JPH1135713A - ガスバリア性フィルムとその製造法 - Google Patents
ガスバリア性フィルムとその製造法Info
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- JPH1135713A JPH1135713A JP9197588A JP19758897A JPH1135713A JP H1135713 A JPH1135713 A JP H1135713A JP 9197588 A JP9197588 A JP 9197588A JP 19758897 A JP19758897 A JP 19758897A JP H1135713 A JPH1135713 A JP H1135713A
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- gas barrier
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 透明性が良好で、酸素、二酸化炭素、エチレ
ン、芳香成分等のガス及び水蒸気のバリア性に優れたガ
スバリア性フィルムを提供する。 【解決手段】 骨格中にハロゲン化合物分子の構造を含
まない熱可塑性プラスチックからなるフィルム基材の少
くとも片面に、有機珪素化合物を塗布し、次いで３００
ｎｍ以下の波長の光を照射してバリア層を形成し、ガス
バリア性フィルムを構成する。
ン、芳香成分等のガス及び水蒸気のバリア性に優れたガ
スバリア性フィルムを提供する。 【解決手段】 骨格中にハロゲン化合物分子の構造を含
まない熱可塑性プラスチックからなるフィルム基材の少
くとも片面に、有機珪素化合物を塗布し、次いで３００
ｎｍ以下の波長の光を照射してバリア層を形成し、ガス
バリア性フィルムを構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この出願の発明は、透明性が
良好で、かつ酸素、二酸化炭素、エチレン、芳香成分等
のガス及び水蒸気バリア性に優れたガスバリア性フィル
ムと、これを常圧で製造する方法に関するものである。
良好で、かつ酸素、二酸化炭素、エチレン、芳香成分等
のガス及び水蒸気バリア性に優れたガスバリア性フィル
ムと、これを常圧で製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】包装材料には、一般に、内容物の品質劣
化を防ぐ機能が要求される。特に内容物が変質、腐敗し
やすい食品包装の分野や、半導体などの移送時に用いら
れる工業品包装の分野では、包装材料は、酸素、二酸化
炭素、エチレン、芳香成分等のガスバリア性や水蒸気バ
リア性に優れていることが必要である。
化を防ぐ機能が要求される。特に内容物が変質、腐敗し
やすい食品包装の分野や、半導体などの移送時に用いら
れる工業品包装の分野では、包装材料は、酸素、二酸化
炭素、エチレン、芳香成分等のガスバリア性や水蒸気バ
リア性に優れていることが必要である。
【０００３】ガスバリア性を備えた包装材としては、従
来よりプラスチック基材にアルミニウム箔層を設けた包
材が使用されている。しかしこのような従来の包材は、
安定したガスバリア性が得られるものの、透明性は得ら
れず、また焼却時にアルミ残渣が生じるため、使用後の
廃棄処分に問題があった。さらに、電子レンジで使用で
きないという問題もあった。
来よりプラスチック基材にアルミニウム箔層を設けた包
材が使用されている。しかしこのような従来の包材は、
安定したガスバリア性が得られるものの、透明性は得ら
れず、また焼却時にアルミ残渣が生じるため、使用後の
廃棄処分に問題があった。さらに、電子レンジで使用で
きないという問題もあった。
【０００４】このような問題に対処するため、エチレン
−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）やポリ塩化ビ
ニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）から
なるバリア層を備えた包材が種々開発されてきている。
しかしＰＶＣやＰＶＤＣなどを用いると、得られるバリ
ア性能はアルミニウム箔で得られるものよりも低く、一
方ＥＶＯＨの場合は酸素バリア性に優れているものの、
