JPH11353032A - 冷却ガスの漏洩検出機構および検出方法 - Google Patents

冷却ガスの漏洩検出機構および検出方法

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JPH11353032A
JPH11353032A JP16234698A JP16234698A JPH11353032A JP H11353032 A JPH11353032 A JP H11353032A JP 16234698 A JP16234698 A JP 16234698A JP 16234698 A JP16234698 A JP 16234698A JP H11353032 A JPH11353032 A JP H11353032A
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JP
Japan
Prior art keywords
pressure
cooling gas
control valve
substrate
back surface
Prior art date
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Pending
Application number
JP16234698A
Other languages
English (en)
Inventor
Takahiro Kitai
崇博 北井
Masashi Matsumori
正史 松森
Tadashi Kimura
忠司 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 封じ込めたガス量を一定範囲内に調節されて
いるかを定量的に監視することを可能にすることによっ
て、冷却ガスの漏洩を検出する。 【解決手段】 プロセスチャンバー内で、処理される基
板13の裏面に冷却ガスを導入する。このとき、導入さ
れたガス量を一定範囲内に保つように圧力コントローラ
5がコントロールバルブ3を制御する。そして、コント
ロールバルブ3と同じ側に取り付けた圧力計4と、コン
トロールバルブの反対側に取り付けた圧力計10の入力
を常時監視機構12に取り込み、圧力計4と圧力計10
の入力を信号の差を演算し、許容範囲を超えた場合に冷
却ガスの漏洩が存在すると判断して異常を通知する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶パネル製造,
半導体製造装置など基板あるいはウエハを装置内のプロ
セスチャンバーに移載し、生産する形態を持つ装置に適
用され、プロセスチャンバー内の基板裏面冷却方式の冷
却ガスの漏洩検出機構および検出方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】図2に従来の冷却ガスの漏洩検出機構の
構成を示す説明図であり、15は基板を押さえるクラン
プ機構、16は基板を冷却するためのガスの流量コント
ローラ、17は圧力を制御するためのコントロールバル
ブ、18は冷却ガスの圧力を監視する圧力計、19は、
圧力計18からの信号を取り込み、設定圧力との差を演
算してコントロールバルブ17に対して開度指令を出す
圧力コントローラ、20は圧力計18を真空状態に保つ
ためのアイソレーションバルブ、21は冷却ガスの入り
切りを行うストップバルブ、22はコントロールバルブ
17の上流側に取り付けられたメインバルブ、23は冷
却終了時にガス排気を早く行うためのバイパスバルブ、
24は処理される基板である。
【0003】以上のように構成された機構において、以
下各構成要素の関係と動作について説明する。
【0004】まず、プロセスチャンバーA内で、基板2
4をクランプ機構15で押さえる。そして、コントロー
ルバルブ17とメインバルブ22とストップバルブ21
とアイソレーションバルブ20を開ける。さらに、ガス
流量コントローラ16に対し、冷却ガスの流量指令を与
え、基板裏面に冷却ガスを導入する。このとき、導入さ
れたガス量を一定に保つため、ガス配管に取り付けられ
た圧力計18の入力値から排気量を演算し、ガスの排気
量を調節するために取り付けられているコントロールバ
ルブ17の開度指令を調節して、導入されたガス量を一
