JPH11352500A

JPH11352500A - 液晶表示装置

Info

Publication number: JPH11352500A
Application number: JP16351598A
Authority: JP
Inventors: Setsuo Kobayashi; 節郎小林; Akira Ishii; 彰石井; Shigeru Matsuyama; 茂松山
Original assignee: Hitachi Device Engineering Co Ltd; Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd; Japan Display Inc
Priority date: 1998-06-11
Filing date: 1998-06-11
Publication date: 1999-12-24

Abstract

(57)【要約】【課題】液晶表示素子のシール部における光漏れを防ぐ
ための遮光性が高く、かつ、絶縁性、接着強度と耐湿信
頼性に優れた暗色シール剤を用いた液晶表示装置を提供
する。【解決手段】薄膜トランジスタＴＦＴと透明画素電極Ｉ
ＴＯ１と映像信号電極ｄ２・ｄ３を設けた下部透明ガラ
ス基板ＳＵＢ１と、共通透明画素電極ＩＴＯ２を設けた
上部透明ガラス基板ＳＵＢ２とを所定の間隙を隔てて対
向して配置し、着色剤により着色され、かつ表示領域の
外側で両基板ＳＵＢ１、ＳＵＢ２間の縁周囲に枠状に設
けたシール剤ＳＬにより該両基板を接着するとともに、
シール剤ＳＬの内側の該両基板間に液晶層ＬＣを封止し
てなる液晶表示素子を有する液晶表示装置において、前
記着色剤の比抵抗が１０⁶Ω・ｃｍ以上、前記着色剤の
２次凝集粒径が１０μｍ以下、映像信号電極ｄ２・ｄ３
と共通透明画素電極ＩＴＯ２間の比抵抗が１０⁹Ω・ｃ
ｍ以上である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に係
り、特に、薄膜トランジスタ等の液晶制御素子を使用し
たアクティブ・マトリクス方式の液晶表示装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】アクティブ・マトリクス方式の液晶表示
装置は、マトリクス状に配列された複数の画素電極のそ
れぞれに対応して非線形素子（液晶制御素子、スイッチ
ング素子、アクティブ素子）を設けたものである。各画
素における液晶は理論的には常時駆動（デューティ比
１．０）されているので、時分割駆動方式を採用してい
る、いわゆる単純マトリクス方式と比べてアクティブ・
マトリクス方式はコントラストが良く、特にカラー液晶
表示装置では欠かせない技術となりつつある。液晶制御
素子として代表的なものとしては薄膜トランジスタ（Ｔ
ＦＴ）がある。

【０００３】なお、薄膜トランジスタを使用したアクテ
ィブ・マトリクス方式の液晶表示装置は、例えば特開昭
６３−３０９９２１号公報や、「冗長構成を採用した1
2.5型アクティブ・マトリクス方式カラー液晶ディスプ
レイ」、日経エレクトロニクス、頁193〜210、1986年12
月15日、日経マグロウヒル社発行、で知られている。

【０００４】液晶表示装置（すなわち、液晶表示モジュ
ール）は、例えば、表示用の透明電極や配向膜等の積層
膜を形成した面が対向するように所定の間隙を隔てて２
枚のガラス等からなる透明絶縁基板を重ね合わせ、該両
基板間の周縁部に枠状（ロの字状）に設けた液晶シール
剤により、両基板を貼り合わせるとともに、シール剤の
一部に設けた液晶封入口から両基板間のシール剤の内側
に液晶を封止し、さらに両基板の外側に一定の偏光のみ
透過させる偏光板を設けてなる液晶表示素子（すなわ
ち、液晶表示パネル、ＬＣＤ：リキッドクリスタルデ
ィスプレイ(Liquid Crystal Display)）と、この液晶表
示素子の下に配置され、面発光を行い液晶表示素子に光
を供給し画像を表示するための光源となるバックライト
と、液晶表示素子の外周部の外側に配置した駆動用回路
基板と、液晶表示素子やバックライトを収納、保持する
プラスチックモールドケースと、前記各部材を収納し、
表示窓があけられた金属製上シールドケースと、金属製
下シールドケース等で構成されている。

【０００５】液晶表示素子を作製するにあたっては、シ
ール剤をディスペンサ塗布、あるいはスクリーン印刷等
の方法より、ガラス基板の周縁部に枠状に塗布し、通
常、加熱し、または加熱なしで平坦化（レベリング）を
行い、上下ガラス基板をアライメントマークを用いて高
精度に位置合わせした後、シール剤をプレスするという
工程により、上下ガラス基板の貼り合わせを行ってい
る。

【０００６】シール剤としては、主として熱硬化型エポ
キシ樹脂が使用されているが、エポキシ樹脂の硬化剤と
して、アミン類、イミダゾール類、ヒドラジッド類が使
用される。しかし、このような硬化剤を使用したシール
剤では、接着性、耐湿信頼性に劣るという問題点を有し
ている。この問題を解決する方法として、特開昭５５−
７７７２２号公報（特公昭５９−２４４０３号公報）に
記載されたものがあるが、この方法では、フェノールノ
ボラック樹脂をエポキシ樹脂の硬化剤とし、溶剤を添加
して当該シール剤を塗布作業のできる液状にしたもの
が、耐湿性に優れていることを示している。

【０００７】しかし、このシール剤は、透明もしくは乳
白色であるため、液晶表示素子の裏側（表示と反対側）
からバックライトにより光を当てて表示する場合、この
シール剤を通して、液晶表示素子のシール部（すなわ
ち、表示画面の周縁部）で光漏れ（輝線）が生じる。光
漏れが生じると、該周縁部でコントラストが低下し、表
示品質が著しく低下してしまう。特に、暗い表示面に明
るい文字、図形等の表示を行う場合、この光漏れの影響
を大きく受けてしまい問題となっていた。

【０００８】この問題を解決するため、シール剤にカー
ボンブラックまたは黒色染料等を入れて黒色にし、遮光
性の機能を持たせて光漏れを防止する方法が考案されて
いる。

【０００９】しかしながら、カーボンブラックを含有さ
せたシール剤は、カーボンブラック自体が導電性を有す
るため、絶縁性が悪いという問題があった。また、黒色
染料を使用して遮光性を持たせたシール剤は、遮光性に
劣り、染料の持っている不純物イオンの影響で液晶汚染
や金属膜からなる電極の腐食を起こしたりする問題があ
った。そこで、絶縁性が高く、耐湿信頼性、遮光性の高
いシール剤が求められていた。

【００１０】また、最近の液晶表示素子では、大きなガ
ラス基板に多数の電極等を形成し、上下基板を貼り合わ
せて組み立てた後に、１個１個の液晶表示素子に分断す
る加工工程（いわゆる「マルチ加工プロセス」）を取っ
ているが、その加工枚数も、従来の１枚取りから２枚取
り、４枚取り、６枚取り、９枚取りへとガラス基板自体
もますます大型化している。

