JPH0990555A - ハロゲン化銀写真感光材料 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料Info
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- JPH0990555A JPH0990555A JP7268091A JP26809195A JPH0990555A JP H0990555 A JPH0990555 A JP H0990555A JP 7268091 A JP7268091 A JP 7268091A JP 26809195 A JP26809195 A JP 26809195A JP H0990555 A JPH0990555 A JP H0990555A
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- layer
- sensitive material
- silver halide
- halide photographic
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- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/95—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers rendered opaque or writable, e.g. with inert particulate additives
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- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/005—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein
- G03C1/06—Silver halide emulsions; Preparation thereof; Physical treatment thereof; Incorporation of additives therein with non-macromolecular additives
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- Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】バック面の膜剥がれ故障が発生しにくく、且
つ、現像処理後の磁気記録/再生エラーが起こりにくい
透明磁気記録層付きハロゲン化銀写真感光材料を提供す
る。 【解決手段】該バック層の1層がモース硬度5以上の研
磨剤を有した透明磁気記録層であるハロゲン化銀写真感
光材料において、少なくともいずれか1層のバック層
に、下記一般式(1)で表される架橋剤を3mg/m2
以上1000mg/m2 以下で含有するハロゲン化銀写
真感光材料。 一般式(1): 【化1】 ここで、n≧0の整数、mは1又は2の整数であり、R
1 、R2 、R3 は水素原子、アルキル基、あるいはアリ
ール基である。
つ、現像処理後の磁気記録/再生エラーが起こりにくい
透明磁気記録層付きハロゲン化銀写真感光材料を提供す
る。 【解決手段】該バック層の1層がモース硬度5以上の研
磨剤を有した透明磁気記録層であるハロゲン化銀写真感
光材料において、少なくともいずれか1層のバック層
に、下記一般式(1)で表される架橋剤を3mg/m2
以上1000mg/m2 以下で含有するハロゲン化銀写
真感光材料。 一般式(1): 【化1】 ここで、n≧0の整数、mは1又は2の整数であり、R
1 、R2 、R3 は水素原子、アルキル基、あるいはアリ
ール基である。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は透明磁気記録層を有
するハロゲン化銀写真感光材料(以下写真感光材料、感
光材料、写真感材、写真フイルムまたは感材と略す)に
関するものである。
するハロゲン化銀写真感光材料(以下写真感光材料、感
光材料、写真感材、写真フイルムまたは感材と略す)に
関するものである。
【0002】
【従来の技術】特開平6−59357号公報には、感光
材料の透明磁気記録層にイソシアネート化合物を含有し
ていることが記載されている。
材料の透明磁気記録層にイソシアネート化合物を含有し
ていることが記載されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】写真感光材料は塗布、
乾燥、加工などの製造工程を始めとして撮影、現像処
理、焼き付け、映写などにおける巻き取り、巻き戻し、
または搬送等の取扱いの際に、種々の装置、機械、カメ
ラなどとの接触摩擦、あるいは塵や繊維屑等の付着物と
の接触摩擦によって、重大な悪影響を受けることが多
い。特に、バック面側は各種機材と直接接触する機会が
多いので、例えば、膜剥がれの様な重大故障が発生しや
すい。この様な「膜剥がれ」の発生はプリント時や映写
時に画像面に重なって現れるので実用上重大な問題とな
る。また、最近では高速塗布、迅速撮影、迅速処理など
のように感光材料に対する使用や処理方法の拡大、高温
高湿雰囲気におけるような使用時の環境の多様化等によ
り、感光材料は従来扱われてきた以上に過酷な取扱いを
受けることになり、この様な故障の発生が更に起こり易
くなってきている。それ故、こうした過酷な条件下でも
十分耐えられるような耐久性の高い(膜剥がれが起こら
ない)品質を有する感光材料バック設計が要望される。
一方、磁気記録層を有する感材では磁気記録層もまた感
材バックに付与されるため、磁気ヘッドとの接触摩擦等
をはじめとし、膜剥がれ発生の確率が高くなる。従っ
て、磁気記録層もまた、その耐久性能が劣るならば(膜
剥がれ等が起こるならば)、写真フイルムとして問題が
出てしまうばかりでなく、磁気情報の消失という重大な
問題も生じる。磁気記録層については、スペースロスに
よる磁気出力損失をできるだけ避けることを考えると、
バック最外層もしくは、最外層に隣接する層であること
が望ましく、直接各種機材と接触することからも、耐久
性能の優れた(膜剥がれの起こらない)磁気記録層を設
計することが、磁気記録層を有するハロゲン化銀写真感
光材料を作製するのに非常に重要な課題であった。
乾燥、加工などの製造工程を始めとして撮影、現像処
理、焼き付け、映写などにおける巻き取り、巻き戻し、
または搬送等の取扱いの際に、種々の装置、機械、カメ
ラなどとの接触摩擦、あるいは塵や繊維屑等の付着物と
の接触摩擦によって、重大な悪影響を受けることが多
い。特に、バック面側は各種機材と直接接触する機会が
多いので、例えば、膜剥がれの様な重大故障が発生しや
すい。この様な「膜剥がれ」の発生はプリント時や映写
時に画像面に重なって現れるので実用上重大な問題とな
る。また、最近では高速塗布、迅速撮影、迅速処理など
のように感光材料に対する使用や処理方法の拡大、高温
高湿雰囲気におけるような使用時の環境の多様化等によ
り、感光材料は従来扱われてきた以上に過酷な取扱いを
受けることになり、この様な故障の発生が更に起こり易
くなってきている。それ故、こうした過酷な条件下でも
十分耐えられるような耐久性の高い(膜剥がれが起こら
ない)品質を有する感光材料バック設計が要望される。
一方、磁気記録層を有する感材では磁気記録層もまた感
材バックに付与されるため、磁気ヘッドとの接触摩擦等
をはじめとし、膜剥がれ発生の確率が高くなる。従っ
て、磁気記録層もまた、その耐久性能が劣るならば(膜
剥がれ等が起こるならば)、写真フイルムとして問題が
出てしまうばかりでなく、磁気情報の消失という重大な
問題も生じる。磁気記録層については、スペースロスに
よる磁気出力損失をできるだけ避けることを考えると、
バック最外層もしくは、最外層に隣接する層であること
が望ましく、直接各種機材と接触することからも、耐久
性能の優れた(膜剥がれの起こらない)磁気記録層を設
計することが、磁気記録層を有するハロゲン化銀写真感
光材料を作製するのに非常に重要な課題であった。
【0004】透明磁気記録層を有するハロゲン化銀写真
感光材料では、通常の磁気テープ(オーディオ、ビデ
オ)とは異なり、「現像処理工程」があるため、現像処
理液中の成分からなる汚れが磁気記録層のある感材バッ
ク表面に付着し、これが現像処理後の磁気記録・再生時
に磁気ヘッド表面に転写し、磁気入出力エラー(磁気記
録/再生エラー)が発生するという、これまでにはなか
った問題が存在する。この様な問題に対し、磁気テープ
の系で良く用いられる研磨剤をバック層中に含有させる
という手段が、透明磁気記録層を有するハロゲン化銀写
真感光材料においても効果的であるが、余りにも含有量
が多すぎたり、研磨剤の粒径を大きくしすぎると、現像
処理後の「汚れ」が取れ易くなるものの、一方で、磁気
ヘッドの摩耗速度アップあるいは写真フイルムとしての
透明性ダウンと言うような問題が新たに存在するように
なり、充分な解決には至らなかった。従って、本発明の
目的は、バック面の膜剥がれ故障が発生しにくく、且
つ、現像処理後の磁気記録/再生エラーが起こりにくい
透明磁気記録層付きハロゲン化銀写真感光材料を提供す
ることにある。
感光材料では、通常の磁気テープ(オーディオ、ビデ
オ)とは異なり、「現像処理工程」があるため、現像処
理液中の成分からなる汚れが磁気記録層のある感材バッ
ク表面に付着し、これが現像処理後の磁気記録・再生時
に磁気ヘッド表面に転写し、磁気入出力エラー(磁気記
録/再生エラー)が発生するという、これまでにはなか
った問題が存在する。この様な問題に対し、磁気テープ
の系で良く用いられる研磨剤をバック層中に含有させる
という手段が、透明磁気記録層を有するハロゲン化銀写
真感光材料においても効果的であるが、余りにも含有量
が多すぎたり、研磨剤の粒径を大きくしすぎると、現像
処理後の「汚れ」が取れ易くなるものの、一方で、磁気
ヘッドの摩耗速度アップあるいは写真フイルムとしての
透明性ダウンと言うような問題が新たに存在するように
なり、充分な解決には至らなかった。従って、本発明の
目的は、バック面の膜剥がれ故障が発生しにくく、且
つ、現像処理後の磁気記録/再生エラーが起こりにくい
透明磁気記録層付きハロゲン化銀写真感光材料を提供す
ることにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持体
上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層と、該支持体
のもう一方の側に、少なくとも1層のバック層を有し、
該バック層の1層が透明磁気記録層であるハロゲン化銀
写真感光材料において、少なくともいずれか1層のバッ
ク層に、下記一般式(1)で表される架橋剤を3mg/
m2 以上1000mg/m2 以下含有し、該透明磁気記
録層にモース硬度5以上の研磨剤を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料により達成された。す
ることにより達成された。 一般式(1):
上に少なくとも1層のハロゲン化銀乳剤層と、該支持体
のもう一方の側に、少なくとも1層のバック層を有し、
該バック層の1層が透明磁気記録層であるハロゲン化銀
写真感光材料において、少なくともいずれか1層のバッ
ク層に、下記一般式(1)で表される架橋剤を3mg/
m2 以上1000mg/m2 以下含有し、該透明磁気記
録層にモース硬度5以上の研磨剤を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料により達成された。す
ることにより達成された。 一般式(1):
【0006】
【化2】
【0007】ここで、n≧0の整数、mは1又は2の整
数であり、R1 、R2 、R3 は水素原子、アルキル基、
あるいはアリール基である。
数であり、R1 、R2 、R3 は水素原子、アルキル基、
あるいはアリール基である。
【0008】
【発明の実施の形態】本発明の一般式(1)で表わされ
る架橋剤について説明する。本発明の架橋剤は、一般式
(1)において、nが0〜50の範囲が好ましいが、よ
り好ましくは0〜30、さらに好ましくは0〜10であ
る。n数は単一である必要はなく、分布を持っていても
構わない。mは1〜2の整数である。R1 、R2 、R3
は水素原子、アルキル基(C1以上C12以下、好ましく
はC1以上C4以下)、あるいはアリ−ル基(C6以上
C12以下)である。この様な架橋剤の好ましい粘度は5
0(cP/25℃)〜1000(cP/25℃)であ
る。またこのような架橋剤の好ましいNCO含有率は2
0〜40%である。より好ましくは25〜35%であ
る。最も好ましいのは、メチレンジフェニレンジイソシ
アネート(MDI)の多核体すなわち、POlymer
icMDIである。この様な架橋剤の市販品としては、
日本ポリウレタン(株)製の「ミリオネートMT」「ミ
リオネートMR−100」、「ミリオネートMR−20
0」、「ミリオネートMR−300」、「ミリオネート
MR−400」、住友バイエルウレタン(株)製の「ス
ミジュール44V10」等が挙げられる。本発明で用い
られる架橋剤の塗布量は、3mg/m2 以上1000m
g/m2以下で含まれるが、好ましくは5mg/m2 以
上500mg/m2 以下であり、さらに好ましくは10
mg/m2 以上300mg/m2 以下である。本発明の
架橋剤を磁気記録層を構成するバインダー中に添加する
場合は、バインダーに対し0.3wt%以上100wt
%以下の範囲で使用することが好ましい。さらに、以下
に、本発明で用いられる架橋剤の具体例を示す。
る架橋剤について説明する。本発明の架橋剤は、一般式
(1)において、nが0〜50の範囲が好ましいが、よ
り好ましくは0〜30、さらに好ましくは0〜10であ
る。n数は単一である必要はなく、分布を持っていても
構わない。mは1〜2の整数である。R1 、R2 、R3
は水素原子、アルキル基(C1以上C12以下、好ましく
はC1以上C4以下)、あるいはアリ−ル基(C6以上
C12以下)である。この様な架橋剤の好ましい粘度は5
0(cP/25℃)〜1000(cP/25℃)であ
る。またこのような架橋剤の好ましいNCO含有率は2
0〜40%である。より好ましくは25〜35%であ
る。最も好ましいのは、メチレンジフェニレンジイソシ
アネート(MDI)の多核体すなわち、POlymer
icMDIである。この様な架橋剤の市販品としては、
日本ポリウレタン(株)製の「ミリオネートMT」「ミ
リオネートMR−100」、「ミリオネートMR−20
0」、「ミリオネートMR−300」、「ミリオネート
MR−400」、住友バイエルウレタン(株)製の「ス
ミジュール44V10」等が挙げられる。本発明で用い
られる架橋剤の塗布量は、3mg/m2 以上1000m
g/m2以下で含まれるが、好ましくは5mg/m2 以
上500mg/m2 以下であり、さらに好ましくは10
mg/m2 以上300mg/m2 以下である。本発明の
架橋剤を磁気記録層を構成するバインダー中に添加する
場合は、バインダーに対し0.3wt%以上100wt
%以下の範囲で使用することが好ましい。さらに、以下
に、本発明で用いられる架橋剤の具体例を示す。
【0009】
【化3】
【0010】
【化4】
【0011】本発明で用いられる架橋剤が充分に架橋を
行うために、50℃以上、好ましくは70℃以上で、1
分〜72時間の加熱乾燥を行うことが好ましい。72時
間を越えて乾燥を行っても、これ以上架橋は余り進ま
ず、72時間を越える加熱乾燥は工業的にメリットがな
い。本発明で用いられる架橋剤は、バック層に塗設され
る磁気記録層又は/及び磁気記録層に隣接する層中に含
まれることが、バック層のなかで特に重要な磁気記録層
の膜剥がれ防止のために好ましい。磁気記録層に添加す
ることは最も好ましい。
行うために、50℃以上、好ましくは70℃以上で、1
分〜72時間の加熱乾燥を行うことが好ましい。72時
間を越えて乾燥を行っても、これ以上架橋は余り進ま
ず、72時間を越える加熱乾燥は工業的にメリットがな
い。本発明で用いられる架橋剤は、バック層に塗設され
る磁気記録層又は/及び磁気記録層に隣接する層中に含
まれることが、バック層のなかで特に重要な磁気記録層
の膜剥がれ防止のために好ましい。磁気記録層に添加す
ることは最も好ましい。
【0012】本発明で用いられる架橋剤を使用する際、
3級アミン、金属塩、DBU(1,8−ジアザ−ビシク
ロ[5,4,0]ウンデセン−7)の少なくとも1種類
以上を同時に使用することで、バック層そのもの、ある
いはバック層とベース間/バック層間の架橋反応速度を
促進させることができ、耐久性向上のための架橋反応時
間を短縮させることができる。3級アミンでは、例え
ば、Bruinsらの"Polyurethane Technology"p.25,Int-er
science(1960)に記載されているような、テトラメチル
ブタンジアミンや1,4ジアザビシクロ[2,2,2]
オクタンやトリエチルアミンなどが挙げられる。また金
属塩では、例えば、ジブチルすずジラウレート、オクト
エ酸すず、ナフテン酸コバルト、塩化第1すず、テトラ
−n−ブチルすず、塩化第2すず、トリメチルすずヒド
ロキシド、ジメチル2塩化すずなどが挙げられる。この
ような化合物は、例えば、磁気記録層あるいはこれに隣
接する層の塗布液中に本発明の架橋剤とともに添加した
後、塗布するか、または/さらに上記層の下層または/
さらに上層の塗布液中に添加しておいて、耐久性改良す
る層への該化合物の拡散を利用しても良い。前者の、耐
久性を改良したい層の塗布液中に本発明の架橋剤ととも
に上記化合物を添加する場合、塗布液が時間と共に、反
応進行により、増粘してくるので塗布適性の面から適当
な添加量を選ぶことが重要である。後者については、添
加量の制限を広くすることができる。
3級アミン、金属塩、DBU(1,8−ジアザ−ビシク
ロ[5,4,0]ウンデセン−7)の少なくとも1種類
以上を同時に使用することで、バック層そのもの、ある
いはバック層とベース間/バック層間の架橋反応速度を
促進させることができ、耐久性向上のための架橋反応時
間を短縮させることができる。3級アミンでは、例え
ば、Bruinsらの"Polyurethane Technology"p.25,Int-er
science(1960)に記載されているような、テトラメチル
ブタンジアミンや1,4ジアザビシクロ[2,2,2]
オクタンやトリエチルアミンなどが挙げられる。また金
属塩では、例えば、ジブチルすずジラウレート、オクト
エ酸すず、ナフテン酸コバルト、塩化第1すず、テトラ
−n−ブチルすず、塩化第2すず、トリメチルすずヒド
ロキシド、ジメチル2塩化すずなどが挙げられる。この
ような化合物は、例えば、磁気記録層あるいはこれに隣
接する層の塗布液中に本発明の架橋剤とともに添加した
後、塗布するか、または/さらに上記層の下層または/
さらに上層の塗布液中に添加しておいて、耐久性改良す
る層への該化合物の拡散を利用しても良い。前者の、耐
久性を改良したい層の塗布液中に本発明の架橋剤ととも
に上記化合物を添加する場合、塗布液が時間と共に、反
応進行により、増粘してくるので塗布適性の面から適当
な添加量を選ぶことが重要である。後者については、添
加量の制限を広くすることができる。
【0013】本発明の透明磁気記録層は実質的に写真画
質に影響を与えない程度の透明性を有した磁気記録層の
ことで、ブルーフィルター透過濃度で0〜0.5、好ま
しくは0〜0.3、より好ましくは0〜0.15のもの
である。
質に影響を与えない程度の透明性を有した磁気記録層の
ことで、ブルーフィルター透過濃度で0〜0.5、好ま
しくは0〜0.3、より好ましくは0〜0.15のもの
である。
【0014】本発明で用いられる透明磁気記録層に含有
される磁性粒子は、γ−Fe2 O3などの強磁性酸化鉄
(FeOx、 4/3<x≦ 3/2) 、Co被着γ−Fe2 O
3 などのCo被着強磁性酸化鉄(FeOx、 4/3<x≦
3/2) 、Co被着マグネタイト、その他Co含有の強磁
性酸化鉄、Co含有マグネタイト、強磁性二酸化クロ
ム、強磁性金属、強磁性合金、さらにその他のフェライ
ト、例えば六方晶系のBaフェライト、Srフェライ
ト、Pbフェライト、Caフェライトあるいはこれらの
固溶体またはイオン置換体などを使用できる。これらの
強磁性粉末の製法は既知であり、本発明で用いられる強
磁性体についても公知の方法にしたがって製造すること
ができる。
される磁性粒子は、γ−Fe2 O3などの強磁性酸化鉄
(FeOx、 4/3<x≦ 3/2) 、Co被着γ−Fe2 O
3 などのCo被着強磁性酸化鉄(FeOx、 4/3<x≦
3/2) 、Co被着マグネタイト、その他Co含有の強磁
性酸化鉄、Co含有マグネタイト、強磁性二酸化クロ
ム、強磁性金属、強磁性合金、さらにその他のフェライ
ト、例えば六方晶系のBaフェライト、Srフェライ
ト、Pbフェライト、Caフェライトあるいはこれらの
固溶体またはイオン置換体などを使用できる。これらの
強磁性粉末の製法は既知であり、本発明で用いられる強
磁性体についても公知の方法にしたがって製造すること
ができる。
【0015】強磁性体の形状としては針状、米粒状、球
状、立方体状、板状等いずれでもよいが、針状が電磁変
換特性上好ましい。粒子サイズ、比表面積は特に制限は
ないが、比表面積はSBET で20m2 /g以上が好まし
く、30m2 /g以上が特に好ましい。粒子サイズは、
針状の場合は長軸が0.01〜0.8μm、短軸は0.
005〜0.4μmで長軸と短軸の比は100:1〜
2:1が好ましく、更に長軸は0.04〜0.4μm、
短軸は0.01〜0.1μmがより好ましく長軸と短軸
の比は100:1〜3:1がより好ましい。磁性体の粒
子サイズ分布はできるだけシャープな方が好ましい。そ
して、塗膜中の磁性体の粒子は一次粒子であっても鎖状
結合をしていてもよい。
状、立方体状、板状等いずれでもよいが、針状が電磁変
換特性上好ましい。粒子サイズ、比表面積は特に制限は
ないが、比表面積はSBET で20m2 /g以上が好まし
く、30m2 /g以上が特に好ましい。粒子サイズは、
針状の場合は長軸が0.01〜0.8μm、短軸は0.
