁性支持体
２ロール１６が装着されるとともに、図示しない駆動源
により回転駆動される巻き取り軸２３に磁気テープロー
ル１７が装着され、非磁性支持体２を冷却キャン１２を
介して連続して走行させる。

【００５８】このような構成の真空蒸着装置１０を用い
て強磁性金属薄膜３を形成する際には、先ず、この蒸着
源１３内の強磁性金属材料に対して、電子ビーム発生源
１４から加速出射された電子ビーム１５を照射して、こ
の強磁性金属材料を加熱蒸発させる。

【００５９】そして、この加熱蒸発された強磁性金属材
料が、供給軸２２に装着された非磁性支持体２ロール１
６から図３中矢印Ｂ方向に繰り出されて冷却キャン１２
の周面に沿って走行する非磁性支持体２上に蒸着される
ことにより、強磁性金属薄膜３が形成される。最終的
に、強磁性金属薄膜３が形成された非磁性支持体２は、
巻取り軸２３に装着された磁気テープロール１７に巻き
取られる。

【００６０】このとき、蒸着源１３と冷却キャン１２と
の間には防着板１８を設け、この防着板１８にシャッタ
１９を位置調整可能に設けて、非磁性支持体２に対して
所定の角度で入射する蒸着粒子のみを通過させる。この
ような斜方蒸着法によって強磁性金属薄膜３が形成され
る。

【００６１】さらに、このようにして強磁性金属薄膜３
を形成するに際し、図示しない酸素ガス導入口を介して
非磁性支持体２の表面近傍に酸素ガスが導入されている
ことが好ましい。酸素ガスを導入することで、金属磁性
薄膜３の磁気特性、耐久性及び耐候性を向上することが
できる。

【００６２】なお、非磁性支持体２ロール１６と冷却キ
ャン１２との間、及び冷却キャン１２と磁気テープロー
ル１７との間にはそれぞれガイドローラー２０、２１が
配置され、走行する非磁性支持体２に所定のテンション
をかけ、非磁性支持体２が円滑に走行するようになされ
ている。また、蒸着源１３を加熱するためには、上述の
ような電子ビームによる加熱手段の他に、例えば、抵抗
加熱手段、高周波加熱手段、レーザ加熱手段等の公知の
手段を使用しても良い。

【００６３】以上は、斜方蒸着法により強磁性金属薄膜
３を形成する例について説明したが、強磁性金属薄膜３
を形成する方法としては、この例の他に垂直蒸着法やス
パッタリング法等の公知の薄膜形成法が適用できる。

【００６４】ここで、強磁性金属薄膜３の形成時に導入
された酸素ガスにより、強磁性金属薄膜３の表面近傍に
は酸化膜が存在している。この酸化膜は非磁性であるた
め、スペーシングロスの原因となる。そこで、次に、強
磁性金属薄膜３の表面に存在する酸化膜をエッチングに
より除去する。強磁性金属薄膜３を形成した後にエッチ
ングを行うと、この強磁性金属薄膜３の表面に存在する
表面酸化層がエッチングされて除去されるとともに、強
磁性金属薄膜３が所望の膜厚になるまで薄膜化される。
従って、非磁性である酸化膜が除去されることによりス
ペーシングロスを抑制することができる。

【００６５】エッチング方法としては、特に限定される
ものではなく、例えば、逆スパッタ法、イオンエッチン
グ法、ＥＣＲプラズマエッチング法等、いずれも有効で
ある。これらいずれの方法を用いる場合においても、エ
ッチング時の条件はＡｒガス雰囲気下で、圧力を３×１
０^-3Ｔｏｒｒ程度とすることが好ましい。

【００６６】次に、強磁性金属薄膜３上に保護膜５を形
成する。強磁性金属薄膜３上に保護膜５を形成すること
で、強磁性金属薄膜３の摩耗を防止することができる。
保護膜５を形成するには、図４に示すようなマグネトロ
ンスパッタ装置３０を用いて、強磁性金属薄膜３上にカ
ーボンを被着させる。

【００６７】このマグネトロンスパッタ装置３０は、チ
ャンバ３１内が真空ポンプ３２にて例えば約１０^-4Ｐａ
程度にまで減圧された後、真空ポンプ３２側へ排気する
バルブ３３の角度を絞ることにより、排気速度を落とす
とともに、ガス導入管３４からＡｒガスを導入して、真
空度が例えば約０．８Ｐａとされる。また、マグネトロ
ンスパッタ装置３０は、チャンバ３１内に、例えば、−
４０℃に冷却され図４中矢印Ｃ方向に回転する冷却キャ
ン３５と、この冷却キャン３５と対向配置されるターゲ
ット３６とがそれぞれ設けられている。ターゲット３６
は、保護膜５の材料となるものであり、例えばカーボン
が用いられる。また、ターゲット３６は、カソード電極
を構成するバッキングプレート３７に支持されている。
そして、バッキングプレート３７の裏側には、磁場を形
成するマグネット３８が配設されている。

【００６８】また、このマグネトロンスパッタ装置３０
は、回転自在とされた供給軸３９に強磁性金属薄膜３が
成膜された上述の磁気テープロール１７が装着されると
ともに、図示しない駆動源により回転駆動される巻取り
軸４１に磁気テープロール４２が装着されて、強磁性金
属薄膜３が成膜された非磁性支持体２を冷却キャン３５
を介して図４中Ｄ方向に連続走行させる。

【００６９】このマグネトロンスパッタ装置３０により
保護膜５を形成する際は、先ず、ガス導入管３４からＡ
ｒガスを導入するとともに、冷却キャン３５をアノー
ド、バッキングプレート３７をカソードとして約３００
０Ｖの電圧を印加し、約１．４Ａの電流が流れる状態を
保つようにする。

【００７０】そして、この電圧の印加により、Ａｒガス
がプラズマ化し、電離されたイオンがターゲット３６に
衝突することにより、ターゲット３６の原子がはじき出
される。このとき、バッキングプレート３７の裏側には
マグネット３８が配設されており、ターゲット３６の近
傍に磁場が形成されるので、電離されたイオンはターゲ
ット２６の近傍に集中されることになる。そして、この
ターゲット３６からはじき出された原子は、磁気テープ
ロール１７から図４中矢印Ｄ方向に繰り出されて冷却キ
ャン３５の外周面に沿って走行する非磁性支持体２の強
磁性金属薄膜３上に付着して、保護膜５が形成される。
最終的に、保護膜５が形成された非磁性支持体２は、巻
取り軸４１に装着された磁気テープロール４２により巻
き取られる。このとき、この保護膜５は、スペーシング
ロスを極力抑え、且つ、強磁性金属薄膜３の摩耗防止の
効果を得られるように、その厚さを３ｎｍ〜１５ｎｍ程
度とすることがこのましく、より好ましくは、膜厚を５
ｎｍ〜１０ｎｍ程度とする。