【００１１】また、近年、液晶表示素子自体もますます
大型化してきているため、マルチ加工プロセス中にシー
ル部にかかる応力は、従来に比べ格段に大きくなってき
ている。さらに、表示領域面積の拡大と、液晶表示素子
の表示領域外側のいわゆる額縁部の狭小化のために、シ
ール剤の線幅の狭小化が進んでいる。そのため、マルチ
加工プロセス中のガラス基板切断時の応力により、シー
ル剤の剥離が生じるという問題が出てきた。これには、
接着性に優れるシール剤が求められるが、従来のアミン
類、イミダゾール類、ヒドラジッド類を硬化剤としたシ
ール剤は接着性に劣り、ガラス基板、液晶表示素子の大
型化に対応できなくなってきている。また、液晶表示素
子の大型化に伴ってシール線長は長く、線幅は狭くなっ
てきていることから、さらに耐湿信頼性に優れるシール
剤が求められてきている。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】シールが塗布されてい
る部分というのは電極は存在するが、何らかの形で絶縁
されている。例えば、電極上にＰＡＳ（パッシベーショ
ン）膜をＣＶＤ法等で形成する。しかしながら、シール
剤中に混練するガラスファイバ等の所定のギャップ（２
枚の基板間隔）を形成するに必須なスペーサ（間隙制御
材）が、ＰＡＳ膜を破壊し、本来なら絶縁されている部
分が導通してしまう危険性がある。例えば、２枚の基板
の対向面にそれぞれ設けた共通透明画素電極と、映像信
号電極間の導通である。この危険性は、狭ギャップにな
ればなるほど上がり、問題として浮上する。また、ＣＦ
基板（カラーフィルタを形成した側の基板）において
も、共通透明画素電極を形成するために、例えばＩＴＯ
（インジウムチンオキサイド）膜をスパッタする際
に、マスクを非接触にする必要上、スパッタマスクを回
り込み、ＩＴＯ膜がシール塗布部に存在する可能性が高
い。特に、額縁部の狭小化等の表示領域を大きくする試
みに対し、スパッタマスクで覆い隠せない部分が大きく
なり、上下基板の導通体によるショートの問題が大きく
浮上する。

【００１３】本発明の目的は、液晶表示素子のシール部
における光漏れを防ぐための遮光性が高く、かつ、絶縁
性、接着強度と耐湿信頼性に優れた暗色シール剤を用い
た液晶表示装置を提供することにある。

【００１４】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
に、本発明は、液晶制御素子と画素電極と信号電極を設
けた第１の基板と、共通画素電極を設けた第２の基板と
を所定の間隙を隔てて対向して配置し、着色剤により着
色され、前記両基板間の縁周囲にほぼ枠状に設けたシー
ル剤により前記両基板を接着するとともに、前記シール
剤の内側の前記両基板間に液晶を封止してなる液晶表示
素子を有する液晶表示装置において、前記着色剤の比抵
抗が１０⁶Ω・ｃｍ以上、前記着色剤の２次凝集粒径が
１０μｍ以下、前記信号電極と前記共通画素電極間の比
抵抗が１０⁹Ω・ｃｍ以上であることを特徴とする。

【００１５】また、前記着色剤がチタン系黒色顔料であ
ることを特徴とする。

【００１６】本発明では、上記の構成とすることによ
り、液晶表示素子のシール部における光漏れを防ぐため
の遮光性が高く、かつ、絶縁性、接着強度と耐湿信頼性
に優れた暗色シール剤を用いた液晶表示装置を提供する
ことができる。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
の形態について詳細に説明する。なお、以下で説明する
図面で、同一機能を有するものは同一符号を付け、その
繰り返しの説明は省略する。

【００１８】本実施の形態の液晶表示素子に用いる黒色
シール剤は、（ａ）エポキシ樹脂、（ｂ）ノボラック樹
脂、（ｃ）硬化促進剤、（ｄ）チタン系黒色顔料を含有
したことを特徴とする。

【００１９】本実施の形態で用いるエポキシ樹脂（ａ）
としては特に限定されるものではなく、例えばビスフェ
ノール型エポキシ樹脂、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−ｏ−ト
ルイジン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、フェニルグ
リシジルエーテル、レゾルシノールジグリシジルエーテ
ル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、
トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリ
プロピレングリコールジグリシジルエーテル、（３，４
−エポキシシクロヘキシルメチル）−３，４−エポキシ
シクロヘキサンカルボキシレート、ヘキサヒドロ無水フ
タル酸ジグリシジルエステルのエポキシ樹脂、ビスフェ
ノールＳ、４，４−ビフェニルフェノール、２，２′，
６，６′−テトラメチル−４，４′ビフェニルフェノー
ル、２，２′，６，６′−テトラメチル−４，４′−ビ
フェニルフェノール、２，２−メチレン−ビス（４−メ
チル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）、トリスヒド
ロキシフェニルメタン、ピロガロール、ジイソプロピリ
デン骨格を有するフェノール類、１，１−ジ−４−ヒド
ロキシフェニルフルオレン等のフルオレン骨格を有する
フェノール類、フェノール化ポリブタジエン等のポリフ
ェノール化合物のグルシジルエーテル化物である多官能
エポキシ樹脂、フェノール、クレゾール類、エチルフェ
ノール類、ブチルフェノール類、オクチルフェノール
類、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノ
ールＳ、ナフトール類等の各種フェノールを原料とする
ノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フェノールノボラ
ック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含有フェノールノ
ボラック樹脂、フルオレン骨格含有フェノールノボラッ
ク樹脂等の各種ノボラック樹脂のグリシジルエーテル化
物、シクロヘキサン等の脂肪族骨格を有する脂環式エポ
キシ樹脂、イソシアヌル環、ヒダントイン環等の複素環
を有する複素環式エポキシ樹脂、ブロム化ビスフェノー
ルＡ、ブロム化ビスフェノールＦ、ブロム化ビスフェノ
ールＳ、ブロム化フェノールノボラック、ブロム化クレ
ゾールノボラック等のブロム化フェノール類をグリシジ
ル化したエポキシ樹脂等の一般に製造、販売されている
エポキシ樹脂を挙げることができるが、好ましくはビス
フェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポ
キシ樹脂等のビスフェノール型エポキシ樹脂、Ｎ，Ｎ−
ジグリシジル−ｏ−トルイジン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル
アニリン、（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）
−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、
ヘキサヒドロ無水フタル酸ジグリシジルエステルであ
り、さらに好ましくはビスフェノールＡ型エポキシ樹脂
および／またはビスフェノールＦ型エポキシ樹脂であ
る。なお、これらのエポキシ樹脂は、２種以上を混合し
て用いてもよい。

