JPH11337932A - 反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板 - Google Patents
反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板Info
- Publication number
- JPH11337932A JPH11337932A JP14625998A JP14625998A JPH11337932A JP H11337932 A JPH11337932 A JP H11337932A JP 14625998 A JP14625998 A JP 14625998A JP 14625998 A JP14625998 A JP 14625998A JP H11337932 A JPH11337932 A JP H11337932A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- liquid crystal
- color filter
- crystal display
- display device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Optical Filters (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】反射型液晶プロジェクション装置に用いられる
反射型液晶表示装置１０において、明度の高い（反射率
の高い）、彩度の高い（色の鮮やかな）色表示品質を有
し、開口率の高い反射型液晶表示装置用カラーフィルタ
基板１５を提供すること。 【解決手段】Ｓｉチップ・ベースド基板１１上に、低反
射層２５、干渉防止層２６、多層膜干渉フィルタ層１
８、保護膜層１９の積層を具備すること。
反射型液晶表示装置１０において、明度の高い（反射率
の高い）、彩度の高い（色の鮮やかな）色表示品質を有
し、開口率の高い反射型液晶表示装置用カラーフィルタ
基板１５を提供すること。 【解決手段】Ｓｉチップ・ベースド基板１１上に、低反
射層２５、干渉防止層２６、多層膜干渉フィルタ層１
８、保護膜層１９の積層を具備すること。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は単板式の反射型液晶
プロジェクション装置や液晶空間変調素子に用いられる
液晶表示装置用基板に係わるものであり、特に、Ｓｉチ
ップ・ベースド基板上に多層膜干渉フィルタ層を形成し
た反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板に関する。
プロジェクション装置や液晶空間変調素子に用いられる
液晶表示装置用基板に係わるものであり、特に、Ｓｉチ
ップ・ベースド基板上に多層膜干渉フィルタ層を形成し
た反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の単板式反射型液晶プロジェクショ
ン装置や液晶空間変調素子に用いられる液晶表示装置の
構成は、Ｓｉチップ・べースド基板上に形成された電極
上にＡｌなどの反射膜を設け、対向するカラーフィルタ
基板上の、例えば、顔料分散方式によるカラーフィルタ
により分光された透過光をその反射膜で反射させ外部へ
射出する方式をとっていた。図１０は、従来法における
単板式反射型液晶プロジェクション装置に用いられる液
晶表示装置の一例を、その部分を拡大して断面で示す説
明図である。
ン装置や液晶空間変調素子に用いられる液晶表示装置の
構成は、Ｓｉチップ・べースド基板上に形成された電極
上にＡｌなどの反射膜を設け、対向するカラーフィルタ
基板上の、例えば、顔料分散方式によるカラーフィルタ
により分光された透過光をその反射膜で反射させ外部へ
射出する方式をとっていた。図１０は、従来法における
単板式反射型液晶プロジェクション装置に用いられる液
晶表示装置の一例を、その部分を拡大して断面で示す説
明図である。
【０００３】図１０に示すように、液晶表示装置（８
０）は、対向基板（８５）、液晶（８６）、カラーフィ
ルタ基板（８７）などで構成されている。図１０におい
て、対向基板（８５）は、画素表示に必要な素子（図示
せず）や画素電極（８３）などがＳｉ上に形成されたＳ
ｉチップ・ベースド基板（８１）、及びＡｌ反射膜（８
４）などで構成されている。また、カラーフィルタ基板
（８７）は、ガラス基板（９２）、カラーフィルタ層
（８８）、オーバーコート層（８９）、透明電極層（９
０）、遮光層（９１）などで構成されている。
０）は、対向基板（８５）、液晶（８６）、カラーフィ
ルタ基板（８７）などで構成されている。図１０におい
て、対向基板（８５）は、画素表示に必要な素子（図示
せず）や画素電極（８３）などがＳｉ上に形成されたＳ
ｉチップ・ベースド基板（８１）、及びＡｌ反射膜（８
４）などで構成されている。また、カラーフィルタ基板
（８７）は、ガラス基板（９２）、カラーフィルタ層
（８８）、オーバーコート層（８９）、透明電極層（９
０）、遮光層（９１）などで構成されている。
【０００４】液晶表示装置（８０）は、対向基板（８
５）とカラーフィルタ基板（８７）を液晶（８６）を介
して貼り合わせて作製されるものであるが、対向基板
（８５）の画素電極（８３）とカラーフィルタ基板（８
７）のカラーフィルタ層（８８）との位置合わせのため
に、遮光層（９１）の幅に余裕（９３）をもたせてい
る。このため、画素の開口部（９４）の面積はその分小
さなものとなる。すなわち、画素の開口率は低下したも
のとなってしまう。
５）とカラーフィルタ基板（８７）を液晶（８６）を介
して貼り合わせて作製されるものであるが、対向基板
（８５）の画素電極（８３）とカラーフィルタ基板（８
７）のカラーフィルタ層（８８）との位置合わせのため
に、遮光層（９１）の幅に余裕（９３）をもたせてい
る。このため、画素の開口部（９４）の面積はその分小
さなものとなる。すなわち、画素の開口率は低下したも
のとなってしまう。
【０００５】図１０において、外光（Ｉ）はカラーフィ
ルタ層（８８）を通過し色光となり、Ａｌ反射膜（８
４）にて反射され、再びカラーフィルタ層（８８）を通
過して、外部へ反射光（Ｒ）として射出されるようにな
っている。このような反射型液晶表示装置においては、
色素として、例えば顔料を用いた際、外光（Ｉ）はカラ
ーフィルタ層（８８）を通過し色光となるが、その色光
の彩度、明度（透過率）などの性能は、その顔料により
制約され、また、対向基板（８５）での反射性能は、Ａ
ｌ反射膜（８４）により制約されたものとなり、特に、
反射型液晶プロジェクション装置に用いられる反射型液