水蒸気に接触するとバリア性が低下するという問題があ
った。従って、ＥＶＯＨをバリア層として用いるために
は、このＥＶＯＨを水蒸気から遮断することが必要とさ
れていた。
−ビニルアルコール共重合体（ＥＶＯＨ）やポリ塩化ビ
ニル（ＰＶＣ）、ポリ塩化ビニリデン（ＰＶＤＣ）から
なるバリア層を備えた包材が種々開発されてきている。
しかしＰＶＣやＰＶＤＣなどを用いると、得られるバリ
ア性能はアルミニウム箔で得られるものよりも低く、一
方ＥＶＯＨの場合は酸素バリア性に優れているものの、
水蒸気に接触するとバリア性が低下するという問題があ
った。従って、ＥＶＯＨをバリア層として用いるために
は、このＥＶＯＨを水蒸気から遮断することが必要とさ
れていた。
【０００５】また近年では、高いガスバリア性とともに
透明性を有し、かつ廃棄時の環境上の問題もない包材と
して、珪素酸化物や酸化アルミニウムなどの薄膜をガス
バリア層として備えた包材が開発されている。このよう
な金属酸化物の薄膜は、主に原料である金属や酸化物を
物理的蒸着法（ＰＶＤ）で基材上に付着させる方法で形
成されている。
透明性を有し、かつ廃棄時の環境上の問題もない包材と
して、珪素酸化物や酸化アルミニウムなどの薄膜をガス
バリア層として備えた包材が開発されている。このよう
な金属酸化物の薄膜は、主に原料である金属や酸化物を
物理的蒸着法（ＰＶＤ）で基材上に付着させる方法で形
成されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
金属酸化物薄膜からなるバリア層は、その特性において
注目されるものであるが、金属酸化物粒子が基材上に蒸
着したものであるため、該粒子間に粒界が存在してお
り、十分なバリア性を得るためには膜厚を厚くする必要
があること（１００ｎｍ以上）、このため展性に劣りク
ラックやそりが発生しやすいこと等の問題があった。ま
た蒸着時に高真空を必要とするため、製造はバッチ式で
あり、かつ真空が安定するまでに時間を要するなど製造
コストの増大を引き起こす要因が多数存在した。
金属酸化物薄膜からなるバリア層は、その特性において
注目されるものであるが、金属酸化物粒子が基材上に蒸
着したものであるため、該粒子間に粒界が存在してお
り、十分なバリア性を得るためには膜厚を厚くする必要
があること（１００ｎｍ以上）、このため展性に劣りク
ラックやそりが発生しやすいこと等の問題があった。ま
た蒸着時に高真空を必要とするため、製造はバッチ式で
あり、かつ真空が安定するまでに時間を要するなど製造
コストの増大を引き起こす要因が多数存在した。
【０００７】この出願の発明は、このような事情に鑑み
てなされたものであって、以上の従来技術の問題点を解
消し、透明性が良好で、かつ酸素ガス及び水蒸気バリア
性に優れた新しいガスバリア性フィルムとこのガスバリ
ア性フィルム製造方法を提供することを課題としてい
る。
てなされたものであって、以上の従来技術の問題点を解
消し、透明性が良好で、かつ酸素ガス及び水蒸気バリア
性に優れた新しいガスバリア性フィルムとこのガスバリ
ア性フィルム製造方法を提供することを課題としてい
る。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この出願の発明は、上記
の課題を解決するものとして、その骨格中にハロゲン化
合物分子の構造を含まない熱可塑性プラスチックからな
るフィルム基材の少くとも片面には、有機珪素化合物が
塗布され、これに３００ｎｍ以下の波長の光が常圧で照
射されることにより形成されたガスバリア層が配設され
ていることを特徴とするガスバリア性フィルム（請求項
１）を提供する。
の課題を解決するものとして、その骨格中にハロゲン化
合物分子の構造を含まない熱可塑性プラスチックからな
るフィルム基材の少くとも片面には、有機珪素化合物が
塗布され、これに３００ｎｍ以下の波長の光が常圧で照
射されることにより形成されたガスバリア層が配設され
ていることを特徴とするガスバリア性フィルム（請求項
１）を提供する。
【０００９】そしてまたこの出願の発明は、前記のとお
り、その骨格中にハロゲン化合物分子の構造を含まない
熱可塑性プラスチックからなるフィルム基材の少くとも
片面に対して有機珪素化合物を塗布する工程と、これに
３００ｎｍ以下の波長の光を常圧で照射することにより