【００２０】本実施の形態におけるノボラック樹脂
（ｂ）は、硬化剤として用いる。ノボラック樹脂（ｂ）
としては、例えばビスフェノールＡ、テトラブロムビス
フェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ、
４，４′−ビフェニルフェノール、２，２′，６，６′
−テトラメチル−４，４′−ビフェニルフェノール、
２，２′−メチレン−ビス（４−メチル−６−ｔｅｒｔ
−ブチルフェノール）、トリスヒドロキシフェニルメタ
ン、ピロガロール、ジイソプロピリデン骨格を有するフ
ェノール類、１，１′−ジ−４−４ヒドロキシフェニル
フルオレン等のフルオレン骨格を有するフェノール類、
フェノール化ポリブタジエン等のポリフェノール化合
物、フェノール、クレゾール類、エチルフェノール類、
ブチルフェノール類、オクチルフェノール類、ビスフェ
ノールＡ、ブロム化ビスフェノールＡ、ビスフェノール
Ｆ、ビスフェノールＳ、ナフトール類等の各種フェノー
ルを原料とするノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フ
ェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含
有フェノールノボラック樹脂、フルオレン骨格含有フェ
ノールノボラック樹脂等のフェノール系ノボラック樹脂
を挙げることができ、好ましくはフェノール、クレゾー
ル類、エチルフェノール類、ブチルフェノール類、オク
チルフェノール類、ビスフェノールＡ、ビスフェノール
Ｆ、ビスフェノールＳ、ナフトール類等の各種フェノー
ルを原料とするノボラック樹脂、キシリレン骨格含有フ
ェノールノボラック樹脂、ジシクロペンタジエン骨格含
有フェノールノボラック樹脂、フルオレン骨格含有フェ
ノールノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂であり、
さらに好ましくはフェノール、クレゾール類、オクチル
フェノール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビ
スフェノールＳ、ナフトール類等の各種フェノール類を
原料とするノボラック樹脂等の各種ノボラック樹脂であ
り、特に好ましくはフェノールを原料とするフェノール
ノボラック樹脂、クレゾール類を原料とするクレゾール
ノボラック樹脂等に代表されるモノフェノール類を原料
とするノボラック樹脂である。

【００２１】これらのノボラック樹脂は、単独でまたは
２種以上を混合して使用する。また、本実施の形態で用
いるノボラック樹脂の使用量は、シール剤中のエポキシ
樹脂のエポキシ当量に対して、ノボラック樹脂中の水酸
基の当量として０．６〜１．４化学当量、好ましくは
０．８〜１．２化学当量である。さらに好ましくは０．
９〜１．１化学当量である。

【００２２】本実施の形態で用いる硬化促進剤（ｃ）と
しては、例えばイミダゾール類、イミダゾール類とフタ
ル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、
ピロメリット酸、ナフタレンジカルボン酸、マレイン
酸、しゅう酸等の多価カルボン酸との塩類、ジシアンジ
アミド等のアミド類および該アミド類とフェノール類、
前記多価カルボン酸類、またはフォスフィン酸類との塩
類、１，８−ジアサ−ビシクロ（５，４，０）ウンデセ
ン−７等のジアサ化合物および該ジアサ化合物とフェノ
ール類、前記多価カルボン酸類、またはフォスフィン酸
類との塩類、トリフェニルホスフィン、テトラフェニル
ホスホニウムテトラフェニルボレート等のホスフィン
類、２，４，６−トリスアミノメチルフェノール等のフ
ェノール類、アミンアダクト等を挙げることができる。

【００２３】硬化促進剤の添加量は、エポキシ樹脂１０
０重量部に対して０．５〜２０重量部、好ましくは１〜
１５重量部であり、さらに好ましくは２〜１０重量部で
ある。

【００２４】これら硬化促進剤は、潜在性硬化促進剤の
形式で使用した方が、作業性の向上（ポットライフ時間
の延長）等のメリットがあり、好ましい。潜在性硬化促
進剤は、室温では固体で、加熱されることによって溶解
し、初めて硬化促進剤として反応するという性質を有す
るもので、例えばこれら硬化促進剤をマイクロカプセル
にしたマイクロカプセル型硬化促進剤や溶剤やエポキシ
樹脂に溶解しにくい固体分散型の硬化促進剤（例えばイ
ミダゾール類）、アミンアダクト等を挙げることができ
る。

【００２５】本実施の形態で用いるチタン系黒色顔料
（ｄ）は、低次酸化チタンや酸窒化チタン等を意味す
る。このうち低次酸化チタンは、例えば特開昭４９−５
４３２号公報（特公昭５２−１２７３３号公報）に記載
された、二酸化チタンと金属チタン粉末を真空もしくは
還元雰囲気中で、５５０〜１１００℃の温度で加熱して
得られるＴｉ_nＯ_2n-1（ｎは正の正数）で示される黒色
系の化合物や、特開昭６４−１１５７２号公報に記載さ
れた、含水二酸化チタンと金属チタン粉末を、珪素、ア
ルミニウム、ニオブ、タングステン等を含む化合物から
なる焼成処理補助剤の存在下、不活性雰囲気中で加熱し
て得られる化合物を挙げることができる。また、酸窒化
チタンとしては、例えば特開昭６０−６５０６９号公報
（特公平３−５１６４５号公報）や特開昭６０−２００
８２７号公報（特公平２−４２７７３号公報）に記載さ
れた、二酸化チタンや水酸化チタンの粉末をアンモニア
存在下、５５０〜９５０℃程度の温度で還元して得られ
る黒色系の化合物を挙げることができる。その他に、特
開昭６１−２０１６１０号公報（特公平３−２９０１０
号公報）に記載された、バナジウムを二酸化チタン等に
付着させ、アンモニア存在下、７５０〜８７５℃で還元
して得られる黒色系の化合物も挙げることができる。こ
れらのチタン系黒色顔料の体積抵抗率は、１０⁵Ω・ｃ
ｍ以上が好ましい。本実施の形態の黒色シール剤に用い
るチタン系黒色顔料としては、高絶縁性を付与し、さら
に高い遮光性を得て、なおかつ、液晶表示素子製造時の
２枚のガラス基板貼り合わせ時のギャップ形成が容易で
あることが必要で、このためには、１次凝集粒子の平均
粒径が４μｍ以下、好ましくは２μｍ以下、さらに好ま
しくは１μｍ以下が好ましい。１次粒子の平均粒径が４
μｍを越えると、シール剤の絶縁性が損なわれたり、液
晶表示素子のギャップ形成がうまくできなかったりす
る。さらに、１次粒子の平均粒径が４μｍ以下であって
も、２次凝集粒子が存在する。つまり、空気に曝された
状況では再凝集が発生する。よって、シール剤に混練す
る際にその粒径が２μｍ以下が好ましい。２次凝集体を
加熱処理あるいは混練する際の時間を伸ばす等の処理を
施してもよい。また、その使用量は、黒色シール剤の有
機溶剤を除いた固形分量中の１０〜７０重量％、好まし
くは２０〜６０重量％、より好ましくは３０〜５０重量
％である。なお、１次凝集とは着色剤をシール剤に混入
する前の凝集で、通常０．０２〜０．１μｍ、２次凝集
とは液晶表示素子完成時の凝集である。着色剤はシール
剤に混入すると、水分、酸化等により大きく凝集する。