005〜0.4μmで長軸と短軸の比は100:1〜
2:1が好ましく、更に長軸は0.04〜0.4μm、
短軸は0.01〜0.1μmがより好ましく長軸と短軸
の比は100:1〜3:1がより好ましい。磁性体の粒
子サイズ分布はできるだけシャープな方が好ましい。そ
して、塗膜中の磁性体の粒子は一次粒子であっても鎖状
結合をしていてもよい。
【0016】強磁性体の飽和磁化(σs )は大きいほど
好ましいが、50emu/g以上、さらに好ましくは70em
u/g以上である。また、強磁性体の角型比(σr /σs
)は40%以上、さらには45%以上が好ましい。保
磁力(Hc)は小さすぎると消去されやすく、大きすぎ
るとシステムによっては書き込めなくなるため適度な値
が好ましく、200 Oe 以上3000 Oe 以下、好まし
くは500 Oe 以上2000 Oe 以下である。
好ましいが、50emu/g以上、さらに好ましくは70em
u/g以上である。また、強磁性体の角型比(σr /σs
)は40%以上、さらには45%以上が好ましい。保
磁力(Hc)は小さすぎると消去されやすく、大きすぎ
るとシステムによっては書き込めなくなるため適度な値
が好ましく、200 Oe 以上3000 Oe 以下、好まし
くは500 Oe 以上2000 Oe 以下である。
【0017】これらの強磁性体粒子を、例えば特開昭5
9−23505や特開平4−096052記載のものな
どのような、シリカおよび/またはアルミナで表面処理
してもよい。また、特開平4−195726、同4−1
92116、同4−259911、同5−081652
記載のような無機および/または有機の素材による表面
処理を施してもよい。さらに、これらの強磁性体粒子は
その表面にシランカップリング剤又はチタンカップリン
グ剤で処理されてもよい。カップリング剤としては例え
ば特公平1−261469や、特願平4−317118
に記載されているような既知の素材が使え、例えば、3
−メルカプトプロピル トリメトキシシラン、3−イソ
シアニルプロピル メチルジメトキシシラン、3−(ポ
リ(重合度10)オキシエチニル)オキシプロピル ト
リメトキシシラン、3−メトキシ(ポリ(重合度6)オ
キシエチニル)オキシプロピル トリメトキシシラン、
デシルトリメトキシシランなどが用いられる。これらの
シランカップリング剤及びチタンカップリング剤の磁気
粒子に対する添加量は1.0〜200重量%が好まし
く、これより少ないと液安定性の点で劣り多過ぎても同
様に液安定性が悪い。好ましくは1〜75重量%であ
り、より好ましくは2〜50重量%である。又、本発明
のこれらのシランカップリング剤及びチタンカップリン
グ剤の添加は一般に知られている方法で本発明の磁気粒
子に処理され、その表面を修飾し磁気材料の塗布液安定
性を付与することができる。即ち、特開平6−1610
32号公報に記載されているように、磁気粒子への直接
処理方法やインテグラルブレンド法によって処理され、
直接法には乾式法、スラリー法、スプレー法がある。乾
式法では例えば、磁気粒子と少量の水、または有機溶
剤、または水を含有する有機溶剤およびカップリング剤
を混合しオープンニーダーで攪拌して水、有機溶剤を除
去した後、更に微細分散するのが好ましい。
9−23505や特開平4−096052記載のものな
どのような、シリカおよび/またはアルミナで表面処理
してもよい。また、特開平4−195726、同4−1
92116、同4−259911、同5−081652
記載のような無機および/または有機の素材による表面
処理を施してもよい。さらに、これらの強磁性体粒子は
その表面にシランカップリング剤又はチタンカップリン
グ剤で処理されてもよい。カップリング剤としては例え
ば特公平1−261469や、特願平4−317118
に記載されているような既知の素材が使え、例えば、3
−メルカプトプロピル トリメトキシシラン、3−イソ
シアニルプロピル メチルジメトキシシラン、3−(ポ
リ(重合度10)オキシエチニル)オキシプロピル ト
リメトキシシラン、3−メトキシ(ポリ(重合度6)オ
キシエチニル)オキシプロピル トリメトキシシラン、
デシルトリメトキシシランなどが用いられる。これらの
シランカップリング剤及びチタンカップリング剤の磁気
粒子に対する添加量は1.0〜200重量%が好まし
く、これより少ないと液安定性の点で劣り多過ぎても同
様に液安定性が悪い。好ましくは1〜75重量%であ
り、より好ましくは2〜50重量%である。又、本発明
のこれらのシランカップリング剤及びチタンカップリン
グ剤の添加は一般に知られている方法で本発明の磁気粒
子に処理され、その表面を修飾し磁気材料の塗布液安定
性を付与することができる。即ち、特開平6−1610
32号公報に記載されているように、磁気粒子への直接
処理方法やインテグラルブレンド法によって処理され、
直接法には乾式法、スラリー法、スプレー法がある。乾
式法では例えば、磁気粒子と少量の水、または有機溶
剤、または水を含有する有機溶剤およびカップリング剤
を混合しオープンニーダーで攪拌して水、有機溶剤を除
去した後、更に微細分散するのが好ましい。
【0018】上記磁性体を後述するバインダ−中に分散
する方法は、例えば特願平4−189652の他、種々
の公知の手段が可能であるが、ニーダー、ピン型ミル、
アニュラー型ミルなどが好ましく、ニーダーとピン型ミ
ル、もしくはニーダーとアニュラー型ミルの併用も好ま
しい。ニーダーとしては、開放型(オープン)、密閉
型、連続型などがあり、その他3本ロールミル、ラボプ
ラストミル等の混練機も用いられる。また、分散に際し
て特開平5−088283記載の分散剤や、その他の公
知の分散剤が使用できる。
する方法は、例えば特願平4−189652の他、種々
の公知の手段が可能であるが、ニーダー、ピン型ミル、
アニュラー型ミルなどが好ましく、ニーダーとピン型ミ
ル、もしくはニーダーとアニュラー型ミルの併用も好ま
しい。ニーダーとしては、開放型(オープン)、密閉
型、連続型などがあり、その他3本ロールミル、ラボプ
ラストミル等の混練機も用いられる。また、分散に際し
て特開平5−088283記載の分散剤や、その他の公
知の分散剤が使用できる。
【0019】磁気記録層の厚みは0.1μ〜10μ、好
ましくは0.2μ〜5μ、より好ましくは0.3μ〜3
μである。磁気粒子とバインダーの重量比は好ましくは
0.5:100〜60:100からなり、より好ましく
は1:100〜30:100である。磁性体としての塗
布量は0.005〜3g/m2、好ましくは0.01〜2g/
m2、さらに好ましくは0.02〜0.5g/m2である。磁
気記録層を付与したフイルムとしての保磁力は500 O
e 以上3000 Oe以下、好ましくは800 Oe 以上1
500 Oe 以下である。
ましくは0.2μ〜5μ、より好ましくは0.3μ〜3
μである。磁気粒子とバインダーの重量比は好ましくは
0.5:100〜60:100からなり、より好ましく
は1:100〜30:100である。磁性体としての塗
布量は0.005〜3g/m2、好ましくは0.01〜2g/
m2、さらに好ましくは0.02〜0.5g/m2である。磁
気記録層を付与したフイルムとしての保磁力は500 O
e 以上3000 Oe以下、好ましくは800 Oe 以上1
500 Oe 以下である。
【0020】本発明の磁気記録層は、写真用支持体のバ
ック面に全面またはストライプ状に設けることができ
る。また、磁性粒子を分散したバインダーの溶液と支持
体作成用のバインダーの溶液を全面又はストライプ状に
共流延して磁気記録層を有する支持体を作成することも
できる。この場合、2種類のポリマーの組成は異なって
もよいが同一にするのが好ましい。支持体上に塗布され
た磁気記録層は必要により層中の磁性材料を直ちに乾燥
しながら配向させる処理を施したのち、形成した磁気記
録層を乾燥する。磁性体を配向させるには永久磁石やソ
レノイドコイルを用いる方法がある。永久磁石の強度は
2000 Oe 以上が好ましく、3000 Oe 以上が特に
好ましい。ソレノイドの場合は500 Oe 以上でもよ
い。また、乾燥時の配向のタイミングは特願平5−00
5822に記載されているように磁気記録層内の残留溶
剤が5%〜70%の地点が望ましい。又必要により表面
平滑化加工を施したりして、本発明の磁気記録層を製造
する。これらは、例えば、特公昭40−23625号公
報、特公昭39−28368号公報、米国特許第347
3960号明細書、等に示されている。又、特公昭41
−13181号公報に示される方法はこの分野における
基本的、且つ重要な技術と考えられる。
ック面に全面またはストライプ状に設けることができ
る。また、磁性粒子を分散したバインダーの溶液と支持
体作成用のバインダーの溶液を全面又はストライプ状に
共流延して磁気記録層を有する支持体を作成することも
できる。この場合、2種類のポリマーの組成は異なって
もよいが同一にするのが好ましい。支持体上に塗布され
た磁気記録層は必要により層中の磁性材料を直ちに乾燥
しながら配向させる処理を施したのち、形成した磁気記
録層を乾燥する。磁性体を配向させるには永久磁石やソ
レノイドコイルを用いる方法がある。永久磁石の強度は
2000 Oe 以上が好ましく、3000 Oe 以上が特に
好ましい。ソレノイドの場合は500 Oe 以上でもよ
い。また、乾燥時の配向のタイミングは特願平5−00
5822に記載されているように磁気記録層内の残留溶
剤が5%〜70%の地点が望ましい。又必要により表面
平滑化加工を施したりして、本発明の磁気記録層を製造
する。これらは、例えば、特公昭40−23625号公
報、特公昭39−28368号公報、米国特許第347
3960号明細書、等に示されている。又、特公昭41
−13181号公報に示される方法はこの分野における
基本的、且つ重要な技術と考えられる。
【0021】磁気記録層に、潤滑性向上、カール調節、
帯電防止、接着防止、ヘッド研磨、ゴミ付着防止などの
機能を合せ持たせてもよい。次に、本発明に用いられる
磁気記録層を含めたバック層のバインダーについて記
す。本発明に用いられるバインダーは公知の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、酸、アルカリ又は生分
解性ポリマー、天然物重合体(セルロース誘導体,糖誘
導体など)およびこれらの混合物を使用することができ
る。好ましい上記樹脂のTgは−40℃〜300℃、重
量平均分子量は0.2万〜100万、より好ましくは
0.5万〜30万である。
帯電防止、接着防止、ヘッド研磨、ゴミ付着防止などの
機能を合せ持たせてもよい。次に、本発明に用いられる
磁気記録層を含めたバック層のバインダーについて記
す。本発明に用いられるバインダーは公知の熱可塑性樹
脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂、酸、アルカリ又は生分
解性ポリマー、天然物重合体(セルロース誘導体,糖誘
導体など)およびこれらの混合物を使用することができ
る。好ましい上記樹脂のTgは−40℃〜300℃、重
量平均分子量は0.2万〜100万、より好ましくは
0.5万〜30万である。
【0022】上記熱可塑性樹脂としては、塩化ビニル・
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル、酢酸ビニルとビニル
アルコール、マレイン酸および/またはアクリル酸との
共重合体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニル・アクリロニトロル共重合体、エチレン・酢酸ビ
ニル共重合体などのビニル系共重合体、ニトロセルロー
ス、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
アセテートブチレート、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、エチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、アセ
チルジブチルアセテート、トリプロピオニルアセテー
ト、ジドデシルアセテートなどのセルロース誘導体、ア
クリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエ
ーテルポリウレタン、ポリカーボネート、ポリウレタン
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、アミノ樹脂、スチレンブタジエン樹脂、ブタジ
エンアクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン
系樹脂、フッ素系樹脂を挙げることができる。上記熱硬
化性樹脂または、反応型樹脂としては加熱により分子量
がきわめて大きくなる物で、たとえばフェノール樹脂、
フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、硬化型ポリウレタン樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコ
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹
脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエス
テル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、尿素
ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子量
ジオール/ポリイソシアネートの混合物、ポリアミン樹
脂、およびこれらの混合物が挙げられる。
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル、酢酸ビニルとビニル
アルコール、マレイン酸および/またはアクリル酸との
共重合体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重合体、塩化
ビニル・アクリロニトロル共重合体、エチレン・酢酸ビ
ニル共重合体などのビニル系共重合体、ニトロセルロー
ス、セルロースジアセテート、セルローストリアセテー
ト、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
アセテートブチレート、ヒドロキシプロピルセルロー
ス、エチルセルロース、メチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、アセ
チルジブチルアセテート、トリプロピオニルアセテー
ト、ジドデシルアセテートなどのセルロース誘導体、ア
クリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブ
チラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエ
ーテルポリウレタン、ポリカーボネート、ポリウレタン
樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、アミノ樹脂、スチレンブタジエン樹脂、ブタジ
エンアクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン
系樹脂、フッ素系樹脂を挙げることができる。上記熱硬
化性樹脂または、反応型樹脂としては加熱により分子量
がきわめて大きくなる物で、たとえばフェノール樹脂、
フェノキシ樹脂、エポキシ樹脂、硬化型ポリウレタン樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、シリコ
ン樹脂、アクリル系反応樹脂、エポキシ−ポリアミド樹
脂、ニトロセルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエス
テル樹脂とイソシアネートプレポリマーの混合物、尿素
ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高分子量
ジオール/ポリイソシアネートの混合物、ポリアミン樹
脂、およびこれらの混合物が挙げられる。
【0023】以上列挙のバインダー中に、極性基(エポ
キシ基、CO2 M、OH、NR2 、NR3 X、SO
3 M、OSO3 M、PO3 M2 、OPO3 M2 、ただし
Mは水素、アルカリ金属またはアンモニウムであり、一
つの基の中に複数のMがあるときは互いに異なっていて
もよい、Rは水素またはアルキル基である)を導入して
あってもよい。以上列挙のバインダーは単独または数種
混合で使用され、エポキシ系、アジリジン系、イソシア
ネート系の本発明でない公知の架橋剤を添加してあって
も良い。公知のイソシアネート系架橋剤としてはイソシ
アネート基を2個以上有するポリイソシアネート化合物
で、たとえばトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナ
フチレン−1,5−ジイソシアネート、o−トルイジン
ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリ
フェニルメタンジイソシアネートなどのイソシアネート
類、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの反
応生成物(例えば、トルレンジイソシアナート3mol
とトリメチロールプロパン1molの反応生成物)、及
びこれらのイソシアネート類の縮合により生成したポリ
イソシアネートなどが挙げられる。しかしながら、この
様な公知の架橋剤の添加だけでは、膜剥がれと現像処理
後の磁気記録/再生エラーの両者を充分に解決するには
至らなかった。両問題を解決する為には本発明の架橋剤
を別にバック層に含有させることが必要であった。特
に、後に説明する弗素系化合物をバック層中に含有させ
る場合、本発明でない公知の架橋剤を使用した時と比
べ、本発明の架橋剤の改良効果は顕著である。
キシ基、CO2 M、OH、NR2 、NR3 X、SO
3 M、OSO3 M、PO3 M2 、OPO3 M2 、ただし
Mは水素、アルカリ金属またはアンモニウムであり、一
つの基の中に複数のMがあるときは互いに異なっていて
もよい、Rは水素またはアルキル基である)を導入して
あってもよい。以上列挙のバインダーは単独または数種
混合で使用され、エポキシ系、アジリジン系、イソシア
ネート系の本発明でない公知の架橋剤を添加してあって
も良い。公知のイソシアネート系架橋剤としてはイソシ
アネート基を2個以上有するポリイソシアネート化合物
で、たとえばトリレンジイソシアネート、ヘキサメチレ
ンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、ナ
フチレン−1,5−ジイソシアネート、o−トルイジン
ジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリ
フェニルメタンジイソシアネートなどのイソシアネート
類、これらのイソシアネート類とポリアルコールとの反
応生成物(例えば、トルレンジイソシアナート3mol
とトリメチロールプロパン1molの反応生成物)、及
びこれらのイソシアネート類の縮合により生成したポリ
イソシアネートなどが挙げられる。しかしながら、この
様な公知の架橋剤の添加だけでは、膜剥がれと現像処理
後の磁気記録/再生エラーの両者を充分に解決するには
至らなかった。両問題を解決する為には本発明の架橋剤
を別にバック層に含有させることが必要であった。特
に、後に説明する弗素系化合物をバック層中に含有させ
る場合、本発明でない公知の架橋剤を使用した時と比
べ、本発明の架橋剤の改良効果は顕著である。
【0024】また、磁気記録層を構成するバインダーの
中で置換度1.7〜2.9のセルロースエステルが、有
機溶剤溶解性、透明性、乳材層との耐ブロッキング性、
夏期の車中に置かれたような高温にも耐え得る耐熱性と
いった数多くの利点を有するため特に好ましく用いられ
る。ここでいう置換度とはセルロースが1モノマー単位
あたりに有する3つの水酸基のうち、エステル置換され
た数を示しており、置換度2.0とは1モノマーあたり
1個の水酸基が残っていることを示している。置換度は
1.7〜2.9が好ましいが、より好ましくは2.0〜
2.8、さらに好ましくは2.2〜2.7である。本発
明におけるセルロースエステルとは、セルロースジアセ
テート、セルローストリアセテート、セルロースアセテ
ートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート
などのセルロースアセテート系や、硝酸セルロースや、
硫酸セルロースおよび、それらの混合エステル等がある
が、好ましいのはセルロースジアセテート、セルロース
アセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオ
ネート、硝酸セルロースである。本発明の架橋剤を使用
する際、磁気記録層バインダーが上記セルロースエステ
ルバインダーであることが、耐熱性等の理由で特に好ま
しい。
中で置換度1.7〜2.9のセルロースエステルが、有
機溶剤溶解性、透明性、乳材層との耐ブロッキング性、
夏期の車中に置かれたような高温にも耐え得る耐熱性と
いった数多くの利点を有するため特に好ましく用いられ
る。ここでいう置換度とはセルロースが1モノマー単位
あたりに有する3つの水酸基のうち、エステル置換され
た数を示しており、置換度2.0とは1モノマーあたり
1個の水酸基が残っていることを示している。置換度は
1.7〜2.9が好ましいが、より好ましくは2.0〜
2.8、さらに好ましくは2.2〜2.7である。本発
明におけるセルロースエステルとは、セルロースジアセ
テート、セルローストリアセテート、セルロースアセテ
ートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート
などのセルロースアセテート系や、硝酸セルロースや、
硫酸セルロースおよび、それらの混合エステル等がある
が、好ましいのはセルロースジアセテート、セルロース
アセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオ
ネート、硝酸セルロースである。本発明の架橋剤を使用
する際、磁気記録層バインダーが上記セルロースエステ
ルバインダーであることが、耐熱性等の理由で特に好ま
しい。
【0025】次に本発明において使用される支持体につ
いて記述する。本発明におけるフィルム支持体として
は、特に限定されないが、各種のプラスチックフィルム
が使用でき、好ましいものとしてはセルロース誘導体
(例えば、ジアセチル−、トリアセチル−、プロピオニ
ル−、ブタノイル−、アセチルプロピオニル−アセテー
トなど)、ポリアミド、ポリエステル、ポリカーボネー
ト等があるが、さらに好ましいのはポリエステルであ
る。その中でもポリエステル支持体のガラス転移温度
(Tg)が90℃以上200℃以下であるものが好まし
い。 ここで言うTgは、走査型示差熱分析計(DS
C)を用いて次のように定義する。まずサンプル10m
gを窒素気流中で昇温速度20℃/分で300℃まで昇
温した後、室温まで急冷する。その後20℃/分で再度
昇温した時にベースラインから偏奇しはじめる温度と新
たなベースラインに戻る温度の算術平均値をTgと定義
する。本発明のポリエステル支持体。本発明で用いられ
るポリエステルは、ジオール、とくにエチレンジグリコ
ールと芳香族ジカルボン酸、例えばテレフタル酸、イソ
フタル酸、フタル酸、無水フタル酸、ナフタレンジカル
ボン酸(2,6−、1,5−、1,4−、2,7−)と
の重縮合反応により得られる。
いて記述する。本発明におけるフィルム支持体として
は、特に限定されないが、各種のプラスチックフィルム
が使用でき、好ましいものとしてはセルロース誘導体
(例えば、ジアセチル−、トリアセチル−、プロピオニ
ル−、ブタノイル−、アセチルプロピオニル−アセテー
トなど)、ポリアミド、ポリエステル、ポリカーボネー
ト等があるが、さらに好ましいのはポリエステルであ
る。その中でもポリエステル支持体のガラス転移温度
(Tg)が90℃以上200℃以下であるものが好まし
い。 ここで言うTgは、走査型示差熱分析計(DS
C)を用いて次のように定義する。まずサンプル10m
gを窒素気流中で昇温速度20℃/分で300℃まで昇
温した後、室温まで急冷する。その後20℃/分で再度
昇温した時にベースラインから偏奇しはじめる温度と新
たなベースラインに戻る温度の算術平均値をTgと定義
する。本発明のポリエステル支持体。本発明で用いられ
るポリエステルは、ジオール、とくにエチレンジグリコ
ールと芳香族ジカルボン酸、例えばテレフタル酸、イソ
フタル酸、フタル酸、無水フタル酸、ナフタレンジカル
ボン酸(2,6−、1,5−、1,4−、2,7−)と
の重縮合反応により得られる。
【0026】好ましいのは2,6−ナフタレンジカルボ
ン酸を少なくとも全ジカルボン酸中に50モル%以上、
好ましくは70モル%以上含むポリエステルである。特
に好ましいのはポリエチレン2,6−ナフタレンジカル
ボキシレートである。
ン酸を少なくとも全ジカルボン酸中に50モル%以上、
好ましくは70モル%以上含むポリエステルである。特
に好ましいのはポリエチレン2,6−ナフタレンジカル
ボキシレートである。
【0027】これらのホモポリマーおよびコポリマー
は、従来公知のポリエステルの製造方法に従って合成で
きる。例えば酸成分をグリコール成分と直接エステル化
反応するか、または酸成分としてジアルキルエステルを
用いる場合は、まず、グリコール成分とエステル交換反
応をし、これを減圧下で加熱して余剰のグリコール成分
を除去することにより、合成することができる。あるい
は、酸成分を酸ハライドとしておき、グリコールと反応
させてもよい。この際、必要に応じて、エステル交換反
応、触媒あるいは重合反応触媒を用いたり、耐熱安定化
剤を添加してもよい。これらのポリエステル合成法につ
いては、例えば、高分子実験学第5巻「重縮合と重付
加」(共立出版、1980年)第103頁〜第136
頁、“合成高分子V”(朝倉書店、1971年)第18
7頁〜第286頁の記載を参考に行うことができる。
は、従来公知のポリエステルの製造方法に従って合成で
きる。例えば酸成分をグリコール成分と直接エステル化
反応するか、または酸成分としてジアルキルエステルを
用いる場合は、まず、グリコール成分とエステル交換反
応をし、これを減圧下で加熱して余剰のグリコール成分
を除去することにより、合成することができる。あるい
は、酸成分を酸ハライドとしておき、グリコールと反応
させてもよい。この際、必要に応じて、エステル交換反
応、触媒あるいは重合反応触媒を用いたり、耐熱安定化
剤を添加してもよい。これらのポリエステル合成法につ
いては、例えば、高分子実験学第5巻「重縮合と重付
加」(共立出版、1980年)第103頁〜第136
頁、“合成高分子V”(朝倉書店、1971年)第18
7頁〜第286頁の記載を参考に行うことができる。
【0028】これらのポリエステルの平均分子量の範囲
は約5000ないし200000であり、35℃のo−
クロモルフエノール中で測定したときの極限粘度は0.
