JPH11501617A - O−カルバモイル−(d)−フェニルアラニノールとその製造方法 - Google Patents

O−カルバモイル−(d)−フェニルアラニノールとその製造方法

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JPH11501617A JP8524155A JP52415596A JPH11501617A JP H11501617 A JPH11501617 A JP H11501617A JP 8524155 A JP8524155 A JP 8524155A JP 52415596 A JP52415596 A JP 52415596A JP H11501617 A JPH11501617 A JP H11501617A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、中枢神経系疾患を治療するのに使用される、下記式(V): (上式において、R1およびR2は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ独立に水素、炭素数1〜8の低級アルキル、および、互いに結合していない窒素原子または酸素原子をそれぞれ2つまで含んでいてもよい5〜7員脂環式原子団からなる群から選択され、R1およびR2の総炭素数が0〜16である。)で表されるO−カルバモイル−(D)−フェニルアラニノールとその薬剤学的に許容しうる塩に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 O−カルバモイル−(D)−フェニルアラニノールとその製造方法 発明の背景 発明の技術分野 本発明は、中枢神経系障害の治療に有用である新規な立体特異的フェニルアル キルアミノカルバメートとその薬剤学的に有用な塩に関する。より詳しくは、本 発明は、O−カルバモイル−(D)−フェニルアラニノールとその薬剤学的に有 用な塩に関する。また、本発明はこれらの化合物を製造する方法に関する。 背景技術 フェニルエチルアミン誘導体は、中枢神経系障害の治療剤として有用であり、 主に肥満、睡眠発作、微小脳機能不全および軽い鬱病の治療に使用されている。 有機カルバメート化合物は、中枢神経系疾患を有効に制御するために用いられ ている。例えば、J.Am,Chem.Soc.73,5779(1951)には2−メチル−2−プ ロピル−1,3−プロパンジオールジカルバメートが記載されており、該化合物 の薬理活性がJ.Pharmacol.Exp.Ther.,104,229(1952)で確認されている。 また、この他にも多くのカルバメート化合物が中枢神経系疾患の治療剤として提 案されている。例えば、米国特許第2,884,444号明細書には2−フェニ ル−1,3−プロパンジオールジカルバメートが開示され、米国特許第2,93 7,119号明細書にはイソプロピルメプロバメートなどのカルバメート化合物 が開示されている。これらの化合物は、特に癲癇や中枢系筋肉弛緩といった中枢 神経系障害の治療剤として非常に有用であることが見出されている。中枢神経系 疾患に対するカルバメート系治療剤の開発研究は、現在でもなお活発に続けられ ている。 生体内で発見された化合物はアミノ酸やその誘導体に由来していることが多い ため、最近ではアミノ酸やその誘導体に基づいて薬理活性化合物の設計がなされ ている。また、薬剤として有用な化合物は、酵素またはリセプターと結合するこ とによってその機能が変化し、酵素またはリセプターの調節メカニズムを開始さ せ得ることが多い。 発明の要約 本発明者らは、鋭意研究を進めた結果、O−カルバモイル−(D)−フェニル アラニノールが中枢神経系疾患、特に鬱病や不安症に対して有用であることを見 出した。 従って、本発明の主目的は、下記式(V): (上式において、R1およびR2は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ 独立に水素、炭素数1〜8の低級アルキル、および、互いに結合していない窒素 原子または酸素原子をそれぞれ2つ以下含んでいてもよい5〜7員脂環式原子団 からなる群から選択され、R1およびR2の総炭素数が0〜16である)で表され るO−カルバモイル−(D)−フェニルアラニノールカルバメートとその薬剤学 的に許容しうる塩を提供することにある。 また、本発明の他の目的は、前記式(V)で表されるO−カルバモイル−(D )−フェニルアラニノールの製造方法を提供することにある。 発明の詳細な説明 本発明によれば、式(V)で表されるO−カルバモイル−(D)−フェニルア ラニノールとその薬剤学的に受容しうる塩は、以下の特徴的な方法によって合成 することができる。