晶表示装置としては、明るさ（輝度）及び色の鮮やかさ
の面で満足された性能ではない。
ルタ層（８８）を通過し色光となり、Ａｌ反射膜（８
４）にて反射され、再びカラーフィルタ層（８８）を通
過して、外部へ反射光（Ｒ）として射出されるようにな
っている。このような反射型液晶表示装置においては、
色素として、例えば顔料を用いた際、外光（Ｉ）はカラ
ーフィルタ層（８８）を通過し色光となるが、その色光
の彩度、明度（透過率）などの性能は、その顔料により
制約され、また、対向基板（８５）での反射性能は、Ａ
ｌ反射膜（８４）により制約されたものとなり、特に、
反射型液晶プロジェクション装置に用いられる反射型液
晶表示装置としては、明るさ（輝度）及び色の鮮やかさ
の面で満足された性能ではない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の問題
点を解決すべくされたものであり、反射型液晶プロジェ
クション装置に用いられる反射型液晶表示装置におい
て、明るく（輝度の高い）、色の鮮やかな表示品質を有
する反射型液晶プロジェクション装置となる、反射型液
晶表示装置用カラーフィルタ基板、すなわち、反射型液
晶表示装置用カラーフィルタ基板としては、明度の高い
（反射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やかな）色表示
品質を有する反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板
を提供することを課題とするものである。また、反射型
液晶表示装置として、開口率の高い反射型液晶表示装置
となる反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板を提供
することを課題とするものである。
点を解決すべくされたものであり、反射型液晶プロジェ
クション装置に用いられる反射型液晶表示装置におい
て、明るく（輝度の高い）、色の鮮やかな表示品質を有
する反射型液晶プロジェクション装置となる、反射型液
晶表示装置用カラーフィルタ基板、すなわち、反射型液
晶表示装置用カラーフィルタ基板としては、明度の高い
（反射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やかな）色表示
品質を有する反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板
を提供することを課題とするものである。また、反射型
液晶表示装置として、開口率の高い反射型液晶表示装置
となる反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板を提供
することを課題とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、Ｓｉチップ・
ベースド基板上に、低反射層、干渉防止層、多層膜干渉
フィルタ層、保護膜層の積層を具備することを特徴とす
る反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板である。ま
た、本発明は、上記発明の反射型液晶表示装置用カラー
フィルタ基板において、前記低反射層が３層以上の多層
構成であり、該Ｓｉチップ・ベースド基板側からの、第
１層〜第ｎ層における、第１層の「屈折率ｎ1 、吸収係
数ｋ1 」〜第ｎ層の「屈折率ｎn 、吸収係数ｋn 」の関
係が、ｎ1 ＞・・・＞ｎn-1 ＞ｎn 、ｋ1 ＞・・・＞ｋ
n-1 ＞ｋn 、であることを特徴とする反射型液晶表示装
置用カラーフィルタ基板である。また、本発明は、上記
発明の反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板におい
て、前記低反射層の、干渉防止層側の層の「屈折率
ｎa 、吸収係数ｋa 」と、前記干渉防止層の「屈折率ｎ
b 、吸収係数ｋb 」と、前記多層膜干渉フィルタ層の、
干渉防止層側の層の「屈折率ｎc 」の関係が、ｎb ＜ｎ
a 、ｎb ＜ｎc 、ｋb ＜ｋa 、干渉防止層の層厚が中心
波長の略１／２以上、であることを特徴とする反射型液
晶表示装置用カラーフィルタ基板である。
ベースド基板上に、低反射層、干渉防止層、多層膜干渉
フィルタ層、保護膜層の積層を具備することを特徴とす
る反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板である。ま
た、本発明は、上記発明の反射型液晶表示装置用カラー
フィルタ基板において、前記低反射層が３層以上の多層
構成であり、該Ｓｉチップ・ベースド基板側からの、第
１層〜第ｎ層における、第１層の「屈折率ｎ1 、吸収係
数ｋ1 」〜第ｎ層の「屈折率ｎn 、吸収係数ｋn 」の関
係が、ｎ1 ＞・・・＞ｎn-1 ＞ｎn 、ｋ1 ＞・・・＞ｋ
n-1 ＞ｋn 、であることを特徴とする反射型液晶表示装
置用カラーフィルタ基板である。また、本発明は、上記
発明の反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板におい
て、前記低反射層の、干渉防止層側の層の「屈折率
ｎa 、吸収係数ｋa 」と、前記干渉防止層の「屈折率ｎ
b 、吸収係数ｋb 」と、前記多層膜干渉フィルタ層の、
干渉防止層側の層の「屈折率ｎc 」の関係が、ｎb ＜ｎ
a 、ｎb ＜ｎc 、ｋb ＜ｋa 、干渉防止層の層厚が中心
波長の略１／２以上、であることを特徴とする反射型液
晶表示装置用カラーフィルタ基板である。
【０００８】
【発明の実施の形態】以下に本発明による反射型液晶表
示装置用カラーフィルタ基板を、その一実施形態に基づ
いて説明する。図１は、本発明における反射型液晶表示
装置用カラーフィルタ基板が、反射型液晶表示装置に用
いられた一実施例の断面図である。この反射型液晶表示
装置が単板式反射型液晶プロジェクション装置に使用さ
れるものである。また、図１は、反射型液晶表示装置の
一部分を拡大して示したものである。
示装置用カラーフィルタ基板を、その一実施形態に基づ
いて説明する。図１は、本発明における反射型液晶表示
装置用カラーフィルタ基板が、反射型液晶表示装置に用
いられた一実施例の断面図である。この反射型液晶表示
装置が単板式反射型液晶プロジェクション装置に使用さ
れるものである。また、図１は、反射型液晶表示装置の
一部分を拡大して示したものである。
【０００９】図１に示すように、反射型液晶表示装置
（１０）は、カラーフィルタ基板（１５）、液晶（１
６）、対向基板（１７）などで構成されている。図１に
おいて、カラーフィルタ基板（１５）は、画素表示に必
要な素子（図示せず）や画素電極（１３）などがＳｉ