ガスバリア層を形成する工程とを含むことを特徴とする
ガスバリア性フィルムの製造法（請求項２）をも提供す
る。
り、その骨格中にハロゲン化合物分子の構造を含まない
熱可塑性プラスチックからなるフィルム基材の少くとも
片面に対して有機珪素化合物を塗布する工程と、これに
３００ｎｍ以下の波長の光を常圧で照射することにより
ガスバリア層を形成する工程とを含むことを特徴とする
ガスバリア性フィルムの製造法（請求項２）をも提供す
る。
【００１０】まず、この発明に用いられる熱可塑性プラ
スチックからなるフィルム基材について説明すると、こ
のものは、ポリマー骨格中にハロゲン化合物分子の構
造、たとえば、塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲ
ン化合物の分子構造を含まないものとして適宜に選択使
用されることになる。このようなフィルム基材として
は、包材の使用目的、被包装物の物性、特性等から適宜
選択することができるが、例えば、ナイロン６、ナイロ
ン６６、ナイロン１２、ナイロン６・６６共重合体など
のポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどの
ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポ
リオレフィン、ポリメタクリレートなどのアクリル樹脂
及びポリカーボネート、ポリビニルアルコール、エチレ
ン−ビニルアルコール共重合体、ポリアクリロニトリ
ル、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリア
リレートなどの高分子材料から形成されたフィルムを挙
げることができる。これらのフィルムは、未延伸フィル
ムあるいは延伸フィルムであり、シート状であってもよ
い。用いられるフィルム基材の厚さは、通常は、５〜１
０００μｍ程度である。
スチックからなるフィルム基材について説明すると、こ
のものは、ポリマー骨格中にハロゲン化合物分子の構
造、たとえば、塩化ビニル、塩化ビニリデン等のハロゲ
ン化合物の分子構造を含まないものとして適宜に選択使
用されることになる。このようなフィルム基材として
は、包材の使用目的、被包装物の物性、特性等から適宜
選択することができるが、例えば、ナイロン６、ナイロ
ン６６、ナイロン１２、ナイロン６・６６共重合体など
のポリアミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチ
レンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどの
ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレンなどのポ
リオレフィン、ポリメタクリレートなどのアクリル樹脂
及びポリカーボネート、ポリビニルアルコール、エチレ
ン−ビニルアルコール共重合体、ポリアクリロニトリ
ル、ポリイミド、ポリフェニレンサルファイド、ポリア
リレートなどの高分子材料から形成されたフィルムを挙
げることができる。これらのフィルムは、未延伸フィル
ムあるいは延伸フィルムであり、シート状であってもよ
い。用いられるフィルム基材の厚さは、通常は、５〜１
０００μｍ程度である。
【００１１】このようなフィルム基材については、バリ
ア層との接着性を向上させるため、コロナ放電、プラズ
マ、光などを照射することによりその表面を活性化処理
し、その後この発明の方法によりバリア層を形成するこ
とも、必要に応じ実施することができる。なお、骨格中
にハロゲン化合物分子の構造を含むプラスチックからな
るフィルム基材を用いると、光によりハロゲンとプラス
チック骨格の間の結合が切断され、着色が生じるととも
に、ハロゲンが表面にブリードアウトすることによりバ
リア層と基材との間の接着性が影響を受けるため好まし
くない。
ア層との接着性を向上させるため、コロナ放電、プラズ
マ、光などを照射することによりその表面を活性化処理
し、その後この発明の方法によりバリア層を形成するこ
とも、必要に応じ実施することができる。なお、骨格中
にハロゲン化合物分子の構造を含むプラスチックからな
るフィルム基材を用いると、光によりハロゲンとプラス