【００２６】本実施の形態においては、例えば、光学特
性を改善する目的で、必要に応じて有機顔料および無機
顔料を使用することができる。有機顔料としては、アン
トラキノン系、フタロシアニン系、ベンゾイミダゾン
系、キナクリドン系、アゾキレート系、アゾ系、イソイ
ンドリノン系、ピランスロン系、インダンスロン系、ア
ンスラピリミジン系、ジブロモアンザススロン系、フラ
バンスロン系、ペリレン系、ペリノン系、キノフタロン
系、チオインジゴ系、ジオキサジン系等の顔料を挙げる
ことができる。詳細は、色材光学ハンドブック（色材協
会編）の有機顔料部に書かれてあるものが使用できる
が、これらに限定されない。また、必要に応じて単独ま
たは２種以上組み合わせて使用することができる。

【００２７】本実施の形態に用いることができる無機顔
料としては、硫酸バリウム、亜鉛華、硫酸鉛、酸化チタ
ン、黄色鉛、ベンガラ、群青、紺青、酸化クロム、アン
チモン白、鉄黒、鉛丹、硫化亜鉛、カドミウムイエロ
ー、カドミウムレッド、亜鉛、マンガン紫、コバルト
紫、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム等の金属酸化物、
金属硫化物、硫酸塩、金属水酸化物、金属炭酸塩類等を
挙げることができる。また、抵抗率を損なわない程度に
従来公知のカーボンブラック、グラフト化されたカーボ
ンブラック等の炭素系無機顔料も挙げることができる。
詳細は、色材光学ハンドブック（色材協会編）の無機顔
料部に書かれてあるものが使用できるが、これらに限定
されない。また、必要に応じて、単独または２種以上組
み合わせて使用することができる。

【００２８】本実施の形態の液晶表示素子に用いる黒色
シール剤には、カップリング剤を添加するのが好まし
い。カップリング剤としては、市販のものを使用するこ
とができ、このうち、シランカップリング剤が好まし
い。カップリング剤の添加量は、黒色シール剤の固形分
の０．００１重量％〜１０重量％、好ましくは０．０１
重量％〜５重量％である。

【００２９】本実施の形態に用いるチタン系黒色顔料、
有機顔料、無機顔料の総顔料の含有量は、黒色シール剤
の有機溶剤を除いた固形分量中の１０〜７０重量％、好
ましくは２０〜６０重量％、より好ましくは３０〜５０
重量％で、かつ有機顔料および／または無機顔料中の割
合は、０〜６０重量％、好ましくは０〜５０重量％で用
いることができる。総顔料の含有量が１０重量％より低
い場合、遮光性が充分でなく、７０重量％を越えると、
含有量が多すぎるため、顔料がつぶれにくく、液晶表示
素子のギャップ形成ができなくなってしまう。

【００３０】本実施の形態のシール剤の絶縁性、接着強
度、耐湿信頼性を向上させるために、該シール剤に充填
剤を添加してもよい。充填剤としては、溶融シリカ、結
晶シリカ、シリコンカーバイド、窒化珪素、窒化ホウ
素、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、硫酸バリウ
ム、硫酸カルシウム、マイカ、タルク、クレー、アルミ
ナ、酸化マグネシウム、酸化ジルコニウム、水酸化アル
ミニウム、水酸化マグネシウム、珪酸カルシウム、珪酸
アルミニウム、珪酸リチウムアルミニウム、珪酸ジルコ
ニウム、チタン酸バリウム、硝子繊維、炭素繊維、二硫
化モリブデン、アスベスト等を挙げることができ、好ま
しくは、溶融シリカ、結晶シリカ、窒化珪素、窒化ホウ
素、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、硫酸カルシウム、
マイカ、タルク、クレー、アルミナ、水酸化アルミニウ
ム、珪酸カルシウムであり、さらに好ましくは溶融シリ
カ、結晶シリカ、アルミナである。これら充填剤は２種
以上を混合して用いてもよく、特に好ましくはシリカと
アルミナを併用した場合である。充填剤の添加量は、作
業性、遮光性を損なわない範囲で、黒色シール剤の有機
溶剤を除いた固形分量中の２０重量％以下の添加が好ま
しい。また、この充填剤の平均粒径は４μｍ以下、好ま
しくは２μｍ以下、さらに好ましくは１μｍ以下である
ことが好ましい。平均粒径が４μｍ以上あると、液晶表
示素子のギャップ形成がうまくできなくなったりする。

【００３１】本実施の形態のシール剤には、作業性を向
上させるために、また、粘度を低粘度化するために、溶
剤を添加してもよい。使用し得る溶剤としては、例えば
アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、アセテート系溶剤
を挙げることができ、これらの１種または２種以上を、
単独でまたは混合して、任意の比率で用いることができ
る。

【００３２】溶剤の使用量は、黒色シール剤をディスペ
ンサ塗布、あるいはスクリーン印刷等の方法で塗布でき
る、例えば２００〜４００ポイズ（２５℃）、に調整す
るのに必要な任意の量を用いることができ、通常、黒色
シール剤中の不揮発成分が７０重量％以上、好ましくは
８５〜９５重量％になるように使用する。

【００３３】本実施の形態で用いる黒色シール剤は、前
記のエポキシ樹脂、ノボラック樹脂を、必要に応じて溶
剤を添加し、加熱混合撹拌により溶解し、さらに、チタ
ン系黒色顔料、硬化促進剤、必要に応じて、有機顔料お
よび／または無機顔料、金属酸化物、充填剤、カップリ
ング剤、消泡剤、レベリング剤等を所定量を添加し、公
知の混合装置、例えばボールミル、サンドミル、３本ロ
ール等により混合し、製造することができる。なお、硬
化促進剤、カップリング剤、消泡剤、レベリング剤等
は、顔料と樹脂溶液とを混合装置により混合した後に添
加してもよい。

【００３４】本実施の形態で用いる黒色シール剤は、そ
の硬化物の体積抵抗率が、膜厚４μｍ、電圧３０Ｖ以下
の測定条件で、１０⁷Ω・ｃｍ以上の値を持つものが好
ましい。また、その硬化物の光学濃度（ＯＤ値）が、膜
厚７μｍ以下において、２．０以上であるものが好まし
く、より好ましくは２．５以上、さらに好ましくは３．
０以上のものである。

【００３５】本実施の形態の液晶表示素子において、透
過型の場合では、１対の透明絶縁基板間に液晶組成物を
保持させ、両板の周縁を上記シール剤で封止した素子で
ある。透明絶縁基板の少なくとも一方の内面には、電極
または液晶制御素子を備える。透明絶縁基板としては、
ガラス基板、石英基板、プラスチック基板等を用いるこ
とができる。液晶制御素子としては、液晶の電気光学効
果を制御する公知の素子を用いることができ、例えばア
モルファスシリコンＴＦＴ、多結晶シリコンＴＦＴ、Ｍ
ＩＭ、ダイオード、単結晶のＭＯＳＦＥＴ等を挙げるこ
とができる。一方、反射型の場合では、上記基板の一方
にシリコン基板を用いることができる。また、対向基板
上にマトリクス状に配列した例えば赤、緑、青色の三原
色カラーフィルタを設けることにより、カラー液晶表示
素子を得ることができる。