【００７１】なお、以上は、保護膜５を形成する方法と
してマグネトロンスパッタによる方法について説明した
が、この方法の他に、イオンビームスパッタやイオンビ
ームプレーティング法、ＣＶＤ法等の公知の薄膜形成方
法を用いることができる。

【００７２】次に、針状非磁性顔料や結合剤を含有する
バックコート層用塗料を調整して、強磁性金属薄膜３や
保護膜５が形成された非磁性支持体５に対して、強磁性
金属薄膜３が形成されていない側の面７ａ上に、当該バ
ックコート層用塗料を塗布してバックコート層４を形成
する。

【００７３】最後に、このように強磁性金属薄膜３、保
護膜５及びバックコート層４が形成された磁気記録媒体
１の原反を長さ方向に沿って所定幅に裁断して磁気テー
プを作製する。

【００７４】以上のような工程を経ることにより、磁気
記録媒体１を得ることができる。

【００７５】なお、磁気記録媒体１は、保護膜５の表面
に潤滑剤を存在せしめることが好ましい。潤滑剤を存在
せしめることで、非磁性支持体２表面の微細突起の形状
に基づく走行性改善効果をさらに高めることができる。

【００７６】さらに、この磁気記録媒体１は、その表
面、保護膜５、強磁性金属薄膜３の空隙、保護膜５と強
磁性金属薄膜３との界面、強磁性金属薄膜３と非磁性支
持体２との界面、非磁性支持体２内等に、必要に応じて
公知の手段で防錆剤、帯電防止剤、防カビ剤等の各種添
加剤を存在せしめることができる。

【００７７】〈第２の実施の形態〉図５は、本実施の形
態に係る磁気記録媒体の一構成例を示す断面図である。
この磁気記録媒体５０は、図５に示すように、長尺状の
非磁性支持体５１の一主面５１ａ上に強磁性金属薄膜５
２が形成されているとともに、非磁性支持体５１の強磁
性金属薄膜５２が形成される面とは反対側の一主面５１
ｂ上に、金属薄膜５３と、バックコート層５４とが形成
されている。

【００７８】ここで、非磁性支持体５１及び強磁性金属
薄膜５２は、第１の実施の形態で上述した非磁性支持体
２及び強磁性金属薄膜３と同様の構成とされているの
で、ここでは、非磁性支持体５１及び強磁性金属薄膜５
２についての説明は省略する。

【００７９】この金属薄膜５３に用いられる金属として
は、例えば、Ｃｕ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｒ及びこれらの合金
等が挙げられる。そして、この金属薄膜５３の厚さとし
ては、０．１μｍ〜０．５μｍであることが好ましい。
ここで、金属薄膜５３の厚さが０．１μｍよりも薄い
と、磁気記録媒体５０の機械的強度を補強する効果が表
れない。また、金属薄膜５３の厚さが０．５μｍよりも
厚いと、磁気記録媒体５０のクラックが生じやすい。金
属薄膜５３の厚さを０．１μｍ〜０．５μｍとすること
で、クラックを生じさせずに磁気記録媒体５０の機械的
強度を補強することができる。

【００８０】このような金属薄膜５３は、図３に示すよ
うな連続巻き取り式の真空蒸着装置によって、非磁性支
持体５１の強磁性金属薄膜５２が形成された面５１ａと
は反対側の面５１ｂ上に、上述したような金属材料を蒸
着させることにより形成される。

【００８１】バックコート層５４は、カーボン、炭酸カ
ルシウム等の非磁性顔料が、ポリウレタン、塩化ビニル
−酢酸ビニル共重合体等の結合剤に分散されてなる。バ
ックコート層５４を設けることで、磁気記録媒体５０の
良好な走行性が確保される。

【００８２】本実施の形態に係る磁気記録媒体５０は、
非磁性支持体５１の強磁性金属薄膜５２が形成される面
５１ａとは反対側の面５１ｂ上に、金属薄膜５３が形成
されているため機械的強度が十分確保されて、耐久性が
向上する。そして、その結果、本発明を適用した磁気記
録媒体５０は、形状の変形が抑制されて、磁気ヘッドと
の当たりを十分とることができ、より良好な電磁変換特
性、記録再生特性及び走行性が実現される。

【００８３】なお、この磁気記録媒体５０は、強磁性金
属薄膜５２上に例えばカーボン等からなる保護膜が形成
されていてもよい。強磁性金属薄膜５２上に保護膜を形
成することで強磁性金属薄膜５２の耐久性が向上する。

【００８４】〈第３の実施の形態〉図６は、本実施の形
態に係る磁気記録媒体の一構成例を示す断面図である。
この磁気記録媒体６０は、図６に示すように、長尺状の
非磁性支持体６１の一主面６１ａ上に強磁性金属薄膜６
２が形成されているとともに、非磁性支持体６１の強磁
性金属薄膜６２が形成される面とは反対側の一主面６１
ｂ上にプラズマ重合体層６３が形成されている。

【００８５】ここで、非磁性支持体６１及び強磁性金属
薄膜６２は、第１の実施の形態で上述した非磁性支持体
２及び強磁性金属薄膜３と同様の構成とされているの
で、ここでは、非磁性支持体６１及び強磁性金属薄膜６
２についての説明は省略する。

【００８６】プラズマ重合体層６３は、プラズマにより
重合可能な化合物が、プラズマ重合法により非磁性支持
体６１上に被着されて形成される。プラズマ重合法は、
Ａｒ，Ｎｅ，Ｈ₂，Ｎ₂等のキャリアガスの放電プラズマ
とモノマーガスとを混合し、被処理基体表面にこれらの
混合ガスを接触させることにより、被処理基体表面にプ
ラズマ重合膜を形成するものである。

【００８７】プラズマ重合の原理としては、キャリアガ
スを低圧に保ち電場を作用させると、キャリアガス中に
少量存在する自由電子は常圧に比べて分子間距離が非常
に大きいため、電解加速を受けて５ｅＶ〜１０ｅＶのエ
ネルギー（電子温度）を獲得する。このエネルギーを得
た原子が他の原子や分子に衝突すると、それらの原子軌
道や分子軌道を分断して電子やイオン又は中性ラジカル
等の、常態では不安定な化学種に解離させる。解離した
電子やイオン又は中性ラジカルは、再び電解加速を受け
て別の原子や分子を解離させる。このように、原子や分
子の解離が連鎖的に起こり、キャリアガスはたちまち高
度の電離状態となる。そして、高度の電離状態となった
ガスはプラズマガスと呼ばれる。一方、モノマーガス分
子は、電子との衝突の機会が少ないのでエネルギーをあ
まり吸収せず、常温に近い温度に保たれている。