（１２）上に形成されたＳｉチップ・ベースド基板（１
１）、低反射層（２５）、干渉防止層（２６）、多層膜
干渉カラーフィルタ層（１８）、オーバーコート層（１
９）、遮光層（２１）などで構成されている。また、対
向基板（１７）は、ガラス基板（２２）上に透明電極層
（２０）が形成されたものである。
（１０）は、カラーフィルタ基板（１５）、液晶（１
６）、対向基板（１７）などで構成されている。図１に
おいて、カラーフィルタ基板（１５）は、画素表示に必
要な素子（図示せず）や画素電極（１３）などがＳｉ
（１２）上に形成されたＳｉチップ・ベースド基板（１
１）、低反射層（２５）、干渉防止層（２６）、多層膜
干渉カラーフィルタ層（１８）、オーバーコート層（１
９）、遮光層（２１）などで構成されている。また、対
向基板（１７）は、ガラス基板（２２）上に透明電極層
（２０）が形成されたものである。
【００１０】反射型液晶表示装置（１０）は、カラーフ
ィルタ基板（１５）と対向基板（１７）を液晶（１６）
を介して貼り合わせて作製されるものであるが、本発明
においては、多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）はカ
ラーフィルタ基板（１５）側に形成されており、画素電
極（１３）と多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）との
位置合わせは、フォトリソグラフィー法によるＳｉチッ
プ・ベースド基板（１１）上への形成となるので、画素
電極（１３）と多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）と
の位置合わせのための遮光層（２１）の幅の余裕（２
３）は小さなものとなる。すなわち、画素の開口率の低
下は殆どないものとなる。
ィルタ基板（１５）と対向基板（１７）を液晶（１６）
を介して貼り合わせて作製されるものであるが、本発明
においては、多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）はカ
ラーフィルタ基板（１５）側に形成されており、画素電
極（１３）と多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）との
位置合わせは、フォトリソグラフィー法によるＳｉチッ
プ・ベースド基板（１１）上への形成となるので、画素
電極（１３）と多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）と
の位置合わせのための遮光層（２１）の幅の余裕（２
３）は小さなものとなる。すなわち、画素の開口率の低
下は殆どないものとなる。
【００１１】図１において、外光（Ｉ）は多層膜干渉カ
ラーフィルタ層（１８）により反射光（Ｒ1 ）と透過光
（図示せず）に分光され、反射光（Ｒ1 ）は外部へ射出
されるようになっている。また、透過光は干渉防止層
（２６）を経て低反射層（２５）により吸収されるよう
になっている。本発明における多層膜干渉カラーフィル
タ層（１８）は、高屈折率膜と低屈折率膜の交互の多層
膜であり、高屈折率膜の材料としてはＴｉＯ2 ，ＺｒＯ
2 ，ＣｅＯ2 など、低屈折率膜の材料としてはＳｉ
Ｏ2 ，ＳｉＯ，ＭｇＦ2 などである。
ラーフィルタ層（１８）により反射光（Ｒ1 ）と透過光
（図示せず）に分光され、反射光（Ｒ1 ）は外部へ射出
されるようになっている。また、透過光は干渉防止層
（２６）を経て低反射層（２５）により吸収されるよう
になっている。本発明における多層膜干渉カラーフィル
タ層（１８）は、高屈折率膜と低屈折率膜の交互の多層
膜であり、高屈折率膜の材料としてはＴｉＯ2 ，ＺｒＯ
2 ，ＣｅＯ2 など、低屈折率膜の材料としてはＳｉ
Ｏ2 ，ＳｉＯ，ＭｇＦ2 などである。
【００１２】図２は本発明における多層膜干渉カラーフ
ィルタ層（１８）の層構成を拡大して示す説明図であ
る。図２において、低反射層（２５）、干渉防止層（２
６）の上に形成される多層膜干渉カラーフィルタ層（１
８）は、高屈折率膜（２７、１２７）として、例えばＴ
ｉＯ2 、低屈折率膜（２８）として、例えばＳｉＯ2 を
用いたものである。この多層膜干渉カラーフィルタ層
（１８）において、外光（Ｉ）は反射光（Ｒ 1 ）と透過
光（Ｔ1 ）に分光されるものである。反射型液晶表示装
置用カラーフィルタ基板は、この多層膜干渉カラーフィ
ルタ層（１８）の反射光（Ｒ1 ）を外部へ射出し、この
反射光（Ｒ1 ）が反射型液晶表示装置（１０）からの反
射光となる。
ィルタ層（１８）の層構成を拡大して示す説明図であ
る。図２において、低反射層（２５）、干渉防止層（２
６）の上に形成される多層膜干渉カラーフィルタ層（１
８）は、高屈折率膜（２７、１２７）として、例えばＴ
ｉＯ2 、低屈折率膜（２８）として、例えばＳｉＯ2 を
用いたものである。この多層膜干渉カラーフィルタ層
（１８）において、外光（Ｉ）は反射光（Ｒ 1 ）と透過
光（Ｔ1 ）に分光されるものである。反射型液晶表示装
置用カラーフィルタ基板は、この多層膜干渉カラーフィ
ルタ層（１８）の反射光（Ｒ1 ）を外部へ射出し、この
反射光（Ｒ1 ）が反射型液晶表示装置（１０）からの反
射光となる。
【００１３】図３は、本発明による明度の高い（反射率
の高い）、彩度の高い（色の鮮やかな）色表示品質を有
する反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の原理を
示す説明図である。図３において、低反射層（２５）は
光を吸収する機能を有するものである。すなわち、外光
（Ｉ）は多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）で反射光
（Ｒ1）と透過光（Ｔ1 ）に分光され、分光された透過
光（Ｔ1 ）が干渉防止層（２６）を経て透過光（Ｔ2 ）
として低反射層（２５）に至った際に、低反射層（２
５）は透過光（Ｔ2 ）が再反射することのないように吸
収してしまうものである。これにより、多層膜干渉カラ
ーフィルタ層（１８）で分光された反射光（Ｒ1）は透
過光の再反射に影響されずに、明度、彩度を保って外部
へ射出することとなる。
の高い）、彩度の高い（色の鮮やかな）色表示品質を有
する反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板の原理を
示す説明図である。図３において、低反射層（２５）は
光を吸収する機能を有するものである。すなわち、外光
（Ｉ）は多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）で反射光
（Ｒ1）と透過光（Ｔ1 ）に分光され、分光された透過