定範囲内に保つ。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記し
た冷却ガスの漏洩検出機構にて冷却ガスの圧力制御を行
う場合、基板の裏面からプロセスチャンバー内への微少
な冷却ガスの漏れが生じた時に、その漏れている量を補
う量のガスを封じ込めなければ冷却ガスを一定範囲内の
圧力に調節することはできない。そのため、ガス圧力は
一定範囲内であるにもかかわらず、導入されているガス
量が一定にならない。また、プロセスチャンバーの圧力
を監視している圧力計でも、その漏れを十分には検出で
きず、冷却効果が一定にはならないだけでなく、漏れた
冷却ガスがプロセス状態に影響を及ぼし、それにより正
常処理されない基板が生じ、装置の生産性を低下させる
という問題点を有している。
【0006】本発明は、上記従来の問題点を解決するも
ので、封じ込めたガス量を一定範囲内に調節されている
かを定量的に監視し、異常の有無を検出する冷却ガスの
微少漏洩検出機構および検出方法を提供することを目的
とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、プロセス処理用基板の裏面を、プロセスチ
ャンバー内で冷却する機構において、冷却ガスの流量コ
ントローラと、冷却ガスの圧力を調整するためのコント
ロールバルブと、このコントロールバルブに対して上流
側に取り付けられ、前記基板の裏面に導入された冷却ガ
スの圧力を監視する第1圧力計と、この第1圧力計から
の信号を取り込み、設定圧力との差を演算し、前記コン
トロールバルブに対して開度指令をフィードバックする
圧力コントローラと、前記プロセスチャンバーに対して
上流側に取り付けられ、前記基板の裏面に導入する前の
冷却ガスの圧力を監視する第2圧力計と、前記第1圧力
計と前記第2圧力計の信号を取り込み、その圧力差を演
算し、許容範囲を超えた場合に異常を通知する常時監視
機構を有することを特徴とする。
【0008】また本発明は、プロセス処理用基板の裏面
を、プロセスチャンバー内で冷却する機構において、冷
却ガスの流量コントローラと、冷却ガスの圧力を調整す
るためのコントロールバルブと、このコントロールバル
ブに対して上流側に取り付けられ、前記基板の裏面に導
入された冷却ガスの圧力を監視する圧力計と、この圧力
計からの信号を取り込み、設定圧力との差を演算し、前
記コントロールバルブに対して開度指令をフィードバッ
クする圧力コントローラと、前記コントロールバルブの
開度指令を取り込み、設定開度との開度の差を演算し、
許容範囲を超えた場合に異常を通知する常時監視機構を
有することを特徴とする。
【0009】また本発明は、冷却ガスの流量コントロー
ラと、冷却ガスの圧力を調整するためのコントロールバ
ルブと、前記基板の裏面に導入された冷却ガスの圧力を
監視する圧力計と、この圧力計からの信号を取り込み、
設定圧力との差を演算し、前記コントロールバルブに対
して開度指令をフィードバックする圧力コントローラと
を備え、プロセスチャンバー内でプロセス処理用基板の
裏面に冷却ガスを導入して冷却する機構における冷却ガ
スの漏洩検出方法であって、前記基板の裏面に導入する
前の冷却ガスの圧力と前記基板の裏面に導入した後の冷
却ガスの圧力との圧力差を演算し、許容範囲を超えた場
合に異常を通知することを特徴とする。
【0010】また本発明は、冷却ガスの流量コントロー
ラと、冷却ガスの圧力を調整するためのコントロールバ
ルブと、このコントロールバルブに対して上流側に取り
付けられ、前記基板の裏面に導入された冷却ガスの圧力
を監視して設定圧力との差を演算し、前記コントロール
バルブに対して開度指令をフィードバックする圧力コン
トローラとを備え、プロセスチャンバー内でプロセス処
理用基板の裏面に冷却ガスを導入して冷却する機構にお
ける冷却ガスの漏洩検出方法であって、前記コントロー
ルバルブの開度指令と設定開度との開度の差を演算し、
許容範囲を超えた場合に異常を通知することを特徴とす
る。
【0011】このような手段により、冷却ガスの導入量
を監視して、許容範囲を超えた場合に冷却ガスの漏洩が
存在するものと判断することができる。
【0012】
【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態につい