【００８８】このように、電子のエネルギー（電子温
度）と分子の熱運動（ガス温度）とが分離した系は低温
プラズマと呼ばれ、ここでは化学種が比較的原型を保っ
たまま重合等の加成的化学反応を進めうる状況を創出し
ており、プラズマ重合法は、この状況を利用して被処理
基体表面にプラズマ重合膜を形成するものである。低温
プラズマを利用するため、被処理基体への熱影響はほと
んどない。

【００８９】プラズマ重合体層６３を形成するのに用い
られるモノマーガスとしては、プラズマ重合性を有す
る、炭素−水素系、炭素−水素−酸素系、炭素−ハロゲ
ン系、炭素−酸素−ハロゲン系、炭素−水素−ハロゲン
系又は有機金属等、有機化合物一般がいずれも使用でき
るが、その中でも特に、エチレン、アセチレン、スチレ
ン、アクリロニトリル、メチルメタクリレート、ブタジ
エン、ベンゼン、ピリジンのような不飽和結合を有する
有機化合物が好ましい。その他、シロキサン結合を有す
る各種シラン等の有機ケイ素化合物や、硫黄あるいは窒
素を含有する各種有機化合物も使用することができる。

【００９０】プラズマ発生源としては、高周波放電、マ
イクロ波放電、直流放電、交流放電等、プラズマ発生源
として通常用いられているものが使用できる。また、プ
ラズマ重合時の真空度は１Ｐａ〜１０００Ｐａとするの
が好ましい。

【００９１】このようにして形成されたプラズマ重合体
層６３は、非磁性支持体６１上に非常に薄く且つ均一に
形成され、非磁性支持体６１に密着して三次元に発達し
た緻密かつ強固な組織である。非磁性支持体６１の強磁
性金属薄膜６２が形成された面とは反対側の面にプラズ
マ重合体層６３を形成することで、磁気記録媒体６０の
機械的強度を増強させ、カールの発生を防止することが
できる。

【００９２】従って、磁気記録媒体６０では、形状の変
形が抑制されて、磁気ヘッドとの当たりを十分とること
ができ、より良好な電磁変換特性、記録再生特性及び走
行性を実現することができる。

【００９３】なお、この磁気記録媒体６０は、強磁性金
属薄膜６２上に、例えばカーボン等からなる保護膜が形
成されていてもよい。さらに、磁気記録媒体６０は、保
護膜の表面に潤滑剤を存在せしめることが好ましい。保
護膜表面に潤滑剤を存在せしめることで、非磁性支持体
６１表面の微細突起の形状に基づく走行性改善効果をさ
らに高めることができる。

【００９４】また、この磁気記録媒体６０は、その表
面、保護膜、強磁性金属薄膜６２の空隙、保護膜と強磁
性金属薄膜６２との界面、強磁性金属薄膜６２と非磁性
支持体６１との界面、非磁性支持体６１内等に、必要に
応じて公知の手段で防錆剤、帯電防止剤、防カビ剤等の
各種添加剤を存在せしめることができる。

【００９５】〈第４の実施の形態〉図７は、本実施の形
態に係る磁気記録媒体の一構成例を示す断面図である。
この磁気記録媒体７０は、図７に示すように、長尺状の
非磁性支持体７１の一主面７１ａ上に強磁性金属薄膜７
２が形成されているとともに、非磁性支持体７１の強磁
性金属薄膜７２が形成される面とは反対側の一主面７１
ｂ上に電子線重合体層７３が形成されている。

【００９６】ここで、非磁性支持体７１及び強磁性金属
薄膜７２は、第１の実施の形態で上述した非磁性支持体
２及び強磁性金属薄膜３と同様の構成とされているの
で、ここでは、非磁性支持体７１及び強磁性金属薄膜７
２についての説明は省略する。

【００９７】この電子線重合体層７３は、電子線を照射
することにより重合された化合物を含有する。電子線に
より重合可能な化合物とは、電子線により重合可能な不
飽和結合を有する化合物であり、例えばビニル基の炭素
−炭素二重結合や、ビニリデン基の炭素−炭素二重結合
を有する化合物であり、その中でも上述したような炭素
−炭素二重結合を複数個有する化合物が好ましい。この
ような不飽和結合を有する化合物として具体的には、例
えば、アクリロイル基、アクリルアミド基、アリル基、
ビニルエーテル基、ビニルチオエーテル基等を含む化合
物や、不飽和ポリエステル等が挙げられる。

【００９８】さらに、不飽和結合を有する化合物とし
て、特に好ましくは、骨格がポリエステル、ポリウレタ
ン、エポキシ樹脂、ポリエーテル又はポリカーボネート
からなり、直鎖の両末端にアクリリロイル基又はメタク
リロイル基を有するポリマが挙げられる。このようなポ
リマの分子量は約５００〜２００００程度であることが
好ましい。

【００９９】さらに、上述したようなポリマに、炭素−
炭素不飽和結合を分子内に有するモノマを添加すること
ができる。炭素−炭素不飽和結合を分子内に有するモノ
マとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタ
コン酸、アクリル酸メチル及びその同族体であるアクリ
ル酸アルキルエステル、メタクリル酸メチル及びその同
族体であるメタクリル酸アルキルエステル、スチレン及
びその同族体であるα−メチルスチレン、β−クロルス
チレンなど、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、
アクリルアミド、メタクリルアミド、酢酸ビニル、プロ
ピオン酸ビニルなどが挙げられる。その中でも特に、ポ
リオールの不飽和エステル類、例えばエチレンジアクリ
レート、ジエチレングリコールジアクリレート、グリセ
ロールトリメタクリレート、エチレンジメタクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラメタクリレートなど及
びエポキシ環を有するグリシジルメタクリレートなどが
好ましい。

【０１００】このようなモノマは、分子内に不飽和結合
を２つ以上有していてもよい。さらに、このようなモノ
マは、分子内に不飽和結合を１つのみ有するモノマと不
飽和結合を２つ以上有するモノマとを混合して用いても
よい。また、モノマの添加量は、ポリマの１／４以上と
することが好ましい。モノマの添加量が、ポリマの１／
４よりも少ないと、硬化に多大なエネルギーが必要とさ
れる。