光（Ｔ1 ）が干渉防止層（２６）を経て透過光（Ｔ2 ）
として低反射層（２５）に至った際に、低反射層（２
５）は透過光（Ｔ2 ）が再反射することのないように吸
収してしまうものである。これにより、多層膜干渉カラ
ーフィルタ層（１８）で分光された反射光（Ｒ1）は透
過光の再反射に影響されずに、明度、彩度を保って外部
へ射出することとなる。
【００１４】図４は、Ｓｉ（１２）上に形成された本発
明における低反射層（２５）の断面を拡大して示す説明
図である。図４に示すように、この低反射層（２５）は
３層（３１、３２、３３）で構成され、この３層の膜の
材料は、その屈折率及び吸収係数がＳｉ（１２）側から
順に低く傾斜さるように設定するものである。これは、
この低反射層（２５）が図３における透過光（Ｔ2 ）を
吸収しＳｉ（１２）には透過光（Ｔ2 ）が到達しないよ
う、すなわち、図３における反射光（Ｒ3 ）が生ぜぬよ
うな機能をもたせるものである。
明における低反射層（２５）の断面を拡大して示す説明
図である。図４に示すように、この低反射層（２５）は
３層（３１、３２、３３）で構成され、この３層の膜の
材料は、その屈折率及び吸収係数がＳｉ（１２）側から
順に低く傾斜さるように設定するものである。これは、
この低反射層（２５）が図３における透過光（Ｔ2 ）を
吸収しＳｉ（１２）には透過光（Ｔ2 ）が到達しないよ
う、すなわち、図３における反射光（Ｒ3 ）が生ぜぬよ
うな機能をもたせるものである。
【００１５】本発明における低反射層（２５）は３層以
上の多層構成であり、Ｓｉチップ・ベースド基板側から
の、第１層〜第ｎ層における、第１層の「屈折率ｎ1 、
吸収係数ｋ1 」〜第ｎ層の「屈折率ｎn 、吸収係数
ｋn 」の関係を、ｎ1 ＞・・・＞ｎn-1 ＞ｎn 、ｋ1 ＞
・・・＞ｋn-1 ＞ｋn 、に設定するものである。
上の多層構成であり、Ｓｉチップ・ベースド基板側から
の、第１層〜第ｎ層における、第１層の「屈折率ｎ1 、
吸収係数ｋ1 」〜第ｎ層の「屈折率ｎn 、吸収係数
ｋn 」の関係を、ｎ1 ＞・・・＞ｎn-1 ＞ｎn 、ｋ1 ＞
・・・＞ｋn-1 ＞ｋn 、に設定するものである。
【００１６】本発明における干渉防止層（２６）は、多
層膜干渉カラーフィルタ層（１８）と低反射層（２５）
とが直接に接した際に、多層膜干渉カラーフィルタ層
（１８）と低反射層（２５）間の界面で生じる反射光を
低減・防止するためのものである。図１及び図３におい
ては、多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）と低反射層
（２５）との間に干渉防止層（２６）が設けられている
が、この干渉防止層（２６）によって多層膜干渉カラー
フィルタ層（１８）と低反射層（２５）間の界面で生じ
る反射光（Ｒ2 ）を低減・防止し、多層膜干渉カラーフ
ィルタ層（１８）からの反射光（Ｒ1 ）に悪影響を与え
ない機能をもたせているものである。
層膜干渉カラーフィルタ層（１８）と低反射層（２５）
とが直接に接した際に、多層膜干渉カラーフィルタ層
（１８）と低反射層（２５）間の界面で生じる反射光を
低減・防止するためのものである。図１及び図３におい
ては、多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）と低反射層
（２５）との間に干渉防止層（２６）が設けられている
が、この干渉防止層（２６）によって多層膜干渉カラー
フィルタ層（１８）と低反射層（２５）間の界面で生じ
る反射光（Ｒ2 ）を低減・防止し、多層膜干渉カラーフ
ィルタ層（１８）からの反射光（Ｒ1 ）に悪影響を与え
ない機能をもたせているものである。
【００１７】この干渉防止層（２６）の層厚は、該当す
る多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）の中心波長の略
１／２以上のものである。そして、この干渉防止層（２
６）の屈折率は、干渉防止層（２６）に接する多層膜干
渉カラーフィルタ層（１８）の第１層、図２における１
２７（ＴｉＯ2 ）の屈折率、及び干渉防止層（２６）に
接する低反射層（２５）の第３層、図４における３３
（ＣｒＯＮ）の屈折率、より小さいことが望ましい。
る多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）の中心波長の略
１／２以上のものである。そして、この干渉防止層（２
６）の屈折率は、干渉防止層（２６）に接する多層膜干
渉カラーフィルタ層（１８）の第１層、図２における１
２７（ＴｉＯ2 ）の屈折率、及び干渉防止層（２６）に
接する低反射層（２５）の第３層、図４における３３
（ＣｒＯＮ）の屈折率、より小さいことが望ましい。
【００１８】すなわち、本発明においては、低反射層
（２５）の、干渉防止層（２６）側の層の「屈折率
ｎa 、吸収係数ｋa 」と、干渉防止層（２６）の「屈折
率ｎb 、吸収係数ｋb 」と、多層膜干渉フィルタ層（１
８）の、干渉防止層（２６）側の層の「屈折率ｎc 」の
関係が、ｎb ＜ｎa 、ｎb ＜ｎc 、ｋb ＜ｋa 、干渉防
止層の層厚が中心波長の略１／２以上、であるように設
定するものである。
（２５）の、干渉防止層（２６）側の層の「屈折率
ｎa 、吸収係数ｋa 」と、干渉防止層（２６）の「屈折
率ｎb 、吸収係数ｋb 」と、多層膜干渉フィルタ層（１
８）の、干渉防止層（２６）側の層の「屈折率ｎc 」の
関係が、ｎb ＜ｎa 、ｎb ＜ｎc 、ｋb ＜ｋa 、干渉防
止層の層厚が中心波長の略１／２以上、であるように設
定するものである。
【００１９】また、干渉防止層（２６）と低反射層（２
５）の屈折率、吸収係数の関係は、低反射層（２５）の
第１層（３１）の「屈折率ｎ1 、吸収係数ｋ1 」、第２
層の「屈折率ｎ2 、吸収係数ｋ2 」、第３層の「屈折率
ｎ3 、吸収係数ｋ3 」、とし、干渉防止層（２６）の
「屈折率ｎ4 、吸収係数ｋ4 」としたとき、ｎ1 ＞ｎ2
＞ｎ3 ＞ｎ4 、ｋ1 ＞ｋ2 ＞ｋ3 ＞ｋ4 、であることが
望ましいものである。
５）の屈折率、吸収係数の関係は、低反射層（２５）の
第１層（３１）の「屈折率ｎ1 、吸収係数ｋ1 」、第２
層の「屈折率ｎ2 、吸収係数ｋ2 」、第３層の「屈折率
ｎ3 、吸収係数ｋ3 」、とし、干渉防止層（２６）の
「屈折率ｎ4 、吸収係数ｋ4 」としたとき、ｎ1 ＞ｎ2
＞ｎ3 ＞ｎ4 、ｋ1 ＞ｋ2 ＞ｋ3 ＞ｋ4 、であることが
望ましいものである。
【００２０】上記のように、外光（Ｉ）の多層膜干渉カ
ラーフィルタ層（１８）による反射光（Ｒ1 ）は外部へ
射出されるが、多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）に