チック骨格の間の結合が切断され、着色が生じるととも
に、ハロゲンが表面にブリードアウトすることによりバ
リア層と基材との間の接着性が影響を受けるため好まし
くない。
【００１２】また、この発明に用いられる有機珪素化合
物としては、その種類は様々であってよく、例えば１，
１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチル
ジシロキサン、メチルトリメトキシシラン、ヘキサメチ
ルジシラン、テトラメチルシラン、トリメチルシラン、
ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、テ
トラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサ
ン等を挙げることができる。これらは、目的に応じてア
ルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族系、芳香族
系などの適当な溶媒で希釈しても用いられる。それぞれ
に該当する具体例としては、メタノール、アセトン、酢
酸エチル、ヘキサン、ベンゼンが挙げられる。取扱い性
や経済性の観点からは、有機珪素化合物としては、特に
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメ
チルジシロキサン、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシランが好ましく用いられる。これらの有機珪素化
合物は、常温・常圧で液体である。
物としては、その種類は様々であってよく、例えば１，
１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチル
ジシロキサン、メチルトリメトキシシラン、ヘキサメチ
ルジシラン、テトラメチルシラン、トリメチルシラン、
ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、テ
トラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、メチルト
リエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサ
ン等を挙げることができる。これらは、目的に応じてア
ルコール系、ケトン系、エステル系、脂肪族系、芳香族
系などの適当な溶媒で希釈しても用いられる。それぞれ
に該当する具体例としては、メタノール、アセトン、酢
酸エチル、ヘキサン、ベンゼンが挙げられる。取扱い性
や経済性の観点からは、有機珪素化合物としては、特に
１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメ
チルジシロキサン、テトラメトキシシラン、テトラエト
キシシランが好ましく用いられる。これらの有機珪素化
合物は、常温・常圧で液体である。
【００１３】これらの有機珪素化合物を前記のフィルム
基材に塗布する方法としては、スプレー法、ディップ
法、スクリーン法、スピンコート法、ブレード法など通
常の方法が用いられる。フィルム基材に塗布された有機
珪素化合物に対しては、この発明においては常圧で光照
射されることのなる。この光照射によりガスバリア層が
形成される。この場合、照射に使用される光は、波長が
３００ｎｍ以下の光エネルギーを持つ必要がある。より
好ましくは、照射する光の波長は、２５４〜１２６ｎｍ
程度である。このような光を発生する光源としては、低
圧水銀灯、希ガス及び希ガスのハロゲン化物を用いたエ
キシマランプ及びエキシマレーザー、シンクロトロン放
射光が挙げられるが、なかでも低圧水銀灯及びエキシマ
ランプが好ましく用いられる。 光源とプラスチックフ
ィルムとの距離は、通常は、３０ｃｍ未満、好ましくは
１０ｃｍ以下とする。距離が３０ｃｍ以上であると、水
の吸収などにより光が効率的に基材まで到達しない。
基材に塗布する方法としては、スプレー法、ディップ
法、スクリーン法、スピンコート法、ブレード法など通
常の方法が用いられる。フィルム基材に塗布された有機
珪素化合物に対しては、この発明においては常圧で光照
射されることのなる。この光照射によりガスバリア層が
形成される。この場合、照射に使用される光は、波長が