【０１０１】電子線重合体層７３を形成する際には、ま
ず、上述したような電子線により重合可能な化合物を含
有する電子線重合体層用塗料を、非磁性支持体７１の強
磁性金属薄膜７２が形成された面とは反対側の面に塗布
する。次に、非磁性支持体７１上に塗布された電子線重
合体層７３用塗料に電子線を照射することにより、電子
線により重合可能な化合物を重合させて形成される。

【０１０２】電子線重合体層用塗料に電子線を照射する
電子線加速器としては、例えば、バンデグレーフ型のス
キャニング方式の電子線加速器、ダブルスキャニング方
式の電子線加速器あるいはカーテンビーム方式の電子線
加速器等が使用できるが、比較的安価で大出力が得られ
るカーテンビーム方式の電子線加速器を用いることが好
ましい。

【０１０３】電子線特性としては、加速電圧が１００ｋ
Ｖ〜１０００ｋＶ、好ましくは１５０ｋＶ〜７００ｋＶ
である。加速電圧が１００ｋＶより小さい場合は、エネ
ルギーの透過量が不足し、１０００ｋＶを超えると重合
に使われるエネルギー効率が低下し経済的でない。ま
た、吸収線量として０．５Ｍｒａｄ〜２０Ｍｒａｄ、好
ましくは２〜１０Ｍｒａｄである。吸収線量として、
０．５Ｍｒａｄ未満では硬化反応が不十分で塗膜強度が
得られず、２０Ｍｒａｄを超えると硬化に使用されるエ
ネルギー効率が低下したり、被照射体が発熱し、特に非
磁性支持体７１が変形するので好ましくない。

【０１０４】この電子線重合体層７３には、結合剤や非
磁性無機顔料粉末を含有させてもよい。

【０１０５】結合剤としては、例えば、塩化ビニル−酢
酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−ビニルア
ルコール共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニルーマレイン
酸共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩
化ビニル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エス
テル−アクリロニトリル共重合体、アクリル酸エステル
−塩化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−ス
チレン共重合体、熱可塑性ポリウレタン樹脂、フェノキ
シ樹脂、ポリフッ化ビニル、塩化ビニリデン−アクリロ
ニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリル−メ
タクリル酸共重合体、ポリビニルブチラール、セルロー
ス誘導体、スチレン−ブタジエン共重合体、ポリエステ
ル樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、熱硬化性ポリウレタン樹脂、尿素樹脂、メラ
ミン樹脂、アルキド樹脂、尿素−ホルムアルデヒド樹脂
又はこれらの混合物が挙げられる。

【０１０６】また、非磁性無機顔料粉末としては、例え
ば、カーボンブラック、グラファイト、酸化亜鉛、酸化
チタン、硫酸バリウム、タルク、カオリン、酸化クロ
ム、硫化カドミウム、ゲータイト、シリカアエロゾル、
無水アルミナ微粉末、炭酸カルシウム、二硫化モリブデ
ン、フッ化炭素等が用いられる。

【０１０７】このような電子線重合体層７３の厚さとし
ては、０．１μｍ〜０．６μｍであることが好ましい。
電子線重合体層７３の厚さが薄すぎると、磁気記録媒体
７０の機械的強度を補強する効果が表れず、電子線重合
体層７３の厚さが厚すぎると、磁気記録媒体７０にクラ
ックが生じ易い。電子線重合体層７３の厚さを０．１μ
ｍ〜０．６μｍとすることで、クラックを生じさせるこ
となく磁気記録媒体７０の機械的強度を補強することが
できる。このように、非磁性支持体７１の強磁性金属薄
膜７２が形成された面とは反対側の面に電子線重合体層
７３を形成することで、磁気記録媒体７０の機械的強度
を増強させ、カールの発生を防止することができる。

【０１０８】従って、磁気記録媒体７０では、形状の変
形が抑制されて、磁気ヘッドとの当たりを十分とること
ができ、より良好な電磁変換特性、記録再生特性及び走
行性を実現することができる。

【０１０９】また、この磁気記録媒体７０はこの電子線
重合体層７３内に、必要に応じて帯電防止剤、潤滑剤等
を含有させても良い。

【０１１０】なお、この磁気記録媒体７０は、強磁性金
属薄膜７２上に、例えばカーボン等からなる保護膜が形
成されていてもよい。さらに、磁気記録媒体７０は、保
護膜の表面に潤滑剤を存在せしめることが好ましい。保
護膜表面に潤滑剤を存在せしめることで、非磁性支持体
７１表面の微細突起の形状に基づく走行性改善効果をさ
らに高めることができる。

【０１１１】さらに、この磁気記録媒体７０は、その表
面、保護膜、強磁性金属薄膜７２の空隙、保護膜と強磁
性金属薄膜７２との界面、強磁性金属薄膜７２と非磁性
支持体７１との界面、非磁性支持体７１内等に、必要に
応じて公知の手段で防錆剤、帯電防止剤、防カビ剤等の
各種添加剤を存在せしめることができる。

【０１１２】

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例について説明
する。

【０１１３】バックコート層を形成した磁気記録媒体に
ついての実験以下に示す実施例１〜実施例６では、非磁性支持体の強
磁性金属薄膜が形成された面とは反対側の面に、それぞ
れ針状非磁性顔料の含有量の異なるバックコート層を形
成してサンプルテープを作製し、バックコート層に針状
非磁性顔料を含有しない比較例１のサンプルテープとと
もに各特性を評価した。

【０１１４】〈実施例１〉まず、脱水したｎ−メチルピ
ロリドンと、０．９ｍｏｌ比に相当する２−クロル−ｐ
−フェニレンジアミンと、０．１ｍｏｌ比に相当する
４，４−ジアミノジフェニルスルホンとを攪拌溶解させ
て冷却し、この中へ０．７ｍｏｌ比に相当するテレフタ
ル酸クロライドを添加して約２時間攪拌した。さらに、
上記溶液に、十分に精製した水酸化カルシウムを添加、
攪拌して芳香族ポリアミド溶液を作製した。ここで、各
化合物のｍｏｌ比は、ｎ−メチルピロリドンを１とした
ときのｍｏｌ比である。