すなわち、下記式(II): で表される(D)−フェニルアラニノールをクロロギ酸ベンジルと塩基性水溶液 中で反応させて、下記式(III): で表されるN−ベンジルオキシカルボニル−(D)−フェニルアラニノールにし 、式(III)で表される化合物を下記式(VI): R12NH ・・・・・・(VI) (上式において、R1およびR2は上記定義のとおりである)で表されるアミン系 塩基の存在下でホスゲンと反応させてカルバモイル化して、下記式(IV): (上式において、R1およびR2は上記定義のとおりである)で表されるO−カル バモイル−N−ベンジルオキシカルボニル−(D)−フェニルアラニノールにし 、さらに式(IV)で表される化合物のベンジルオキシカルボニル基を触媒存在下 で水素化することによって脱保護して、式(V): (上式において、R1およびR2は上記定義のとおりである)で表されるO−カル バモイル−(D)−フェニルアラニノールを製造し、式(V)で表されるO−カ ルバモイル−(D)−フェニルアラニノールをさらに精製することなくエーテル 系溶液中にて無水酸で処理して、下記式(I): (上式において、R1とR2は上記定義のとおりであり、HXは分子内の塩基性窒 素原子と薬剤学的に有用な塩を形成するのに適した酸である)で表されるO−カ ルバモイル−(D)−フェニルアラニノールの薬剤学的に許容しうる塩を製造す ることができる。 式(I)で表される化合物は、下記の反応スキームにしたがって製造される。 反応スキームIに示すように、(D)−フェニルアラニノール(II)を塩基性 水溶液中にてクロロギ酸ベンジルと反応させてN−ベンジルオキシカルボニル− (D)−フェニルアラニノール(III)にし、これをさらにアミン系塩基存在下 でホスゲンと反応させてカルバモイル化する。カルバモイル化した中間体をアン モノリシスし、式(VI)で表されるアミンを用いてO−カルバモイル− N−ベンジルオキシカルボニル−(D)−フェニルアラニノール(IV)を高収率 で短時間に生産する。O−カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボニル−(D )−フェニルアラニノール(IV)の窒素保護基であるベンジルオキシカルボニル 基を触媒存在下で水素化反応により除去してO−カルバモイル−(D)−フェニ ルアラニノール(V)を得る。次いで、この生成物をさらに精製することなくエ ーテル溶液中にて無水酸(HX)で処理してO−カルバモイル−(D)−フェニ ルアラニノールの塩(I)を得る。反応スキームにおいて、HXは分子内の塩基 性窒素原子と薬剤学的に有用な塩を形成するのに適した酸である。 反応スキームIの反応条件の詳細は以下のとおりである。第一工程の出発物質 (II)の濃度は0.1〜3モルとし、クロロギ酸ベンジルは1〜2当量用いる。 塩基性水溶液のpHは7〜14とし、−10〜70℃で反応を行う。 また、化合物(III)を化合物(IV)に転換する反応では、化合物(III)0. 01〜0.2モルあたり1〜2モル当量のホスゲンを使用する。ホスゲンはその まま使用してもよいし、トルエン溶液として使用してもよい。溶媒は、塩化メチ レン等のハロゲン化炭化水素、トルエン等の芳香族系溶媒またはこれらの混合物 を使用することができる。また、酸スカベンジャーなどの塩基を使用するのが好 ましい。所期の目的を達成するためには、トリエチルアミン、ジイソプロピルエ チルアミン、トリイソプロピルアミン、DBU(1,6−ジアザビシクロ[5. 4.0]ウンデカ−7−エン)、DBN(1,5−ジアザビシクロ[4.3.0 ]ノン−5−エン)、アンチピリン、ジメチルフェニルアミン等の3級アミンを 使用することができる。また、反応に使用するアミンは、アミンそのものであっ てもよいし、メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロパノール等 の低級アルキルアルコール溶液や水溶液であってもよい。アミンの使用量は1〜 2モル当量である。この反応は−30〜60℃で行う。 化合物(IV)を水素化して化合物(V)にする反応では、媒体として、THF 等のエーテル系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒、水、トルエン、ベンゼ ン、キシレン等の芳香族系溶媒、酢酸エチル等のエステル系溶媒またはこれらの 混合物を使用することができる。また、この反応は、−10〜150℃、 水素圧1〜100気圧にて、パラジウム、白金、酸化白金、ロジウムまたはイリ ジウムなどの触媒存在下で行う。 