て図1を用いて説明する。
【0013】図1は本発明の冷却ガスの漏洩検出機構の
構成を示す説明図であり、1は基板を押さえるクランプ
機構、2は基板を冷却するためのガスの流量コントロー
ラ、3は圧力を制御するためのコントロールバルブ、4
は冷却ガスの圧力を監視するコントロールバルブ側の圧
力計、5は、圧力計4からの信号を取り込み、設定圧力
との差を演算してコントロールバルブ3に対して開度指
令を出す圧力コントローラ、6は圧力計4を真空状態に
保つためのアイソレーションバルブ、7は冷却ガスの入
り切りを行うストップバルブ、8はコントロールバルブ
3の上流側に取り付けられたメインバルブ、9は冷却終
了時にガス排気を早く行うためのバイパスバルブ、10
はコントロールバルブ3の反対側に取り付けられた圧力
計、11は圧力計10を真空状態に保つためのアイソレ
ーションバルブ、12は、圧力計4と圧力計10の信号
を取り込み、その圧力差を演算し許容範囲を超えた場合
に異常を通知する常時監視機構、13は処理される基
板、14は、圧力コントローラ5からコントロールバル
ブ3に対しての開度指令を取り込み、開度監視値との差
を演算し許容範囲を超えた場合に異常を通知する常時監
視機構である。
【0014】次に、動作について説明する。
【0015】まず、プロセスチャンバーA内で、基板1
3をクランプ機構1で押さえる。そして、コントロール
バルブ3とメインバルブ8とストップバルブ7を開け、
ガス流量コントローラ2に対し、冷却ガスの設定指令を
与え、基板裏面に冷却ガスを導入する。このとき、導入
されたガス量を一定に保つため、ガス配管に取り付けら
れた圧力計の入力値から排気量を演算し、ガスの排気量
を調節するために取り付けられているコントロールバル
ブ3の開度指令を調節する。そして、コントロールバル
ブ3と反対側に取り付けた圧力計10の入力を常時監視
機構12に取り込み、圧力計4と圧力計10の入力信号
の差を演算し、許容範囲を超えた場合に異常を通知す
る。
【0016】このように構成したことにより、基板裏面
に対する導入前の冷却ガスの圧力と導入後の冷却ガスの
圧力の差が許容範囲を超えた場合に、冷却ガスの漏れが
生じていると判定することができる。
【0017】また、上述した冷却ガスの漏れ検出方法以
外にも、圧力コントローラ5からコントロールバルブ3
に対しての開度指令を常時監視機構14に取り込み、あ
らかじめ設定された開度監視値との差を演算し、許容範
囲を超えた場合に冷却ガスの漏れが生じていると判定し
て、異常通知するという方法がある。なお、前述した2
つの冷却ガスの漏れ検出方法を併用しても良いことはい
うまでもない。
【0018】
【発明の効果】以上、説明したように構成された本発明
によれば、冷却ガスの導入量が一定範囲内であるか否か
を、導入側の圧力計と排出側の圧力計の信号を取り込み
その圧力差を演算し、許容範囲を超えた場合に常時監視
機構が異常を通知することにより、基板冷却効率を一定
範囲内に留め、また冷却ガスの漏洩を検知することで、
正常処理されない基板の発生を削減し、装置の生産性を
向上させることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態におけるの冷却ガスの漏洩検
出機構の構成を示す説明図
【図2】従来の冷却ガスの漏洩検出機構の構成を示す説
明図
【符号の説明】
1 クランプ機構 2 ガス流量コントローラ 3 コントロールバルブ 4,10 圧力計 5 圧力コントローラ 6,11 アイソレーションバルブ 7 ストップバルブ 8 メインバルブ 9 バイパスバルブ 12,14 常時監視機構 13 基板

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 プロセス処理用基板の裏面を、プロセス
    チャンバー内で冷却する機構において、冷却ガスの流量
    コントローラと、冷却ガスの圧力を調整するためのコン
    トロールバルブと、このコントロールバルブに対して上
    流側に取り付けられ、前記基板の裏面に導入された冷却
    ガスの圧力を監視する第1圧力計と、この第1圧力計か
    らの信号を取り込み、設定圧力との差を演算し、前記コ
    ントロールバルブに対して開度指令をフィードバックす