３００ｎｍ以下の光エネルギーを持つ必要がある。より
好ましくは、照射する光の波長は、２５４〜１２６ｎｍ
程度である。このような光を発生する光源としては、低
圧水銀灯、希ガス及び希ガスのハロゲン化物を用いたエ
キシマランプ及びエキシマレーザー、シンクロトロン放
射光が挙げられるが、なかでも低圧水銀灯及びエキシマ
ランプが好ましく用いられる。 光源とプラスチックフ
ィルムとの距離は、通常は、３０ｃｍ未満、好ましくは
１０ｃｍ以下とする。距離が３０ｃｍ以上であると、水
の吸収などにより光が効率的に基材まで到達しない。
【００１４】照射時間は６０分以下、好ましくは３０分
以下である。あまり長すぎると工業生産性に欠け、また
基材への影響が懸念される。以上の光照射によりバリア
層が形成されることになるが、このバリア層は、フィル
ム基材の片面だけでもよいし、あるいは両面に配設され
ることにしてもよい。バリア層は、光照射にともなっ
て、有機珪素化合物の変成膜として形成されており、炭
化水素基が脱離して、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を主とするバ
リア層が形成されていると考えられる。
以下である。あまり長すぎると工業生産性に欠け、また
基材への影響が懸念される。以上の光照射によりバリア
層が形成されることになるが、このバリア層は、フィル
ム基材の片面だけでもよいし、あるいは両面に配設され
ることにしてもよい。バリア層は、光照射にともなっ
て、有機珪素化合物の変成膜として形成されており、炭
化水素基が脱離して、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を主とするバ
リア層が形成されていると考えられる。
【００１５】得られたバリア層は、有機珪素化合物が化
学的に反応したものであるため、ＰＶＤ法により得られ
るバリア層のような粒界は存在せず、したがって展性に
も優れるものである。このバリア層は、その厚みとし
て、通常は、１０〜５００ｎｍ程度がよく、より好まし
くは１０〜３００ｎｍ程度である。
学的に反応したものであるため、ＰＶＤ法により得られ
るバリア層のような粒界は存在せず、したがって展性に
も優れるものである。このバリア層は、その厚みとし
て、通常は、１０〜５００ｎｍ程度がよく、より好まし
くは１０〜３００ｎｍ程度である。
【００１６】バリア層は、酸素、二酸化炭素、エチレ
ン、芳香成分等のガスや、水蒸気に対するバリア性を優
れたものとし、フィルムとしての酸素透過度は、たとえ
ば５ｃｃ／ｍ2 ・２４ｈ・１ａｔｍ（ＪＩＳ Ｋ ７１
２６に従って）以下で、透湿度は、たとえば４ｇ／ｍ2
・２４ｈ・１ａｔｍ以下の優れたレベルに達するものと
なる。
ン、芳香成分等のガスや、水蒸気に対するバリア性を優
れたものとし、フィルムとしての酸素透過度は、たとえ
ば５ｃｃ／ｍ2 ・２４ｈ・１ａｔｍ（ＪＩＳ Ｋ ７１
２６に従って）以下で、透湿度は、たとえば４ｇ／ｍ2
・２４ｈ・１ａｔｍ以下の優れたレベルに達するものと
なる。
【００１７】以上のようにして得られたガスバリア性フ
ィルムは、その性能をさらに高めるため、目的の用途に
合わせて他の高分子フィルム基材とラミネートすること
もできる。この場合、ラミネートに用いられる高分子基
材にハロゲン化合物が存在しても積層体の性能になんら
影響を及ぼすものではない。
ィルムは、その性能をさらに高めるため、目的の用途に
合わせて他の高分子フィルム基材とラミネートすること
もできる。この場合、ラミネートに用いられる高分子基
材にハロゲン化合物が存在しても積層体の性能になんら
影響を及ぼすものではない。
【００１８】
【実施例】次に、この発明を実施例によって具体的に説
明する。以下の実施例は、この発明を好適に説明するに
過ぎず、発明をなんら限定するものではない。なお、以
下の例では、酸素透過度はモコン社製ＯＸ−ＴＲＡＮ１
００型を用い、ＪＩＳ Ｋ７１２６に示された方法によ
り測定した。透湿度測定は、ナガノ科学（株）製ＬＨ−
２０−１１ＶＰ型を用いた。フィルム基材表面の定性分
析には、日本電子（株）製ＪＥＯＬ５５００型フーリエ
変換赤外分光光度計を用い、全反射法により行った。
明する。以下の実施例は、この発明を好適に説明するに
過ぎず、発明をなんら限定するものではない。なお、以