化合物(V)を化合物(I)にする反応で使用する無水酸としては、塩酸、硫 酸、燐酸、酢酸、安息香酸、クエン酸、マロン酸、サリチル酸、リンゴ酸、フマ ル酸、蓚酸、ケイ皮酸、酒石酸、乳酸、グルコン酸、アスコルビン酸、マレイン 酸、アスパラギン酸、ベンゼンスルホン酸、メタンスルホン酸、エタンスルホン 酸、ヒドロキシメタンスルホン酸およびヒドロキシエタンスルホン酸を例示する ことができる。その他の酸については、″Pharmaceutical Salts″,J.Pharm.Sc i.,1977,66(1),1〜19を参照することができる。また、この反応に用いられる 媒体として、THF等のエーテル系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒、酢 酸エチル等のエステル系溶媒、芳香族系溶媒、またはこれらの混合物を例示する ことができる。添加溶液には、エチルエーテル、プロピルエーテル、ブチルエー テル、イソプロピルエーテル、イソブチルエーテル等のエーテル系溶媒を使用す るのが好ましい、化合物(V)の濃度は0.01〜5モルである。 以下に示す化合物は、化合物(V)の代表例である。 本発明の化合物を単独で、または薬剤学的に受容しうる担体とともに患者に一 日0.7〜7,000mg投与することによって、痛風、鬱病、不安症、癲癇、 脳卒中、痴呆およびパーキンソン病の治療に供することができる。体重約70K gの正常な成人には、1日あたり約0.01〜100mg/Kg体重で投与する 。しかし、投与量は患者の要求や重篤度および化合物の活性等によって変えるこ とができる。特定の状況下における最適の投与量は臨床的に決定しなければなら ず、その方法は当業者に周知である。 中枢神経系疾患、特に鬱病の治療に本発明の化合物を使用する場合には、化合 物を経口投与するのが好ましい。化合物は経口投与によって十分に吸収されるた めに、通常は非経口投与する必要はない。経口投与するときは、化合物(I)は 薬剤学的に許容しうる担体と組み合わせるのが好ましい。担体と化合物(I)の 比率は中枢神経系に対する効果の発現を左右するものではなく、カプセルと錠剤 といった剤型によってその組成は大きく変動しうる。錠剤にする ときは、様々な医薬用担体やその混合物を使用することができる。適当な担体と して、ラクトース、二塩基性リン酸カルシウムおよび/またはコーンスターチの 混合物を例示することができる。この他にも、ステアリン酸マグネシウムのよう な潤滑物質をさらに添加することができる。 本発明には、上記化合物以外に、上記化合物を含む組成物と化合物(I)およ び/または組成物の用途も包含される。 本発明をより良く理解するために、以下に実施例を記載して本発明をより詳し く説明する。ただし、本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではない 。実施例1:O−(N−メチル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボニル −D−フェニルアラニノール 250mLフラスコ内において、N−ベンジルオキシカルボニル−D−フェニ ルアラニノール(0.011mol、314g)を窒素雰囲気下で無水THF( 150mL)に溶解した。アンチピリン(0.012mol、2.27g)を添 加して氷水中で0℃に冷却し、ホスゲン(0.012mol、2Mトルエン溶液 6.05mL)を一度に加えた。この混合物を1時間撹拌した後、メチルアミン (0.012mol、0.38g)を添加して常温でさらに4時間撹拌した。そ の後、水を添加して反応を止め、有機層を塩化メチレンで3回抽出し、硫酸マグ ネシウムで乾燥した後、真空蒸留することによって固体を得た。これを酢酸エチ ルとジエチルエーテルの混合溶液を用いて再結晶することによって、O−(N− メチル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボニル−D−フェニルアラニ ノール2.93gを収率78%で得た。 1H-NMR(CDCl3,200MHz),ppm(δ):2.58〜2.98(m,5H),3.98〜4.22(br,3H) , 4.58〜4.75(br,1H),5.08(s,3H), 7.12〜7.48(m,10H)実施例2:O−(N−イソプロピル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカル ボニル−D−フェニルアラニノール 反応物質としてメチルアミンの代わりにイソプロピルアミンを用いて実施例1 と同じ方法を繰り返し、O−(N−イソプロピル)−カルバモイル−N−ベンジ ルオキシカルボニル−D−フェニルアラニノールを収率88%で得た。 