よる透過光（Ｔ1 ）の多層膜干渉カラーフィルタ層（１
８）と低反射層（２５）間の界面で生じる反射光
（Ｒ2 ）は低減・防止され、また、干渉防止層（２６）
を経た透過光（Ｔ2 ）は低反射層（２５）により吸収さ
れ反射光（Ｒ3 ）は殆ど発生しないものとなる。
ラーフィルタ層（１８）による反射光（Ｒ1 ）は外部へ
射出されるが、多層膜干渉カラーフィルタ層（１８）に
よる透過光（Ｔ1 ）の多層膜干渉カラーフィルタ層（１
８）と低反射層（２５）間の界面で生じる反射光
（Ｒ2 ）は低減・防止され、また、干渉防止層（２６）
を経た透過光（Ｔ2 ）は低反射層（２５）により吸収さ
れ反射光（Ｒ3 ）は殆ど発生しないものとなる。
【００２１】すなわち、多層膜干渉カラーフィルタ層
（１８）による明度の高い（反射率の高い）、彩度の高
い（色の鮮やかな）反射光（Ｒ1 ）のみが、多層膜干渉
カラーフィルタ層（１８）による透過光の再反射に影響
されることなく外部へ射出されるものとなる。
（１８）による明度の高い（反射率の高い）、彩度の高
い（色の鮮やかな）反射光（Ｒ1 ）のみが、多層膜干渉
カラーフィルタ層（１８）による透過光の再反射に影響
されることなく外部へ射出されるものとなる。
【００２２】従って、本発明による反射型液晶表示装置
用カラーフィルタ基板を用いることにより、明度の高い
（反射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やかな）色表示
品質を有し、光効率の高い反射型液晶表示装置となる。
また、この反射型液晶表示装置を用いることにより、明
度の高い（反射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やか
な）色表示品質を有し、光効率の高い反射型液晶プロジ
ェクション装置となる。
用カラーフィルタ基板を用いることにより、明度の高い
（反射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やかな）色表示
品質を有し、光効率の高い反射型液晶表示装置となる。
また、この反射型液晶表示装置を用いることにより、明
度の高い（反射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やか
な）色表示品質を有し、光効率の高い反射型液晶プロジ
ェクション装置となる。
【００２３】また、前記のように、多層膜干渉カラーフ
ィルタ層（１８）はカラーフィルタ基板（１５）側に形
成されており、画素電極（１３）と多層膜干渉カラーフ
ィルタ層（１８）との位置合わせは、フォトリソグラフ
ィー法によるＳｉチップ・ベースド基板（１１）上への
形成となるので、画素電極（１３）と多層膜干渉カラー
フィルタ層（１８）との位置合わせは正確なものとな
り、画素の開口率の低下は殆どないものとなる。すなわ
ち、本発明による反射型液晶表示装置用カラーフィルタ
基板を用いることにより、反射型液晶表示装置としては
開口率の高い反射型液晶表示装置となる。
ィルタ層（１８）はカラーフィルタ基板（１５）側に形
成されており、画素電極（１３）と多層膜干渉カラーフ
ィルタ層（１８）との位置合わせは、フォトリソグラフ
ィー法によるＳｉチップ・ベースド基板（１１）上への
形成となるので、画素電極（１３）と多層膜干渉カラー
フィルタ層（１８）との位置合わせは正確なものとな
り、画素の開口率の低下は殆どないものとなる。すなわ
ち、本発明による反射型液晶表示装置用カラーフィルタ
基板を用いることにより、反射型液晶表示装置としては
開口率の高い反射型液晶表示装置となる。
【００２４】
【実施例】以下に本発明の実施例を具体的に説明する。 ＜実施例１＞ （低反射層の形成）素子、画素電極、配線などが形成さ
れたＳｉチップ・ベースド基板上に、低反射層としてス
パック法にてクロム，酸化クロム，酸化窒化クロムを順
次成膜した。それぞれの光学定数及び膜厚は下記の通り
であった。 屈折率 吸収係数 膜厚（ｎｍ） クロム ３．３ ２．５ ９０．０ 酸化クロム ２．７６ １．０ ４０．０ 酸化窒化クロム ２．０ ０．５ ５０．０ この構成での反射特性は図５に示すように全波長域にわ
たって１％以下と低い反射のものであった。
れたＳｉチップ・ベースド基板上に、低反射層としてス
パック法にてクロム，酸化クロム，酸化窒化クロムを順
次成膜した。それぞれの光学定数及び膜厚は下記の通り
であった。 屈折率 吸収係数 膜厚（ｎｍ） クロム ３．３ ２．５ ９０．０ 酸化クロム ２．７６ １．０ ４０．０ 酸化窒化クロム ２．０ ０．５ ５０．０ この構成での反射特性は図５に示すように全波長域にわ
たって１％以下と低い反射のものであった。
【００２５】（干渉防止層の形成）低反射層を形成した
Ｓｉチップ・ベースド基板上に、干渉防止層としてスパ
ック法にて二酸化珪素を成膜した。その光学定数及び膜
厚は下記の通りであった。 屈折率 吸収係数 膜厚（ｎｍ） 二酸化珪素 １．４６ ０．０ １００．０
Ｓｉチップ・ベースド基板上に、干渉防止層としてスパ
ック法にて二酸化珪素を成膜した。その光学定数及び膜
厚は下記の通りであった。 屈折率 吸収係数 膜厚（ｎｍ） 二酸化珪素 １．４６ ０．０ １００．０
【００２６】（多層膜干渉カラーフィルタ層の形成）図
６（イ）〜（ニ）は、多層膜干渉カラーフィルタ層を形
成する工程を断面で示す説明図である。上記低反射層
（２５）、干渉防止層（２６）を形成したＳｉチップ・
ベースド基板上に、耐熱性レジスト（東京応化工業製、
ＯＦＰＲ８００）を用い、レジスト厚０．６μｍに塗布
し、プレベーク処理（９０℃、１時間）した後、ニコン
製ステッパーにて±０．３μｍの精度で露光した。現像
・ポストベークして図６（イ）に示すように、第１色目
用のレジストパターン（６１）を形成した。
６（イ）〜（ニ）は、多層膜干渉カラーフィルタ層を形
成する工程を断面で示す説明図である。上記低反射層
（２５）、干渉防止層（２６）を形成したＳｉチップ・
ベースド基板上に、耐熱性レジスト（東京応化工業製、
ＯＦＰＲ８００）を用い、レジスト厚０．６μｍに塗布
し、プレベーク処理（９０℃、１時間）した後、ニコン
製ステッパーにて±０．３μｍの精度で露光した。現像
・ポストベークして図６（イ）に示すように、第１色目
用のレジストパターン（６１）を形成した。
【００２７】次にそのレジストパターンを形成した基板
上に第１色目の多層膜（６２）を図６（ロ）に示すよう
に形成した。装置はシンクロン製ＥＢ蒸着機（ＢＭＣ１
０５０）にカウマン型イオン銃を配置したものである。
材料は高屈折率膜としてＴｉＯ2 、低屈折率膜としてＳ