【００３６】本実施の形態に用いる液晶組成物として
は、公知の液晶組成物を用いることができ、例えば、フ
ッ素系、シアノ系、シクロヘキサン系、フェニルシクロ
ヘキサン系、ビフェニル系、シッフベース系、強誘電
性、反強誘電性の液晶等を挙げることができる。

【００３７】本実施の形態の液晶表示素子においては、
黒色シール剤中にスペーサを添加した後、このような基
板の一方の周縁に、液晶組成物の注入口を残すようにス
クリーン印刷、ディスペンサ塗布等の公知の方法で塗布
する。スペーサとしては、例えばグラスファイバ、ガラ
スビーズ等を挙げることができる。その直径は、目的に
応じて異なるが、通常２〜１０μｍ、好ましくは４〜７
μｍである。その使用量は、溶剤を除く本発明の黒色シ
ール剤の１００重量部に対して、０．０５〜４重量部、
好ましくは０．３〜３重量部、さらに、好ましくは０．
５〜１．５重量部程度である。その後、例えば１００
℃、１０分間の加熱により溶剤を蒸発させ、もう一方の
基板に所定の間隔が得られるように、例えばビーズから
なるスペーサをドライ分散、あるいはセミドライ分散等
の公知の方法で分散させ、カラーフィルタと液晶制御素
子の画素が対応するように位置合わせして両基板を重ね
合わせ、次いで、上下ガラス基板を貼り合わせ、プレス
してギャップ出しを行い、１６０〜１８０℃の温度で１
〜２時間硬化させて液晶セルを作製し、これに液晶組成
物を前記注入口から充填した後、公知の封止剤を用い
て、注入口を封止することにより、液晶表示素子を得る
ことができる。このようにして得られた液晶表示素子
は、接着性、耐湿性に優れ、また、黒色シール剤を用い
ていることから、シール部分からの光漏れを防止でき、
表示特性が優れている。

【００３８】

【実施例】実施例１、２、３液晶表示素子作製用のシール剤を着色する着色剤の比抵
抗（すなわち、抵抗率）の測定方法について説明する。

【００３９】図２はシール剤の着色剤の比抵抗の測定装
置の測定系の一例を示す模式構成図である。

【００４０】Ｓは試料、Ａ、Ａ′は電極、Ｂは測定セ
ル、Ｃはプレス、Ｄは絶縁板、Ｅは抵抗測定器である。

【００４１】１）測定セルＢ内に、シール剤の試料Ｓを
３ｇ入れ、上下の電極Ａ、Ａ′で試料Ｓを保持する。

【００４２】２）プレスＣを作動させて、電極Ａの上面
を加圧し、試料Ｓを圧縮する。

【００４３】３）試料Ｓの過厚地の抵抗値、および試料
Ｓの厚みを測定する。

【００４４】４）試料Ｓの粉末比抵抗（Ω・ｃｍ）＝抵
抗値×電極Ａの面積／試料Ｓの厚みとして測定した。

【００４５】下記の表１に、本実施例１、２、３と比較
例１、２において使用したチタン系黒色顔料の２次凝集
粒径（μｍ）とその比抵抗値（Ω・ｃｍ）を示す。

【００４６】

【表１】

【００４７】また、液晶表示素子用黒色シール剤の調整
を、エポキシ当量が４８０のビスフェノールＡ型エポキ
シ樹脂（エピコート１００１、油化シェル製）１００
ｇ、フェノールノボラック樹脂（タマノル７５８、荒川
化学工業製）２４ｇを溶剤のプロピレングリコールモノ
エチルエーテルアセテート５８ｇに加熱溶解させる。こ
の樹脂溶液に表１で使用したチタン系黒色顔料８０ｇを
サンドミルにより混合分散し、その分散液に硬化促進剤
として２−エチル−４−メチルイミダゾール（２Ｅ４Ｍ
Ｚ、四国化成製）１．３ｇ、カップリング剤としてＮ−
フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン９ｇ
を添加し、混合物を作る。

【００４８】また、ギャップ形成のための直径４μｍの
グラスファイバを、前記混合物１００ｇに対し１ｇ添加
して、本実施例に用いる数種の黒色シール剤を得た。

【００４９】これらシール剤の硬化後の比抵抗測定も、
表１に記載してある。

【００５０】この結果、表１から明らかなように、２次
凝集粒径が１０μｍ以下であるシール剤では４μｍギャ
ップの比抵抗測定でも、１０⁷Ω・ｃｍ以上であり、非
常に絶縁性が高い。これに対し、２次凝集粒径が１２μ
ｍ、２０μｍである比較例１、２のシール剤では、比抵
抗が小さく、絶縁性が低い。なお、着色剤の比抵抗が１
０⁶Ω・ｃｍ以上あれば、導通防止効果があることが本
発明者らにより確認されている。

【００５１】実施例４液晶表示素子用黒色シール剤の調整は、エポキシ当量が
４８０のビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（エピコート
１００１、油化シェル製）１００ｇ、フェノールノボラ
ック樹脂（タマノル７５８、荒川化学工業製）２４ｇを
溶剤のプロピレングリコールモノエチルエーテルアセテ
ート５８ｇに加熱溶解させる。この樹脂溶液に、前記実
施例１で使用したチタン系黒色顔料８０ｇをサンドミル
により混合分散し、その分散液に硬化促進剤として２−
エチル−４−メチルイミダゾール（２Ｅ４ＭＺ、四国化
成製）１．３ｇ、カップリング剤としてＮ−フェニル−
γ−アミノプロピルトリメトキシシラン９ｇを添加し、
混合物を作る。また、ギャップ形成のための直径５μｍ
のグラスファイバを、前記混合物１００ｇに対し１ｇ添
加して、本実施例に用いる数種の黒色シール剤を得た。

【００５２】実施例５、６、７以下、アクティブ・マトリクス方式のカラー液晶表示装
置に本発明を適用した実施例について説明する。

【００５３】図１は本発明に係る薄膜トランジスタを使
用したアクティブ・マトリクス方式カラー液晶表示素子
の一例の要部（すなわち、１対の基板を接着しているシ
ール部近傍の端部の）概略断面図である。

【００５４】ＳＵＢ１は下部透明ガラス基板、ＴＦＴは
薄膜トランジスタ、ＩＴＯ１は透明画素電極、ＳＵＢ２
は上部透明ガラス基板、ＢＭはブラックマトリクス、Ｆ
ＩＬ（Ｒ）は赤色カラーフィルタ、ＦＩＬ（Ｇ）は緑色
カラーフィルタ、ＦＩＬ（Ｂ）は青色カラーフィルタ、
ＰＳＶ１は保護膜、ＩＴＯ２（ＣＯＭ）は共通透明画素
電極、ＯＲＩ１、ＯＲＩ２は配向膜、ＳＬはシール剤、
ＳＰはスペーサ、ＬＣは液晶層、ＰＯＬ１、ＰＯＬ２は
偏光板である。

【００５５】図１に示す本実施例では、ブラックマトリ
クスＢＭが黒色の有機系樹脂からなっており、黒色シー
ル剤ＳＬに遮光性を持たせたことを特徴とする。なお、
黒色シール剤ＳＬとブラックマトリクスＢＭとの光学特
性、つまり、遮光性は同等としてある。