1H-NMR(CDCl3,200MHz),ppm(δ):1.25(d,6H),2.72〜3.02(m,2H), 3.68〜3.90(m,1H),3.98〜4.25(m,3H), 4.51〜4.65(br,1H),5.18(s,3H), 7.08〜7.51(m,10H)実施例3:O−(N−n−オクチル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカル ボニル−D−フェニルアラニノール 反応物質としてメチルアミンの代わりにオクチルアミンを用いて実施例1と同 じ方法を繰り返し、O−(N−n−オクチル)−カルバモイル−N−ベンジルオ キシカルボニル−D−フェニルアラニノールを収率96%で得た。 1H-NMR(CDCl3,200MHz),ppm(δ):0.85(t,3H),1.08〜1.58(m,12H), 2.72〜2.98(m,2H),3.15(q,2H), 3.39〜4.26(m,3H),4.65〜4.78(br,1H), 5.10(s,3H),7.08〜7.48(m,10H)実施例4:O−(N−シクロヘキシル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカ ルボニル−D−フェニルアラニノール 反応物質としてメチルアミンの代わりにシクロヘキシルアミンを用いて実施例 1と同じ方法を繰り返し、O−(N−シクロヘキシル)−カルバモイル−N−ベ ンジルオキシカルボニル−D−フェニルアラニノールを収率79%で得た。 1H-NMR(CDCl3,200MHz),ppm(δ):0.95〜2.05(m,10H),2.68〜3.02(m,2H) , 3.32〜3.58(m,1H),3.90〜4.25(br,3H), 4.58〜4.75(m,1H),5.10(s,3H), 7.01〜7.56(m,10H)実施例5:O−(N,N’−ジメチル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカ ルボニル−D−フェニルアラニノール 反応物質としてメチルアミンの代わりにジメチルアミンを用いて実施例1と 同じ方法を繰り返し、O−(N,N´−ジメチル)−カルバモイル−N−ベンジ ルオキシカルボニル−D−フェニルアラニノールを収率94%で得た。 1H-NMR(CDCl3,200MHz),ppm(δ):2.55〜3.05(br,6H),3.85〜4.28(m,3H) , 4.90〜5.48(m,4H),6.80〜7.70(m,10H)実施例6:O−(N−ピロリジル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボ ニル−D−フェニルアラニノール 反応物質としてメチルアミンの代わりにピロリジンを用いて実施例1と同じ方 法を繰り返し、O−(N−ピロリジル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカ ルボニル−D−フェニルアラニノールを収率80%で得た。 1H-NMR(CDCl3,200MHz),ppm(δ):1.85〜2.05(br,4H),2.82〜3.18(m,2H) , 3.18〜3.48(m,4H),3.92〜4.28(m,3H), 5.08(s,2H),5.12〜5.31(m,1H), 6.98〜7.55(m,10H)実施例7:O−(N−ピペリジル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボ ニル−D−フェニルアラニノール 反応物質としてメチルアミンの代わりにピペリジンを用いて実施例1と同じ方 法を繰り返し、O−(N−ピペリジル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカ ルボニル−D−フェニルアラニノールを収率80%で得た。 1H-NMR(CDCl3,200MHz),ppm(δ):1.35〜1.85(br,6H),2.72〜3.05(m,2H) , 3.32〜3.58(m,4H),3.95〜4.38(m,3H), 5.05〜5.28(m,3H),7.05〜7.52(m,10H)実施例8:O−(N−モルホリノ)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボ ニル−D−フェニルアラニノール 反応物質としてメチルアミンの代わりにモルホリンを用いて実施例1と同じ方 法を繰り返し、O−(N−モルホリノ)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカ ルボニル−D−フェニルアラニノールを収率85%で得た。 