ｉＯ 2 を用い、下記の条件で１１層を交互に積層した。 到達真空圧：５×１０-4Ｐａ、 基板温度：１３０℃以下 レート ＩＡＤ Ｏ2 ガス圧 ＴｉＯ2 ２．０ ５００ｅＶ ２×１０-2Ｐａ ＳｉＯ2 ２．０ ５００ｅＶ −
上に第１色目の多層膜（６２）を図６（ロ）に示すよう
に形成した。装置はシンクロン製ＥＢ蒸着機（ＢＭＣ１
０５０）にカウマン型イオン銃を配置したものである。
材料は高屈折率膜としてＴｉＯ2 、低屈折率膜としてＳ
ｉＯ 2 を用い、下記の条件で１１層を交互に積層した。 到達真空圧：５×１０-4Ｐａ、 基板温度：１３０℃以下 レート ＩＡＤ Ｏ2 ガス圧 ＴｉＯ2 ２．０ ５００ｅＶ ２×１０-2Ｐａ ＳｉＯ2 ２．０ ５００ｅＶ −
【００２８】次にその基板を約９０℃に加温した剥離液
（シプレイ製：リムーバ１１６５）に約１時間浸漬し、
第１色目フィルタ層以外のエリアに位置するレジスト及
び多層膜を除去し、第１色目のフィルタ層を図６（ハ）
に示すように得た。第２色目，第３色目は以上の繰り返
しにより形成して、３色の多層膜干渉カラーフィルタ層
を得た。３色の分光特性は、透過光ではシアン，マゼン
タ，イエローであり、反射光ではレッド，グリーン，ブ
ルーである。層構成は下記の通りである。
（シプレイ製：リムーバ１１６５）に約１時間浸漬し、
第１色目フィルタ層以外のエリアに位置するレジスト及
び多層膜を除去し、第１色目のフィルタ層を図６（ハ）
に示すように得た。第２色目，第３色目は以上の繰り返
しにより形成して、３色の多層膜干渉カラーフィルタ層
を得た。３色の分光特性は、透過光ではシアン，マゼン
タ，イエローであり、反射光ではレッド，グリーン，ブ
ルーである。層構成は下記の通りである。
【００２９】 色 中心波長 ＴｉＯ2 ／（ＳｉＯ2 ／ＴｉＯ2 ）4 ／ＳｉＯ2 ／ＴｉＯ2 （透過）（λ） ｎｍ シアン ７４０ １．０／（ １．０／ １．０） ／ １．０／ １．２ マゼンタ ４２０ ４．０／（ ０．５／ ２．０） ／ ０．５／ ４．０ イエロー ４００ ０．６／（ １．０／ １．０） ／ １．０／ ０．６ ［ 数値 １．０＝λ／４ ］
【００３０】次に、保護膜層（６３）となる透明な有機
樹脂（日本化薬製：ＨＯＣ−３３８Ｊ）をその多層膜干
渉カラーフィルタ層上に塗布し、クリーンオーブンにて
２２０℃・３０分の条件で硬化させた。このようにして
図６（ニ）に示すような反射型液晶表示装置用カラーフ
ィルタ基板を得た。得られた多層膜干渉カラーフィルタ
層の反射光の分光特性は図７〜図９に示すように、明度
の高い（反射率の高い、約９８％）、彩度の高い（色の
鮮やかな）色表示品質を有している。また、画素電極と
多層膜干渉カラーフィルタ層との位置合わせは、従来法
における位置精度の±１．０μｍから±０．３μｍへと
向上し、開口率に換算すると約５％の向上となった。
樹脂（日本化薬製：ＨＯＣ−３３８Ｊ）をその多層膜干
渉カラーフィルタ層上に塗布し、クリーンオーブンにて
２２０℃・３０分の条件で硬化させた。このようにして
図６（ニ）に示すような反射型液晶表示装置用カラーフ
ィルタ基板を得た。得られた多層膜干渉カラーフィルタ
層の反射光の分光特性は図７〜図９に示すように、明度
の高い（反射率の高い、約９８％）、彩度の高い（色の
鮮やかな）色表示品質を有している。また、画素電極と
多層膜干渉カラーフィルタ層との位置合わせは、従来法
における位置精度の±１．０μｍから±０．３μｍへと
向上し、開口率に換算すると約５％の向上となった。
【００３１】
【発明の効果】本発明は、Ｓｉチップ・ベースド基板上
に、低反射層、干渉防止層、多層膜干渉フィルタ層、保
護膜層の積層を具備する反射型液晶表示装置用カラーフ
ィルタ基板であるので、明度の高い（反射率の高い）、
彩度の高い（色の鮮やかな）色表示品質を有する反射型
液晶表示装置用カラーフィルタ基板となる。また、開口
率の高い反射型液晶表示装置となる反射型液晶表示装置
用カラーフィルタ基板を提供できる。
に、低反射層、干渉防止層、多層膜干渉フィルタ層、保
護膜層の積層を具備する反射型液晶表示装置用カラーフ
ィルタ基板であるので、明度の高い（反射率の高い）、
彩度の高い（色の鮮やかな）色表示品質を有する反射型
液晶表示装置用カラーフィルタ基板となる。また、開口
率の高い反射型液晶表示装置となる反射型液晶表示装置
用カラーフィルタ基板を提供できる。
【００３２】また、本発明は、上記発明の反射型液晶表
示装置用カラーフィルタ基板において、低反射層が３層
以上の多層構成であり、Ｓｉチップ・ベースド基板側か
らの、第１層〜第ｎ層における、第１層の「屈折率
ｎ1 、吸収係数ｋ1 」〜第ｎ層の「屈折率ｎn 、吸収係
数ｋn 」の関係が、ｎ1 ＞・・・＞ｎn-1 ＞ｎn 、ｋ1
＞・・・＞ｋn-1 ＞ｋn 、であるので、明度の高い（反
射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やかな）色表示品質
を有する反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板とな
る。また、開口率の高い反射型液晶表示装置となる反射
型液晶表示装置用カラーフィルタ基板を提供できる。
示装置用カラーフィルタ基板において、低反射層が３層
以上の多層構成であり、Ｓｉチップ・ベースド基板側か
らの、第１層〜第ｎ層における、第１層の「屈折率
ｎ1 、吸収係数ｋ1 」〜第ｎ層の「屈折率ｎn 、吸収係
数ｋn 」の関係が、ｎ1 ＞・・・＞ｎn-1 ＞ｎn 、ｋ1
＞・・・＞ｋn-1 ＞ｋn 、であるので、明度の高い（反
射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やかな）色表示品質
を有する反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板とな
る。また、開口率の高い反射型液晶表示装置となる反射
型液晶表示装置用カラーフィルタ基板を提供できる。
【００３３】また、本発明は、上記発明の反射型液晶表
示装置用カラーフィルタ基板において、低反射層の、干
渉防止層側の層の「屈折率ｎa 、吸収係数ｋa 」と、干
渉防止層の「屈折率ｎb 、吸収係数ｋb 」と、多層膜干
渉フィルタ層の、干渉防止層側の層の「屈折率ｎc 」の
関係が、ｎb ＜ｎa 、ｎb ＜ｎc 、ｋb ＜ｋa 、干渉防
止層の層厚が中心波長の略１／２以上、であるので、明
度の高い（反射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やか
な）色表示品質を有する反射型液晶表示装置用カラーフ
ィルタ基板となる。また、開口率の高い反射型液晶表示
装置となる反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板を