【００５６】すなわち、黒色シール剤ＳＬとブラックマ
トリクスＢＭの可視光域（３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ）に
おける光学濃度（ＯＤ値）は、２．０以上であった。こ
の光学濃度（ＯＤ値）は、分光スペクトル測定装置によ
り、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍ間を５ｎｍ刻みに透過
率を測定し、ＸＹＺ表色系（ＣＩＥ１９３１標準表色
系）によりＹ値を求め（このとき、Ｙ＝０．０２であっ
た）、光学濃度（ＯＤ値）を次式にて計算したところ、
３．７であり、充分な遮光性があった。

【００５７】光学濃度（ＯＤ値）＝ｌｏｇ₁₀（１００／Ｙ）なお、図１から明らかなように、基板表示面と垂直な方
向から見た場合、黒色シール剤ＳＬとブラックマトリク
スＢＭとは、一部重なり合っている。

【００５８】本実施例では、ブラックマトリクスＢＭを
低反射の着色された有機系樹脂で形成し、かつ、黒色シ
ール剤ＳＬを遮光性材料で形成したので、シール部に光
漏れが生じるのを防止でき、表示品質が向上する。ま
た、黒色シール剤ＳＬとブラックマトリクスＢＭとに同
程度の光学特性を持たせたので、バックライト等から照
射される光がシール部とブラックマトリクス部とで同程
度に遮光される。また、液晶表示素子に駆動回路等を取
り付け、モジュール化した場合、液晶表示素子の外周部
を被覆する金属製フレーム（後述の図８の符号ＳＨＤ参
照）等によるシール部のマスキングが不要となるので、
表示領域の広い、小型、大画面のカラー液晶表示素子を
得ることができる。

【００５９】すなわち、本実施例では、図１の透明ガラ
ス基板ＳＵＢ２上に、まず、カーボンブラックや黒色の
有機顔料等を添加した例えばアクリル、エポキシ、ポリ
イミド樹脂等の有機系樹脂からなるブラックマトリクス
ＢＭを所定のパターンに形成し、その上に、カラーフィ
ルタＦＩＬ（Ｒ）、（Ｇ）、（Ｂ）をそれぞれ所定のパ
ターンに形成した。なお、カラーフィルタＦＩＬとして
は、各々の色調に合わせた有機顔料を添加した光硬化型
ネガレジストを用い、フォトリソグラフィー技術により
順次形成した。その後、着色樹脂からの不純物の溶出防
止、および表面平坦性を確保するために、アクリル、エ
ポキシ樹脂等の溶液をスピンコート、ロールコート、転
写印刷法等により塗布を行い、熱処理を施して硬化さ
せ、ブラックマトリクスＢＭとカラーフィルタＦＩＬの
上に保護膜ＰＳＶ１を形成した。次に、この上に、酸化
インジウムを主成分とする透明導電膜をスパッタリング
法により成膜して、共通透明画素電極ＩＴＯ２を形成
し、カラーフィルタ側基板を作製した。次に、この基板
の透明画素電極ＩＴＯ２上に、配向膜ＯＲＩ２を転写印
刷法により転写形成した後、１８０〜２２０℃の温度で
熱処理を行った。また、対向基板である薄膜トランジス
タＴＦＴを形成した基板にも配向膜ＯＲＩ１を形成した
後、同様の熱処理を行った。次いで、両基板に配向処理
を施した後、いずれか一方の基板に黒色シール剤ＳＬを
スクリーン印刷法、ディスペンサ塗布法等により形成し
た。その後、１００℃、１０分の溶剤乾燥を行い、上下
基板のギャップを制御する多数個のスペーサＳＰをドラ
イ分散、あるいはセミドライ分散等の公知の方法により
一方の基板の全面に分散した後、両基板の画素が対応す
るように位置合わせして上下ガラス基板を貼り合わせ、
プレスして０．５〜１．０ｋｇ／ｃｍ²の荷重を加えて
ギャップ出しを行い、１６０〜１８０℃の温度で１〜２
時間の熱処理を行い、黒色シール剤を硬化させた。次
に、所定の寸法に基板を切断し、これにシール剤の一部
に設けた液晶注入口から液晶ＬＣを注入した後、公知の
封止剤を用いて、注入口を封止することによりカラー液
晶表示素子を得た。なお、シール部の両基板間ギャップ
は５〜７μｍ、シール幅は０．１ｍｍであった。

【００６０】得られた本実施例５、６、７と比較例３、
４の液晶表示素子において使用したチタン系黒色顔料の
２次凝集粒径（μｍ）、および共通透明画素電極ＩＴＯ
２、映像信号電極（図４（ａ）、（ｃ）参照）間の比抵
抗値（Ω・ｃｍ）を測定した。下記の表２に、その結果
を示す。

【００６１】

【表２】

【００６２】共通透明画素電極ＩＴＯ２と映像信号電極
間の比抵抗が１０⁷Ω・ｃｍ以上である液晶表示素子
は、上下基板のコンタクトがないことが分かった。ま
た、ＴＦＴの外部端子、配線パターン等にも異常は見ら
れず、シール剤自体の絶縁性についても問題のないこと
が確認できた。これに対し、２次凝集粒径が１２μｍ、
２０μｍである比較例３、４の液晶表示素子では、比抵
抗が小さく、絶縁性が低い。

【００６３】共通透明画素電極ＩＴＯ２と映像信号電極
間の抵抗が、４０ＭΩ以上あれば、両者の導通の不具合
は発生しない。安全係数を見越して１００ＭΩ以上であ
る。これは、接触面積０．８ｃｍ×０．８ｃｍ、シール
部のギャップ６．７μｍとして、共通透明画素電極ＩＴ
Ｏ２と映像信号電極間の比抵抗を算出する。本実施例で
は、シール剤と着色剤すべて込みのシール剤の比抵抗
は、例えば９．６×１０⁶Ω・ｃｍである。共通透明画
素電極ＩＴＯ２と映像信号電極間の抵抗が１００ＭΩと
しても、シール剤の比抵抗は１０⁷となる。具体的に
は、比抵抗ρ＝抵抗値Ｒ×（面積Ｓ／ギャップＬ）の計
算式で算出する。因みに、ギャップが４μｍでは、比抵
抗は１．６×１０⁷になる。よって、シール剤自体は絶
縁物なので、シール剤中の着色剤の比抵抗は１０⁶以上
あればよい。着色剤は、より好ましくはシール剤の比抵
抗より大きなものを入れた方がよい。なお、共通透明画
素電極ＩＴＯ２と映像信号電極間の比抵抗の比抵抗が１
０⁹Ω・ｃｍ以上あれば、導通防止効果があることが本
発明者らにより確認されている。

【００６４】下記の表３に、チタンブラック、カーボン
ブラック、鉄黒の各顔料の、粒子径（μｍ）、比表面積
（ｍ²／ｇ）、比重（ｇ／ｃｍ³）、比抵抗値（Ω・ｃ
ｍ）、安全性、対液晶汚染性を比較して示す。