    る圧力コントローラと、前記プロセスチャンバーに対し
    て上流側に取り付けられ、前記基板の裏面に導入する前
    の冷却ガスの圧力を監視する第2圧力計と、前記第1圧
    力計と前記第2圧力計の信号を取り込み、その圧力差を
    演算し、許容範囲を超えた場合に異常を通知する常時監
    視機構を有することを特徴とする冷却ガスの漏洩検出機
    構。
  2. 【請求項2】 プロセス処理用基板の裏面を、プロセス
    チャンバー内で冷却する機構において、冷却ガスの流量
    コントローラと、冷却ガスの圧力を調整するためのコン
    トロールバルブと、このコントロールバルブに対して上
    流側に取り付けられ、前記基板の裏面に導入された冷却
    ガスの圧力を監視する圧力計と、この圧力計からの信号
    を取り込み、設定圧力との差を演算し、前記コントロー
    ルバルブに対して開度指令をフィードバックする圧力コ
    ントローラと、前記コントロールバルブの開度指令を取
    り込み、設定開度との開度の差を演算し、許容範囲を超
    えた場合に異常を通知する常時監視機構を有することを
    特徴とする冷却ガスの漏洩検出機構。
  3. 【請求項3】 冷却ガスの流量コントローラと、冷却ガ
    スの圧力を調整するためのコントロールバルブと、前記
    基板の裏面に導入された冷却ガスの圧力を監視する圧力
    計と、この圧力計からの信号を取り込み、設定圧力との
    差を演算し、前記コントロールバルブに対して開度指令
    をフィードバックする圧力コントローラとを備え、プロ
    セスチャンバー内でプロセス処理用基板の裏面に冷却ガ
    スを導入して冷却する機構における冷却ガスの漏洩検出
    方法であって、前記基板の裏面に導入する前の冷却ガス
    の圧力と前記基板の裏面に導入した後の冷却ガスの圧力
    との圧力差を演算し、許容範囲を超えた場合に異常を通
    知することを特徴とする冷却ガスの漏洩検出方法。
  4. 【請求項4】 冷却ガスの流量コントローラと、冷却ガ
    スの圧力を調整するためのコントロールバルブと、この
    コントロールバルブに対して上流側に取り付けられ、前
    記基板の裏面に導入された冷却ガスの圧力を監視して設
    定圧力との差を演算し、前記コントロールバルブに対し
    て開度指令をフィードバックする圧力コントローラとを
    備え、プロセスチャンバー内でプロセス処理用基板の裏
    面に冷却ガスを導入して冷却する機構における冷却ガス
    の漏洩検出方法であって、前記コントロールバルブの開
    度指令と設定開度との開度の差を演算し、許容範囲を超
    えた場合に異常を通知することを特徴とする冷却ガスの
    漏洩検出方法。
JP16234698A 1998-06-10 1998-06-10 冷却ガスの漏洩検出機構および検出方法 Pending JPH11353032A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6695946B2 (en) * 2001-04-18 2004-02-24 Applied Materials Inc. Cooling system
KR100440750B1 (ko) * 2002-02-05 2004-07-21 (주)영인테크 밸브 개폐상태 감시 장치
KR100453025B1 (ko) * 2001-10-15 2004-10-14 유니셈 주식회사 반도체 제조 설비용 냉각장치
JP2007500896A (ja) * 2003-07-31 2007-01-18 フィッシャー コントロールズ インターナショナル リミテッド ライアビリティー カンパニー プロセス制御システムにおけるトリガ式のフィールド装置データ収集
CN103926945A (zh) * 2014-04-08 2014-07-16 上海华力微电子有限公司 腔体智能压力控制系统及其压力控制方法
KR20220066934A (ko) * 2019-12-25 2022-05-24 가부시키가이샤 후지킨 압력 제어 장치

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