1H-NMR(CDCl3,200MHz),ppm(δ):2.72〜3.02(m,2H),3.25〜3.55(br,4H) , 3.55〜3.80(br,4H),3.95〜4.30(m,3H), 5.15(s,3H),7.05〜7.51(m,10H)実施例9:O−[N−(N−フェニル)−ピペラジノ]−カルバモイル−N−ベ ンジルオキシカルボニル−D−フェニルアラニノール 反応物質としてメチルアミンの代わりにN−フェニルピペラジンを用いて実施 例1と同じ方法を繰り返し、O−[N−(N−フェニル)−ピペラジノ]−カル バモイル−N−ベンジルオキシカルボニル−D−フェニルアラニノールを収率9 3%で得た。 1H-NMR(CDCl3,200MHz),ppm(δ):2.72〜3.02(m,2H),3.05〜3.23(br,4H) , 3.45〜3.75(br,4H),4.02〜4.31(m,3H), 5.10(s,3H),6.80〜7.50(m,15H)実施例10:O−(N−メチル)−カルバモイル−D−フェニルアラニノール塩 酸塩 500mLのParr反応器を用いて、実施例1で合成したO−(N−メチル )カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボニル−D−フェニルアラニノール( 2.80g)を無水メタノール(80mL)に溶解させ、その後、パラジウム( 炭素粉末10%、0.10g)を加えた。反応器を密閉して水素ガスで1分間パ ージした後、常温で水素圧50psiで7時間反応させた。反応終了を薄層クロ マトグラフィーで確認し、触媒を濾過して除去した。得られた有機層を蒸留して 1.43g(84%)の淡黄色液体を得た。この液体を無水THF(30mL) に溶解させた後、0℃に冷却した。無水塩酸を加えて目的物を白色固体として沈 殿させた。30mLの無水エーテルを加えて沈殿を大きくし、濾過することによ って白色固体の表題化合物1.36gを得た(収率68%)。 溶融点:162〜163℃ 1H-NMR(DMSO-d6,200MHz),ppm(δ):2.28〜3.18(m,5H), 3.48〜3.75(br,1H),3.80〜4.22(m,2H), 6.98〜7.65(m,6H),8.45(br,3H)実施例11:O−(N−イソプロピル)−カルバモイル−D−フェニルアラニノ ール塩酸塩 O−(N−イソプロピル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボニル− D−フェニルアラニノールを出発物質として用いて実施例10と同じ方法を繰り 返し、表題化合物を製造した。 溶融点:170〜171℃ 1H-NMR(DMSO-d6,200MHz),ppm(δ):1.08(d,6H),2.82〜3.18(m,2H), 3.48〜3.75(m,2H),3.85〜4.15(m,2H), 7.15(s,1H),7.22〜7.45(m,5H),8.45(br,3H)実施例12:O−(N−オクチル)−カルバモイル−D−フェニルアラニノール 塩酸塩 O−(N−オクチル)−カルバモイル−N−ベンジルカルボニル−D−フェニ ルアラニノールを出発物質として用いて実施例10と同じ方法を繰り返し、表題 化合物を製造した。 溶融点:105〜106℃ 1H-NMR(DMSO-d6,200MHz),ppm(δ):1.08(t,3H),1.18〜1.55(m,12H), 2.78〜3.16(m,4H),3.62(br,1H), 3.82〜4.15(m,2H),7.15(t,1H), 7.25〜7.45(m,5H),8.35(br,3H)実施例13:O−(N−シクロヘキシル)−カルバモイル−D−フェニルアラニ ノール塩酸塩 O−(N−シクロヘキシル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボニル −D−フェニルアラニノールを出発物質として用いて実施例10と同じ方法を繰 り返し、表題化合物を製造した。 溶融点:232〜233℃ 1H-NMR(DMSO-d6,200MHz),ppm(δ):0.98〜1.88(m,10H), 2.78〜3.16(m,2H),3.25(br,1H), 3.65(br,1H),3.82〜4.12(m,2H), 7.15(d,1H),7.22〜7.45(m,5H),8.35(br,1H)実施例14:O−(N,N´−ジメチル)−カルバモイル−D−フェニルアラニ ノール塩酸塩 O−(N,N´−ジメチル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボニル −D−フェニルアラニノールを出発物質として用いて実施例10と同じ方法を繰 り返し、表題化合物を製造した。 