JPH11350048A - 楕円形セラミック蒸発器 - Google Patents
楕円形セラミック蒸発器Info
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title abstract description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 11
- 238000001883 metal evaporation Methods 0.000 claims description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 8
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- 238000003754 machining Methods 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000005265 energy consumption Methods 0.000 abstract 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 abstract 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 8
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- SDIXRDNYIMOKSG-UHFFFAOYSA-L disodium methyl arsenate Chemical compound [Na+].[Na+].C[As]([O-])([O-])=O SDIXRDNYIMOKSG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
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- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
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- Ceramic Capacitors (AREA)
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Abstract
する。 【解決手段】 金属を蒸発する蒸発器において、金属の
蒸発が起こる領域の断面積が、同じ幅と高さの三角形蒸
発器の対応する領域の断面積より大きく、かつ前記領域
において同じ幅と高さの長方形蒸発器より短い最小周長
を有することを特徴とする前記蒸発器。
Description
る。
ム、で被覆するのに最も広く使用されている方法は、高
真空テープ被覆法である。被覆対象の支持体は、冷却し
たロールの上を通過させ、同時に、薄い金属層として支
持体表面に蒸着するアルミニウム蒸気に曝す。
に、電流を直接通すことによって、蒸発ボートとして知
られるセラミック蒸発器を約1450℃に加熱する。約
10 -4ミリバールの真空中で、アルミニウム線を連続的
に供給し、セラミック蒸発器の表面で液化させて蒸発さ
せる。一様な厚さのアルミニウム層が支持体の幅全体に
わたって蒸着されるように、一連の蒸発ボートが金属化
装置内に配置される。
ないし55重量%、BNが25ないし55重量%、及び
AlNが0ないし20重量%が一般的である。このよう
な組成物は、幾つかの特許(例えば、米国特許第3,9
15,900号、又は米国特許第4,089,643号の
第1カラム10行と11行、及び第2カラム5行に引用
されている特許)に記載されている。
が基になっている。蒸発ボートの幅と長さは、約0.3
5gのAl/cm2・分から0.40gのAl/cm2・
分までの所要の蒸発速度によって選ばれる。長方形断面
は、高温でも機械的安定性が高く安価に製造できるの
で、有用であることが判っている。
米国特許第4,089,643号は三角形断面及びキャビ
ティーを含む蒸発器を記載している。長方形断面の蒸発
器より三角形断面蒸発器が遥かに有利であることは、材
料が節約できること、及び三角形蒸発器ボートの運転用
電力が少なくて済むことである。これらの長所は長方形
蒸発器と比較して、三角形蒸発器の運転寿命が短いとい
う重大な短所によって相殺される。
じ高さ、長さ及び幅の三角形蒸発器の寿命が比較的短い
という欠点も無く、同じ高さ、長さ及び幅の長方形蒸発
器より運転に要するエネルギー消費量が少ないセラミッ
ク蒸発器を提供することが本発明の1つの目的である。
の蒸発が起こる領域の断面積が、同じ幅と高さの三角形
蒸発器の対応する領域の断面積より大きく、かつ前記領
域において同じ幅と高さの長方形蒸発器より短い最小周
長を有する蒸発器によって達成される。
域の所与の高さと幅に対して最小周長を有するだけでな
く、前記領域において最大の断面積も有するのが好まし
い。
ているのが特に好ましい。
ましい。
が起こる表面と楕円形状の側壁との間の角度は90°が
可能である。こうすることによって、前記領域において
傷つく危険性があることに由来して三角形蒸発器の場合
には必要な鋭い角度部分のそぎ落し工程を省くことが可
能である。
向に固定するのに、三角形蒸発器では通常は必要な特別
の固定具が本発明の蒸発器では必要でない。
代替物として必要な、例えば、ドイツ共和国特許公報第
19708599C1号に記載されている、蒸発器の端
面を特別に機械加工する追加工程は不要となる。
許に記載されている三角形蒸発器の場合のような機械加
工作業を増やす必要はなく、或いは材料の量を増やす必
要はない。
から簡単な方法で作ることができるので、本発明の蒸発
器は、前記の欠点のどれからも煩わされることがない。
での蒸発器の固定用間隔に相当するように長く形成する
ことが好ましい。
される部分を簡単に長方形断面にすることができ、従来
の普通の長方形蒸発器のテープ被覆装置に問題なく使用
できる。
よる形状にまで研削することも同様に可能である。その
ような蒸発器は、例えば、蒸発ボートの端面を固定する
ことによって蒸着装置で使用することができる。
にキャビティーを機械加工することを省略できる。勿
論、従来の技術で公知のように蒸発器の中でキャビティ
ーを機械加工することもできる。
エレクトロシュメルツベルケケンプテン社(Elekt
roschmelzwerkKemptenGmbH、
Munich(ESK))から市販されている長方形蒸
発器(10×30×120mm)から、楕円形状の砥石
車を使って、本発明の楕円形断面の蒸発器を研削した。
の比較 実施例1で説明した蒸発器と、本発明による蒸発器を作
るするために実施例1で使用した長方形蒸発器とを次の
ように比較した。
置に入れた。加熱に先立って、金属の蒸発が起こる蒸発
ボートの表面の中央部に2gのAl線を置いた。1×1
0-4ミリバール未満の真空にした。この高真空の中で、
アルミニウム線が溶融するまで蒸発ボートをゆっくりと
加熱した。この時の所要電力(電流と電圧の積)を測定
した。
キロワット。 楕円形断面:5.8ボルト/525アンペア=3.05
キロワット。
アルミニウムで濡らす場合、エネルギーが約11%少な
くて済むことが判る。
列記する。 (1)金属を蒸発する蒸発器において、金属の蒸発が起
こる領域の断面積が、同じ幅と高さの三角形蒸発器の対
応する領域の断面積より大きく、かつ前記領域において
同じ幅と高さの長方形蒸発器より短い最小周長を有する