【０１１５】次に、上記芳香族ポリアミド溶液を、表面
研磨した金属ドラム上へ３０℃で均一に流延し、１２０
℃の雰囲気下で約１０分間乾燥して芳香族ポリアミドフ
ィルムとした。この芳香族ポリアミドフィルムをドラム
から剥離し、３０℃の水槽中に連続的に約３０分間浸漬
しながら、長さ方向に１．１倍に延伸した。さらにこの
フィルムをテンターに導入して３２０℃で長さ方向に
１．４倍に延伸して、厚さ約３．５μｍの非磁性支持体
を得た。この非磁性支持体の表面に、粒径１５ｎｍ程度
のＳｉＯ₂を含有する水性溶液を塗布して乾燥させるこ
とにより、高分子膜を形成した。

【０１１６】次に、図３に示すような連続巻き取り式の
蒸着装置をその内部が１０^-3Ｐａ程度の真空状態となる
ように排気し、上述したように高分子膜が形成された非
磁性支持体をこの蒸着装置にセットした。そして、連続
斜方蒸着法により、微量の酸素存在下において、この非
磁性支持体の表面にＣｏからなる強磁性金属薄膜を形成
した。このとき、蒸着の入射角は、非磁性支持体の法線
方向が９０度〜４５度までであり、非磁性支持体の走行
速度が５０ｍ／分で、強磁性金属薄膜の厚さが０．１８
μｍとなるように、電子ビームの強さを調節して作製し
た。

【０１１７】次に、強磁性金属薄膜上に形成された表面
酸化層をＡｒガス雰囲気下でＥＣＲプラズマエッチング
して約５ｎｍまで表面酸化層を薄膜化させた。このと
き、圧力は０．４Ｐａ程度とし、投入パワーは３００ｋ
Ｗとした。

【０１１８】次に、図４に示すようなマグネトロンスパ
ッタリング装置をその内部が１０^-4Ｐａ程度になるまで
まで減圧した後、Ａｒガスを導入し、０．８Ｐａ程度に
した。そして、このマグネトロンスパッタリング装置に
強磁性金属薄膜が形成された非磁性支持体をセッティン
グし、約―４０℃に冷却した冷却キャン上を５ｍ／分の
速度で走行させて強磁性金属薄膜上にカーボンからなる
保護膜を形成した。

【０１１９】次に、針状非磁性顔料を５０重量部と、ポ
リウレタン樹脂を１００重量部とを、メチルエチルケト
ンとトルエンとが４対１の比で混合されてなる混合溶媒
３００重量部に混合、分散させてバックコート層用塗料
を作製した。ここで、針状非磁性顔料としては、長軸長
が０．２μｍ、アスペクト比が２０のゲータイトを用い
た。そして、非磁性支持体の強磁性金属薄膜が形成され
た面とは反対側の面上に、上記バックコート層用塗料を
塗布し乾燥して、厚さ０．５μｍのバックコート層を形
成した。

【０１２０】次に、保護膜上に潤滑剤としてパ−フルオ
ロポリエーテルを塗布してトップコート層を形成して磁
気記録媒体を作製した。最後に、この磁気記録媒体を８
ｍｍ幅のテープ状に裁断して磁気テープとし、この磁気
テープをカセット本体に収納してサンプルテープとし
た。

【０１２１】〈実施例２〉針状非磁性顔料の量を１００
重量部としたこと以外は、実施例１と同様にしてサンプ
ルテープを作製した。

【０１２２】〈実施例３〉針状非磁性顔料の量を２００
重量部としたこと以外は、実施例１と同様にしてサンプ
ルテープを作製した。

【０１２３】〈実施例４〉針状非磁性顔料の量を３００
重量部としたこと以外は、実施例１と同様にしてサンプ
ルテープを作製した。

【０１２４】〈実施例５〉針状非磁性顔料の量を５００
重量部としたこと以外は、実施例１と同様にしてサンプ
ルテープを作製した。

【０１２５】〈実施例６〉針状非磁性顔料の量を８００
重量部としたこと以外は、実施例１と同様にしてサンプ
ルテープを作製した。

【０１２６】〈比較例１〉針状非磁性顔料を加えなかっ
たこと以外は、実施例１と同様にしてサンプルテープを
作製した。

【０１２７】以上のようにして作製されたサンプルテー
プに対して、エラーレート、ドロップアウト、ヘッドと
の当たり特性、カール度及びバック面接着強度について
の特性評価を行った。なお、これらの特性評価は、ソニ
ー製のＡＩＴドライブＳＤＸ−Ｓ３００Ｃを改造したも
のを用いて行った。記録は、相対速度１０．０４ｍ／ｓ
ｅｃ、最短記録波長０．３５μｍで行った。

【０１２８】エラーレートは、走行耐久性として１７０
ｍ長を１００パス走行させ、１パス走行後のブロックエ
ラーレート及び１００パス走行後のブロックエラーレー
トを測定した。

【０１２９】ドロップアウトは、１μｓｅｃ以上のドロ
ップアウトの発生回数を１０分間測定した。

【０１３０】ヘッドとの当たり特性は、テープ再生時の
出力信号（当たり波形）を１トラック分でみた場合の出
力信号の最小値と最大値との比、最小値／最大値を％で
測定した。

【０１３１】カール度は、サンプルテープの幅Ｌと、サ
ンプルテープを平面板上に置いた場合の平面板表面から
のサンプルテープの最大高さＨとを測定し、その比Ｈ／
Ｌでカール度を測定した。また、強磁性金属薄膜が形成
された側の面が凹にカールする場合をプラスで、強磁性
金属薄膜が形成された側の面が凸にカールする場合をマ
イナスで表示した。ここで、一般的に、カールがマイナ
スになるほどヘッドとの当たりが悪くなる傾向がある。

【０１３２】バック面接着強度は、所定の粘着テープを
使用し、非磁性支持体の強磁性金属薄膜が形成された面
と反対側の面に形成された層が、当該非磁性支持体から
剥離するときの接着強度及び層自体の強度を測定した。

【０１３３】実施例１〜実施例６及び比較例１のサンプ
ルテープについての特性評価結果を表１に示す。

【０１３４】

【表１】

【０１３５】表１より、バックコート層に針状非磁性顔
料を含有させなかった比較例１のサンプルテープでは、
バック面接着強度が弱く、カール度がプラスに大きく、
ヘッド当たりも悪い。また、ブロックエラーレート、ド
ロップアウトも悪い。一方、バックコート層に針状非磁
性顔料を含有させた実施例１〜実施例６では、バック面
接着強度が大きくなり、カール度が小さく、ヘッド当た
りも良好になっている。また、ブロックエラーレート、
ドロップアウトも少なく、良好な特性が得られた。

【０１３６】従って、非磁性支持体の強磁性金属薄膜が
形成される面とは反対側の面上に、針状非磁性顔料を含
有するバックコート層を形成することによって、磁気記
録媒体の厚みが薄くても必要十分な強度が確保されて、
磁気記録媒体の長期保存性、すなわち耐久性を向上させ
ることができることがわかった。