4以上1.0以下、好ましくは0.45以上0.75以
下である。
は約5000ないし200000であり、35℃のo−
クロモルフエノール中で測定したときの極限粘度は0.
4以上1.0以下、好ましくは0.45以上0.75以
下である。
【0029】次に本発明に用いるポリエステルの好まし
い具体的化合物例を示すが、本発明がこれに限定される
ものではない。 ポリエステル化合物例 P−0:〔テレフタル酸(TPA)/エチレングリコール(EG)(100 /100)〕 (PET) Tg=80℃ P−1:〔2,6−ナフタレンジカルボン酸(NDCA)/エチレングリコー ル(EG)(100/100)〕(PEN) Tg=119℃ P−2:〔テレフタル酸(TPA)/シクロヘキサンジメタノール(CHDM )(100/100)〕 Tg=93℃ P−3:〔TPA/ビスフェノールA(BPA) (100/100)〕 Tg=192℃
い具体的化合物例を示すが、本発明がこれに限定される
ものではない。 ポリエステル化合物例 P−0:〔テレフタル酸(TPA)/エチレングリコール(EG)(100 /100)〕 (PET) Tg=80℃ P−1:〔2,6−ナフタレンジカルボン酸(NDCA)/エチレングリコー ル(EG)(100/100)〕(PEN) Tg=119℃ P−2:〔テレフタル酸(TPA)/シクロヘキサンジメタノール(CHDM )(100/100)〕 Tg=93℃ P−3:〔TPA/ビスフェノールA(BPA) (100/100)〕 Tg=192℃
【0030】 P−4: 2,6−NDCA/TPA/EG(50/50/100) Tg=92℃ P−5: 2,6−NDCA/TPA/EG(75/25/100) Tg=102℃ P−6: 2,6−NDCA/TPA/EG/BPA(50/50/75/ 25) Tg=112℃ P−7: TPA/EG/BPA(100/50/50)Tg=105℃ P−8: TPA/EG/BPA(100/25/75)Tg=135℃ P−9: TPA/EG/CHDM/BPA(100/25/25/50) Tg=115℃
【0031】本発明で用いられるこれらの支持体は、5
0μm以上300μm以下であり好ましくは、50〜2
00μmである。更には80〜115μmが好ましく、
特に好ましくは85〜〜105μmである。本発明で用
いられるポリエステル支持体は熱処理を施されることが
好ましい。
0μm以上300μm以下であり好ましくは、50〜2
00μmである。更には80〜115μmが好ましく、
特に好ましくは85〜〜105μmである。本発明で用
いられるポリエステル支持体は熱処理を施されることが
好ましい。
【0032】熱処理温度は40℃以上Tg未満、より好
ましくはTg−20℃以上Tg未満で熱処理を行う。所
要時間は0.1〜1500時間である。40℃未満で行
うと十分な巻き癖効果を得るためには長時間を要し工業
生産性が劣る。熱処理はこの温度範囲内の一定温度で実
施してもよく、冷却しながら熱処理してもよい。冷却の
平均冷却速度は−0.01〜−20℃/時間、より好ま
しくは−0.1〜−5℃/時間である。
ましくはTg−20℃以上Tg未満で熱処理を行う。所
要時間は0.1〜1500時間である。40℃未満で行
うと十分な巻き癖効果を得るためには長時間を要し工業
生産性が劣る。熱処理はこの温度範囲内の一定温度で実
施してもよく、冷却しながら熱処理してもよい。冷却の
平均冷却速度は−0.01〜−20℃/時間、より好ま
しくは−0.1〜−5℃/時間である。
【0033】巻き癖解消の効果をより一層増大させるに
は、この熱処理の前にTg以上融点(DSCで求めた融
解温度)未満の温度で熱処理をし、支持体の熱履歴を消
去させた後、上記40℃以上Tg未満の温度で再熱処理
を行うとよい。本発明では、この熱処理を「前熱処理」
と呼び、前項で述べた40℃以上Tg未満の熱処理を
「後熱処理」と呼び区別する。前熱処理温度はTg以上
融点未満、さらに好ましくはTg+20℃以上結晶化温
度(DSCで求めた結晶化温度)以下で行うのがよい。
前熱処理の時間は、0.1分〜1500時間である。こ
のような支持体の熱処理は、ロール状で実施してもよ
く、またウェブ状で搬送しながら実施してもよい。これ
らの熱処理は支持体製膜後、UV・グロ−放電・コロナ
・火炎処理後、バック層塗布後(帯電防止剤、滑り剤
等)、下塗り塗布後のどこの段階で実施してもよい。好
ましいのは帯電防止剤塗布後である。これにより熱処理
中の支持体の面状故障となる帯電によるゴミの付着を防
ぐことができる。
は、この熱処理の前にTg以上融点(DSCで求めた融
解温度)未満の温度で熱処理をし、支持体の熱履歴を消
去させた後、上記40℃以上Tg未満の温度で再熱処理
を行うとよい。本発明では、この熱処理を「前熱処理」
と呼び、前項で述べた40℃以上Tg未満の熱処理を
「後熱処理」と呼び区別する。前熱処理温度はTg以上
融点未満、さらに好ましくはTg+20℃以上結晶化温
度(DSCで求めた結晶化温度)以下で行うのがよい。
前熱処理の時間は、0.1分〜1500時間である。こ
のような支持体の熱処理は、ロール状で実施してもよ
く、またウェブ状で搬送しながら実施してもよい。これ
らの熱処理は支持体製膜後、UV・グロ−放電・コロナ
・火炎処理後、バック層塗布後(帯電防止剤、滑り剤
等)、下塗り塗布後のどこの段階で実施してもよい。好
ましいのは帯電防止剤塗布後である。これにより熱処理
中の支持体の面状故障となる帯電によるゴミの付着を防
ぐことができる。
【0034】これら支持体は、柔軟性付与等の目的で可
塑剤を添加、使用されることもある。特にセルロースエ
ステルでは、トリフェニルフォスフェート、ビフェニル
ジフェニルフォスフェート、ジメチルエチルフォスフェ
ート等の可塑剤含有物が通常使用される。支持体はベー
ス色味のニュートラル化、ライトパイピング防止、ハレ
ーション防止などの目的のために染料を含有してもよ
い。これら支持体上に写真層(例えば、感光性ハロゲン
化銀乳剤層、中間層、フィルター層、磁気記録層、導電
性層)を強固に接着させるために、薬品処理、機械的処
理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処
理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処
理、混酸処理、オゾン酸化処理などの表面活性化処理を
した後、直接写真乳剤を塗布して接着力を得ても良い
し、一旦これらの表面処理をした後、あるいは表面処理
無しで下塗り層を設け、この上に写真乳剤層を塗布して
も良い。さらに、下塗り層について記する。セルロース
誘導体に対しては、メチレンクロライド/ケトン/アル
コール混合系有機溶媒に分散したゼラチン液を単層塗布
し、下塗り層を付与するのが用いられる。
塑剤を添加、使用されることもある。特にセルロースエ
ステルでは、トリフェニルフォスフェート、ビフェニル
ジフェニルフォスフェート、ジメチルエチルフォスフェ
ート等の可塑剤含有物が通常使用される。支持体はベー
ス色味のニュートラル化、ライトパイピング防止、ハレ
ーション防止などの目的のために染料を含有してもよ
い。これら支持体上に写真層(例えば、感光性ハロゲン
化銀乳剤層、中間層、フィルター層、磁気記録層、導電
性層)を強固に接着させるために、薬品処理、機械的処
理、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処
理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処
理、混酸処理、オゾン酸化処理などの表面活性化処理を
した後、直接写真乳剤を塗布して接着力を得ても良い
し、一旦これらの表面処理をした後、あるいは表面処理
無しで下塗り層を設け、この上に写真乳剤層を塗布して
も良い。さらに、下塗り層について記する。セルロース
誘導体に対しては、メチレンクロライド/ケトン/アル
コール混合系有機溶媒に分散したゼラチン液を単層塗布
し、下塗り層を付与するのが用いられる。
【0035】ポリエステル系支持体に対しては、第1層
として支持体によく接着する層(以下下塗第1層と略
す)を設け、そのうえに第2層として写真層とよく接着
する親水性の樹脂層(以下、下塗第2層と略す)を塗布
するいわゆる重層法と、疎水性基と親水性基の両方を含
有する樹脂層を一層のみ塗布する単層法とがある。重層
法における下塗第1層では、例えば、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、ブタジエン、メタクリル酸、アクリル酸、
イタコン酸、無水マレイン酸等の中から選ばれた単量体
を出発原料とする共重合体を始めとして、ポリエチレン
イミン、エポキシ樹脂、グラフト化ゼラチン、ニトロセ
ルロース等のポリマーを用いる事が出来る。また、下塗
第2層では、主としてゼラチンが検討されている。ま
た、単層法においては、多くは支持体を膨潤させ、親水
性下塗ポリマーと界面混合させる事によって良好な接着
性を達成する方法が多く用いられる。この親水性下塗ポ
リマーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、ガゼイ
ン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニルア
ルコール、ポリアクリル酸共重合体、無水マレイン酸共
重合体などの水溶性ポリマー、カルボキシメチルセルロ
ース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロースエス
テル、塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニリデン含有共
重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニル
含有共重合体、酢酸ビニル含有共重合体等のラテックス
ポリマーなどが用いられる。このうち好ましいのはゼラ
チンである。また、本発明に使用される支持体を膨潤さ
せる化合物として、レゾルシン、クロルレゾルシン、o
−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、フェ
ノール、o−クロルフェノール、p−クロルフェノー
ル、ジクロルフェノール、トリクロルフェノール、モノ
クロル酢酸、ジクロル酢酸、トリフルオロ酢酸、抱水ク
ロラール等が用いられる。この中で好ましいのはレゾル
シンとp−クロルフェノールである。
として支持体によく接着する層(以下下塗第1層と略
す)を設け、そのうえに第2層として写真層とよく接着
する親水性の樹脂層(以下、下塗第2層と略す)を塗布
するいわゆる重層法と、疎水性基と親水性基の両方を含
有する樹脂層を一層のみ塗布する単層法とがある。重層
法における下塗第1層では、例えば、塩化ビニル、塩化
ビニリデン、ブタジエン、メタクリル酸、アクリル酸、
イタコン酸、無水マレイン酸等の中から選ばれた単量体
を出発原料とする共重合体を始めとして、ポリエチレン
イミン、エポキシ樹脂、グラフト化ゼラチン、ニトロセ
ルロース等のポリマーを用いる事が出来る。また、下塗
第2層では、主としてゼラチンが検討されている。ま
た、単層法においては、多くは支持体を膨潤させ、親水
性下塗ポリマーと界面混合させる事によって良好な接着
性を達成する方法が多く用いられる。この親水性下塗ポ
リマーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、ガゼイ
ン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニルア
ルコール、ポリアクリル酸共重合体、無水マレイン酸共
重合体などの水溶性ポリマー、カルボキシメチルセルロ
ース、ヒドロキシエチルセルロース等のセルロースエス
テル、塩化ビニル含有共重合体、塩化ビニリデン含有共
重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニル
含有共重合体、酢酸ビニル含有共重合体等のラテックス
ポリマーなどが用いられる。このうち好ましいのはゼラ
チンである。また、本発明に使用される支持体を膨潤さ
せる化合物として、レゾルシン、クロルレゾルシン、o
−クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、フェ
ノール、o−クロルフェノール、p−クロルフェノー
ル、ジクロルフェノール、トリクロルフェノール、モノ
クロル酢酸、ジクロル酢酸、トリフルオロ酢酸、抱水ク
ロラール等が用いられる。この中で好ましいのはレゾル
シンとp−クロルフェノールである。
【0036】上記の親水性下塗ポリマーは、硬化剤とし
て、前述の親水性ポリマー硬膜剤を使用することができ
る。下塗り液には、必要に応じて各種の添加剤を含有さ
せることができる。例えば、界面活性剤、帯電防止剤、
アンチハレーション剤着色用染料、顔料、塗布助剤、カ
ブレ防止剤等である。本発明の下塗層にはSiO2 、T
iO2 の如き無機物微粒子またはポリメチルメタクリレ
ート共重合体微粒子(1〜10μm)をマット剤として
含有することができる。本発明に関わる下塗り液は、一
般によく知られた塗布方法、例えばディップコート法、
エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコ
ート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、或
いは米国特許第2,681,294号明細書に記載のホ
ッパーを使用するエクストルージョンコート法等により
塗布することができる。必要に応じて、米国特許第2,
761,791号、3,508,947号、2,94
1,898号、及び3,526,528号明細書、原崎
勇次著「コーティング工学」253頁(1973年朝倉
書店発行)等に記載された方法により2層以上の層を同
時に塗布することができる。
て、前述の親水性ポリマー硬膜剤を使用することができ
る。下塗り液には、必要に応じて各種の添加剤を含有さ
せることができる。例えば、界面活性剤、帯電防止剤、
アンチハレーション剤着色用染料、顔料、塗布助剤、カ
ブレ防止剤等である。本発明の下塗層にはSiO2 、T
iO2 の如き無機物微粒子またはポリメチルメタクリレ
ート共重合体微粒子(1〜10μm)をマット剤として
含有することができる。本発明に関わる下塗り液は、一
般によく知られた塗布方法、例えばディップコート法、
エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコ
ート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、或
いは米国特許第2,681,294号明細書に記載のホ
ッパーを使用するエクストルージョンコート法等により
塗布することができる。必要に応じて、米国特許第2,
761,791号、3,508,947号、2,94
1,898号、及び3,526,528号明細書、原崎
勇次著「コーティング工学」253頁(1973年朝倉
書店発行)等に記載された方法により2層以上の層を同
時に塗布することができる。
【0037】また、処理によってもその導電性を失わな
い帯電防止剤として、ZnO、TiO3 、SnO2 、A
l2 O3 、In2 O3 、SiO2 、MgO、BaO、M
oO3 、V2 O5 の中から選ばれた少なくとも一種の結
晶性の金属酸化物あるいはこれらの複合酸化物の微粒子
を用いる事は、特に好ましい。特に好ましいのは、Sn
O2 を主成分とし酸化アンチモンを約5〜20%含有さ
せ及び/またはさらに他成分(例えば酸化珪素、ホウ
素、リンなど)を含有させた導電性材料である。これら
の導電性の結晶性酸化物またはその複合酸化物の微粒子
はその体積抵抗率が107 オーム・cm以下、より好ま
しくは105 オーム・cm以下である。またその粒子サ
イズは一次粒子として長軸径が0.005〜0.7μ
m、特に0.005〜0.3μmであることが好まし
い。これらの帯電防止剤は、感材層の少なくとも一層に
存在させればよく、例えばバック側の下塗り層、バック
層の一部(バック最外層を含む)、乳剤側の下塗り層、
乳剤層の一部、中間層または乳剤側最外層をあげる事が
できる。特に、磁気再生時の静電ノイズを極力おさえる
為に、バック側の磁気記録層より内層に存在させること
が好ましい。その際用いられるバインダーは特に限定さ
れず、水溶性のバインダーでもよく、有機溶剤に可溶な
バインダーでもよく、あるいはラテックスのように架橋
されていても良い。又、これらの導電性金属酸化物の存
在は一次粒子が一部凝集した形態が好ましい。上記帯電
防止剤を含む帯電防止層を有する感材の体積抵抗率は1
012オーム・cm以下、好ましくは1010オーム・cm
以下にすることが種々の点で好ましい。
い帯電防止剤として、ZnO、TiO3 、SnO2 、A
l2 O3 、In2 O3 、SiO2 、MgO、BaO、M
oO3 、V2 O5 の中から選ばれた少なくとも一種の結
晶性の金属酸化物あるいはこれらの複合酸化物の微粒子
を用いる事は、特に好ましい。特に好ましいのは、Sn
O2 を主成分とし酸化アンチモンを約5〜20%含有さ
せ及び/またはさらに他成分(例えば酸化珪素、ホウ
素、リンなど)を含有させた導電性材料である。これら
の導電性の結晶性酸化物またはその複合酸化物の微粒子
はその体積抵抗率が107 オーム・cm以下、より好ま
しくは105 オーム・cm以下である。またその粒子サ
イズは一次粒子として長軸径が0.005〜0.7μ
m、特に0.005〜0.3μmであることが好まし
い。これらの帯電防止剤は、感材層の少なくとも一層に
存在させればよく、例えばバック側の下塗り層、バック
層の一部(バック最外層を含む)、乳剤側の下塗り層、
乳剤層の一部、中間層または乳剤側最外層をあげる事が
できる。特に、磁気再生時の静電ノイズを極力おさえる
為に、バック側の磁気記録層より内層に存在させること
が好ましい。その際用いられるバインダーは特に限定さ
れず、水溶性のバインダーでもよく、有機溶剤に可溶な
バインダーでもよく、あるいはラテックスのように架橋
されていても良い。又、これらの導電性金属酸化物の存
在は一次粒子が一部凝集した形態が好ましい。上記帯電
防止剤を含む帯電防止層を有する感材の体積抵抗率は1
012オーム・cm以下、好ましくは1010オーム・cm
以下にすることが種々の点で好ましい。
【0038】また、本発明のバック層にマット剤を組み
込む事は、ベースハンドリング時に生じるきしみ、傷の
発生、及びベースの下塗面とバック面とのブロッキング
や、乳剤面とバック面とのブロッキングを抑えるという
点で好ましい。また、フイルムバック表面に付着した汚
れ(現像処理液成分やほこりや手垢など)が磁気ヘッド
表面に転写することを防止できる点で好ましい。本発明
で用いる事の出来るマット剤としては、特に限定されな
いが、無機化合物もしくはガラス転移温度(Tg)が5
0℃以上の高分子化合物である。これらのマット剤は2
種以上混ぜて用いることもできる。これらのマット剤と
して用いられる無機化合物としては、例えば、硫酸バリ
ウム、マンガンコロイド、二酸化チタン、硫酸ストロン
チウムバリウム、二酸化ケイ素などの無機物の微粉末、
更に例えば湿式法やケイ酸のゲル化より得られる合成シ
リカ等の二酸化ケイ素やチタンスラッグと硫酸により生
成する二酸化チタン(ルチル型やアナタース型)等があ
げられる。また、粒径の比較的大きい、例えば20μm
以上の無機物から粉砕した後、分級(振動ろ過、風力分
級など)する事によっても得られる。
込む事は、ベースハンドリング時に生じるきしみ、傷の
発生、及びベースの下塗面とバック面とのブロッキング
や、乳剤面とバック面とのブロッキングを抑えるという
点で好ましい。また、フイルムバック表面に付着した汚
れ(現像処理液成分やほこりや手垢など)が磁気ヘッド
表面に転写することを防止できる点で好ましい。本発明
で用いる事の出来るマット剤としては、特に限定されな
いが、無機化合物もしくはガラス転移温度(Tg)が5
0℃以上の高分子化合物である。これらのマット剤は2
種以上混ぜて用いることもできる。これらのマット剤と
して用いられる無機化合物としては、例えば、硫酸バリ
ウム、マンガンコロイド、二酸化チタン、硫酸ストロン
チウムバリウム、二酸化ケイ素などの無機物の微粉末、
更に例えば湿式法やケイ酸のゲル化より得られる合成シ
リカ等の二酸化ケイ素やチタンスラッグと硫酸により生
成する二酸化チタン(ルチル型やアナタース型)等があ
げられる。また、粒径の比較的大きい、例えば20μm
以上の無機物から粉砕した後、分級(振動ろ過、風力分
級など)する事によっても得られる。
【0039】また、高分子化合物としては、ポリテトラ
フルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリ
レート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボ
ネート、でんぷん等があり、またそれらの粉砕分級物も
あげられる。また、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル、イタコン酸ジエステル、クロトン酸エステ
ル、マレイン酸ジエステル、フタル酸ジエステル、スチ
レン誘導体、ビニルエステル類、アクリルアミド類、ビ
ニルエーテル類、アリル化合物、ビニルケトン類、ビニ
ル異節環化合物、アリル化合物、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、多官能モノマー類、等の単量体の1
種または2種以上の重合体である高分子化合物を種々の
手段例えば懸濁重合法、スプレードライ法、あるいは分
散法等によって粒子としたものであっても良い。これら
のマット剤は1次粒子として塗膜中に存在しても、2次
凝集粒子として塗膜中に存在してもよい。その時の粒径
は、平均粒径0.1〜1.5μm、より好ましくは0.