ことを特徴とする前記蒸発器。 (2)金属の蒸発が起こる領域において所与の高さと幅
に対して最小の周長及び最大の断面積を有することを特
徴とする、上記(1)に記載の蒸発器。 (3)金属の蒸発が起こる前記領域の断面が、2等分さ
れた楕円の形状を有することを特徴とする、上記(1)
に記載の蒸発器。 (4)断面が、主軸に沿って2等分された楕円の形状を
有することを特徴とする、上記(3)に記載の蒸発器。
同じ高さ、長さ及び幅の三角形蒸発器より長寿命で、同
じ高さ、長さ及び幅の長方形蒸発器より運転に要するエ
ネルギー消費量が少ないセラミック蒸発器が提供され
る。
(破線)、三角形蒸発器(一点鎖線))と本発明の蒸発
器(楕円形蒸発器(実線))の比較断面図である。どの
蒸発器にもキャビティーはない。
ビティー付きの蒸発器の例の概略図である。
ャビティー付きの蒸発器の例の概略図である。楕円形状
を、より明確に表すための断面図でもある。
Claims (1)
- 【請求項1】 金属を蒸発する蒸発器において、金属の
蒸発が起こる領域の断面積が、同じ幅と高さの三角形蒸
発器の対応する領域の断面積より大きく、かつ前記領域
において同じ幅と高さの長方形蒸発器より短い最小周長
を有することを特徴とする前記蒸発器。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19823908A DE19823908A1 (de) | 1998-05-28 | 1998-05-28 | Elliptischer keramischer Verdampfer |
| DE19823908-4 | 1998-05-28 | ||
| CA002274411A CA2274411C (en) | 1998-05-28 | 1999-06-11 | Elliptical ceramic evaporators |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11350048A true JPH11350048A (ja) | 1999-12-21 |
| JP3355149B2 JP3355149B2 (ja) | 2002-12-09 |
Family
ID=32963019
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14357499A Expired - Fee Related JP3355149B2 (ja) | 1998-05-28 | 1999-05-24 | 楕円形セラミック蒸発器 |
Country Status (8)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6085025A (ja) |
| EP (1) | EP0962546B1 (ja) |
| JP (1) | JP3355149B2 (ja) |
| CN (1) | CN1194115C (ja) |
| AT (1) | ATE199576T1 (ja) |
| CA (1) | CA2274411C (ja) |
| DE (2) | DE19823908A1 (ja) |
| ES (1) | ES2155724T3 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE19956811A1 (de) | 1999-11-25 | 2001-06-13 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Keramischer Flash-TV-Verdampfer |
| DE10015850A1 (de) * | 2000-03-30 | 2001-10-18 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Material für alterungsbeständige keramische Verdampfer |
| DE10015847C2 (de) * | 2000-03-30 | 2002-03-14 | Wacker Chemie Gmbh | Vorrichtung zum Bedampfen von Schwarzweiß- oder Farbbildröhren mit Aluminium |
| WO2004063419A1 (en) * | 2003-01-08 | 2004-07-29 | Sintec Keramik Gmbh & Co. Kg | Resistance-heated vaporizer boat |
| DE102005027382B4 (de) * | 2005-06-14 | 2010-01-28 | Leybold Optics Gmbh | Verdampferschiffchen für eine Vorrichtung zum Beschichten von Substraten |
| DE102005030862B4 (de) * | 2005-07-01 | 2009-12-24 | Sintec Keramik Gmbh | Erstbenetzungshilfsmaterial für einen Verdampferkörper, seine Verwendung zum Herrichten der Verdampferfläche eines Verdampferkörpers und ein elektrisch beheizbarer keramischer Verdampferkörper |
| US7494616B2 (en) | 2005-11-04 | 2009-02-24 | Momentive Performance Materials Inc. | Container for evaporation of metal and method to manufacture thereof |
| US10035078B2 (en) * | 2010-05-04 | 2018-07-31 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Separation method |
| CN105327523B (zh) * | 2014-07-14 | 2018-03-09 | 上海和辉光电有限公司 | 一种oled有机发光材料的升华制成方法与制成装置 |
| US20160208373A1 (en) | 2015-01-20 | 2016-07-21 | Kennametal Inc. | Imc evaporator boat assembly |
| US10184168B2 (en) | 2015-01-20 | 2019-01-22 | Kennametal Inc. | IMC evaporator boat-thermal insulation cartridge assembly |
| EP3470545A1 (en) | 2017-10-10 | 2019-04-17 | 3M Innovative Properties Company | Evaporation boat for evaporation of metals |
| DE102019110950A1 (de) | 2019-04-29 | 2020-10-29 | Kennametal Inc. | Hartmetallzusammensetzungen und deren Anwendungen |