【００６５】

【表３】

【００６６】以上のように、上記実施例によれば、黒色
シール剤ＳＬの遮光性を向上できるため、シール部に光
漏れが生じるのを防止でき、表示品質が向上する。ま
た、液晶表示素子の外周部を被覆する金属製フレーム等
によるシール部のマスキングを不要とすることができ、
表示領域が広く、小型かつ大画面の液晶表示装置を提供
できる。また、シール剤ＳＬの絶縁性が高いため、共通
透明画素電極ＩＴＯ２と映像信号電極間のシール部にお
ける導通を防止できる。したがって、共通画素電極ＩＴ
Ｏ２をシール部まで広げて形成することができ、ＩＴＯ
膜のスパッタ製造時の裕度を向上できる。

【００６７】以下、本発明が適用可能なアクティブ・マ
トリクス方式のカラー液晶表示装置について説明する。

【００６８】《マトリクス部の概要》図３は本発明が適
用されるアクティブ・マトリクス方式カラー液晶表示素
子の一画素とその周辺を示す平面図、図４はマトリクス
の画素部を中央にして（図３の４−４切断線における断
面）、左側にパネル角付近、右側に映像信号駆動回路が
接続される映像信号端子ＤＴＭ付近の断面を示す図であ
る。

【００６９】図３に示すように、各画素は隣接する２本
の走査信号線（ゲート信号線または水平信号線）ＧＬ
と、隣接する２本の映像信号線（ドレイン信号線または
垂直信号線）ＤＬとの交差領域内（４本の信号線で囲ま
れた領域内）に配置されている。各画素は薄膜トランジ
スタＴＦＴ、透明画素電極ＩＴＯ１および保持容量素子
Ｃaddを含む。走査信号線ＧＬは図では左右方向に延在
し、上下方向に複数本配置されている。映像信号線ＤＬ
は上下方向に延在し、左右方向に複数本配置されてい
る。

【００７０】図４に示すように、液晶層ＬＣを基準にし
て下部透明ガラス基板ＳＵＢ１側には薄膜トランジスタ
ＴＦＴおよび透明画素電極ＩＴＯ１が形成され、上部透
明ガラス基板ＳＵＢ２側にはカラーフィルタＦＩＬ、遮
光用ブラックマトリクスパターンＢＭが形成されてい
る。透明ガラス基板ＳＵＢ１、ＳＵＢ２の両面にはディ
ップ処理等によって形成された酸化シリコン膜ＳＩＯが
設けられている。

【００７１】上部透明ガラス基板ＳＵＢ２の内側（液晶
ＬＣ側）の表面には、遮光膜ＢＭ、カラーフィルタＦＩ
Ｌ、保護膜ＰＳＶ２、共通透明画素電極ＩＴＯ２（ＣＯ
Ｍ）および上部配向膜ＯＲＩ２が順次積層して設けられ
ている。

【００７２】図５はＴＦＴ液晶表示素子とその外周部に
配置された回路を示すブロック図である。ＴＦＴ液晶表
示素子（ＴＦＴ−ＬＣＤ）の下側のみにドレインドライ
バ部１０３が配置され、また、８００×３×６００画素
から構成されるＸＧＡ仕様の液晶表示素子（ＴＦＴ−Ｌ
ＣＤ）の側面部には、ゲートドライバ部１０４、コント
ローラ部１０１、電源部１０２が配置される。

【００７３】ドレインドライバ部１０３は、前述したよ
うに、多層フレキシブル基板を折り曲げ実装し、十分コ
ンパクト設計ができた。

【００７４】コントローラ部１０１および電源部１０２
は、多層プリント基板ＰＣＢに実装する。コントローラ
部１０１、電源部１０２を搭載したインターフェイス基
板ＰＣＢは、液晶素子ＰＮＬの短辺の外周部に配置され
たゲートドライバ部１０４の裏側に配置される。これ
は、情報処理装置（機器）の横幅の制約があり、可能な
限り、表示部であるモジュールＭＤＬの幅も縮小させる
必要があるためである。

【００７５】図５に示すように、薄膜トランジスタＴＦ
Ｔは、隣接する２本のドレイン信号線Ｄと、隣接する２
本のゲート信号線Ｇとの交差領域内に配置される。

【００７６】薄膜トランジスタＴＦＴのドレイン電極、
ゲート電極は、それぞれ、ドレイン信号線Ｄ、ゲート信
号線Ｇに接続される。

【００７７】薄膜トランジスタＴＦＴのソース電極は画
素電極に接続され、画素電極とコモン電極との間に液晶
層が設けられるので、薄膜トランジスタＴＦＴのソース
電極との間には、液晶容量ＣLCが等価的に接続される。

【００７８】薄膜トランジスタＴＦＴは、ゲート電極に
正のバイアス電圧を印加すると導通し、ゲート電極に負
のバイアス電圧を印加すると不導通になる。

【００７９】また、薄膜トランジスタＴＦＴのソース電
極と前ラインのゲート信号線との間には、保持容量Ｃａ
ｄｄが接続される。

【００８０】なお、ソース電極、ドレイン電極は本来そ
の間のバイアス極性によって決まるもので、この液晶表
示装置の回路ではその極性は動作中反転するので、ソー
ス電極、ドレイン電極は動作中入れ替わると理解された
い。しかし、以下の説明では、便宜上一方をソース電
極、他方をドレイン電極と固定して表現する。

【００８１】《駆動用ＩＣチップ搭載部近傍の平面およ
び断面構成》図６はＦＣＡ（フリップチップ）方式
（すなわち、ＣＯＧ(チップオンガラス)方式）の液晶
表示素子において、例えばガラスからなる透明絶縁基板
ＳＵＢ１上に駆動用ＩＣを搭載した様子を示す平面図で
ある。さらに、Ａ−Ａ切断線における断面図を図７に示
す。図６において、一方の透明絶縁基板ＳＵＢ２は、一
点鎖線で示すが、透明絶縁基板ＳＵＢ１の上方に重なっ
て位置し、シールパターンＳＬ（図６参照）により、有
効表示部（有効画面エリア）ＡＲを含んで液晶ＬＣを封
入している。透明絶縁基板ＳＵＢ１上の電極ＣＯＭは、
導電ビーズや銀ペースト等を介して、透明絶縁基板ＳＵ
Ｂ２側の共通画素電極パターンに電気的に接続させる配
線である。配線ＤＴＭ（あるいはＧＴＭ）は、駆動用Ｉ
Ｃからの出力信号を有効表示部ＡＲ内の配線に供給する
ものである。入力配線Ｔｄは、駆動用ＩＣへ入力信号を
供給するものである。異方性導電膜ＡＣＦは、一列に並
んだ複数個の駆動用ＩＣ部分に共通して細長い形状とな
ったものＡＣＦ２と上記複数個の駆動用ＩＣへの入力配
線パターン部分に共通して細長い形状となったものＡＣ
Ｆ１を別々に貼り付ける。パッシベーション膜（保護
膜）ＰＳＶ１、ＰＳＶは、図７にも示すが、電食防止の
ため、できる限り配線部を被覆し、露出部分は、異方性
導電膜ＡＣＦ１にて覆うようにする。