3〜1.0μmである。また、含有量は、1〜1000
mg/m2 であり、好ましくは3〜300mg/m2 で
あり、更に好ましくは5〜100mg/m2 である。
フルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレ
ン、ポリメチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリ
レート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボ
ネート、でんぷん等があり、またそれらの粉砕分級物も
あげられる。また、アクリル酸エステル、メタクリル酸
エステル、イタコン酸ジエステル、クロトン酸エステ
ル、マレイン酸ジエステル、フタル酸ジエステル、スチ
レン誘導体、ビニルエステル類、アクリルアミド類、ビ
ニルエーテル類、アリル化合物、ビニルケトン類、ビニ
ル異節環化合物、アリル化合物、アクリロニトリル、メ
タクリロニトリル、多官能モノマー類、等の単量体の1
種または2種以上の重合体である高分子化合物を種々の
手段例えば懸濁重合法、スプレードライ法、あるいは分
散法等によって粒子としたものであっても良い。これら
のマット剤は1次粒子として塗膜中に存在しても、2次
凝集粒子として塗膜中に存在してもよい。その時の粒径
は、平均粒径0.1〜1.5μm、より好ましくは0.
3〜1.0μmである。また、含有量は、1〜1000
mg/m2 であり、好ましくは3〜300mg/m2 で
あり、更に好ましくは5〜100mg/m2 である。
【0040】さらに、本発明のバック層に研磨剤を組み
込む事は、万一磁気ヘッド表面に汚れが付着した場合、
これを除去できる点で好ましい。また、傷ついたり、酸
化してしまった磁気ヘッド表面を研磨でき、フイルムと
磁気ヘッドとの接触を良好にできるうえ、磁気ヘッドの
性能を回復させる点で好ましい。本発明で用いる研磨剤
としてはモース硬度が5以上の非球形無機粒子であるこ
とが磁気ヘッドについた汚れを効率よくクリーニングす
る点で望ましい。非球形無機粒子の組成としては、酸化
アルミニウム(α−アルミナ、γ−アルミナ、コランダ
ム等)、酸化クロム(Cr2 O3 )、酸化鉄(α−Fe
2 O3 )、二酸化珪素、二酸化チタン、シリコンカーバ
イト(SiC)等の酸化物、炭化珪素、炭化チタン等の
炭化物、ダイヤモンド等の微粉末が好ましく、さらに好
ましくは酸化アルミニウム、酸化クロムが良い。これら
の研磨剤は1次粒子として塗膜中に存在しても、2次凝
集粒子(鎖状構造)として塗膜中に存在してもよい。そ
の時の粒径は、平均粒径0.1〜1.5μm 、より好ま
しくは0.3〜1.0μm である。また、含有量は1〜
1000mg/m2 であり、好ましくは3〜300mg
/m2 であり、さらに好ましくは5〜100mg/m2
である。
込む事は、万一磁気ヘッド表面に汚れが付着した場合、
これを除去できる点で好ましい。また、傷ついたり、酸
化してしまった磁気ヘッド表面を研磨でき、フイルムと
磁気ヘッドとの接触を良好にできるうえ、磁気ヘッドの
性能を回復させる点で好ましい。本発明で用いる研磨剤
としてはモース硬度が5以上の非球形無機粒子であるこ
とが磁気ヘッドについた汚れを効率よくクリーニングす
る点で望ましい。非球形無機粒子の組成としては、酸化
アルミニウム(α−アルミナ、γ−アルミナ、コランダ
ム等)、酸化クロム(Cr2 O3 )、酸化鉄(α−Fe
2 O3 )、二酸化珪素、二酸化チタン、シリコンカーバ
イト(SiC)等の酸化物、炭化珪素、炭化チタン等の
炭化物、ダイヤモンド等の微粉末が好ましく、さらに好
ましくは酸化アルミニウム、酸化クロムが良い。これら
の研磨剤は1次粒子として塗膜中に存在しても、2次凝
集粒子(鎖状構造)として塗膜中に存在してもよい。そ
の時の粒径は、平均粒径0.1〜1.5μm 、より好ま
しくは0.3〜1.0μm である。また、含有量は1〜
1000mg/m2 であり、好ましくは3〜300mg
/m2 であり、さらに好ましくは5〜100mg/m2
である。
【0041】さらに、本発明のバック層にフッ素系化合
物(含フッ素化合物)を組み込む事は、バック層表面に
汚れが付着しにくくなり、従って磁気ヘッド表面に汚れ
が転写しにくくなるので、磁気入出力トラブルを低減で
きる点で好ましい。本発明に用いられる含フッ素化合物
は、少なくとも3個のフッ素原子をふくんだ化合物であ
り、界面活性剤であっても良く、又ポリマーであっても
良い。これらの化合物は又親水性基としてノニオン系、
アニオン系、カチオン系、ベタイン系の官能基を含有し
ていても良い。これらの官能基の中では、アニオン系、
カチオン系、ベタイン系が好ましいが、特に、アニオン
系が好ましい。特に好ましく用いられる含フッ素系化合
物は、含フッ素系界面活性剤であり、下記一般式(2)
で表される。 一般式(2) Rf −A−X 式中Rf は少なくとも3個のフッ素原子を含有する部分
フッ素化又は全フッ素化された置換、無置換のアルキル
基、アルケニル基、もしくはアリール基を表す。Aは二
価の連結基を表し、Xは水溶性基を表す。Aは、好まし
くはアルキル基、アリール基及びアルキルアリール基を
表し、これは酸素、エステル基アミド基、スルホニル
基、硫黄の如き異種原子で中断された二価の置換、無置
換の連結基であっても良い。Xは親水性基であり、例え
ば一般式 −(B−O)n5−R13 のポリオキシアルキレン基(ここでBは、−CH2 CH
2 −、−CH2 CH2 CH2 −又は−CH2 −CH(O
H)−CH2 −を表し、n5 はポリオキシアルキレン基
の平均重合度を表し、1〜50の数である。又R13は置
換、無置換のアルキル基、アリール基を表す)で表され
るノニオン基、親水性ベタイン基例えば−+N(R14)
(R15)−AIK−COO- 及び− +N(R14)
(R15)−AlK−SO3 - (式中AlKは炭素数1〜
5の低級アルキレン基、例えばメチレン、エチメン、プ
ロピレン、ブチレンを表し、R14、R15は炭素数1〜8
の置換、無置換のアルキル基、アリール基、例えばメチ
ル基、エチル基、ベンジル基等を表す)および親水性カ
チオン基、例えば − +N(R14)(R16)(R15)・Y- (式中、R14、R15、R16は前記R14と同義であり、Y
- は陰イオンを表し、ヒドロキシ基、ハロゲン基、硫酸
基、炭酸基、過塩素酸基、有機アルボン酸基、有機スル
ホン酸基、有機硫酸基等を表す)であり、および好まし
くは親水性アニオン基例えば、−SO3 M、−OSO3
M、−COOM、−O−PO(OM)2 −O−PO(O
M)(OARf )等が挙げられる。ここでMは無機又は
有機の陽イオンを表し、好ましくは水素原子、アルカリ
金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、低級アルキル
アミン等である。A及びRfは前記と同義である。とく
に好ましいのは、Aがスルホニル基であり、Xがポリオ
キシエチレン基で表わされる化合物である。本発明の代
表的な含フッ素化合物の具体例を以下に示す。
物(含フッ素化合物)を組み込む事は、バック層表面に
汚れが付着しにくくなり、従って磁気ヘッド表面に汚れ
が転写しにくくなるので、磁気入出力トラブルを低減で
きる点で好ましい。本発明に用いられる含フッ素化合物
は、少なくとも3個のフッ素原子をふくんだ化合物であ
り、界面活性剤であっても良く、又ポリマーであっても
良い。これらの化合物は又親水性基としてノニオン系、
アニオン系、カチオン系、ベタイン系の官能基を含有し
ていても良い。これらの官能基の中では、アニオン系、
カチオン系、ベタイン系が好ましいが、特に、アニオン
系が好ましい。特に好ましく用いられる含フッ素系化合
物は、含フッ素系界面活性剤であり、下記一般式(2)
で表される。 一般式(2) Rf −A−X 式中Rf は少なくとも3個のフッ素原子を含有する部分
フッ素化又は全フッ素化された置換、無置換のアルキル
基、アルケニル基、もしくはアリール基を表す。Aは二
価の連結基を表し、Xは水溶性基を表す。Aは、好まし
くはアルキル基、アリール基及びアルキルアリール基を
表し、これは酸素、エステル基アミド基、スルホニル
基、硫黄の如き異種原子で中断された二価の置換、無置
換の連結基であっても良い。Xは親水性基であり、例え
ば一般式 −(B−O)n5−R13 のポリオキシアルキレン基(ここでBは、−CH2 CH
2 −、−CH2 CH2 CH2 −又は−CH2 −CH(O
H)−CH2 −を表し、n5 はポリオキシアルキレン基
の平均重合度を表し、1〜50の数である。又R13は置
換、無置換のアルキル基、アリール基を表す)で表され
るノニオン基、親水性ベタイン基例えば−+N(R14)
(R15)−AIK−COO- 及び− +N(R14)
(R15)−AlK−SO3 - (式中AlKは炭素数1〜
5の低級アルキレン基、例えばメチレン、エチメン、プ
ロピレン、ブチレンを表し、R14、R15は炭素数1〜8
の置換、無置換のアルキル基、アリール基、例えばメチ
ル基、エチル基、ベンジル基等を表す)および親水性カ
チオン基、例えば − +N(R14)(R16)(R15)・Y- (式中、R14、R15、R16は前記R14と同義であり、Y
- は陰イオンを表し、ヒドロキシ基、ハロゲン基、硫酸
基、炭酸基、過塩素酸基、有機アルボン酸基、有機スル
ホン酸基、有機硫酸基等を表す)であり、および好まし
くは親水性アニオン基例えば、−SO3 M、−OSO3
M、−COOM、−O−PO(OM)2 −O−PO(O
M)(OARf )等が挙げられる。ここでMは無機又は
有機の陽イオンを表し、好ましくは水素原子、アルカリ
金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、低級アルキル
アミン等である。A及びRfは前記と同義である。とく
に好ましいのは、Aがスルホニル基であり、Xがポリオ
キシエチレン基で表わされる化合物である。本発明の代
表的な含フッ素化合物の具体例を以下に示す。
【0042】
【化5】
【0043】
【化6】
【0044】
【化7】
【0045】本発明で用いられるフッ素系化合物の使用
量の目安は、一般に写真感光材料1m2当たり0.1〜1
gが好ましく、0.5〜100mgがより好ましい。さら
に好ましくは、1〜30mg/m2であり、最も好ましくは
1.5〜15mg/m2である。本発明で用いられるフッ素
系化合物の添加場所としては、特に限定がなく、下塗り
層、帯電防止層、磁気記録層、滑り層などのどの層にあ
っても良いが、乳剤側及び/又はバック側の最表面層に
添加されることが好ましい。また、本発明のバック層に
は、そのほか、染料、界面活性剤等を含有する事が出来
る。
量の目安は、一般に写真感光材料1m2当たり0.1〜1
gが好ましく、0.5〜100mgがより好ましい。さら
に好ましくは、1〜30mg/m2であり、最も好ましくは
1.5〜15mg/m2である。本発明で用いられるフッ素
系化合物の添加場所としては、特に限定がなく、下塗り
層、帯電防止層、磁気記録層、滑り層などのどの層にあ
っても良いが、乳剤側及び/又はバック側の最表面層に
添加されることが好ましい。また、本発明のバック層に
は、そのほか、染料、界面活性剤等を含有する事が出来
る。
【0046】次に、本発明における滑り剤について詳述
する。本発明の滑り剤は、感光材料の表面層に含有され
る。この表面層は乳剤層の表面層でも良いが、写真感光
材料の取扱い時においては、バック面の方が各種機材と
直接接触する機会が多いため、バック面に滑り剤を含有
することが効果が大きい。本発明で用いられる滑り剤と
しては、ポリオルガノシロキサン、高級脂肪酸アミド、
高級脂肪酸エステル(炭素数10〜24の脂肪酸と炭素
数10〜24のアルコールのエステル)、高級脂肪酸金
属塩、また、直鎖高級脂肪酸と直鎖高級アルコールのエ
ステル、分岐アルキル基を含む高級脂肪酸−高級アルコ
ールエステル等が知られている。このうちポリオルガノ
シロキサンとしては、一般的に知られている、ポリジメ
チルシロキサンポリジエチルシロキサン等のポリアルキ
ルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、ポリメチル
フェニルシロキサン等のポリアリールシロキサンのほか
に、特公昭53−292,特公昭55−49294、特
開昭60−140341等に示されるような、C5以上
のアルキル基を持つオルガノポリシロキサン、側鎖にポ
リオキシアルキレン基を有するアルキルポリシロキサ
ン、側鎖にアルコキシ、ヒドロキシ、水素、カルボキシ
ル、アミノ、メルカプト基を有するようなオルガノポリ
シロキサン等の変性ポリシロキサンを用いることもでき
るし、シロキサンユニットを有するブロックコポリマー
や、特開昭60−191240に示されるようなシロキ
サンユニットを側鎖に持つグラフトコポリマーを用いる
こともできる。又、高級脂肪酸及びその誘導体、高級ア
ルコール及びその誘導体としては、高級脂肪酸、高級脂
肪酸の金属塩、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミ
ド、高級脂肪酸の多価アルコールエステル等、また、高
級脂肪族アルコール、高級脂肪族アルコールのモノアル
キルフォスファイト、ジアルキルフォスファイト、トリ
アルキルフォスファイト、モノアルキルフォスフェー
ト、ジアルキルフォスフェート、トリアルキルフォスフ
ェート、高級脂肪族のアルキルスルフォン酸、そのアミ
ド化合物またはその塩等を用いることができる。
する。本発明の滑り剤は、感光材料の表面層に含有され
る。この表面層は乳剤層の表面層でも良いが、写真感光
材料の取扱い時においては、バック面の方が各種機材と
直接接触する機会が多いため、バック面に滑り剤を含有
することが効果が大きい。本発明で用いられる滑り剤と
しては、ポリオルガノシロキサン、高級脂肪酸アミド、
高級脂肪酸エステル(炭素数10〜24の脂肪酸と炭素
数10〜24のアルコールのエステル)、高級脂肪酸金
属塩、また、直鎖高級脂肪酸と直鎖高級アルコールのエ
ステル、分岐アルキル基を含む高級脂肪酸−高級アルコ
ールエステル等が知られている。このうちポリオルガノ
シロキサンとしては、一般的に知られている、ポリジメ
チルシロキサンポリジエチルシロキサン等のポリアルキ
ルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、ポリメチル
フェニルシロキサン等のポリアリールシロキサンのほか
に、特公昭53−292,特公昭55−49294、特
開昭60−140341等に示されるような、C5以上
のアルキル基を持つオルガノポリシロキサン、側鎖にポ
リオキシアルキレン基を有するアルキルポリシロキサ
ン、側鎖にアルコキシ、ヒドロキシ、水素、カルボキシ
ル、アミノ、メルカプト基を有するようなオルガノポリ
シロキサン等の変性ポリシロキサンを用いることもでき
るし、シロキサンユニットを有するブロックコポリマー
や、特開昭60−191240に示されるようなシロキ
サンユニットを側鎖に持つグラフトコポリマーを用いる
こともできる。又、高級脂肪酸及びその誘導体、高級ア
ルコール及びその誘導体としては、高級脂肪酸、高級脂
肪酸の金属塩、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸アミ
ド、高級脂肪酸の多価アルコールエステル等、また、高
級脂肪族アルコール、高級脂肪族アルコールのモノアル
キルフォスファイト、ジアルキルフォスファイト、トリ
アルキルフォスファイト、モノアルキルフォスフェー
ト、ジアルキルフォスフェート、トリアルキルフォスフ
ェート、高級脂肪族のアルキルスルフォン酸、そのアミ
ド化合物またはその塩等を用いることができる。
【0047】とくに好ましい化合物の具体例を示す。
【0048】
【化8】
【0049】
【化9】
【0050】その含有量は十分な滑り、耐傷性を発現す
るためには0.001〜0.1g/m2 が好ましく、よ
り好ましくは0.005〜0.05g/m2 である。水
酸基、アミノ基を有するすべり剤はとくに好ましく、以
下に具体例を挙げるがこれに限定されない。
るためには0.001〜0.1g/m2 が好ましく、よ
り好ましくは0.005〜0.05g/m2 である。水
酸基、アミノ基を有するすべり剤はとくに好ましく、以
下に具体例を挙げるがこれに限定されない。
【0051】
【化10】
【0052】
【化11】
【0053】前述一般式の化合物は疎水性が高いため溶
剤にたいして溶解性が悪いものが多い。そのためトルエ
ンやキシレン等の非極性の有機溶剤中に溶解する方法ま
たは塗布液中に分散する方法があるが非極性有機溶剤は
取扱い難いため分散する方法が好ましい。この時分散剤
としては滑り性、耐傷性を悪化させないものであれば何
でも良いが好ましい分散剤としては下記具体的化合物が
挙げられる。
剤にたいして溶解性が悪いものが多い。そのためトルエ
ンやキシレン等の非極性の有機溶剤中に溶解する方法ま
たは塗布液中に分散する方法があるが非極性有機溶剤は
取扱い難いため分散する方法が好ましい。この時分散剤
としては滑り性、耐傷性を悪化させないものであれば何
でも良いが好ましい分散剤としては下記具体的化合物が
挙げられる。
【0054】
【化12】
【0055】これらの化合物の含まれる層に皮膜形成能
のあるバインダーを用いる事ことは、滑り剤塗布面状の
改良、滑り剤層の膜強度アップの点で特に好ましい。こ
のようなポリマーとしては,公知の熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、放射線硬化性樹脂、反応性樹脂、およびこれ
らの混合物、ゼラチンなどの親水性バインダーを使用す
ることができる。具体的には熱可塑性樹脂としては、セ
ルローストリアセテート,セルロースジアセテート、セ
ルロースアセテートマレエート、セルロースアセテート
フタレート、ヒドロキシアセチルセルロースフタレー
ト、セルロース長鎖アルキルエステル、ニトロセルロー
ス、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
アセテートブチレート樹脂などのセルロース誘導体、塩
化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル、酢酸ビニ
ルとビニルアルコール、マレイン酸および/またはアク
リル酸との共重合体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重
合体、塩化ビニル・アクリロニトリル共重合体、エチレ
ン・酢酸ビニル共重合体などのビニル系共重合体、アク
リル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチ
ラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエー
テルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド
樹脂、アミノ樹脂、スチレンブタジエン樹脂、ブタジエ
ンアクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系
樹脂、フッ素系樹脂を挙げることができる。また、放射
線硬化型樹脂としては上記熱可塑性樹脂に放射線硬化官
能基として炭素−炭素不飽和結合を有する基を結合させ
たものが用いられる。好ましい官能基としてはアクリロ
イル基、メタクリロイル基などがある。以上列挙の結合
分子中に、極性基(エポキシ基、CO2 M,OH、NR
2 、NR3 X、SO3 M、OSO3 M、PO3 M2 、O
PO3 M2 、但し、Mは水素、アルカリ金属またはアン
モニウムであり、1つの基の中に複数のMがある時は互
いに異なっていても良い。Rは水素またはアルキル基で
ある。)を導入しても良い。以上列挙の高分子結合剤は
単独または数種混合で使用され、イソシアネート系の公
知の架橋剤、および/あるいは放射性硬化型ビニル系モ
ノマーを添加して硬化処理することができる。
のあるバインダーを用いる事ことは、滑り剤塗布面状の
改良、滑り剤層の膜強度アップの点で特に好ましい。こ