下の例では、酸素透過度はモコン社製ＯＸ−ＴＲＡＮ１
００型を用い、ＪＩＳ Ｋ７１２６に示された方法によ
り測定した。透湿度測定は、ナガノ科学（株）製ＬＨ−
２０−１１ＶＰ型を用いた。フィルム基材表面の定性分
析には、日本電子（株）製ＪＥＯＬ５５００型フーリエ
変換赤外分光光度計を用い、全反射法により行った。
【００１９】実施例１ 厚さ１２μｍ、直径２５ｍｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムにテトラメトキシシランをスピンコート法
で塗布し、これにキセノンを用いたエキシマーランプ
（波長１７２ｎｍ）を１０分間照射した。得られたバリ
ア層の厚みは約２５０ｎｍであり、その酸素透過度は
０．９ｃｃ／ｍ2 ・２４ｈ・１ａｔｍ、透湿度は１．４
ｇ／ｍ2 ・２４ｈ・１ｔａｍであった。このポリエチレ
ンテレフタレートフィルムに構築された該バリア層の赤
外吸収スペクトルを全反射法で測定した結果を図１に示
す。これによると、原料であるテトラメトキシシラン由
来のアルキル基による吸収（２８００〜３０００ｃ
ｍ-1）は殆ど消失している事が分かる。またＳｉ−Ｏ−
Ｓｉ結合に由来する吸収が見られること（１０７０ｃｍ
-1）より、得られたバリア層は、原料である有機珪素化
合物から炭化水素が脱離して成る物質、おそらくは酸化
珪素を主体とした化合物であろうと予想される。
ートフィルムにテトラメトキシシランをスピンコート法
で塗布し、これにキセノンを用いたエキシマーランプ
（波長１７２ｎｍ）を１０分間照射した。得られたバリ
ア層の厚みは約２５０ｎｍであり、その酸素透過度は
０．９ｃｃ／ｍ2 ・２４ｈ・１ａｔｍ、透湿度は１．４
ｇ／ｍ2 ・２４ｈ・１ｔａｍであった。このポリエチレ
ンテレフタレートフィルムに構築された該バリア層の赤
外吸収スペクトルを全反射法で測定した結果を図１に示
す。これによると、原料であるテトラメトキシシラン由
来のアルキル基による吸収（２８００〜３０００ｃ
ｍ-1）は殆ど消失している事が分かる。またＳｉ−Ｏ−
Ｓｉ結合に由来する吸収が見られること（１０７０ｃｍ
-1）より、得られたバリア層は、原料である有機珪素化
合物から炭化水素が脱離して成る物質、おそらくは酸化
珪素を主体とした化合物であろうと予想される。
【００２０】実施例２ 厚さ１２μｍ、直径２５ｍｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムにテトラエトキシシランをスピンコート法
で塗布し、これにキセノンを用いたエキシマーランプ
（波長１７２ｎｍ）を１０分間照射した。得られたバリ
ア層の厚みは約３００ｎｍで、その酸素透過度は１．２
ｃｃ／ｍ2 ・２４ｈ・１ａｔｍ、透湿度は１．３ｇ／ｍ
2 ・２４ｈ・１ａｔｍであった。
ートフィルムにテトラエトキシシランをスピンコート法
で塗布し、これにキセノンを用いたエキシマーランプ
（波長１７２ｎｍ）を１０分間照射した。得られたバリ
ア層の厚みは約３００ｎｍで、その酸素透過度は１．２
ｃｃ／ｍ2 ・２４ｈ・１ａｔｍ、透湿度は１．３ｇ／ｍ
2 ・２４ｈ・１ａｔｍであった。
【００２１】実施例３ 厚さ１２μｍ、直径２５ｍｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムにヘキサメチルジシロキサンをスピンコー
ト法で塗布し、これにキセノンを用いたエキシマーラン
プ（波長１７２ｎｍ）を１０分間照射した。得られたバ
リア層の厚みは約２５０ｎｍで、その酸素透過度は１．
１ｃｃ／ｍ2 ・２４ｈ・１ａｔｍ、透湿度は１．７ｇ／
ｍ2 ・２４ｈ・１ａｔｍであった。
ートフィルムにヘキサメチルジシロキサンをスピンコー
ト法で塗布し、これにキセノンを用いたエキシマーラン
プ（波長１７２ｎｍ）を１０分間照射した。得られたバ
リア層の厚みは約２５０ｎｍで、その酸素透過度は１．
１ｃｃ／ｍ2 ・２４ｈ・１ａｔｍ、透湿度は１．７ｇ／
ｍ2 ・２４ｈ・１ａｔｍであった。
【００２２】実施例４ 厚さ１５μｍ、直径２５ｍｍのナイロン６フィルムにテ
トラエトキシシランをスピンコート法で塗布し、これに
キセノンを用いたエキシマーランプ（波長１７２ｎｍ）
を１０分間照射した。得られたバリア層の厚みは約２５
０ｎｍで、その酸素透過度は１．２ｃｃ／ｍ2 ・２４ｈ
・１ａｔｍ、透湿度は３．５ｇ／ｍ2 ・２４ｈ・１ａｔ