【０１３７】金属薄膜を形成した磁気記録媒体について
の実験以下に示す実施例７〜実施例１２では、非磁性支持体の
強磁性金属薄膜が形成された面とは反対側の面に、それ
ぞれ厚みの異なる金属薄膜を形成してサンプルテープを
作製し、金属薄膜を形成しない比較例２のサンプルテー
プとともに各特性を評価した。

【０１３８】〈実施例７〉まず、非磁性支持体を作製
し、この非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を形成し、さ
らに強磁性金属薄膜上に保護膜を形成した。ここで、非
磁性支持体、強磁性金属薄膜及び保護膜は、上述した実
施例１と同様にして形成した。

【０１３９】次に、図３に示すような連続巻き取り式の
真空蒸着装置によって、非磁性支持体５の強磁性金属薄
膜が形成された面とは反対側の面上に、Ａｌを蒸着させ
て、厚さが０．０５μｍの金属薄膜を形成した。このと
きの成膜条件としては、真空蒸着装置内の内部圧力を約
１０^-2Ｐａとなるように排気し、蒸着の入射角を０度〜
２５度とし、非磁性支持体の送り速度を５０ｍ／ｓとし
た。

【０１４０】次に、金属薄膜４上に、カーボンとウレタ
ンバインダーからなる厚さ０．４μｍのバックコート層
を形成し、次いで、次に、保護膜上にパ−フルオロポリ
エーテルよりなる潤滑剤を塗布してトップコート層を形
成して磁気記録媒体を作製した。最後に、この磁気記録
媒体を８ｍｍ幅に裁断して磁気テープとし、この磁気テ
ープをカセット本体に収納してサンプルテープを得た。

【０１４１】〈実施例８〉金属薄膜の厚みを０．１μｍ
としたこと以外は、実施例７と同様にしてサンプルテー
プを作製した。

【０１４２】〈実施例９〉金属薄膜の厚みを０．２μｍ
としたこと以外は、実施例７と同様にしてサンプルテー
プを作製した。

【０１４３】〈実施例１０〉金属薄膜の厚みを０．３μ
ｍとしたこと以外は、実施例７と同様にしてサンプルテ
ープを作製した。

【０１４４】〈実施例１１〉金属薄膜の厚みを０．５μ
ｍとしたこと以外は、実施例７と同様にしてサンプルテ
ープを作製した。

【０１４５】〈実施例１２〉金属薄膜の厚みを０．７μ
ｍとしたこと以外は、実施例７と同様にしてサンプルテ
ープを作製した。

【０１４６】〈比較例２〉非磁性支持体の強磁性金属薄
膜が形成された面とは反対側の面上に金属薄膜を形成せ
ず、代わりに、カーボンとウレタンバインダーからなる
厚さ０．４μｍのバックコート層を形成したこと以外
は、実施例７と同様にしてサンプルテープを作製した。

【０１４７】以上のようにして作製された実施例７〜実
施例１２及び比較例２のサンプルテープに対して、エラ
ーレート、ドロップアウト、ヘッドとの当たり特性、カ
ール度及びバック面接着強度についての特性評価を行っ
た。その特性評価結果を表２に示す。

【０１４８】

【表２】

【０１４９】表２より、金属薄膜を形成しなかった比較
例２のサンプルテープでは、バック面接着強度が弱く、
カール度がプラスに大きく、ヘッド当たりも悪い。ま
た、ブロックエラーレート、ドロップアウトも悪い。一
方、金属薄膜を形成した実施例７〜実施例１２では、バ
ック面接着強度が大きく、カール度が小さく、ヘッド当
たりも良好になっている。また、ブロックエラーレー
ト、ドロップアウトも少なく、良好な特性が得られた。

【０１５０】従って、非磁性支持体の強磁性金属薄膜が
形成される面とは反対側の面上に、金属薄膜を形成する
ことによって、磁気記録媒体の厚みが薄くても必要十分
な強度が確保されて、磁気記録媒体の長期保存性、すな
わち耐久性を向上させることができることがわかった。
その中でも、金属薄膜の厚みを０．１μｍ〜０．５μｍ
とすることで、特に良好な特性が得られることがわかっ
た。

【０１５１】プラズマ重合体層を形成した磁気記録媒体
についての実験以下に示す実施例１３〜実施例１８では、非磁性支持体
の強磁性金属薄膜が形成された面とは反対側の面に、そ
れぞれ厚みの異なるプラズマ重合体層を形成してサンプ
ルテープを作製し、プラズマ重合体層を形成しない比較
例２のサンプルテープとともに各特性を評価した。

【０１５２】〈実施例１３〉まず、非磁性支持体を作製
し、この非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を形成し、さ
らに強磁性金属薄膜上に保護膜を形成した。ここで、非
磁性支持体、強磁性金属薄膜及び保護膜は、上述した実
施例１と同様にして形成した。

【０１５３】次に、非磁性支持体の強磁性金属薄膜が形
成された面とは反対側の面に、以下の条件で厚さ０．１
μｍのプラズマ重合体層を形成した。

【０１５４】〈プラズマ重合体層形成条件〉モノマーガス：エチレンモノマーガス流量：３０ｍｌ／分キャリアーガス：アルゴンキャリアーガス流量：７０ｍｌ／分真空度：７０Ｐａ高周波電源：１３．５６ＭＨｚ，３００Ｗ次に、保護膜上にパ−フルオロポリエーテルよりなる潤
滑剤を塗布してトップコート層を形成して磁気記録媒体
を作製した。最後に、この磁気記録媒体を８ｍｍ幅に裁
断して磁気テープとし、この磁気テープをカセット本体
に収納してサンプルテープを得た。

【０１５５】〈実施例１４〉プラズマ重合体層の厚みを
０．２μｍとしたこと以外は、実施例１３と同様にして
サンプルテープを作製した。

【０１５６】〈実施例１５〉プラズマ重合体層の厚みを
０．４μｍとしたこと以外は、実施例１３と同様にして
サンプルテープを作製した。

【０１５７】〈実施例１６〉プラズマ重合体層の厚みを
０．８μｍとしたこと以外は、実施例１３と同様にして
サンプルテープを作製した。

【０１５８】〈実施例１７〉プラズマ重合体層の厚みを
１．０μｍとしたこと以外は、実施例１３と同様にして
サンプルテープを作製した。

【０１５９】〈実施例１８〉プラズマ重合体層の厚みを
１．２μｍとしたこと以外は、実施例１３と同様にして
サンプルテープを作製した。

【０１６０】〈比較例２〉非磁性支持体の強磁性金属薄
膜が形成された面とは反対側の面上に、カーボンとウレ
タンバインダーからなる厚さ０．４μｍのバックコート
層が形成されてなる比較例２のサンプルテープを、プラ
ズマ重合体層を形成しない比較例のサンプルテープとし
た。