のようなポリマーとしては,公知の熱可塑性樹脂、熱硬
化性樹脂、放射線硬化性樹脂、反応性樹脂、およびこれ
らの混合物、ゼラチンなどの親水性バインダーを使用す
ることができる。具体的には熱可塑性樹脂としては、セ
ルローストリアセテート,セルロースジアセテート、セ
ルロースアセテートマレエート、セルロースアセテート
フタレート、ヒドロキシアセチルセルロースフタレー
ト、セルロース長鎖アルキルエステル、ニトロセルロー
ス、セルロースアセテートプロピオネート、セルロース
アセテートブチレート樹脂などのセルロース誘導体、塩
化ビニル・酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル、酢酸ビニ
ルとビニルアルコール、マレイン酸および/またはアク
リル酸との共重合体、塩化ビニル・塩化ビニリデン共重
合体、塩化ビニル・アクリロニトリル共重合体、エチレ
ン・酢酸ビニル共重合体などのビニル系共重合体、アク
リル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチ
ラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエー
テルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレタン樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド
樹脂、アミノ樹脂、スチレンブタジエン樹脂、ブタジエ
ンアクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系
樹脂、フッ素系樹脂を挙げることができる。また、放射
線硬化型樹脂としては上記熱可塑性樹脂に放射線硬化官
能基として炭素−炭素不飽和結合を有する基を結合させ
たものが用いられる。好ましい官能基としてはアクリロ
イル基、メタクリロイル基などがある。以上列挙の結合
分子中に、極性基(エポキシ基、CO2 M,OH、NR
2 、NR3 X、SO3 M、OSO3 M、PO3 M2 、O
PO3 M2 、但し、Mは水素、アルカリ金属またはアン
モニウムであり、1つの基の中に複数のMがある時は互
いに異なっていても良い。Rは水素またはアルキル基で
ある。)を導入しても良い。以上列挙の高分子結合剤は
単独または数種混合で使用され、イソシアネート系の公
知の架橋剤、および/あるいは放射性硬化型ビニル系モ
ノマーを添加して硬化処理することができる。
【0056】また、親水性バインダーとしては、リサー
チ・ディスクロージャーNo.17643、26頁、お
よび同No.18716、651頁に記載されており、
水溶性ポリマー、セルロースエステル、ラテックスポリ
マー、水溶性ポリエステルなどが例示されている。水溶
性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、ガゼ
イン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニル
アルコール、ポリアクリル酸共重合体、無水マレイン酸
共重合体などであり、セルロースエステルとしてはカル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルセルロ−
ス、メチルセルロースなどである。ラテックスポリマー
としては塩化ビニル含有共重合体、無水ビニリデン含有
共重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニ
ル含有共重合体、ブタジエン含有共重合体などである。
この中でももっとも好ましいのはゼラチンである。ま
た、ゼラチン誘導体などをゼラチンと併用しても良い。
チ・ディスクロージャーNo.17643、26頁、お
よび同No.18716、651頁に記載されており、
水溶性ポリマー、セルロースエステル、ラテックスポリ
マー、水溶性ポリエステルなどが例示されている。水溶
性ポリマーとしては、ゼラチン、ゼラチン誘導体、ガゼ
イン、寒天、アルギン酸ソーダ、でんぷん、ポリビニル
アルコール、ポリアクリル酸共重合体、無水マレイン酸
共重合体などであり、セルロースエステルとしてはカル
ボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、ヒドロキシプロピルセルロース、エチルセルロ−
ス、メチルセルロースなどである。ラテックスポリマー
としては塩化ビニル含有共重合体、無水ビニリデン含有
共重合体、アクリル酸エステル含有共重合体、酢酸ビニ
ル含有共重合体、ブタジエン含有共重合体などである。
この中でももっとも好ましいのはゼラチンである。ま
た、ゼラチン誘導体などをゼラチンと併用しても良い。
【0057】上記親水性バインダーを含む保護層は硬膜
することができる。硬膜剤としては、たとえば、ホルム
アルデヒド、グルタルアルデヒドの如きアルデヒド系化
合物類、ジアセチル、シクロペンタンジオンの如きケト
ン化合物類、ビス(2−クロロエチル尿素)、2−ヒド
ロキシ−4,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジン、
そのほか反応性のハロゲンを有する化合物類、ジビニル
スルホン、5−アセチル−1,3−ジアクリロイルヘキ
サヒドロ−1,3,5−トリアジン、反応性のオレフィ
ンを持つ化合物類、N−ヒドロキシメチルフタルイミ
ド、N−メチロール化合物、イソシアナート類、アジリ
ジン化合物類、酸誘導体類、エポキシ化合物類、ムコク
ロル酸のようなハロゲンカルボキシアルデヒド類を挙げ
ることができる。あるいは無機化合物の硬膜剤としてク
ロム明バン、硫酸ジルコニウム等が挙げられる。また、
カルボキシル基活性型硬膜剤なども使用できる。これら
のバインダーのうち、特に望ましいのは、バインダー分
子中に極性の置換基が含まれるものである。極性の置換
基としては、例えば−OH、−COOH、−COOM、
−NH3 、−NR4 + 、−CONH2 、−SH、−OS
O3 M、−SO3 M等があげられる。具体的に特に好ま
しいものとして、アセチルセルロース等が挙げられる。
することができる。硬膜剤としては、たとえば、ホルム
アルデヒド、グルタルアルデヒドの如きアルデヒド系化
合物類、ジアセチル、シクロペンタンジオンの如きケト
ン化合物類、ビス(2−クロロエチル尿素)、2−ヒド
ロキシ−4,6−ジクロロ−1,3,5−トリアジン、
そのほか反応性のハロゲンを有する化合物類、ジビニル
スルホン、5−アセチル−1,3−ジアクリロイルヘキ
サヒドロ−1,3,5−トリアジン、反応性のオレフィ
ンを持つ化合物類、N−ヒドロキシメチルフタルイミ
ド、N−メチロール化合物、イソシアナート類、アジリ
ジン化合物類、酸誘導体類、エポキシ化合物類、ムコク
ロル酸のようなハロゲンカルボキシアルデヒド類を挙げ
ることができる。あるいは無機化合物の硬膜剤としてク
ロム明バン、硫酸ジルコニウム等が挙げられる。また、
カルボキシル基活性型硬膜剤なども使用できる。これら
のバインダーのうち、特に望ましいのは、バインダー分
子中に極性の置換基が含まれるものである。極性の置換
基としては、例えば−OH、−COOH、−COOM、
−NH3 、−NR4 + 、−CONH2 、−SH、−OS
O3 M、−SO3 M等があげられる。具体的に特に好ま
しいものとして、アセチルセルロース等が挙げられる。
【0058】前述の滑り剤層に他の機能付与の為いくつ
かの添加剤を加えても良い。例えば、疎水性の滑り剤に
よるはじきを改良するためにスルホン酸または硫酸エス
テルを親水部として持つ界面活性剤を添加剤としても良
く、下記に示す化合物が挙げられる。
かの添加剤を加えても良い。例えば、疎水性の滑り剤に
よるはじきを改良するためにスルホン酸または硫酸エス
テルを親水部として持つ界面活性剤を添加剤としても良
く、下記に示す化合物が挙げられる。
【0059】
【化13】
【0060】この添加剤の添加量は、0.001g/m
2 以上滑り剤の固形分量までの量が好ましく、0.00
5g/m2 から滑り剤の固形分量の1/2までの量がよ
り好ましい。前述の滑り剤は、これを適当な水または有
機溶剤に溶解、または分散した塗布液を、支持体、また
はバック面にその他の層を付与した支持体上または、乳
剤塗布時に塗布し、乾燥することにより形成できる。滑
り剤を分散する方法としては、一般的に知られている乳
化、分散法を利用する事が出来る。具体的には、有機溶
剤に溶解しておいて水中で乳化する方法、滑り剤を高温
で溶融して水中で乳化する方法、ボールミル、サンドグ
ラインダーによる固体分散法等である。このような乳化
分散法については、刈米、小石、日高編集、「乳化・分
散技術応用ハンドブック」(サイエンスフォーラム版)
等の成書に記載されている。
2 以上滑り剤の固形分量までの量が好ましく、0.00
5g/m2 から滑り剤の固形分量の1/2までの量がよ
り好ましい。前述の滑り剤は、これを適当な水または有
機溶剤に溶解、または分散した塗布液を、支持体、また
はバック面にその他の層を付与した支持体上または、乳
剤塗布時に塗布し、乾燥することにより形成できる。滑
り剤を分散する方法としては、一般的に知られている乳
化、分散法を利用する事が出来る。具体的には、有機溶
剤に溶解しておいて水中で乳化する方法、滑り剤を高温
で溶融して水中で乳化する方法、ボールミル、サンドグ
ラインダーによる固体分散法等である。このような乳化
分散法については、刈米、小石、日高編集、「乳化・分
散技術応用ハンドブック」(サイエンスフォーラム版)
等の成書に記載されている。
【0061】又、本発明に使用する滑り剤は、有機溶剤
中に分散する方法も各種用いる事ができる。有機溶剤中
に分散する方法としては、一般的に知られている方法を
用いる事ができる。好ましい方法としては、具体的に
は、滑り剤を有機溶剤中で、ボールミル、サンドグライ
ンダー等により、固体分散法する方法、滑り剤を有機溶
剤中で加温溶解しておき、攪拌しながら冷却析出させて
分散する方法、また、滑り剤を有機溶剤中で加温溶解し
ておき、これを、常温または冷却した有機溶剤中に添加
して冷却析出させて分散する方法、また、相互に相溶し
ない有機溶剤同志により乳化する方法等である。このう
ち好ましい方法は滑り剤を有機溶剤中で加温溶解してお
き、これを、常温または冷却した有機溶剤中に添加して
冷却析出させて分散する方法である。この分散に用いら
れる有機溶剤としては特に制限はないが、滑り剤溶解液
を添加する、冷却媒としては、極性の高い溶剤が好まし
い。特に好ましい方法は滑り剤を60℃〜150℃に加
熱溶解し冷却媒として滑り剤の常温での溶解度が1%以
下の溶媒中に分散する方法である。滑り剤の常温での溶
解度が1%以下の溶媒の中でも特にケトン類、アルコー
ル類が分散性が良く好ましい。また、この分散で用いら
れる分散機としては、通常の攪拌機が使用できるが、特
に好ましいのは、超音波分散機、ホモジナイザーであ
る。
中に分散する方法も各種用いる事ができる。有機溶剤中
に分散する方法としては、一般的に知られている方法を
用いる事ができる。好ましい方法としては、具体的に
は、滑り剤を有機溶剤中で、ボールミル、サンドグライ
ンダー等により、固体分散法する方法、滑り剤を有機溶
剤中で加温溶解しておき、攪拌しながら冷却析出させて
分散する方法、また、滑り剤を有機溶剤中で加温溶解し
ておき、これを、常温または冷却した有機溶剤中に添加
して冷却析出させて分散する方法、また、相互に相溶し
ない有機溶剤同志により乳化する方法等である。このう
ち好ましい方法は滑り剤を有機溶剤中で加温溶解してお
き、これを、常温または冷却した有機溶剤中に添加して
冷却析出させて分散する方法である。この分散に用いら
れる有機溶剤としては特に制限はないが、滑り剤溶解液
を添加する、冷却媒としては、極性の高い溶剤が好まし
い。特に好ましい方法は滑り剤を60℃〜150℃に加
熱溶解し冷却媒として滑り剤の常温での溶解度が1%以
下の溶媒中に分散する方法である。滑り剤の常温での溶
解度が1%以下の溶媒の中でも特にケトン類、アルコー
ル類が分散性が良く好ましい。また、この分散で用いら
れる分散機としては、通常の攪拌機が使用できるが、特
に好ましいのは、超音波分散機、ホモジナイザーであ
る。
【0062】塗布に使用される希釈溶剤としては、滑り
剤の分散安定性、または溶解性を悪化させないものであ
れば良く例えば、水、各種界面活性剤を含有した水、ア
ルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、ブタノールなど)、ケトン類(アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノンなど)、エステル類(酢
酸、蟻酸、シュウ酸、マレイン酸、コハク酸などのメチ
ル、エチル、プロピル、ブチルエステルなど)が好まし
い。
剤の分散安定性、または溶解性を悪化させないものであ
れば良く例えば、水、各種界面活性剤を含有した水、ア
ルコール類(メタノール、エタノール、イソプロパノー
ル、ブタノールなど)、ケトン類(アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノンなど)、エステル類(酢
酸、蟻酸、シュウ酸、マレイン酸、コハク酸などのメチ
ル、エチル、プロピル、ブチルエステルなど)が好まし
い。
【0063】特に本発明で好ましいハロゲン化銀カラー
写真感光材料の代表例としてカラーリバーサルフィルム
とカラーネガフィルムをあげることができる。特に一般
用カラーネガフィルムが好ましいカラー写真感光材料で
ある。以下一般用カラーネガフィルムを用いて説明す
る。本発明の感光材料は、支持体上に青感色性層、緑感
色性層、赤感色性層のハロゲン化銀乳剤層の少なくとも
1層が設けられていればよく、ハロゲン化銀乳剤層およ
び非感光性層の層数および層順に特に制限はない。典型
的な例としては、支持体上に、実質的に感色性は同じで
あるが感光度の異なる複数のハロゲン化銀乳剤層から成
る感光性層を少なくとも1つ有するハロゲン化銀写真感
光材料であり、該感光性層は青色光、緑色光、および赤
色光の何れかに感色性を有する単位感光性層であり、多
層ハロゲン化銀カラー写真感光材料においては、一般に
単位感光性層の配列が、支持体側から順に赤感色性層、
緑感色性層、青感色性の順に設置される。しかし、目的
に応じて上記設置順が逆であっても、また同一感色性層
中に異なる感光性層が挟まれたような設置順をもとりえ
る。
写真感光材料の代表例としてカラーリバーサルフィルム
とカラーネガフィルムをあげることができる。特に一般
用カラーネガフィルムが好ましいカラー写真感光材料で
ある。以下一般用カラーネガフィルムを用いて説明す
る。本発明の感光材料は、支持体上に青感色性層、緑感
色性層、赤感色性層のハロゲン化銀乳剤層の少なくとも
1層が設けられていればよく、ハロゲン化銀乳剤層およ
び非感光性層の層数および層順に特に制限はない。典型
的な例としては、支持体上に、実質的に感色性は同じで
あるが感光度の異なる複数のハロゲン化銀乳剤層から成
る感光性層を少なくとも1つ有するハロゲン化銀写真感
光材料であり、該感光性層は青色光、緑色光、および赤
色光の何れかに感色性を有する単位感光性層であり、多
層ハロゲン化銀カラー写真感光材料においては、一般に
単位感光性層の配列が、支持体側から順に赤感色性層、
緑感色性層、青感色性の順に設置される。しかし、目的
に応じて上記設置順が逆であっても、また同一感色性層
中に異なる感光性層が挟まれたような設置順をもとりえ
る。
【0064】本発明に使用できる公知の写真用添加剤も
上記の2つのリサーチ・ディスクロージャーに記載され
ており、下記の表に関連する記載箇所を示した。 添加剤種類 RD17643 RD18716 1 化学増感剤 23頁 648頁右欄 2 感度上昇剤 同上 3 分光増感剤、 23〜24頁 648頁右欄〜 強色増感剤 649頁右欄 4 増 白 剤 24頁 5 かぶり防止剤 24〜25頁 649頁右欄〜 および安定剤 6 光吸収剤、 649頁右欄〜 フィルター染料、 25〜26頁 650頁左欄 紫外線吸収剤 7 ステイン防止剤 25頁右欄 650頁左〜右欄 8 色素画像安定剤 25頁 9 硬 膜 剤 26頁 651頁左欄 10 バインダー 26頁 同上 11 可塑剤、潤滑剤 27頁 650頁左欄 12 塗布助剤、 26〜27頁 650頁右欄 表面活性剤
上記の2つのリサーチ・ディスクロージャーに記載され
ており、下記の表に関連する記載箇所を示した。 添加剤種類 RD17643 RD18716 1 化学増感剤 23頁 648頁右欄 2 感度上昇剤 同上 3 分光増感剤、 23〜24頁 648頁右欄〜 強色増感剤 649頁右欄 4 増 白 剤 24頁 5 かぶり防止剤 24〜25頁 649頁右欄〜 および安定剤 6 光吸収剤、 649頁右欄〜 フィルター染料、 25〜26頁 650頁左欄 紫外線吸収剤 7 ステイン防止剤 25頁右欄 650頁左〜右欄 8 色素画像安定剤 25頁 9 硬 膜 剤 26頁 651頁左欄 10 バインダー 26頁 同上 11 可塑剤、潤滑剤 27頁 650頁左欄 12 塗布助剤、 26〜27頁 650頁右欄 表面活性剤
【0065】
【実施例】以下に実施例により本発明をさらに具体的に
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 (実施例1−A) 1)接着(下塗り)層 厚さ90μm のポリエチレンナフタレート支持体の両面
に365nmを主波長とする高圧水銀灯を用い、照射光
量1000mJ/cm2 で紫外線照射(UV)処理を施し
た後、乳剤面側に下記組成の接着層を設けた。尚、塗布
量を10.4cc/m2 とした。紫外線照射は、特公昭
45−3828号実施例に示したような方法で行った。 ゼラチン 10.0重量部 蒸留水 12.6重量部 サリチル酸 2.4重量部 メタノール 920重量部 p−クロロフェノール 105重量部 ポリアミドエピクロヒドリン樹脂 0.5重量部 (特開昭51−3619に記載の合成例1による)
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。 (実施例1−A) 1)接着(下塗り)層 厚さ90μm のポリエチレンナフタレート支持体の両面
に365nmを主波長とする高圧水銀灯を用い、照射光
量1000mJ/cm2 で紫外線照射(UV)処理を施し
た後、乳剤面側に下記組成の接着層を設けた。尚、塗布
量を10.4cc/m2 とした。紫外線照射は、特公昭
45−3828号実施例に示したような方法で行った。 ゼラチン 10.0重量部 蒸留水 12.6重量部 サリチル酸 2.4重量部 メタノール 920重量部 p−クロロフェノール 105重量部 ポリアミドエピクロヒドリン樹脂 0.5重量部 (特開昭51−3619に記載の合成例1による)
【0066】2)バック第1層 バック第1層は前述下塗り層と同じものを塗設した。
【0067】3)バック第2層 塩化第2スズ水和物230重量部と三塩化アンチモン2
3重量部をエタノール3000重量部に溶解し均一溶液
を得た。この溶液に1N水酸化ナトリウム水溶液を前期
溶液がpH3になるまで滴下し、コロイド状酸化第2スズ
と酸化アンチモンの共沈澱物を得た。得られた共沈澱を
50℃に24時間放置し、赤褐色のコロイド状沈澱を得
た。赤褐色コロイド状沈澱を遠心分離により分離した。
過剰なイオンを除くため沈澱に水を加え遠心分離によっ
て水洗した。この操作を3回繰り返し過剰イオンを除去
した。過剰イオンを除去したコロイド状沈澱200重量
部を水1500重量部に再分散し、500℃に加熱した
焼成炉に噴霧し、青みがかった平均粒径0.005μm
の酸化第二スズ一酸化アンチモン複合物の微粒子を得
た。この微粒子粉末の抵抗率は25Ω・cmであった。上
記微粉末40重量部と水60重量部の混合液をpH7.0
に調製し、攪はん機で粗分散の後横型サンドミル(ダイ
ノミル、Willy A. Backfen AG製)で滞留時間が30
分になるまで分散して、一次粒子が一部凝集して2次凝
集体として0.05μm になる分散液を調製した。
3重量部をエタノール3000重量部に溶解し均一溶液
