JPH11327145A5 - - Google Patents
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- JPH11327145A5 JPH11327145A5 JP1998132291A JP13229198A JPH11327145A5 JP H11327145 A5 JPH11327145 A5 JP H11327145A5 JP 1998132291 A JP1998132291 A JP 1998132291A JP 13229198 A JP13229198 A JP 13229198A JP H11327145 A5 JPH11327145 A5 JP H11327145A5
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- acid
- resin composition
- photosensitive resin
- positive photosensitive
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Claims (4)
- （Ａ）環状脂肪族炭化水素骨格構造を含み、酸の作用により分解してアルカリ可溶性となる重合体、
（Ｂ）活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物、
（Ｃ）分子量が1000以下のスルホンアミド構造を含む化合物、
（Ｄ）含窒素塩基性化合物、及び
（Ｅ）フッソ系及び／またはシリコン系界面活性剤、
を含有することを特徴とするポジ型感光性樹脂組成物。 - 更に（Ｆ）酸の作用により分解しうる基を有し、アルカリ溶解性が酸の作用により増大する分子量が2000以下の低分子酸分解性溶解阻止化合物を含有することを特徴とする請求項１記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 露光光源として、220nm 以下の波長の遠紫外光を使用することを特徴とする請求項１又は２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
- 請求項１〜３のいずれかに記載のポジ型感光性樹脂組成物により膜を形成し、当該膜を露光、現像することを特徴とするパターン形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13229198A JP3901342B2 (ja) | 1998-05-14 | 1998-05-14 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13229198A JP3901342B2 (ja) | 1998-05-14 | 1998-05-14 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11327145A JPH11327145A (ja) | 1999-11-26 |
| JPH11327145A5 true JPH11327145A5 (ja) | 2005-02-24 |
| JP3901342B2 JP3901342B2 (ja) | 2007-04-04 |
Family
ID=15077863
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13229198A Expired - Fee Related JP3901342B2 (ja) | 1998-05-14 | 1998-05-14 | ポジ型感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3901342B2 (ja) |
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-
1998
- 1998-05-14 JP JP13229198A patent/JP3901342B2/ja not_active Expired - Fee Related
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