提供できる。
示装置用カラーフィルタ基板において、低反射層の、干
渉防止層側の層の「屈折率ｎa 、吸収係数ｋa 」と、干
渉防止層の「屈折率ｎb 、吸収係数ｋb 」と、多層膜干
渉フィルタ層の、干渉防止層側の層の「屈折率ｎc 」の
関係が、ｎb ＜ｎa 、ｎb ＜ｎc 、ｋb ＜ｋa 、干渉防
止層の層厚が中心波長の略１／２以上、であるので、明
度の高い（反射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やか
な）色表示品質を有する反射型液晶表示装置用カラーフ
ィルタ基板となる。また、開口率の高い反射型液晶表示
装置となる反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板を
提供できる。
【００３４】従って、本発明による反射型液晶表示装置
用カラーフィルタ基板を用いることにより、明度の高い
（反射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やかな）色表示
品質を有し、光効率の高い反射型液晶表示装置となる。
また、この反射型液晶表示装置を用いることにより、明
度の高い（反射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やか
な）色表示品質を有し、且つ光効率の高い反射型液晶プ
ロジェクション装置となる。
用カラーフィルタ基板を用いることにより、明度の高い
（反射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やかな）色表示
品質を有し、光効率の高い反射型液晶表示装置となる。
また、この反射型液晶表示装置を用いることにより、明
度の高い（反射率の高い）、彩度の高い（色の鮮やか
な）色表示品質を有し、且つ光効率の高い反射型液晶プ
ロジェクション装置となる。
【図１】本発明における反射型液晶表示装置用カラーフ
ィルタ基板が、反射型液晶表示装置に用いられた断面図
である。
ィルタ基板が、反射型液晶表示装置に用いられた断面図
である。
【図２】多層膜干渉カラーフィルタ層の層構成を拡大し
て示す説明図である。
て示す説明図である。
【図３】本発明による反射型液晶表示装置用カラーフィ
ルタ基板の原理を示す説明図である。
ルタ基板の原理を示す説明図である。
【図４】低反射層の断面を拡大して示す説明図である。
【図５】低反射層の反射特性図である。
【図６】（イ）〜（ニ）は、多層膜干渉カラーフィルタ
層を形成する工程を断面で示す説明図である。
層を形成する工程を断面で示す説明図である。
【図７】多層膜干渉カラーフィルタ層のブルー反射光の
分光特性図である。
分光特性図である。
【図８】多層膜干渉カラーフィルタ層のレッド反射光の
分光特性図である。
分光特性図である。
【図９】多層膜干渉カラーフィルタ層のグリーン反射光
の分光特性図である。
の分光特性図である。
【図１０】従来法における単板式反射型液晶プロジェク
ション装置に用いられる液晶表示装置を示す説明図であ
る。
ション装置に用いられる液晶表示装置を示す説明図であ
る。
１０…反射型液晶表示装置 １１、８１…Ｓｉチップ・ベースド基板 １２、８２…Ｓｉ １３、８３…画素電極 １５…カラーフィルタ基板 １６、８６…液晶 １７…対向基板 １８…多層膜干渉カラーフィルタ層 １９、８９…オーバーコート層 ２０、９０…透明電極層 ２１、９１…遮光層 ２２、９２…ガラス基板 ２３、９３…遮光層の幅の余裕 ２４、９４…画素の開口部 ２５…低反射層 ２６…干渉防止層 ２７…高屈折率膜 ２８…低屈折率膜 ３１、３２、３３…低反射層の３層 ６１…第１色目用のレジストパターン ６２…第１色目の多層膜 ６３…保護膜層 ８０…従来法における液晶表示装置 ８４…従来法におけるＡｌ反射膜 ８５…従来法における対向基板 ８７…従来法におけるカラーフィルタ基板 ８８…従来法におけるカラーフィルタ層 １２７…干渉防止層に接する多層膜干渉カラーフィルタ
層の第１層 Ｉ…外光 Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 …反射光 Ｔ1 、Ｔ2 …透過光
層の第１層 Ｉ…外光 Ｒ、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 …反射光 Ｔ1 、Ｔ2 …透過光
Claims (3)
- 【請求項１】Ｓｉチップ・ベースド基板上に、低反射
層、干渉防止層、多層膜干渉フィルタ層、保護膜層の積
層を具備することを特徴とする反射型液晶表示装置用カ
ラーフィルタ基板。 - 【請求項２】前記低反射層が３層以上の多層構成であ
り、該Ｓｉチップ・ベースド基板側からの、第１層〜第
ｎ層における、第１層の「屈折率ｎ1 、吸収係数ｋ1 」
〜第ｎ層の「屈折率ｎn 、吸収係数ｋn 」の関係が、 ｎ1 ＞・・・＞ｎn-1 ＞ｎn 、ｋ1 ＞・・・＞ｋn-1 ＞
ｋn 、であることを特徴とする請求項１記載の反射型液
晶表示装置用カラーフィルタ基板。 - 【請求項３】前記低反射層の、干渉防止層側の層の「屈
折率ｎa 、吸収係数ｋa 」と、前記干渉防止層の「屈折
率ｎb 、吸収係数ｋb 」と、前記多層膜干渉フィルタ層
の、干渉防止層側の層の「屈折率ｎc 」の関係が、 ｎb ＜ｎa 、ｎb ＜ｎc 、ｋb ＜ｋa 、 干渉防止層の層厚が中心波長の略１／２以上、であるこ
とを特徴とする請求項１又は請求項２記載の反射型液晶
表示装置用カラーフィルタ基板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14625998A JPH11337932A (ja) | 1998-05-27 | 1998-05-27 | 反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14625998A JPH11337932A (ja) | 1998-05-27 | 1998-05-27 | 反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11337932A true JPH11337932A (ja) | 1999-12-10 |
Family
ID=15403704
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14625998A Pending JPH11337932A (ja) | 1998-05-27 | 1998-05-27 | 反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11337932A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006202778A (ja) * | 2005-01-17 | 2006-08-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 固体撮像装置およびその製造方法 |