| EP3767004B1 (en) | 2019-07-17 | 2023-09-27 | 3M Innovative Properties Company | Evaporation boat for evaporation of metals |
| DE102021115602A1 (de) * | 2021-06-16 | 2022-12-22 | Kennametal Inc. | Verdampferschiffchen |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2773923A (en) * | 1953-01-26 | 1956-12-11 | Raytheon Mfg Co | Zone-refining apparatus |
| US2996412A (en) * | 1958-10-10 | 1961-08-15 | Continental Can Co | Art of depositing metals |
| DE1207179B (de) * | 1961-02-09 | 1965-12-16 | Licentia Gmbh | Oxydkeramischer Tiegel zum Vakuum-Aufdampfen von Metallen |
| US3514575A (en) * | 1967-08-10 | 1970-05-26 | Sylvania Electric Prod | Metal-evaporating source |
| US3636305A (en) * | 1971-03-10 | 1972-01-18 | Gte Sylvania Inc | Apparatus for metal vaporization comprising a heater and a refractory vessel |
| ES417413A1 (es) * | 1972-08-18 | 1976-03-01 | Kempten Elektroschmelz Gmbh | Perfeccionamientos introducidos en evaporadores a base de material refractario sinterizado. |
| DE2317762B2 (de) * | 1973-04-09 | 1978-08-17 | Siemens Ag, 1000 Berlin Und 8000 Muenchen | Tiegel zur Aufnahme des Verdampfungsgutes in Elektronenstrahl-Aufdampfanlagen |
| JPS5274580A (en) * | 1975-12-19 | 1977-06-22 | Hitachi Ltd | Boat for vacuum evaporation |
| US4089643A (en) * | 1976-03-19 | 1978-05-16 | Gte Sylvania Incorporated | Self-resistance-heated evaporation boat |
| JPS63192860A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Hitachi Ltd | 蒸着用ボ−ト |
| US5395180A (en) * | 1993-12-14 | 1995-03-07 | Advanced Ceramics Corporation | Boron nitride vaporization vessel |
| US5537507A (en) * | 1994-09-28 | 1996-07-16 | Advanced Ceramics Corporation | Coated flash evaporator heater |
-
1998
- 1998-05-28 DE DE19823908A patent/DE19823908A1/de not_active Withdrawn
-
1999
- 1999-05-12 DE DE59900051T patent/DE59900051D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1999-05-12 ES ES99108646T patent/ES2155724T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-12 EP EP99108646A patent/EP0962546B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1999-05-12 AT AT99108646T patent/ATE199576T1/de not_active IP Right Cessation
- 1999-05-20 US US09/315,320 patent/US6085025A/en not_active Expired - Fee Related
- 1999-05-24 JP JP14357499A patent/JP3355149B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 1999-05-28 CN CNB991078047A patent/CN1194115C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1999-06-11 CA CA002274411A patent/CA2274411C/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US6085025A (en) | 2000-07-04 |
| CN1194115C (zh) | 2005-03-23 |
| CN1237647A (zh) | 1999-12-08 |
| JP3355149B2 (ja) | 2002-12-09 |
| DE19823908A1 (de) | 1999-12-02 |
| ATE199576T1 (de) | 2001-03-15 |
| ES2155724T3 (es) | 2001-05-16 |
| CA2274411A1 (en) | 2000-12-11 |
| EP0962546B1 (de) | 2001-03-07 |
| EP0962546A1 (de) | 1999-12-08 |
| CA2274411C (en) | 2003-03-25 |
| DE59900051D1 (de) | 2001-04-12 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313113 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20070927 Year of fee payment: 5 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080927 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080927 Year of fee payment: 6 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090927 Year of fee payment: 7 |
|
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