を得た。この溶液に1N水酸化ナトリウム水溶液を前期
溶液がpH3になるまで滴下し、コロイド状酸化第2スズ
と酸化アンチモンの共沈澱物を得た。得られた共沈澱を
50℃に24時間放置し、赤褐色のコロイド状沈澱を得
た。赤褐色コロイド状沈澱を遠心分離により分離した。
過剰なイオンを除くため沈澱に水を加え遠心分離によっ
て水洗した。この操作を3回繰り返し過剰イオンを除去
した。過剰イオンを除去したコロイド状沈澱200重量
部を水1500重量部に再分散し、500℃に加熱した
焼成炉に噴霧し、青みがかった平均粒径0.005μm
の酸化第二スズ一酸化アンチモン複合物の微粒子を得
た。この微粒子粉末の抵抗率は25Ω・cmであった。上
記微粉末40重量部と水60重量部の混合液をpH7.0
に調製し、攪はん機で粗分散の後横型サンドミル(ダイ
ノミル、Willy A. Backfen AG製)で滞留時間が30
分になるまで分散して、一次粒子が一部凝集して2次凝
集体として0.05μm になる分散液を調製した。
【0068】下記処方の液を乾燥膜厚が0.3μm にな
るように塗布し、110℃で30秒間乾燥した。 ・上記導電性微粒子分散液(SnO2 /Sb2 O3 、0.15μm)10重量部 ・ゼラチン 1重量部 ・水 27重量部 ・メタノール 60重量部 ・レゾルシン 2重量部 ・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル(重合度10)0.01重量部
るように塗布し、110℃で30秒間乾燥した。 ・上記導電性微粒子分散液(SnO2 /Sb2 O3 、0.15μm)10重量部 ・ゼラチン 1重量部 ・水 27重量部 ・メタノール 60重量部 ・レゾルシン 2重量部 ・ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル(重合度10)0.01重量部
【0069】4)バック第3層 Co被着γ−Fe2O3 磁性体(戸田工業(株)製 CSF4
085V2、Hc:831 Oe、σs :77.1em
u/g、σr 37.4emu/g、SBET :38.7m
2 /g)1100重量部、水220重量部及びシランカ
ップリング剤、(CH3O)3SiCH2CH2CH2(OCH2CH2)8OCH3(信
越化学工業(株)製 X−12−641)165重量部
を添加して、オープンニーダーで3時間良く混練した。
この粗分散した粘性のある液を70℃で1昼夜乾燥し水
を除去した後、110℃、1時間加熱して処理をし、表
面処理をした磁気粒子を作製した。
085V2、Hc:831 Oe、σs :77.1em
u/g、σr 37.4emu/g、SBET :38.7m
2 /g)1100重量部、水220重量部及びシランカ
ップリング剤、(CH3O)3SiCH2CH2CH2(OCH2CH2)8OCH3(信
越化学工業(株)製 X−12−641)165重量部
を添加して、オープンニーダーで3時間良く混練した。
この粗分散した粘性のある液を70℃で1昼夜乾燥し水
を除去した後、110℃、1時間加熱して処理をし、表
面処理をした磁気粒子を作製した。
【0070】さらに以下の処方で、再びオープンニーダ
ーにて4時間混練した。 上記表面処理済み磁気粒子 855 g ジアセチルセルロース 25.3 g メチルエチルケトン 136.3 g シクロヘキサノン 136.3 g
ーにて4時間混練した。 上記表面処理済み磁気粒子 855 g ジアセチルセルロース 25.3 g メチルエチルケトン 136.3 g シクロヘキサノン 136.3 g
【0071】さらに、以下の処方で、サンドミル(1/
4G)にて2000rpm 4時間微細分散した。 上記混練液 45 g ジアセチルセルロース 23.7 g メチルエチルケトン 127.7 g シクロヘキサノン 127.7 g
4G)にて2000rpm 4時間微細分散した。 上記混練液 45 g ジアセチルセルロース 23.7 g メチルエチルケトン 127.7 g シクロヘキサノン 127.7 g
【0072】さらに、以下の処方で、バック第3層塗布
液を作製した。 上記微分散液 21.1 g ジアセチルセルロース 35.8 g 架橋剤〔1〕:ミリオネートMR−400 2.33 g (日本ポリウレタン(株) 製) メチルエチルケトン 398.9 g シクロヘキサノン 398.9 g ERC−DBM 0.49 g (α−アルミナ研磨剤 米レイノルズ(株) 製 平均粒径0.5μm )
液を作製した。 上記微分散液 21.1 g ジアセチルセルロース 35.8 g 架橋剤〔1〕:ミリオネートMR−400 2.33 g (日本ポリウレタン(株) 製) メチルエチルケトン 398.9 g シクロヘキサノン 398.9 g ERC−DBM 0.49 g (α−アルミナ研磨剤 米レイノルズ(株) 製 平均粒径0.5μm )
【0073】この塗布液をワイヤーバーにて、塗布量2
9.3cc/m2 になるように塗布した。乾燥は110
℃で行った。
9.3cc/m2 になるように塗布した。乾燥は110
℃で行った。
【0074】5)バック第4層 ・滑り層の作成 下記の1液を90℃加温溶解し、2液に添加後、高圧ホ
モジナイザーで分散し滑り分散原液とした。 1液 化合物(16−4) 0.7 g 化合物(18−3) 1.1 g キシレン 2.5 g 2液 プロピレングリコールモ 34.0 g ノメチルエーテル 上記滑り分散原液に下記のバインダー、溶剤を加え塗布
液とした。 ジアセチルセルロース 3.0 g アセトン 600.0 g シクロヘキサノン 350.0 g 上記滑り層塗布液を10.4cc/m2 の塗布量で塗布
した。
モジナイザーで分散し滑り分散原液とした。 1液 化合物(16−4) 0.7 g 化合物(18−3) 1.1 g キシレン 2.5 g 2液 プロピレングリコールモ 34.0 g ノメチルエーテル 上記滑り分散原液に下記のバインダー、溶剤を加え塗布
液とした。 ジアセチルセルロース 3.0 g アセトン 600.0 g シクロヘキサノン 350.0 g 上記滑り層塗布液を10.4cc/m2 の塗布量で塗布
した。
【0075】6)感光層の塗設 下塗りを施した支持体上に、下記に示すような組成の各
層を重層塗布し、多層カラー感光材料である試料を作製
した。 (感光層組成)各層に使用する素材の主なものは下記の
ように分類されている; ExC:シアンカプラー UV :紫外線吸収剤 ExM:マゼンタカプラー HBS:高沸点有機溶剤 ExY:イエローカプラー H :ゼラチン硬化剤 ExS:増感色素 各成分に対応する数字は、g/m2単位で表した塗布量を
示し、ハロゲン化銀については、銀換算の塗布量を示
す。ただし増感色素については、同一層のハロゲン化銀
1モルに対する塗布量をモル単位で示す。
層を重層塗布し、多層カラー感光材料である試料を作製
した。 (感光層組成)各層に使用する素材の主なものは下記の
ように分類されている; ExC:シアンカプラー UV :紫外線吸収剤 ExM:マゼンタカプラー HBS:高沸点有機溶剤 ExY:イエローカプラー H :ゼラチン硬化剤 ExS:増感色素 各成分に対応する数字は、g/m2単位で表した塗布量を
示し、ハロゲン化銀については、銀換算の塗布量を示
す。ただし増感色素については、同一層のハロゲン化銀
1モルに対する塗布量をモル単位で示す。
【0076】(試料101)第1層(ハレーション防止
層) 黒色コロイド銀 銀 0.20 ゼラチン 1.60 ExM−1 0.12 ExF−1 2.0×10-3 固体分散染料ExF−2 0.030 固体分散染料ExF−3 0.040 HBS−1 0.15 HBS−2 0.02
層) 黒色コロイド銀 銀 0.20 ゼラチン 1.60 ExM−1 0.12 ExF−1 2.0×10-3 固体分散染料ExF−2 0.030 固体分散染料ExF−3 0.040 HBS−1 0.15 HBS−2 0.02
【0077】第2層(中間層) 沃臭化銀乳剤M 銀 0.065 ExC−2 0.04 ポリエチルアクリレートラテックス 0.20 ゼラチン 0.6
【0078】第3層(低感度赤感乳剤層) 沃臭化銀乳剤A 銀 0.28 沃臭化銀乳剤B 銀 0.07 ExS−1 6.9×10-5 ExS−2 1.8×10-5 ExS−3 3.1×10-4 ExC−1 0.16 ExC−3 0.030 ExC−4 0.11 ExC−5 0.020 ExC−6 0.010 Cpd−2 0.025 HBS−1 0.10 ゼラチン 1.10
【0079】第4層(中感度赤感乳剤層) 沃臭化銀乳剤C 銀 0.70 ExS−1 3.5×10-4 ExS−2 1.6×10-5 ExS−3 5.1×10-4 ExC−1 0.13 ExC−2 0.060 ExC−3 0.0070 ExC−4 0.090 ExC−5 0.015 ExC−6 0.0070 Cpd−2 0.023 Cpd−4 0.020 HBS−1 0.10 ゼラチン 0.80
【0080】第5層(高感度赤感乳剤層) 沃臭化銀乳剤D 銀 0.90 ExS−1 2.4×10-4 ExS−2 1.0×10-4 ExS−3 3.4×10-4 ExC−1 0.10 ExC−3 0.045 ExC−6 0.020 ExC−7 0.010 Cpd−2 0.050 Cpd−4 0.040 HBS−1 0.22 HBS−2 0.050 ゼラチン 1.10
【0081】第6層(中間層) Cpd−1 0.090 固体分散染料ExF−4 0.030 HBS−1 0.050 ポリエチルアクリレートラテックス 0.15 ゼラチン 1.10
【0082】第7層(低感度緑感乳剤層) 沃臭化銀乳剤E 銀 0.25 沃臭化銀乳剤F 銀 0.20 沃臭化銀乳剤G 銀 0.20 ExS−4 3.0×10-5 ExS−5 1.5×10-4 ExS−9 6.0×10-5 ExS−6 5.0×10-4 ExS−8 3.0×10-4 ExM−2 0.33 ExM−3 0.086 ExY−1 0.015 HBS−1 0.30 HBS−3 0.010 ゼラチン 0.73
【0083】第8層(中感度緑感乳剤層) 沃臭化銀乳剤G 銀 0.40 沃臭化銀乳剤H 銀 0.35 ExS−4 3.2×10-5 ExS−5 2.2×10-4 ExS−6 8.4×10-4 ExC−8 0.010 ExM−2 0.10 ExM−3 0.025 ExY−1 0.018 ExY−4 0.010 ExY−5 0.040 Cpd−4 0.015 HBS−1 0.13 HBS−3 4.0×10-3 ゼラチン 0.80
【0084】第9層(高感度緑感乳剤層) 沃臭化銀乳剤I 銀 1.40 ExS−4 3.7×10-5 ExS−5 8.1×10-5 ExS−6 3.2×10-4 ExM−3 0.003 ExC−1 0.010 ExC−6 0.010 ExM−1 0.002 ExM−2 0.010 ExM−4 0.010 ExM−6 0.010 ExM−5 0.010 Cpd−4 0.030 Cpd−3 0.040 HBS−1 0.25 ポリエチルアクリレートラテックス 0.15 ゼラチン 1.33
【0085】第10層(イエローフィルター層) 黄色コロイド銀 銀 0.015 Cpd−1 0.16 固体分散染料ExF−5 0.060 固体分散染料ExF−6 0.060 油溶性染料ExF−7 0.010 HBS−1 0.60 ゼラチン 0.60
【0086】第11層(低感度青感乳剤層) 沃臭化銀乳剤J 銀 0.10 沃臭化銀乳剤K 銀 0.20 沃臭化銀乳剤N 銀 0.10 ExS−7 8.6×10-4 ExC−8 7.0×10-3 ExY−1 0.050 ExY−2 0.22 ExY−3 0.50 ExY−4 0.020 Cpd−2 0.10 Cpd−3 4.0×10-3 HBS−1 0.28 ゼラチン 1.20
【0087】第12層(高感度青感乳剤層) 沃臭化銀乳剤L 銀 0.40 ExS−7 4.0×10-4 ExY−2 0.10 ExY−3 0.10 ExY−4 0.010 Cpd−2 0.10 Cpd−3 1.0×10-3 HBS−1 0.070 ゼラチン 0.70
【0088】第13層(第1保護層) 沃臭化銀乳剤M 銀 0.10 UV−1 0.19 UV−2 0.075 UV−3 0.065 ExF−8 0.010 ExF−9 0.020 ExF−10 0.002 ExF−11 0.002 HBS−1 5.0×10-2 HBS−4 5.0×10-2 ゼラチン 1.8
【0089】第14層(第2保護層) H−1 0.40 B−1(直径 2.1 μm) 0.06 B−2(直径 2.2 μm) 0.09 B−3 0.13 S−1 0.20 ゼラチン 0.70
【0090】 第15層 ポリアクリルアミド(分子量4.5万) 0.02g/m2 デキストラン(分子量3.8万) 0.02g/m2 ポリアクリル酸ソーダ(分子量9万) 0.02g/m2 ポリスチレンスルホン酸ソーダ(分子量5万) 0.02g/m2 ヒドロキシプロピルセルロース(分子量10万) 0.02g/m2 コロイダルシリカ(平均粒径25nm) 0.15g/m2 シリカ(平均粒径0.3μm) 0.02g/m2 シリカ(平均粒径2.0μm) 0.02g/m2 酸化アルミニウム(平均粒径1.0μm、不定形) 0.01g/m2 ビス(2−エチルヘキシル)α−スルホコハク酸 ナトリウム 0.01g/m2 ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム 0.01g/m2 p−t−オクチルフェノキシエトキシエトキシ エタンスルホン酸ナトリウム 0.01g/m2 C8F17SO3Na 0.005g/m2 C8F17SO2N(C3H7)CH2COOK 0.005g/m2 C8F17SO2N(C3H7)-(CH2CH2O)4-(CH2)4-SO3Na 0.005g/m2 C8F17SO2NHCH2CH2N+ (CH3)3 ・I - 0.005g/m2 C8F17SO2NHCH2CH2O-(CH2)3-N + (CH3)3 ・P ・ CH3-C6H4-SO3 - 0.005g/m2 C8F17SO2NHCH2CH2N+ (CH3)2-CH2COO - 0.005g/m2 C8F17SO2NHCH2CH2N+ (CH3)2-CH2SO3 - 0.005g/m2 C8F17CH2CH2O-(CH2CH2O)10-H 0.005g/m2 C8F17SO2N(C3H7)-(CH2CH2O)16-H 0.005g/m2 C16H33O-(CH2CH2O)10-H 0.005g/m2 ポリ(重合度7)グリセリールp−オクチルフェニル エーテル 0.005g/m2 ・パルミチン酸セチル(ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリ 0.03g/m2 ウムで水分散した分散物.平均粒径0.11μm) ・ジメチルシロキサン(分子量1000.粘度10cs 0.11g/m2 (25℃).ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム で水分散したゼラチン中で乳化したもの.平均粒径 0.08μm) ・流動パラフィン(ビス(2−エチルヘキシル)α− 0.02g/m2 スルホコハク酸ナトリウムで水分散したゼラチン中 で乳化したもの.平均粒径0.09μm) ・C50H101O-(CH2CH2O)16-H(100℃水中で融解し、 0.01g/m2 10℃に冷却して析出分散したもの.平均粒径15nm) ・硝酸カリウム 0.01g/m2 ・ポリ(エチルアクリレート)ラテックス(平均粒径 0.15g/m2 0.06μm)
【0091】更に、各層に適宜、保存性、処理性、圧力
耐性、防黴・防菌性、帯電防止性及び塗布性をよくする
ために W−1ないしW−3、B−4ないしB−6、F
−1ないしF−17及び、鉄塩、鉛塩、金塩、白金塩、
パラジウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩が含有されて
いる。
耐性、防黴・防菌性、帯電防止性及び塗布性をよくする
ために W−1ないしW−3、B−4ないしB−6、F
−1ないしF−17及び、鉄塩、鉛塩、金塩、白金塩、
パラジウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩が含有されて
いる。
【0092】
【表1】
【0093】表1において、 (1)乳剤J〜L,Nは特開平2-191938号の実施例に従
い、二酸化チオ尿素とチオスルフォン酸を用いて粒子調
製時に還元増感されている。 (2)乳剤A〜Iは特開平3-237450号の実施例に従い、
各感光層に記載の分光増感色素とチオシアン酸ナトリウ
ムの存在下に金増感、硫黄増感とセレン増感が施されて
いる。 (3)平板状粒子の調製には特開平1-158426号の実施例
に従い、低分子量ゼラチンを使用している。 (4)平板状粒子には特開平3-237450号に記載されてい
るような転位線が高圧電子顕微鏡を用いて観察されてい
る。
い、二酸化チオ尿素とチオスルフォン酸を用いて粒子調
製時に還元増感されている。 (2)乳剤A〜Iは特開平3-237450号の実施例に従い、
各感光層に記載の分光増感色素とチオシアン酸ナトリウ
ムの存在下に金増感、硫黄増感とセレン増感が施されて
いる。 (3)平板状粒子の調製には特開平1-158426号の実施例
に従い、低分子量ゼラチンを使用している。 (4)平板状粒子には特開平3-237450号に記載されてい
るような転位線が高圧電子顕微鏡を用いて観察されてい
る。
【0094】有機固体分散染料の分散物の調製 下記、ExF−2を次の方法で分散した。即ち、水21.7
ミリリットル及び5%水溶液のp−オクチルフェノキシ
エトキシエトキシエタンスルホン酸ソーダ3ミリリット
ル並びに5%水溶液のp−オクチルフェノキシポリオキ
シエチレンエ−テル(重合度10) 0.5gとを 700ミリリ
ットルのポットミルに入れ、染料ExF−2を 5.0gと
酸化ジルコニウムビーズ(直径1mm) 500ミリリットル
を添加して内容物を2時間分散した。この分散には中央
工機製のBO型振動ボールミルを用いた。分散後、内容
物を取り出し、12.5%ゼラチン水溶液8gに添加し、ビ
ーズを濾過して除き、染料のゼラチン分散物を得た。染
料微粒子の平均粒径は0.44μmであった。
ミリリットル及び5%水溶液のp−オクチルフェノキシ
エトキシエトキシエタンスルホン酸ソーダ3ミリリット
ル並びに5%水溶液のp−オクチルフェノキシポリオキ
シエチレンエ−テル(重合度10) 0.5gとを 700ミリリ
ットルのポットミルに入れ、染料ExF−2を 5.0gと
酸化ジルコニウムビーズ(直径1mm) 500ミリリットル
を添加して内容物を2時間分散した。この分散には中央
工機製のBO型振動ボールミルを用いた。分散後、内容
物を取り出し、12.5%ゼラチン水溶液8gに添加し、ビ
ーズを濾過して除き、染料のゼラチン分散物を得た。染
料微粒子の平均粒径は0.44μmであった。
【0095】同様にして、ExF−3、ExF−4及び
ExF−6の固体分散物を得た。染料微粒子の平均粒径
はそれぞれ、0.24μm、0.45μm、0.52μmであった。
ExF−5は欧州特許出願公開(EP)第549,489A号明細
書の実施例1に記載の微小析出(Microprecipitation)
分散方法により分散した。平均粒径は0.06μmであっ
た。
ExF−6の固体分散物を得た。染料微粒子の平均粒径
はそれぞれ、0.24μm、0.45μm、0.52μmであった。
ExF−5は欧州特許出願公開(EP)第549,489A号明細
書の実施例1に記載の微小析出(Microprecipitation)
分散方法により分散した。平均粒径は0.06μmであっ
た。
【0096】
【化14】
【0097】
【化15】
【0098】
【化16】
【0099】
【化17】
【0100】
【化18】
【0101】
【化19】
【0102】
【化20】
【0103】
【化21】
【0104】
【化22】
【0105】
【化23】
【0106】
【化24】
【0107】
【化25】
【0108】
【化26】
【0109】
【化27】
【0110】
【化28】
【0111】
【化29】
【0112】
【化30】
【0113】
【化31】