ｍであった。
トラエトキシシランをスピンコート法で塗布し、これに
キセノンを用いたエキシマーランプ（波長１７２ｎｍ）
を１０分間照射した。得られたバリア層の厚みは約２５
０ｎｍで、その酸素透過度は１．２ｃｃ／ｍ2 ・２４ｈ
・１ａｔｍ、透湿度は３．５ｇ／ｍ2 ・２４ｈ・１ａｔ
ｍであった。
【００２３】比較例１ 厚さ５０μｍ、直径２５ｍｍのポリ塩化ビニルフィルム
にテトラメトキシシランをスピンコート法で塗布し、こ
れにキセノンを用いたエキシマーランプ（波長１７２ｎ
ｍ）を１０分間照射した。得られたフィルムは黄色に着
色しており、この発明の主旨とは合致しなかった。
にテトラメトキシシランをスピンコート法で塗布し、こ
れにキセノンを用いたエキシマーランプ（波長１７２ｎ
ｍ）を１０分間照射した。得られたフィルムは黄色に着
色しており、この発明の主旨とは合致しなかった。
【００２４】比較例２ 厚さ１２μｍ、直径２５ｍｍのポリエチレンテレフタレ
ートフィルムにテトラエトキシシランをスピンコート法
で塗布し、これに高圧水銀灯（波長３２２ｎｍ）を１０
分間照射した。得られたフィルムをそのまま室内に放置
したところ、未反応のテトラエトキシシランが徐々に加
水分解してフィルム基材端が白化し、この発明の主旨と
は合致しなかった。
ートフィルムにテトラエトキシシランをスピンコート法
で塗布し、これに高圧水銀灯（波長３２２ｎｍ）を１０
分間照射した。得られたフィルムをそのまま室内に放置
したところ、未反応のテトラエトキシシランが徐々に加
水分解してフィルム基材端が白化し、この発明の主旨と
は合致しなかった。
【００２５】
【発明の効果】以上詳しく説明したとおり、この発明に
よれば、透明性が良好で、かつ酸素、二酸化炭素、エチ
レン、芳香成分等のガス及び水蒸気バリア性に優れたガ
スバリア性フィルムが提供される。そしてまた、これを
常圧で製造する方法も提供される。
よれば、透明性が良好で、かつ酸素、二酸化炭素、エチ
レン、芳香成分等のガス及び水蒸気バリア性に優れたガ
スバリア性フィルムが提供される。そしてまた、これを
常圧で製造する方法も提供される。
【図１】実施例１において測定した、ポリエチレンテレ
フタレートフィルム基材上に本発明の手法を用いて作成
したガスバリア層のＩＲ測定結果（全反射法）を示した
スペクトル図である。
フタレートフィルム基材上に本発明の手法を用いて作成
したガスバリア層のＩＲ測定結果（全反射法）を示した
スペクトル図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (71)出願人 000004503 ユニチカ株式会社 兵庫県尼崎市東本町１丁目50番地 (74)上記３名の代理人 弁理士 西澤 利夫 (72)発明者 小貫 英雄 茨城県つくば市梅園１丁目１番４ 工業技 術院電子技術総合研究所内 (72)発明者 粟津 浩一 茨城県つくば市梅園１丁目１番４ 工業技 術院電子技術総合研究所内 (72)発明者 佐藤 光伸 京都府宇治市宇治小桜23番地 ユニチカ株 式会社中央研究所内 (72)発明者 徳沢 太郎 京都府宇治市宇治小桜23番地 ユニチカ株 式会社中央研究所内
Claims (2)
- 【請求項１】 その骨格中にハロゲン化合物分子の構造
を含まない熱可塑性プラスチックからなるフィルム基材
の少なくとも片面には、有機珪素化合物が塗布され、こ
れに３００ｎｍ以下の波長の光が常圧で照射されること
により形成されたガスバリア層が配設されていることを
特徴とするガスバリア性フィルム。 - 【請求項２】 その骨格中にハロゲン化合物分子の構造
を含まない熱可塑性プラスチックからなるフィルム基材
の少なくとも片面に有機珪素化合を塗布する工程と、こ
れに３００ｎｍ以下の波長の光を常圧で照射することに
よりガスバリア層を形成する工程とを含むことを特徴と
するガスバリア性フィルムの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19758897A JP3751124B2 (ja) | 1997-07-23 | 1997-07-23 | ガスバリア性フィルムとその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19758897A JP3751124B2 (ja) | 1997-07-23 | 1997-07-23 | ガスバリア性フィルムとその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1135713A true JPH1135713A (ja) | 1999-02-09 |