【０１６１】以上のようにして作製された実施例１３〜
実施例１８及び比較例２のサンプルテープに対して、エ
ラーレート、ドロップアウト、ヘッドとの当たり特性、
カール度及びバック面接着強度についての特性評価を行
った。その特性評価結果を表３に示す。

【０１６２】

【表３】

【０１６３】表３より、プラズマ重合体層を形成しなか
った比較例２のサンプルテープでは、バック面接着強度
が弱く、カール度がプラスに大きく、ヘッド当たりも悪
い。また、ブロックエラーレート、ドロップアウトも悪
い。一方、プラズマ重合体層を形成した実施例１３〜実
施例１８では、バック面接着強度が大きく、カール度が
小さく、ヘッド当たりも良好になっている。また、ブロ
ックエラーレート、ドロップアウトも少なく、良好な特
性が得られた。

【０１６４】従って、非磁性支持体の強磁性金属薄膜が
形成される面とは反対側の面上に、プラズマ重合体層を
形成することによって、磁気記録媒体の厚みが薄くても
必要十分な強度が確保されて、磁気記録媒体の長期保存
性、すなわち耐久性を向上させることができることがわ
かった。その中でも、プラズマ重合体層の厚みを０．１
μｍ〜１．０μｍとすることで、特に良好な特性が得ら
れることがわかった。

【０１６５】電子線重合体層を形成した磁気記録媒体に
ついての実験以下に示す実施例１９〜実施例２４では、非磁性支持体
の強磁性金属薄膜が形成された面とは反対側の面に、そ
れぞれ電子線の吸収線量を変化させて電子線重合体層を
形成してサンプルテープを作製し、電子線重合体層を形
成しない比較例２のサンプルテープとともに各特性を評
価した。

【０１６６】〈実施例１９〉まず、非磁性支持体を作製
し、この非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を形成し、さ
らに強磁性金属薄膜上に保護膜を形成した。ここで、非
磁性支持体、強磁性金属薄膜及び保護膜は、上述した実
施例１と同様にして形成した。

【０１６７】次に、カーボンブラックを１００重量部
と、ポリウレタン樹脂を５０重量部と、エステルアクリ
レートオリゴマーを２０重量部と、ジエチレングリコー
ルジアクリレートを２０重量部と、ブトキシエチルアク
リレートを２０重量部とを、メチルエチルケトンとトル
エンとが４：１の割合で混合されてなる混合溶媒３００
重量部に混合、分散させて電子線重合体層塗料を調整し
た。上記電子線重合体層塗料を、非磁性支持体の強磁性
金属薄膜が形成された面と反対側の面に塗布し、吸収線
量が１Ｍｒａｄとなるように電子線を照射し、厚さ０．
５μｍの電子線重合体層を形成した。

【０１６８】次に、保護膜上にパ−フルオロポリエーテ
ルよりなる潤滑剤を塗布してトップコート層を形成して
磁気記録媒体を作製した。最後に、この磁気記録媒体を
８ｍｍ幅に裁断して磁気テープとし、この磁気テープを
カセット本体に収納してサンプルテープを得た。

【０１６９】〈実施例２０〉吸収線量を２Ｍｒａｄとし
たこと以外は実施例１９と同様にしてサンプルテープを
作製した。

【０１７０】〈実施例２１〉吸収線量を５Ｍｒａｄとし
たこと以外は実施例１９と同様にしてサンプルテープを
作製した。

【０１７１】〈実施例２２〉吸収線量を１０Ｍｒａｄと
したこと以外は実施例１９と同様にしてサンプルテープ
を作製した。

【０１７２】〈実施例２３〉吸収線量を１５Ｍｒａｄと
したこと以外は実施例１９と同様にしてサンプルテープ
を作製した。

【０１７３】〈実施例２４〉吸収線量を２０Ｍｒａｄと
したこと以外は実施例１９と同様にしてサンプルテープ
を作製した。

【０１７４】〈比較例２〉非磁性支持体の強磁性金属薄
膜が形成された面とは反対側の面上に、カーボンとウレ
タンバインダーからなる厚さ０．４μｍのバックコート
層が形成されてなる比較例２のサンプルテープを、電子
線重合体層を形成しない比較例のサンプルテープとし
た。

【０１７５】以上のようにして作製された実施例１９〜
実施例２４及び比較例２のサンプルテープに対して、エ
ラーレート、ドロップアウト、ヘッドとの当たり特性、
カール度及びバック面接着強度についての特性評価を行
った。その特性評価結果を表４に示す。

【０１７６】

【表４】

【０１７７】表４より、電子線重合体層を形成しなかっ
た比較例２のサンプルテープでは、バック面接着強度が
弱く、カール度がプラスに大きく、ヘッド当たりも悪
い。また、ブロックエラーレート、ドロップアウトも悪
い。一方、電子線重合体層を形成した実施例１９〜実施
例２４では、バック面接着強度が大きく、カール度が小
さく、ヘッド当たりも良好になっている。また、ブロッ
クエラーレート、ドロップアウトも少なく、良好な特性
が得られた。

【０１７８】従って、非磁性支持体の強磁性金属薄膜が
形成される面とは反対側の面上に、電子線重合体層を形
成することによって、磁気記録媒体の厚みが薄くても必
要十分な強度が確保されて、磁気記録媒体の長期保存
性、すなわち耐久性を向上させることができることがわ
かった。

【０１７９】

【発明の効果】本発明に係る磁気記録媒体の製造方法で
は、強磁性金属薄膜の表面酸化層をエッチングにより除
去しているので、スペーシングロスを少なくし、電磁変
換特性に優れた磁気記録媒体を得ることができる。

【０１８０】さらに、本発明に係る磁気記録媒体の製造
方法では、非磁性支持体の磁性層が形成される面とは反
対側の面上に、針状非磁性顔料を含有するバックコート
層を形成するため、機械的強度が強化されて、走行時の
変形が抑えられ、耐久性が向上した磁気記録媒体を得る
ことができる。

【０１８１】また、本発明に係る磁気記録媒体の製造方
法では、非磁性支持体の磁性層が形成される面とは反対
側の面上に、金属薄膜が形成するため、機械的強度が強
化されて、磁気記録媒体の走行時の変形を防ぐことがで
き、耐久性が向上する。