溶融点:129〜130℃ 1H-NMR(DMSO-d6,200MHz),ppm(δ):2.65〜2.99(m,6H), 2.99〜4.16(m,5H),7.05〜7.45(m,5H), 8.48(br,3H)実施例15:O−(N−ピロリジル)−カルバモイル−D−フェニルアラニノー ル塩酸塩 O−(N−ピロリジル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボニル−D −フェニルアラニノールを出発物質として用いて実施例10と同じ方法を繰り返 し、表題化合物を製造した。 溶融点:224〜225℃ 1H-NMR(DMSO-d6,200MHz),ppm(δ):1.52〜1.98(m,4H), 2.72〜3.76(m,7H),3.78〜4.22(m,2H), 7.02〜7.52(m,5H),8.58(br,3H)実施例16:O−(N−ピペリジル)−カルバモイル−D−フェニルアラニノー ル塩酸塩 O−(N−ピペリジル)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボニル−D −フェニルアラニノールを出発物質として用いて実施例10を繰り返し、表題化 合物を製造した。 溶融点:190〜191℃ 1H-NMR(DMSO-d6,200MHz),ppm(δ):1.18〜1.72(m,6H), 2.68〜3.76(m,7H),3.78〜4.22(m,2H), 7.02〜7.52(m,5H),8.58(br,3H)実施例17:O−(N−モルホリノ)−カルバモイル−D−フェニルアラニノー ル塩酸塩 O−(N−モルホリノ)−カルバモイル−N−ベンジルオキシカルボニル−D −フェニルアラニノールを出発物質として用いて実施例10と同じ方法を繰り返 し、表題化合物を製造した。 溶融点:207〜208℃ 1H-NMR(DMSO-d6,200MHz),ppm(δ):2.76〜3.25(m,2H), 3.25〜3.82(m,9H),3.86〜4.22(m,2H), 7.12〜7.52(m,5H),8.48(br,3H)実施例18:O−[N−(N−フェニル)−ピペラジノ]−カルバモイル−D− フェニルアラニノール塩酸塩 O−[N−(N−フェニル)−ピペラジノ]−カルバモイル−N−ベンジルオ キシカルボニル−D−フェニルアラニノールを出発物質として用いて実施例10 と同じ方法を繰り返し、表題化合物を製造した。 溶融点:241〜242℃ 1H-NMR(CDCl3,200MHz),ppm(δ):2.76〜4.32(m,13H), 6.98〜7.82(m,10H),8.72(br,3H) 前述のように、痛風、鬱病、不安症、癲癇、脳卒中、痴呆およびパーキンソン 病などの中枢神経系障害の予防および治療に、式(I)で表される化合物が有用 であることが確認された。 ここまで本発明を説明してきたが、ここで用いている用語は、限定するためで はなく説明するために使用していることを理解すべきである。 上記説明に基づいて本発明に様々な改良や変更を加えることができる。したが って、添付の請求の範囲内で上記説明で具体的に言及していない態様を実施する ことができることを理解すべきである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 キム ヨン キル 大韓民国、テジョン 305−390、ユスン ク、ジョンミンドン、セジョン アパート メント 109−601

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 下記式(V): (上式において、R1およびR2は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ 独立に水素、炭素数1〜8の低級アルキル、および、互いに結合していない窒素 原子または酸素原子をそれぞれ2つまで含んでいてもよい5〜7員脂環式原子団 からなる群から選択され、R1およびR2の総炭素数が0〜16である。) で表されるO−カルバモイル−(D)−フェニルアラニノールとその薬剤学的に 許容しうる塩。 2. 式(V)で表されるO−カルバモイル−(D)−フェニルアラニノール が式: で表される構造を有することを特徴とする請求項1記載の化合物。 3. 