| JP3751124B2 JP3751124B2 (ja) | 2006-03-01 |
Family
ID=16376993
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19758897A Expired - Lifetime JP3751124B2 (ja) | 1997-07-23 | 1997-07-23 | ガスバリア性フィルムとその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3751124B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| JP2008069262A (ja) * | 2006-09-14 | 2008-03-27 | Mitsubishi Chemicals Corp | 積層体及びその製造方法 |
| DE102007020655A1 (de) | 2007-04-30 | 2008-11-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Herstellen dünner Schichten und entsprechende Schicht |
| JP2011084013A (ja) * | 2009-10-17 | 2011-04-28 | Konica Minolta Holdings Inc | 透明ガスバリア性フィルム及び透明ガスバリア性フィルムの製造方法 |
| JPWO2009110152A1 (ja) * | 2008-03-04 | 2011-07-14 | 株式会社レニアス | 透明樹脂板及びその製造方法 |
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-
1997
- 1997-07-23 JP JP19758897A patent/JP3751124B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| WO2008132230A2 (de) | 2007-04-30 | 2008-11-06 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum herstellen dünner schichten und entsprechende schicht |
| EP2527048A2 (de) | 2007-04-30 | 2012-11-28 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Herstellen dünner Schichten und entsprechende Schicht |
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| WO2017195350A1 (ja) * | 2016-05-13 | 2017-11-16 | 株式会社レニアス | 樹脂ガラス板及びその製造方法 |
| CN109195793A (zh) * | 2016-05-13 | 2019-01-11 | 株式会社雷尼阿斯 | 树脂玻璃板及其制造方法 |
| JPWO2017195350A1 (ja) * | 2016-05-13 | 2019-02-28 | 株式会社レニアス | 樹脂ガラス板及びその製造方法 |
| CN109195793B (zh) * | 2016-05-13 | 2020-11-27 | 株式会社雷尼阿斯 | 树脂玻璃板及其制造方法 |
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|---|---|
| JP3751124B2 (ja) | 2006-03-01 |
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