【０１８２】また、本発明に係る磁気記録媒体の製造方
法では、非磁性支持体の磁性層が形成される面とは反対
側の面上に、プラズマ重合体層を形成するため、機械的
強度が強化されて、磁気記録媒体の走行時の変形が抑え
られ、耐久性が向上した磁気記録媒体を得ることができ
る。

【０１８３】また、本発明に係る磁気記録媒体の製造方
法では、非磁性支持体の磁性層が形成される面とは反対
側の面上に、電子線重合体層を形成するため、機械的強
度が強化されて、磁気記録媒体の走行時の変形が抑えら
れ、耐久性が向上した磁気記録媒体を得ることができ
る。

【０１８４】従って、本発明では、十分な機械的強度を
有しているため、長時間の走行においても形状が変化せ
ず、磁気ヘッドとの当たりを良好な状態に保つことがで
き、優れた電磁変換特性、記録再生特性及び走行性を兼
ね備えた磁気記録媒体を得るることができる。さらに、
本発明では、薄型化が図られても十分な強度が確保さ
れ、更なる大容量化に対応した磁気記録媒体を得ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る磁気記録媒体の一構成例を示す断
面図である。

【図２】本発明に係る磁気記録媒体の他の一構成例を示
す断面図である。

【図３】強磁性金属薄膜を形成する真空蒸着装置の一例
を示す概略構成図である。

【図４】保護膜を形成するマグネトロンスパッタ装置の
一例を示す概略構成図である。

【図５】本発明に係る磁気記録媒体の一構成例を示す断
面図である。

【図６】本発明に係る磁気記録媒体の一構成例を示す断
面図である。

【図７】本発明に係る磁気記録媒体の一構成例を示す断
面図である。

【符号の説明】

１，５０，６０，７０磁気記録媒体、２，５，５
１，６１，７１非磁性支持体、３，５２，６２，７
２強磁性金属薄膜、４バックコート層５３金
属薄膜、６３プラズマ重合体層、７３電子線重
合体層

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】芳香族ポリアミドからなる非磁性支持体
を作製する非磁性支持体作製工程と、上記非磁性支持体作製工程で作製された上記非磁性支持
体上に磁性層となる強磁性金属薄膜を真空蒸着法により
形成する強磁性金属薄膜形成工程と、上記強磁性金属薄膜形成工程で形成された上記強磁性金
属薄膜の一部をエッチングするエッチング工程と、上記非磁性支持体の上記磁性層が形成される面とは反対
側の面上に、少なくとも結合剤と針状非磁性顔料とを含
有するバックコート層を形成するバックコート層形成工
程とを備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
【請求項２】上記非磁性支持体作製工程において、上
記非磁性支持体の厚みを１．０μｍ〜５．０μｍとする
ことを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造方
法。
【請求項３】上記バックコート層形成工程において、
上記バックコート層の厚みを０．１μｍ〜０．６μｍと
することを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製
造方法。
【請求項４】上記バックコート層形成工程において、
上記針状非磁性顔料の長軸と短軸との比が１０以上であ
ることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体の製造
方法。
【請求項５】芳香族ポリアミドからなる非磁性支持体
を作製する非磁性支持体作製工程と、上記非磁性支持体作製工程で作製された上記非磁性支持
体上に磁性層となる強磁性金属薄膜を真空蒸着法により
形成する強磁性金属薄膜形成工程と、上記強磁性金属薄膜形成工程で形成された上記強磁性金
属薄膜の一部をエッチングするエッチング工程と、上記非磁性支持体の上記磁性層が形成される面とは反対
側の面上に、金属薄膜を形成する金属薄膜形成工程とを
備えることを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【請求項６】上記非磁性支持体作製工程において、上
記非磁性支持体の厚みを１．０μｍ〜５．０μｍとする
ことを特徴とする請求項５記載の磁気記録媒体の製造方
法。
【請求項７】上記金属薄膜形成工程において、上記金
属薄膜の厚みを０．１μｍ〜０．５μｍとすることを特
徴とする請求項５記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項８】上記金属薄膜形成工程において、上記金
属薄膜はＣｕ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｒ及びこれらの合金より
なる群から選ばれた金属からなることを特徴とする請求
項５記載の磁気記録媒体の製造方法。
【請求項９】芳香族ポリアミドからなる非磁性支持体
を作製する非磁性支持体作製工程と、上記非磁性支持体作製工程で作製された上記非磁性支持
体上に磁性層となる強磁性金属薄膜を真空蒸着法により
形成する強磁性金属薄膜形成工程と、上記強磁性金属薄膜形成工程で形成された上記強磁性金
属薄膜の一部をエッチングするエッチング工程と、上記非磁性支持体の上記磁性層が形成される面とは反対
側の面上に、プラズマにより重合可能な化合物をプラズ
マ重合法により重合させてプラズマ重合体層を形成する
プラズマ重合体層形成工程とを備えることを特徴とする
磁気記録媒体の製造方法。
【請求項１０】上記非磁性支持体作製工程において、
上記非磁性支持体の厚みを１．０μｍ〜５．０μｍとす
ることを特徴とする請求項９記載の磁気記録媒体の製造
方法。
【請求項１１】上記プラズマ重合体層形成工程におい
て、上記プラズマ重合体層の厚みを０．１μｍ〜１．０
μｍとすることを特徴とする請求項９記載の磁気記録媒
体の製造方法。
【請求項１２】芳香族ポリアミドからなる非磁性支持
体を作製する非磁性支持体作製工程と、上記非磁性支持体作製工程で作製された上記非磁性支持
体上に磁性層となる強磁性金属薄膜を真空蒸着法により
形成する強磁性金属薄膜形成工程と、上記強磁性金属薄膜形成工程で形成された上記強磁性金
属薄膜の一部をエッチングするエッチング工程と、上記非磁性支持体の上記磁性層が形成される面とは反対
側の面上に、電子線により重合可能な化合物を電子線に
より重合させて電子線重合体層を形成する電子線重合体
層形成工程とを備えることを特徴とする磁気記録媒体の
製造方法。
【請求項１３】上記非磁性支持体作製工程において、
上記非磁性支持体の厚みを１．０μｍ〜５．０μｍとす
ることを特徴とする請求項１２記載の磁気記録媒体の製
造方法。
【請求項１４】上記電子線重合体層形成工程におい
て、上記電子線重合体層の厚みを０．１μｍ〜０．６μ
ｍとすることを特徴とする請求項１２記載の磁気記録媒
体の製造方法。