下記式(V): (上式において、R1およびR2は同一であっても異なっていてもよく、それぞれ 独立に水素、炭素数1〜8の低級アルキル、および、互いに結合していない 窒素原子または酸素原子をそれぞれ2つまで含んでいてもよい5〜7員脂環式原 子団からなる群から選択され、R1およびR2の総炭素数が0〜16である。) で表されるO−カルバモイル−(D)−フェニルアラニノールの製造方法であっ て、 該製造方法は、下記式(II): で表される(D)−フェニルアラニノールをクロロギ酸ベンジルと塩基性水溶液 中で反応させて、下記式(III): で表されるN−ベンジルオキシカルボニル−(D)−フェニルアラニノールにし 、式(III)で表される化合物を下記式(VI): R12NH ・・・・・・(VI) (上式において、R1およびR2は上記定義のとおりである)で表されるアミン系 塩基の存在下でホスゲンと反応させてカルバモイル化して、下記式(IV): (上式において、R1およびR2は上記定義のとおりである)で表されるO−カル バモイル−N−ベンジルオキシカルボニル−(D)−フェニルアラニノールにし 、さらに式(IV)で表される化合物のベンジルオキシカルボニル基を触媒 存在下で水素化して脱保護し、式(V)で表されるO−カルバモイル−(D)− フェニルアラニノールを製造する工程を含む、O−カルバモイル−(D)−フェ ニルアラニノールの製造方法。 4. 式(II)で表される(D)−フェニルアラニノールの濃度が0.1〜3 モルであり、クロロギ酸ベンジルの使用量が1〜2当量であることを特徴とする 請求項3記載の製造方法。 5. 塩基性水溶液のpHが7〜14であり、反応を−10〜70℃で行うこ とを特徴とする請求項3記載の製造方法。 6. 式(III)で表されるN−ベンジルオキシカルボニル−(D)−フェニ ルアラニノールの濃度が0.01〜2モルであることを特徴とする請求項3記載 の製造方法。 7. ホスゲンを、ホスゲン単独で、またはトルエン溶液として約1〜2モル 当量使用することを特徴とする請求項3記載の製造方法。 8. カルバモイル化反応を、塩化メチレンなどのハロゲン化炭化水素、トル エンなどの芳香族炭化水素、またはこれらの混合物からなる群から選択される溶 媒中で行うことを特徴とする請求項3記載の製造方法。 9. カルバモイル化反応に使用する塩基が、トリエチルアミン、ジイソプロ ピルエチルアミン、トリイソプロピルアミン、DBU(1,6−ジアザビシクロ [5.4.0]ウンデカ−7−エン)、DBN(1,5−ジアザビシクロ[4. 3.0]ノン−5−エン)、アンチピリンおよびジメチルフェニルアミンからな る3級アミンの群から選択されることを特徴とする請求項3記載の製造方法。 10. アミン系塩基の使用量が約1〜2モル当量であることを特徴とする請 求項3記載の製造方法。 11. カルバモイル化反応を−30〜60℃で行うことを特徴とする請求項 3記載の製造方法。 12. 脱保護を、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、水、芳香族系溶媒、 エステル系溶媒またはこれらの混合物からなる群から選択される溶媒中で行うこ とを特徴とする請求項3記載の製造方法。 13. 脱保護を、−10〜150℃、水素圧1〜100気圧で行なうことを 特徴とする請求項3記載の製造方法。 14. 脱保護工程で使用する触媒が、パラジウム、白金、酸化白金、ロジウ ムおよびイリジウムからなる群から選択されることを特徴とする請求項3記載の 製造方法。 15. 式(V)で表されるO−カルバモイル−(D)−フェニルアラニノー ルをさらに精製することなくエーテル系溶液中にて無水酸で処理して、下記式( I): (上式において、R1とR2は上記定義のとおりであり、HXは分子内の塩基性窒 素原子と薬剤学的に有用な塩を形成するのに適した酸である)で表されるO−カ ルバモイル−(D)−フェニルアラニノールの薬剤学的に許容しうる塩を製造す る工程をさらに含むことを特徴とする請求項3記載の製造方法。 16. 式(V)で表されるO−カルバモイル−(D)−フェニルアラニノー ルの濃度が0.01〜5モルであることを特徴とする請求項15記載の製造方法 。 17. 処理反応を、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒、芳香族系溶媒、エ ステル系溶媒およびこれらの混合物からなる群から選択される溶媒中で、エーテ ル系溶媒を添加しながら行うことを特徴とする請求項15記載の製造方法。 18. 無水酸が塩酸、硫酸、燐酸、酢酸、安息香酸、クエン酸、マロン酸、 サリチル酸、リンゴ酸、フマル酸、蓚酸、ケイ皮酸、酒石酸、乳酸、グルコン酸 、アスコルビン酸、マレイン酸、アスパラギン酸、ベンゼンスルホン酸、メタン スルホン酸、エタンスルホン酸、ヒドロキシメタンスルホン酸およびヒドロキシ エタンスルホン酸からなる群から選択されることを特徴とする請求項15記載の 製造方法。
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