| US7268852B2 (en) | 2004-10-27 | 2007-09-11 | United Microdisplay Optronics Corp. | LCOS display panel having a micro dichroic layer positioned in the back plane to filter colors |
| CN101923246A (zh) * | 2009-06-16 | 2010-12-22 | 江苏丽恒电子有限公司 | 彩色液晶显示器 |
| CN109613747A (zh) * | 2019-02-15 | 2019-04-12 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 用于反射式显示面板的阵列基板及其制备方法和显示面板 |
-
1998
- 1998-05-27 JP JP14625998A patent/JPH11337932A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7268852B2 (en) | 2004-10-27 | 2007-09-11 | United Microdisplay Optronics Corp. | LCOS display panel having a micro dichroic layer positioned in the back plane to filter colors |
| JP2006202778A (ja) * | 2005-01-17 | 2006-08-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 固体撮像装置およびその製造方法 |
| CN101923246A (zh) * | 2009-06-16 | 2010-12-22 | 江苏丽恒电子有限公司 | 彩色液晶显示器 |
| CN101923246B (zh) | 2009-06-16 | 2011-12-28 | 江苏丽恒电子有限公司 | 彩色液晶显示器 |
| CN109613747A (zh) * | 2019-02-15 | 2019-04-12 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 用于反射式显示面板的阵列基板及其制备方法和显示面板 |
| US11307464B2 (en) | 2019-02-15 | 2022-04-19 | Hefei Boe Optoelectronics Technology Co., Ltd. | Array substrate for reflective display panel, method for preparing the same and display panel |
| CN109613747B (zh) * | 2019-02-15 | 2022-04-29 | 合肥京东方光电科技有限公司 | 用于反射式显示面板的阵列基板及其制备方法和显示面板 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR100627527B1 (ko) | 컬러 필터 어레이 및 그 제조 방법, 표시 장치, 및 투사형표시 장치 | |
| US5684552A (en) | Color liquid crystal display having a color filter composed of multilayer thin films | |
| US7834966B2 (en) | Liquid crystal display device and display equipment using the same | |
| JP2004200360A (ja) | 固体撮像素子及びその製造方法 | |
| US20030147115A1 (en) | Substrate for electrooptical device, method for manufacturing the substrate, electrooptical device, method for manufacturing the electrooptical device, and electronic apparatus | |
| JPH11337932A (ja) | 反射型液晶表示装置用カラーフィルタ基板 | |
| JPS6332362B2 (ja) | ||
| JPH10288706A (ja) | カラーフィルタ | |
| JP2001183647A (ja) | 液晶表示パネルのカラーフィルタ形成方法 | |
| JPH08122803A (ja) | カラー液晶表示素子 | |
| JP3958848B2 (ja) | ブラックマトリックス用ブランクスおよび液晶ディスプレイ用カラーフィルタ | |
| JP4883849B2 (ja) | カラーフィルタおよびその製造方法ならびに液晶表示装置 | |
| KR100719334B1 (ko) | 반사 투과 복합형 컬러 액정표시장치 | |
| JP4159668B2 (ja) | 液晶表示パネル | |
| JPH0721563B2 (ja) | カラ−フイルタ− | |
| JPH09197392A (ja) | 液晶表示装置 | |
| KR20000061177A (ko) | 컬러필터기판 및 그 제조방법 | |
| JPH05196809A (ja) | カラーフィルター | |
| JP4578802B2 (ja) | カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法および表示装置 | |
| CN100432765C (zh) | 液晶显示装置以及使用该装置的显示机器 | |
| JPH11337717A (ja) | カラーフィルター基板及びそれを用いた反射型液晶表示装置 | |
| KR100282933B1 (ko) | 액정표시패널 및 그것을 사용한 투사형표시장치 | |
| JPH07253509A (ja) | カラーフィルタ及び液晶表示装置 | |
| JP2000199897A (ja) | 反射型液晶表示装置 | |
| JPH10246884A (ja) | カラー液晶表示装置 |