【００８２】さらに、駆動用ＩＣの側面周辺は、エポキ
シ樹脂あるいはシリコーン樹脂ＳＩＬが充填され（図７
参照）、保護が多重化されている。

【００８３】《液晶表示モジュールの全体構成》図８
は、ＦＣＡ方式液晶表示モジュールＭＤＬの分解斜視図
である。

【００８４】ＳＨＤは金属板からなるシールドケース
（メタルフレームとも称す）、ＷＤは表示窓、ＳＰＣ１
〜４は絶縁スペーサ、ＦＰＣ１、２は折り曲げられた多
層フレキシブル回路基板（ＦＰＣ１はゲート側回路基
板、ＦＰＣ２はドレイン側回路基板）、ＰＣＢはインタ
ーフェイス回路基板、ＡＳＢはアセンブルされた駆動回
路基板付き液晶表示素子、ＰＮＬは重ね合せた２枚の透
明絶縁基板の一方の基板上に駆動用ＩＣを搭載した液晶
表示素子（液晶表示パネルとも称す）、ＧＣ１およびＧ
Ｃ２はゴムクッション、ＰＲＳはプリズムシート（２
枚）、ＳＰＳは拡散シート、ＧＬＢは導光板、ＲＦＳは
反射シート、ＭＣＡは一体成型により形成された下側ケ
ース（モールドケース）、ＬＰは蛍光管、ＬＰＣはラン
プケーブル、ＬＣＴはインバータ用の接続コネクタ、Ｇ
Ｂは蛍光管ＬＰを支持するゴムブッシュであり、図に示
すような上下の配置関係で各部材が積み重ねられて液晶
表示モジュールＭＤＬが組み立てられる。

【００８５】《液晶表示モジュールＭＤＬを実装した情
報処理装置》図９は図８の液晶表示モジュールＭＤＬを
実装したノートブック型のパソコン、あるいはワープロ
の斜視図である。ここでは、インバータＩＶを、表示
部、すなわち、液晶表示モジュールＭＤＬのインバータ
収納部ＭＩに配置した場合を示す。

【００８６】駆動ＩＣの液晶表示素子ＰＮＬ上へのＣＯ
Ｇ実装と外周部のドレインおよびゲートドライバ用周辺
回路として多層フレキシブル基板を採用し、ドレインド
ライバ用回路に折り曲げ実装を採用することで、従来に
比べ大幅に外形サイズ縮小ができる。本例では、片側実
装されたドレインドライバ用周辺回路を情報処理機器の
ヒンジ上方の表示部の上側に配置できるため、コンパク
トな実装が可能となった。

【００８７】情報処理機器からの信号は、まず、図で
は、左側のインターフェイス基板ＰＣＢのほぼ中央に位
置するコネクタから表示制御集積回路素子（ＴＣＯＮ）
へ行き、ここでデータ変換された表示データが、ドレイ
ンドライバ用周辺回路へ流れる。このように、ＦＣＡ方
式と多層フレキシブル基板とを使用することで、情報処
理機器の横幅の外形の制約が解消でき、小型で低消費電
力の情報処理機器を提供できた。

【００８８】以上本発明を実施の形態に基づいて具体的
に説明したが、本発明は前記実施の形態に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲において種々変
更可能であることは勿論である。例えば本発明は、単純
マトリクス方式等の他の液晶表示装置にも適用可能であ
る。

【００８９】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
シール剤の遮光性を向上できるため、シール部に光漏れ
が生じるのを防止でき、表示品質が向上する。また、液
晶表示素子の外周部を被覆するフレームによるシール部
のマスキングを不要とすることができ、表示領域が広
く、小型かつ大画面の液晶表示装置を提供できる。ま
た、シール剤の絶縁性が高いため、共通透明画素電極と
信号電極間のシール部における導通を防止できるととも
に、共通画素電極をシール部まで広げて形成することが
でき、該共通画素電極スパッタ製造時の裕度を向上でき
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係るアクティブ・マトリクス方式カラ
ー液晶表示素子のシール部近傍の端部の概略断面図であ
る。

【図２】シール剤を着色する着色剤の比抵抗の測定装置
の測定系を示す模式構成図である。

【図３】本発明が適用されるアクティブ・マトリクス方
式カラー液晶表示素子の１画素とその周辺を示す要部平
面図である。

【図４】マトリクスの画素部を中央にして、左側にパネ
ル角付近、右側に映像信号駆動回路が接続される映像信
号端子付近の断面を示す図である。

【図５】アクティブ・マトリクス方式液晶表示モジュー
ルの等価回路を示すブロック図である。

【図６】アクティブ・マトリクス・ＦＣＡ方式液晶表示
素子の透明絶縁基板ＳＵＢ１上に駆動用ＩＣを搭載した
様子を示す平面図である。

【図７】図６のＡ−Ａ切断線における断面図である。

【図８】アクティブ・マトリクス・ＦＣＡ方式液晶表示
モジュールの分解斜視図である。

【図９】図８の液晶表示モジュールを実装したノートブ
ック型のパソコンあるいはワープロの斜視図である。

【符号の説明】

ＳＵＢ１…下部透明ガラス基板、ＴＦＴ…薄膜トランジ
スタ、ＩＴＯ１…透明画素電極、ＳＵＢ２…上部透明ガ
ラス基板、ＢＭ…ブラックマトリクス、ＦＩＬ（Ｒ）…
赤色カラーフィルタ、ＦＩＬ（Ｇ）…緑色カラーフィル
タ、ＦＩＬ（Ｂ）…青色カラーフィルタ、ＰＳＶ１…保
護膜、ＩＴＯ２（ＣＯＭ）…共通透明画素電極、ＯＲＩ
１、ＯＲＩ２…配向膜、ＳＬ…シール剤、ＳＰ…スペー
サ、ＬＣ…液晶層、ＰＯＬ１、ＰＯＬ２…偏光板、Ｓ…
試料、Ａ、Ａ′…電極、Ｂ…測定セル、Ｃ…プレス、Ｄ
…絶縁板、Ｅ…抵抗測定器。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者松山茂千葉県茂原市早野3300番地株式会社日立製作所電子デバイス事業部内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】液晶制御素子と画素電極と信号電極を設け
た第１の基板と、共通画素電極を設けた第２の基板とを
所定の間隙を隔てて対向して配置し、着色剤により着色
され、前記両基板間の縁周囲にほぼ枠状に設けたシール
剤により前記両基板を接着するとともに、前記シール剤
の内側の前記両基板間に液晶を封止してなる液晶表示素
子を有する液晶表示装置において、前記着色剤の比抵抗が１０⁶Ω・ｃｍ以上、前記着色剤
の２次凝集粒径が１０μｍ以下、前記信号電極と前記共
通画素電極間の比抵抗が１０⁹Ω・ｃｍ以上であること
を特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】前記着色剤がチタン系黒色顔料であること
を特徴とする請求項１記載の液晶表示装置。