【0114】
【化32】
【0115】
【化33】
【0116】
【化34】
【0117】
【化35】
【0118】
【化36】
【0119】7)写真フイルムの現像処理 得られた写真フィルムは、以下の方法により現像処理を
行った。現像機は富士写真フイルム株式会社製のシネ式
自動現像機FNCP−900を用いた。 これらの試料の現像は以下の様に行った。 カラー現像 3分15秒 漂 白 6分30秒 水 洗 2分10秒 定 着 4分20秒 水 洗 3分15秒 安 定 1分05秒 各工程に用いた処理液組成は下記の通りであった。
行った。現像機は富士写真フイルム株式会社製のシネ式
自動現像機FNCP−900を用いた。 これらの試料の現像は以下の様に行った。 カラー現像 3分15秒 漂 白 6分30秒 水 洗 2分10秒 定 着 4分20秒 水 洗 3分15秒 安 定 1分05秒 各工程に用いた処理液組成は下記の通りであった。
【0120】 カラー現像液 ジエチレントリアミン五酢酸 1.0g 1−ヒドロキシエチリデン−1,1−ジホスホン酸 2.0g 亜硫酸ナトリウム 4.0g 炭酸カリウム 30.0g 臭化カリウム 1.4g 沃化カリウム 1.3g ヒドロキシルアミン硫酸塩 2.4g 4−(N−エチル−N−β−ヒドロキシエチルアミノ) −2−メチルアニリン硫酸塩 4.5g 水を加えて 1.0リットル pH 10.0 漂白液 エチレンジアミン四酢第二鉄アンモニウム塩 100.0g エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 10.0g 臭化アンモニウム 150.0g 硝酸アンモニウム 10.0g 水を加えて 1.0リットル pH 6.0 定着液 エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム塩 1.0g 亜硫酸ナトリウム 4.0g チオ硫酸アンモニウム水溶液(70%) 175.0g 重亜硫酸ナトリウム 4.6g 水を加えて 1.0リットル pH 6.6 安定液 ホルマリン(40%) 2.0ml ポリオキシエチレン−p−モノノニルフェニルエーテ ル(平均重合度10) 0.3g 水を加えて 1.0リットル
【0121】さらに、表2に示すように架橋剤[1]の
添加量を変える以外は、実施例1−Aと同様に行った
(実施例1−B〜I)。
添加量を変える以外は、実施例1−Aと同様に行った
(実施例1−B〜I)。
【0122】次に作製した試料の評価について記す。
【0123】a)導電性の評価 1cm幅のフイルムエッジに抵抗測定機をつなぎ抵抗を
測定した。評価は25℃10%RHで行った。
測定した。評価は25℃10%RHで行った。
【0124】b)耐久性(層間接着性:膜剥がれ)の評
価−その1− 感材の乳剤層を脱膜した後、感材バック面に、市販の片
刃カミソリで、15mm×15mmの範囲を3mm角四
方になるように切り込みを入れ、その上に市販の粘着テ
ープを貼り、15mm×15mmの範囲を充分押しつけ
る。20分経過後に、この粘着テープを一気に剥す。膜
剥がれするものはこのとき粘着テープに付着し、フイル
ムから取り去られてしまう。合計25マス中、 全く剥がれない試料を ○ 1〜5マス分剥がれる試料を △ 5マス以上剥がれる試料を × と判定した。
価−その1− 感材の乳剤層を脱膜した後、感材バック面に、市販の片
刃カミソリで、15mm×15mmの範囲を3mm角四
方になるように切り込みを入れ、その上に市販の粘着テ
ープを貼り、15mm×15mmの範囲を充分押しつけ
る。20分経過後に、この粘着テープを一気に剥す。膜
剥がれするものはこのとき粘着テープに付着し、フイル
ムから取り去られてしまう。合計25マス中、 全く剥がれない試料を ○ 1〜5マス分剥がれる試料を △ 5マス以上剥がれる試料を × と判定した。
【0125】c)耐久性(層間接着性:膜剥がれ)の評
価−その2a− 幅24mm、長さ1.5mにした生フイルムを搬送速度
を100mm/secにして、予め6kHzのFM信号
にて磁気記録した後、現像処理を行い、その後、記録信
号をギャップ5μm 巻き数2000ターンの汎用の磁気
再生ヘッドにて、約95dBのゲインがあるアンプを用
いて再生した。この様な方法で、1パス目の再生信号の
平均の大きさに対する、200パス目の再生信号の平均
の大きさを調べ、膜剥がれ性の評価を行った。膜剥がれ
性の劣るフイルムでは、磁気記録層等が擦られ、剥がれ
易くなるため、200パス目の再生信号は1パス目の再
生信号に比べ低下する。判定は以下のように行った。 S(200/1) = 〔200パス目の再生信号の平均の大
きさ〕/〔1パス目の再生信号の平均の大きさ〕×10
0 (%) とし、 S(200/1)が90%未満の場合 × S(200/1)が90%以上95%未満の場合 △ S(200/1)が95%以上の場合 ○ とした。さらに、この現像処理後のフイルムバックの両
端部を光学顕微鏡にて観察し、微少な膜剥がれまで、そ
の有無を調べた。−その2b−. 全く膜剥がれしていない試料 ○ 光学顕微鏡にて膜剥がれが認められる試料 △ 目視で膜剥がれがはっきり観察できる試料 ×
価−その2a− 幅24mm、長さ1.5mにした生フイルムを搬送速度
を100mm/secにして、予め6kHzのFM信号
にて磁気記録した後、現像処理を行い、その後、記録信
号をギャップ5μm 巻き数2000ターンの汎用の磁気
再生ヘッドにて、約95dBのゲインがあるアンプを用
いて再生した。この様な方法で、1パス目の再生信号の
平均の大きさに対する、200パス目の再生信号の平均
の大きさを調べ、膜剥がれ性の評価を行った。膜剥がれ
性の劣るフイルムでは、磁気記録層等が擦られ、剥がれ
易くなるため、200パス目の再生信号は1パス目の再
生信号に比べ低下する。判定は以下のように行った。 S(200/1) = 〔200パス目の再生信号の平均の大
きさ〕/〔1パス目の再生信号の平均の大きさ〕×10
0 (%) とし、 S(200/1)が90%未満の場合 × S(200/1)が90%以上95%未満の場合 △ S(200/1)が95%以上の場合 ○ とした。さらに、この現像処理後のフイルムバックの両
端部を光学顕微鏡にて観察し、微少な膜剥がれまで、そ
の有無を調べた。−その2b−. 全く膜剥がれしていない試料 ○ 光学顕微鏡にて膜剥がれが認められる試料 △ 目視で膜剥がれがはっきり観察できる試料 ×
【0126】d)現像処理後の磁気記録/再生性の評価 幅24mm、長さ200mにスリットした作製試料(生
フイルム)を、搬送速度100mm/secにて、予め
6kHzのFM信号にて磁気記録し、ギャップ5μm 、
巻き数2000ターンの汎用の磁気再生ヘッドにて、約
95dBのゲインがあるアンプを用いて記録信号を再生
し、その再生信号の平均の大きさを求めた(この時、
「記録時のエラー」がないことを確認した)。その後、
現像処理を行い、同様の方法にて、今度は再生信号の一
つ一つを以下の様に調べ、現像処理後の磁気記録/再生
性の評価とした。現像処理液中に含まれる成分からなる
汚れが感材バック面に多く付着すると、磁気ヘッド表面
にそれだけ多く転写するので、スペースロスにより信号
振幅の大きさが小さくなりドロップアウトの回数が増加
することから採用した。各再生信号の大きさが、生フイ
ルムの時の再生信号の平均の大きさに対し、35%以下
になったとき「ドロップアウト」と定義し、 ドロップアウトが10回以上の時 × ドロップアウトが5回以上10回未満の時 △ ドロップアウトが1回以上5回未満の時 ○ ドロップアウトがない時 ◎ とした。
フイルム)を、搬送速度100mm/secにて、予め
6kHzのFM信号にて磁気記録し、ギャップ5μm 、
巻き数2000ターンの汎用の磁気再生ヘッドにて、約
95dBのゲインがあるアンプを用いて記録信号を再生
し、その再生信号の平均の大きさを求めた(この時、
「記録時のエラー」がないことを確認した)。その後、
現像処理を行い、同様の方法にて、今度は再生信号の一
つ一つを以下の様に調べ、現像処理後の磁気記録/再生
性の評価とした。現像処理液中に含まれる成分からなる
汚れが感材バック面に多く付着すると、磁気ヘッド表面
にそれだけ多く転写するので、スペースロスにより信号
振幅の大きさが小さくなりドロップアウトの回数が増加
することから採用した。各再生信号の大きさが、生フイ
ルムの時の再生信号の平均の大きさに対し、35%以下
になったとき「ドロップアウト」と定義し、 ドロップアウトが10回以上の時 × ドロップアウトが5回以上10回未満の時 △ ドロップアウトが1回以上5回未満の時 ○ ドロップアウトがない時 ◎ とした。
【0127】
【表2】
【0128】表2に示す様に、本発明の架橋剤が、3m
g/m2 以上1000mg/m2 以下で塗布されること
により、膜剥がれと現像処理後の磁気記録/再生エラー
の両方が防止でき、優れた透明磁気記録層を有したハロ
ゲン化銀写真感光材料を作成することができた。一方、
架橋剤を1000mg/m2 越えて添加すると本発明の
架橋剤を用いても、現像処理後の磁気記録/再生エラー
を問題の無いレベルまで減らすことはできず、3mg/
m2 よりも少なく添加すると、本発明の架橋剤を用いて
も、膜剥がれを防止することができなかった。
g/m2 以上1000mg/m2 以下で塗布されること
により、膜剥がれと現像処理後の磁気記録/再生エラー
の両方が防止でき、優れた透明磁気記録層を有したハロ
ゲン化銀写真感光材料を作成することができた。一方、
架橋剤を1000mg/m2 越えて添加すると本発明の
架橋剤を用いても、現像処理後の磁気記録/再生エラー
を問題の無いレベルまで減らすことはできず、3mg/
m2 よりも少なく添加すると、本発明の架橋剤を用いて
も、膜剥がれを防止することができなかった。
【0129】(実施例2)表2に示す様に、実施例1−
Aにおいて、バック第3層に添加されている、α−Al
2 O3 からなる研磨剤(ERC−DBM)を除去する以
外は実施例1−A試料と同様に作成した。これを実施例
2−A試料とする。また、実施例1−Aにおいて、研磨
剤をERC−DBMの代わりにノートンE−600(米
ノートン社(株) 製、平均粒径0.4μm )1.21
gに代える以外は実施例1−A試料と同様に作成した。
これを実施例2−B試料とする。実施例1−A及び2−
B試料は研磨剤の添加により、バックの表面に鋭利な突
起ができ、磁気ヘッド表面に巻き込まれて滞在してしま
うほこりや現像処理液成分からなる汚れを取り除く効果
および磁気ヘッド表面をクリーニングする効果が顕著
で、再生信号のドロップアウトが極めて起こりにくいも
のであったに対し、研磨剤を含有しない実施例試料2−
Aは再生信号のドロップアウトが増加した。従って、感
材バックに研磨剤を含有することで、本発明の架橋剤の
効果とあいまって、膜剥がれのない、現像処理後の磁気
記録/再生能力を充分に持つ、優れた透明磁気記録層付
き写真感光材料を提供することができる。
Aにおいて、バック第3層に添加されている、α−Al
2 O3 からなる研磨剤(ERC−DBM)を除去する以
外は実施例1−A試料と同様に作成した。これを実施例
2−A試料とする。また、実施例1−Aにおいて、研磨
剤をERC−DBMの代わりにノートンE−600(米
ノートン社(株) 製、平均粒径0.4μm )1.21
gに代える以外は実施例1−A試料と同様に作成した。
これを実施例2−B試料とする。実施例1−A及び2−
B試料は研磨剤の添加により、バックの表面に鋭利な突
起ができ、磁気ヘッド表面に巻き込まれて滞在してしま
うほこりや現像処理液成分からなる汚れを取り除く効果
および磁気ヘッド表面をクリーニングする効果が顕著
で、再生信号のドロップアウトが極めて起こりにくいも
のであったに対し、研磨剤を含有しない実施例試料2−
Aは再生信号のドロップアウトが増加した。従って、感
材バックに研磨剤を含有することで、本発明の架橋剤の
効果とあいまって、膜剥がれのない、現像処理後の磁気
記録/再生能力を充分に持つ、優れた透明磁気記録層付
き写真感光材料を提供することができる。
【0130】(実施例3)実施例1において、バック第
3層バインダーであるジアセチルセルロースをセルロー
スアセテートプロピオネート、あるいはニトロセルロー
スにすべて置き換えた以外は実施例1と同様に行った結
果、実施例1と同様の結果を得た。
3層バインダーであるジアセチルセルロースをセルロー
スアセテートプロピオネート、あるいはニトロセルロー
スにすべて置き換えた以外は実施例1と同様に行った結
果、実施例1と同様の結果を得た。
【0131】(実施例4)バック第3層に、1,4ジア
ザビシクロ[2,2,2]オクタン、またはジブチルす
ずジラウレート、または1,8−ジアザ−ビシクロ
[5,4,0]ウンデセン−7を各々0.02g追添加
した以外は、実施例1−Aと同様に行った結果、上記化
合物を含有しない実施例1−A試料では110℃3分間
の再乾燥にて架橋が進行し、膜剥がれ性が改良された
が、本化合物を含有した試料では再乾燥を必要とせず、
膜剥がれ性がすぐに改良された。従って、3級アミン、
金属塩、DBU化合物の中から少なくとも1種類以上を
バック層中に含有することで膜剥がれ性の改良速度が促
進され、より乾燥負荷を低減できることで、製造工程上
のラチテュードが広がる。
ザビシクロ[2,2,2]オクタン、またはジブチルす
ずジラウレート、または1,8−ジアザ−ビシクロ
[5,4,0]ウンデセン−7を各々0.02g追添加
した以外は、実施例1−Aと同様に行った結果、上記化
合物を含有しない実施例1−A試料では110℃3分間
の再乾燥にて架橋が進行し、膜剥がれ性が改良された
が、本化合物を含有した試料では再乾燥を必要とせず、
膜剥がれ性がすぐに改良された。従って、3級アミン、
金属塩、DBU化合物の中から少なくとも1種類以上を
バック層中に含有することで膜剥がれ性の改良速度が促
進され、より乾燥負荷を低減できることで、製造工程上
のラチテュードが広がる。
【0132】(実施例5)実施例1−Aにおいて、バッ
ク第2層までを塗設後、直径20cmのステンレス巻き
芯に巻付けて、110℃(PEN支持体のTg:119
℃)、48時間加熱処理し熱履歴させた後、下塗り層お
よびバック第3、4層を塗設した以外は実施例1−Aと
同様に作成した。これを実施例5−A試料とする。さら
に実施例1−A試料及び実施例4−A試料について、こ
れらを特開平4−115251号(米国特許52266
13号)に開示されているカートリッジに巻き込み、夏
期の車中におかれた場合を想定した環境試験、即ち80
℃2時間サーモを行った結果、実施例1−A試料は巻き
癖が付き、現像処理機内で搬送されにくく、傷を被り易
かった。これに対し、実施例5−A試料は巻き癖が殆ど
なく、本発明の膜剥がれおよび現像処理後のドロップア
ウト改良効果と、現像処理機からの傷を受ける頻度が減
少した効果とあいまって、非常に良好な感材を作製する
ことができた。
ク第2層までを塗設後、直径20cmのステンレス巻き
芯に巻付けて、110℃(PEN支持体のTg:119
℃)、48時間加熱処理し熱履歴させた後、下塗り層お
よびバック第3、4層を塗設した以外は実施例1−Aと
同様に作成した。これを実施例5−A試料とする。さら
に実施例1−A試料及び実施例4−A試料について、こ
れらを特開平4−115251号(米国特許52266
13号)に開示されているカートリッジに巻き込み、夏
期の車中におかれた場合を想定した環境試験、即ち80
℃2時間サーモを行った結果、実施例1−A試料は巻き
癖が付き、現像処理機内で搬送されにくく、傷を被り易
かった。これに対し、実施例5−A試料は巻き癖が殆ど
なく、本発明の膜剥がれおよび現像処理後のドロップア
ウト改良効果と、現像処理機からの傷を受ける頻度が減
少した効果とあいまって、非常に良好な感材を作製する
ことができた。
【0133】(実施例6)実施例1−Aにおいて、バッ
ク第2層に入る導電性微粒子分散液の代わりに水を使う
以外は実施例1−Aと同様に作成した。これを実施例6
−A試料とする。また、実施例1−Aにおいて、バック
第2層を塗設しない代わりに、このバック第2層処方を
そのまま乳剤側の下塗り層と乳剤層との間に塗設する以
外は実施例1−Aと同様に作成した。これを実施例6−
B試料とする。さらに、実施例1−Aにおいて、バック
第2層処方をそのまま乳剤側の下塗り層と乳剤層との間
にも塗設する以外は実施例1−Aと同様に作成した。こ
れを実施例6−C試料とする。実施例1−A、6−B、
6−C試料はその導電性が25℃、10%RHでは抵抗
は1010以下であり、優れた帯電防止性を有するもので
あった。これに対して実施例6−A試料のように、帯電
防止剤であるSnO2 /Sb2 O5 を添加しなかった場
合は、その抵抗は1015以上でありスタチックマークが
著しく取扱中に発生し画像としては好ましくなかった。
したがって、本発明においては帯電防止剤を付与するこ
とで著しく優れた感材を提供する事ができる。
ク第2層に入る導電性微粒子分散液の代わりに水を使う
以外は実施例1−Aと同様に作成した。これを実施例6
−A試料とする。また、実施例1−Aにおいて、バック
第2層を塗設しない代わりに、このバック第2層処方を
そのまま乳剤側の下塗り層と乳剤層との間に塗設する以
外は実施例1−Aと同様に作成した。これを実施例6−
B試料とする。さらに、実施例1−Aにおいて、バック
第2層処方をそのまま乳剤側の下塗り層と乳剤層との間
にも塗設する以外は実施例1−Aと同様に作成した。こ
れを実施例6−C試料とする。実施例1−A、6−B、
6−C試料はその導電性が25℃、10%RHでは抵抗
は1010以下であり、優れた帯電防止性を有するもので
あった。これに対して実施例6−A試料のように、帯電
防止剤であるSnO2 /Sb2 O5 を添加しなかった場
合は、その抵抗は1015以上でありスタチックマークが
著しく取扱中に発生し画像としては好ましくなかった。
したがって、本発明においては帯電防止剤を付与するこ
とで著しく優れた感材を提供する事ができる。
【0134】(実施例7)実施例1−Aにおいて、バッ
ク第4層に入る滑り剤(化合物16−4、化合物18−
3)を入れない以外は実施例−Aと同様に作成した。こ
れを実施例7−A試料とする。実施例1−A試料のバッ
クの滑り性は0.5cmのステンレススチール鋼球で1
00gの加重をかけ、60cm/分での動摩擦係数は
0.09以下であった。これに対し、バック面の滑り剤
を添加しなかった実施例7−A試料の場合は、その動摩
擦係数は0.45であり滑り性が非常に悪く、現像処理
機内での搬送性が悪化するため、現像処理機内の部材か
ら傷を被る頻度が増加した。従って、バック層に滑り剤
を含有することでさらに優れた感材を提供することがで
きる。
ク第4層に入る滑り剤(化合物16−4、化合物18−
3)を入れない以外は実施例−Aと同様に作成した。こ
れを実施例7−A試料とする。実施例1−A試料のバッ
クの滑り性は0.5cmのステンレススチール鋼球で1
00gの加重をかけ、60cm/分での動摩擦係数は
0.09以下であった。これに対し、バック面の滑り剤
を添加しなかった実施例7−A試料の場合は、その動摩
擦係数は0.45であり滑り性が非常に悪く、現像処理
機内での搬送性が悪化するため、現像処理機内の部材か
ら傷を被る頻度が増加した。従って、バック層に滑り剤
を含有することでさらに優れた感材を提供することがで
きる。
【0135】(実施例8)実施例1−Aにおいて、バッ
ク第3層に、SiO2 からなる真球状のマット剤(シー
ホスタKE−P50 日本触媒(株) 製 平均粒径0.
5μm )を0.65g追添加する以外は実施例1−A試
料と同様に作成した。これを実施例8−A試料とする。
実施例8−A試料はマット剤の添加により、感材バック
の表面に凹凸ができ、現像処理時にバック層表面に付着
した汚れを磁気ヘッド表面に転写させてしまうことをい
っそう防ぐため、非常に再生信号のドロップアウトがさ
らに起こりにくいものであった。従って、感材バックに
マット剤を含有することで優れた磁気再生能力を持つ透
明磁気記録層付き写真感光材料を提供することができ
る。
ク第3層に、SiO2 からなる真球状のマット剤(シー
ホスタKE−P50 日本触媒(株) 製 平均粒径0.
5μm )を0.65g追添加する以外は実施例1−A試
料と同様に作成した。これを実施例8−A試料とする。
実施例8−A試料はマット剤の添加により、感材バック
の表面に凹凸ができ、現像処理時にバック層表面に付着
した汚れを磁気ヘッド表面に転写させてしまうことをい
っそう防ぐため、非常に再生信号のドロップアウトがさ
らに起こりにくいものであった。従って、感材バックに
マット剤を含有することで優れた磁気再生能力を持つ透
明磁気記録層付き写真感光材料を提供することができ
る。
【0136】(実施例9)実施例試料5−Aに対し、以
下の実施例試料9−Aを作成した。
下の実施例試料9−Aを作成した。
【0137】厚さ90μm のポリエチレンナフタレート
支持体について、その各々の両面に、処理雰囲気圧力
0.2Torr、雰囲気気体中のH2 O分圧75%、放
電周波数30kHz、出力2500W、処理強度0.5
kV・A・分/m2 でグロー放電処理を施した。この支
持体上に、バック第1層を設けず、バック第2層として
下記組成の塗布液を特公昭58−4589号公報のバー
塗布法を用いて、5cc/m2 の塗布量で塗布した。 導電性微粒子分散液(SnO2 /Sb2 O5 粒子濃度 50 重量部 10%の水分散液.一次粒子径0.005μm の 2次凝集体でその平均粒径が0.05μm ) ゼラチン 0.5 重量部 水 49 重量部 ポリグリセロールポリグリシジルエーテル 0.16 重量部 ポリ(重合度20)オキシエチレン 0.1 重量部 ソルビタンモノラウレート さらに、バック第2層を塗設後、直径20cmのステン
レス巻き芯に巻付けて、110℃(PEN支持体のT
g:119℃)、48時間加熱処理し熱履歴させた後、
下塗り層として下記組成の塗布液をバー塗布法を用い
て、10cc/m2の塗布量で塗布した。
支持体について、その各々の両面に、処理雰囲気圧力
0.2Torr、雰囲気気体中のH2 O分圧75%、放
電周波数30kHz、出力2500W、処理強度0.5
kV・A・分/m2 でグロー放電処理を施した。この支
持体上に、バック第1層を設けず、バック第2層として
下記組成の塗布液を特公昭58−4589号公報のバー
塗布法を用いて、5cc/m2 の塗布量で塗布した。 導電性微粒子分散液(SnO2 /Sb2 O5 粒子濃度 50 重量部 10%の水分散液.一次粒子径0.005μm の 2次凝集体でその平均粒径が0.05μm ) ゼラチン 0.5 重量部 水 49 重量部 ポリグリセロールポリグリシジルエーテル 0.16 重量部 ポリ(重合度20)オキシエチレン 0.1 重量部 ソルビタンモノラウレート さらに、バック第2層を塗設後、直径20cmのステン
レス巻き芯に巻付けて、110℃(PEN支持体のT
g:119℃)、48時間加熱処理し熱履歴させた後、
下塗り層として下記組成の塗布液をバー塗布法を用い
て、10cc/m2の塗布量で塗布した。
【0138】 ゼラチン 1.01 重量部 サリチル酸 0.30 重量部 レゾルシン 0.40 重量部 ポリ(重合度10)オキシエチレンノニルフェニルエーテル 0.11 重量部 水 3.53 重量部 メタノール 84.57 重量部 n−プロパノール 10.08 重量部 さらに、実施例試料1−Aと同様にバック第3、4層を
塗設し、最後に乳剤層を塗設し、実施例試料9−Aを作
成した。本実施例試料9−Aは実施例試料5−Aと同様
に、膜剥がれおよび現像処理後のドロップアウトが起こ
りにくい、巻き癖のない、優れた写真フイルムであっ
た。
塗設し、最後に乳剤層を塗設し、実施例試料9−Aを作
成した。本実施例試料9−Aは実施例試料5−Aと同様
に、膜剥がれおよび現像処理後のドロップアウトが起こ
りにくい、巻き癖のない、優れた写真フイルムであっ
た。
【0139】(実施例10)実施例試料5−Aに対し、
以下の実施例試料10−Aを作成した。
以下の実施例試料10−Aを作成した。
【0140】厚さ90μm のポリエチレンナフタレート
支持体上に、その各々の両面に、火炎処理を行った。火
炎処理装置は春日電気製フレーム処理装置を用い、バー
ナーの内炎の先端と支持体の距離を2cmにしプロパン
ガス/空気の混合比は、容積比で1/18で、火炎処理
量は5Kcal/m2 で行った。又、火炎処理時に支持
体を支えるバックアップロールは冷却水を通した中空型
ロールを用い、常に一定温度30℃で処理した。これ以
外は、実施例5−Aと同様に行った。本実施例試料10
−Aは実施例試料5−A、9−Aと同様に、膜剥がれお
よび現像処理後のドロップアウトが起こりにくい、巻き
癖のない、優れた写真フイルムであった。
支持体上に、その各々の両面に、火炎処理を行った。火
炎処理装置は春日電気製フレーム処理装置を用い、バー
ナーの内炎の先端と支持体の距離を2cmにしプロパン
ガス/空気の混合比は、容積比で1/18で、火炎処理
量は5Kcal/m2 で行った。又、火炎処理時に支持
体を支えるバックアップロールは冷却水を通した中空型
ロールを用い、常に一定温度30℃で処理した。これ以
外は、実施例5−Aと同様に行った。本実施例試料10
−Aは実施例試料5−A、9−Aと同様に、膜剥がれお
よび現像処理後のドロップアウトが起こりにくい、巻き
癖のない、優れた写真フイルムであった。
【0141】(実施例11)実施例試料5−Aに対し、
以下の実施例試料11−Aを作成した。
以下の実施例試料11−Aを作成した。
【0142】厚さ90μm のポリエチレンナフタレート
支持体上に、その各々の両面に、コロナ放電処理をした
のち、下塗り層およびバック第1層として下記組成の下
塗液を乾膜が0.1μm になるように塗布した。コロナ
放電処理はピラー社製ソリッドステートコロナ処理機6K
VAモデルを用い、30cm幅支持体を20m/分で処理する。こ
の時、電流、電圧の読み取り値より被処理物は、0.375k
V ・ A ・ 分/m2 の処理がなされた。処理時の放電周波数
は、9.6kHz、電極と誘電体ロールのギャップクリアラン
スは1.6mm であった。これ以外は実施例5−Aと同様に
行った。 ゼラチン 3g 蒸留水 250cc ソジウムα−スルホジ−2−エチル ヘキシルサクシネート 0.05g ホルムアルデヒド 0.02g 本実施例試料11−Aは実施例試料5−A、9−A、1
0−Aと同様に、膜剥がれおよび現像処理後のドロップ
アウトが起こりにくい、巻き癖のない、優れた写真フイ
ルムであった。
支持体上に、その各々の両面に、コロナ放電処理をした
のち、下塗り層およびバック第1層として下記組成の下
塗液を乾膜が0.1μm になるように塗布した。コロナ
放電処理はピラー社製ソリッドステートコロナ処理機6K
VAモデルを用い、30cm幅支持体を20m/分で処理する。こ
の時、電流、電圧の読み取り値より被処理物は、0.375k
V ・ A ・ 分/m2 の処理がなされた。処理時の放電周波数
は、9.6kHz、電極と誘電体ロールのギャップクリアラン
スは1.6mm であった。これ以外は実施例5−Aと同様に
行った。 ゼラチン 3g 蒸留水 250cc ソジウムα−スルホジ−2−エチル ヘキシルサクシネート 0.05g ホルムアルデヒド 0.02g 本実施例試料11−Aは実施例試料5−A、9−A、1
0−Aと同様に、膜剥がれおよび現像処理後のドロップ
アウトが起こりにくい、巻き癖のない、優れた写真フイ
ルムであった。
【0143】(実施例12)厚さ90μm のポリエチレ
ンナフタレート支持体上に、表面処理を全く行わない以
外は実施例5−Aと同様に行った。これを実施例試料1
2−Aとする。
ンナフタレート支持体上に、表面処理を全く行わない以
外は実施例5−Aと同様に行った。これを実施例試料1
2−Aとする。
【0144】本実施例試料12−Aのように、支持体上
に表面処理(UV、グロー、火炎、またはコロナ)を行
わなかった場合のみ乳剤面及びバック面ともに支持体と
の十分な接着を得ることが出来ず取扱中に感材層、バッ
ク層が剥がれ落ちて、感材としては好ましくなかった。
に表面処理(UV、グロー、火炎、またはコロナ)を行
わなかった場合のみ乳剤面及びバック面ともに支持体と
の十分な接着を得ることが出来ず取扱中に感材層、バッ
ク層が剥がれ落ちて、感材としては好ましくなかった。
【0145】(実施例13)本発明試料である、実施例
1−A、C〜H、一方比較例試料である実施例1−Bに
ついて各々24mm幅にスリットして得られた写真フイルム
を特開平2−61123号の逆転給送カートリッジに装
填した。この時のカートリッジの外径は20mm、内径は18
mm、またスプール径は7mm であり、装填した写真フイル
ムの長さは1.4mであった。比較例試料では、逆転送
り出し/巻き戻しを200回行った後のフイルムバック
のエッジ部を光学顕微鏡で観察すると膜剥がれが見られ
た。しかし、本発明の試料は膜剥がれ性が改良されてい
るため、カートリッジから逆転送り出し/巻き戻しを2
00回行っても膜剥がれが見られなかった。しかし、従
って、本発明の架橋剤をバック層に含有することで逆転
給送カートリッジシステムに対応できる優れた感材を提
供できる。
1−A、C〜H、一方比較例試料である実施例1−Bに
ついて各々24mm幅にスリットして得られた写真フイルム
を特開平2−61123号の逆転給送カートリッジに装
填した。この時のカートリッジの外径は20mm、内径は18
mm、またスプール径は7mm であり、装填した写真フイル
ムの長さは1.4mであった。比較例試料では、逆転送
り出し/巻き戻しを200回行った後のフイルムバック
のエッジ部を光学顕微鏡で観察すると膜剥がれが見られ
た。しかし、本発明の試料は膜剥がれ性が改良されてい
るため、カートリッジから逆転送り出し/巻き戻しを2
00回行っても膜剥がれが見られなかった。しかし、従
って、本発明の架橋剤をバック層に含有することで逆転
給送カートリッジシステムに対応できる優れた感材を提
供できる。
【0146】(実施例14)実施例5−Aにおいて、バ
ック第4層を下記処方にてすべて変更して塗布し、バッ
ク第3層に添加する架橋剤の塗布量を表3に示す様にし
た以外は、実施例5−Aと全く同様に作成した。これを
実施例試料14−A〜Cとする。 分散原液の作成 下記のa液を90℃加温溶解し、b液に添加後、高圧ホ
モジナイザーで分散し滑り分散原液を作成した。 a液 化合物(16−4) 0.75 重量部 化合物(18−3) 0.75 重量部 キシレン 2.11 重量部 プロピレングリコール− 0.08 重量部 モノメチルエーテル b液 シクロヘキサノン 96.3 重量部
ック第4層を下記処方にてすべて変更して塗布し、バッ
ク第3層に添加する架橋剤の塗布量を表3に示す様にし
た以外は、実施例5−Aと全く同様に作成した。これを
実施例試料14−A〜Cとする。 分散原液の作成 下記のa液を90℃加温溶解し、b液に添加後、高圧ホ
モジナイザーで分散し滑り分散原液を作成した。 a液 化合物(16−4) 0.75 重量部 化合物(18−3) 0.75 重量部 キシレン 2.11 重量部 プロピレングリコール− 0.08 重量部 モノメチルエーテル b液 シクロヘキサノン 96.3 重量部
【0147】上記滑り分散原液482gに下記のバイン
ダー、溶剤を加え塗布液とした。 ヒドロキシプロピルセルロース 12.12 g (日本曹達(株) 製 、商品名HPC−SL) イソプロピルアルコール 3243 g メタノール 114.55 g シクロヘキサノン 144 g C8F17NC3H7(CH2CH2O) p (CH2)4SO3Na p:平均4 0.73 g ポリエステル変性シリコーン溶液 2.88 g (BYKケミジャパン(株) 製、 商品名BYK310、固形分含量25%) 上記滑り層塗布液を10.4cc/m2 の塗布量で塗布
した。この様に作成した、本発明の架橋剤をバック層に
含有する実施例試料14−A〜Cは、実施例試料5−A
と同様に膜剥がれ防止性に優れ、現像処理後のドロップ
アウトが実施例試料5−Aよりもさらに良化された透明
磁気記録層付き写真フイルムであった。この結果から、
弗素系化合物をフイルムバック層に含有することは現像
処理後のドロップアウトをさらに良化させることができ
るため非常に好ましく、極めて良好な透明磁気記録層付
きハロゲン化銀写真感光材料を提供することができる。
ダー、溶剤を加え塗布液とした。 ヒドロキシプロピルセルロース 12.12 g (日本曹達(株) 製 、商品名HPC−SL) イソプロピルアルコール 3243 g メタノール 114.55 g シクロヘキサノン 144 g C8F17NC3H7(CH2CH2O) p (CH2)4SO3Na p:平均4 0.73 g ポリエステル変性シリコーン溶液 2.88 g (BYKケミジャパン(株) 製、 商品名BYK310、固形分含量25%) 上記滑り層塗布液を10.4cc/m2 の塗布量で塗布
した。この様に作成した、本発明の架橋剤をバック層に
含有する実施例試料14−A〜Cは、実施例試料5−A
と同様に膜剥がれ防止性に優れ、現像処理後のドロップ
アウトが実施例試料5−Aよりもさらに良化された透明
磁気記録層付き写真フイルムであった。この結果から、
弗素系化合物をフイルムバック層に含有することは現像
処理後のドロップアウトをさらに良化させることができ
るため非常に好ましく、極めて良好な透明磁気記録層付
きハロゲン化銀写真感光材料を提供することができる。
【0148】
【表3】
【0149】(実施例15)実施例1−Aにおいて、架
橋剤1(ミリオネートMR−400)の代わりに、ミリ
オネートMT、あるいは、ミリオネートMR−100、
あるいは、ミリオネートMR−200、あるいは、ミリ
オネートMR−300(いずれもに日本ポリウレタン
(株) 製)に変更する以外は実施例1−Aと全く同様に
作成した。これらを実施例試料15−A〜Dとする。ま
た実施例14−Bにおいて、架橋剤1(ミリオネートM
R−400)の代わりに、ミリオネートMT、あるい
は、ミリオネートMR−100、あるいは、ミリオネー
トMR−200、あるいは、ミリオネートMR−300
に変更する以外は実施例14−Bと全く同様に作成し
た。これらを実施例試料15−E〜Hとする。実施例試
料15−A〜Hは、実施例1−A、14−Bと同様に、
非常に、膜剥がれ及び現像処理後のドロップアウトが改
良された、優れた透明磁気記録層付き写真フイルムであ
った。
橋剤1(ミリオネートMR−400)の代わりに、ミリ
オネートMT、あるいは、ミリオネートMR−100、
あるいは、ミリオネートMR−200、あるいは、ミリ
オネートMR−300(いずれもに日本ポリウレタン
(株) 製)に変更する以外は実施例1−Aと全く同様に
作成した。これらを実施例試料15−A〜Dとする。ま
た実施例14−Bにおいて、架橋剤1(ミリオネートM
R−400)の代わりに、ミリオネートMT、あるい
は、ミリオネートMR−100、あるいは、ミリオネー
トMR−200、あるいは、ミリオネートMR−300
に変更する以外は実施例14−Bと全く同様に作成し
た。これらを実施例試料15−E〜Hとする。実施例試
料15−A〜Hは、実施例1−A、14−Bと同様に、
非常に、膜剥がれ及び現像処理後のドロップアウトが改
良された、優れた透明磁気記録層付き写真フイルムであ
った。
【0150】(実施例16)実施例5−Aにおいて、バ
ック第3層に入る架橋剤1を抜き、代わりにバック第4
層中に架橋剤1を3.0g追添した以外は、実施例5−
Aと全く同様に作成した。これを実施例試料16−Aと
する。この様に作成した実施例試料16−Aは、実施例
試料5−Aと同様に膜剥がれ性および現像処理後のドロ
ップアウトが改良された優れた透明磁気記録層付き写真
フイルムであった。
ック第3層に入る架橋剤1を抜き、代わりにバック第4
層中に架橋剤1を3.0g追添した以外は、実施例5−
Aと全く同様に作成した。これを実施例試料16−Aと
する。この様に作成した実施例試料16−Aは、実施例
試料5−Aと同様に膜剥がれ性および現像処理後のドロ
ップアウトが改良された優れた透明磁気記録層付き写真
フイルムであった。
【0151】(実施例17)実施例5−Aにおいて、バ
ック第2層とバック第3層との間に、バック第3層を塗
布する際に、下記処方の液で一層追加し、さらにバック
第3層から架橋剤1を抜いて塗布する以外は実施例5−
A試料と全く同様に作成した。これを実施例試料17−
Aとする。 架橋剤1 3.8 g メチルエチルケトン 248.1 g シクロヘキサノン 248.1 g 塗布はバーで行い、塗布量は10.4cc/m2 であっ
た。この様に作成した実施例試料17−Aは、実施例試
料5−Aと同様に膜剥がれ性および現像処理後のドロッ
プアウトが改良された優れた透明磁気記録層付き写真フ
イルムであった。
ック第2層とバック第3層との間に、バック第3層を塗
布する際に、下記処方の液で一層追加し、さらにバック
第3層から架橋剤1を抜いて塗布する以外は実施例5−
A試料と全く同様に作成した。これを実施例試料17−
Aとする。 架橋剤1 3.8 g メチルエチルケトン 248.1 g シクロヘキサノン 248.1 g 塗布はバーで行い、塗布量は10.4cc/m2 であっ
た。この様に作成した実施例試料17−Aは、実施例試
料5−Aと同様に膜剥がれ性および現像処理後のドロッ
プアウトが改良された優れた透明磁気記録層付き写真フ
イルムであった。
【0152】(実施例18)実施例5−Aにおいて、乳
剤層を、反転カラー乳剤層である特開平2−854実施
例1の試料101と同様にして、さらに、現像処理を特
開平2−854実施例1に示されるようなカラーリバー
サル感材用の現像処理法により実施する以外は、実施例
5−Aと同様に行ったところ、実施例5−Aと同様に膜
剥がれ性および現像処理後のドロップアウトが改良され
た優れた透明磁気記録層付き写真フイルムを作成するこ
とができた。
剤層を、反転カラー乳剤層である特開平2−854実施
例1の試料101と同様にして、さらに、現像処理を特
開平2−854実施例1に示されるようなカラーリバー
サル感材用の現像処理法により実施する以外は、実施例
5−Aと同様に行ったところ、実施例5−Aと同様に膜
剥がれ性および現像処理後のドロップアウトが改良され
た優れた透明磁気記録層付き写真フイルムを作成するこ
とができた。
【0153】
【発明の効果】本発明により、バック面の膜剥がれ故障
が発生しにくく、且つ、現像処理後の磁気記録/再生エ
ラーが起こりにくい、優れた透明磁気記録層付きハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供することができる。
が発生しにくく、且つ、現像処理後の磁気記録/再生エ
ラーが起こりにくい、優れた透明磁気記録層付きハロゲ
ン化銀写真感光材料を提供することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 67/02 LNZ C08L 67/02 LNZ G03C 1/00 GAP G03C 1/00 GAPE 1/795 1/795 1/81 1/81 1/85 1/85 3/00 GAP 3/00 GAP 7/00 510 7/00 510 530 530 G11B 5/633 G11B 5/633
Claims (11)
- 【請求項1】 支持体上に少なくとも1層のハロゲン化
銀乳剤層と、該支持体のもう一方の側に、少なくとも1
層のバック層を有し、該バック層の1層が透明磁気記録
層であるハロゲン化銀写真感光材料において、少なくと
もいずれか1層のバック層に、下記一般式(1)で表さ
れる架橋剤を3mg/m2 以上1000mg/m2 以下
含有し、該透明磁気記録層にモース硬度5以上の研磨剤
を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材
料。 一般式(1): 【化1】 ここで、n≧0の整数、mは1又は2の整数であり、R
1 、R2 、R3 は各々独立に水素原子、アルキル基、あ
るいはアリール基である。 - 【請求項2】 3級アミン、金属塩、ジアザ−ビシクロ
−ウンデセン(DBU)の少なくとも1種類以上を該バ
ック層中に含有することを特徴とする請求項1記載のハ
ロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項3】 該磁気記録層を構成するバインダーがセ
ルロースエステルであることを特徴とする請求項1又は
2に記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項4】 該セルロースエステルがジアセチルセル
ロース又はニトロセルロースであることを特徴とする請
求項1〜3に記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項5】 磁気記録層に含まれる磁性粒子が、強磁
性酸化鉄微粉末、Co含有強磁性酸化鉄微粉末、Co被
着強磁性酸化鉄微粉末、強磁性二酸化クロム微粉末、強
磁性金属微粉末、強磁性合金微粉末、バリウムフェライ
ト、マグネタイト、Co含有マグネタイト、Co被着マ
グネタイトであることを特徴とする請求項1〜4に記載
のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項6】 該ハロゲン化銀写真感光材料の支持体
が、Tgが50℃以上200℃以下のポリエステル支持
体であり、これを予め各々のTg〜Tg−50℃までの
温度で熱処理されていることを特徴とする請求項1〜5
記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項7】 支持体がポリエチレン−2,6−ナフタ
レンジカルボキシレートであることを特徴とする請求項
6記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項8】 支持体の表面をUV処理、グロー放電処
理、火炎処理、コロナ処理のいずれか1種類以上の処理
を施したことを特徴とする請求項1〜7記載のハロゲン
化銀写真感光材料。 - 【請求項9】 バック側の少なくともいずれか一層に帯
電防止剤(導電性金属酸化物又は/及びイオン性ポリマ
ー(電気抵抗率が1012・cmΩ以下,25°C/10
%RH))、又は/及び弗素系化合物、又は/及び滑り
剤(動摩擦係数0.25以下)、又は/及びマット剤
(粒径0.1〜1.5μm)を含有することを特徴とす
る請求項1〜8に記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項10】 請求項1記載の一般式(1)で表わさ
れる架橋剤を、該磁気記録層又は/及び該磁気記録層に
隣接する層が含有することを特徴とする請求項1〜9記
載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項11】 パトローネ本体内に回転自在に設けら
れたスプールをフイルム給送方向に回転させることによ
り、スプールに巻き付けられたフイルムの先端をパトロ
ーネ本体のフイルム引き出し口から外部に送り出すハロ
ゲン化銀写真感光材料用パトローネシステムと請求項1
〜10に記載のハロゲン化銀写真感光材料とを組み合わ
せたことを特徴とする写真製品。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7268091A JPH0990555A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US08/718,243 US5766835A (en) | 1995-09-22 | 1996-09-20 | Silver halide photographic light-sensitive material |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7268091A JPH0990555A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0990555A true JPH0990555A (ja) | 1997-04-04 |
Family
ID=17453772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7268091A Pending JPH0990555A (ja) | 1995-09-22 | 1995-09-22 | ハロゲン化銀写真感光材料 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5766835A (ja) |
| JP (1) | JPH0990555A (ja) |
Families Citing this family (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6319660B1 (en) * | 1998-12-28 | 2001-11-20 | Eastman Kodak Company | Color photographic element containing speed improving compound |
| US6783927B2 (en) * | 2000-07-07 | 2004-08-31 | Fuji Photo Film, Co., Ltd. | Photothermographic material |
| US6451431B1 (en) * | 2000-12-29 | 2002-09-17 | Eastman Kodak Company | Film support with annealable layer and improved adhesion |
| EP1223463A1 (en) * | 2000-12-29 | 2002-07-17 | Eastman Kodak Company | Film support with annealable layer and improved adhesion |
| US6306568B1 (en) * | 2000-12-29 | 2001-10-23 | Eastman Kodak Company | Film support with improved adhesion upon annealing |
| EP1278101B1 (en) * | 2001-07-17 | 2008-07-02 | Konica Minolta Medical & Graphic, Inc. | Silver salt photothermographic imaging material, and image recording method and image forming method by the use thereof |
| US20050174414A1 (en) * | 2002-03-28 | 2005-08-11 | Yoshio Yoshida | Ink jet recording medium |
| US20060068024A1 (en) * | 2004-09-27 | 2006-03-30 | Schroeder Kurt M | Antimicrobial silver halide composition |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2515167B2 (ja) * | 1990-07-16 | 1996-07-10 | 富士写真フイルム株式会社 | ハロゲン化銀カラ―写真感光材料 |
| DE69127153T2 (de) * | 1990-09-14 | 1998-02-19 | Fuji Photo Film Co Ltd | Photographisches Material |
| JPH0659357A (ja) * | 1992-08-12 | 1994-03-04 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| JPH0713291A (ja) * | 1993-06-24 | 1995-01-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀写真感光材料 |
| US5558977A (en) * | 1995-12-22 | 1996-09-24 | Eastman Kodak Company | Imaging element comprising a transparent magnetic layer and a transparent electrically-conductive layer |
-
1995
- 1995-09-22 JP JP7268091A patent/JPH0990555A/ja active Pending
-
1996
- 1996-09-20 US US08/718,243 patent/US5766835A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5766835A (en) | 1998-06-16 |
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