JPH11512105A

JPH11512105A - ピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体

Info

Publication number: JPH11512105A
Application number: JP9510831A
Authority: JP
Inventors: オッテン，マルティナ; ダイン，ヴォルフガングフォン; エンゲル，シュテファン; ヒル，レジナ，ルイーゼ; カルドルフ，ウヴェ; フォセン，マルクス; プラト，ペーター; ゲツ，ノルベルト; ヴァルター，ヘルムート; ヴェストファレン，カール−オットー; ミスリッツ，ウルフ
Original assignee: BASF SE
Current assignee: BASF SE
Priority date: 1995-09-01
Filing date: 1996-08-29
Publication date: 1999-10-19
Also published as: EP0961774A1; CZ60298A3; AR004949A1; EP0961774B1; WO1997009327A1; AU710278B2; EA000753B1; DK0961774T3; US6291682B1; PT961774E; ES2169808T3; BR9610210A; SK24498A3; EE03614B1; ZA967357B; GEP20022677B; IL123092A; IL123092A0; DE59608472D1; TR199800345T1

Abstract

(57)【要約】ピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体、（上記式中、置換基Ｌ、Ｍ、Ｘ、Ｙおよびｎが請求項１に記載の意味を有し、Ｑが式ＩＩで表されＲ¹⁵がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｒ¹⁶が水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたはＣ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｒ¹⁷が水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、フェニルスルホニルまたはアルキルフェニルスルホニルを意味し、ＹがＣ＝Ｏである場合、ＹはＮＲ²³ではない、４位で結合するピラゾール環を意味する）、および農業上有用な塩、これらの製造法およびこれらの除草剤としての使用法。

Description

【発明の詳細な説明】ピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体本発明は、新規の除草活性なピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体、ピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体の製造法、これを含有する組成物およびこれらの誘導体またはこれらを含有する組成物の、雑草を防除するための使用法に関する。除草作用を有するピラゾールベンゾイル誘導体は、ヨーロッパ特許出願公開第３５２５４３号、国際特許出願公開第９３／１５０６０号、同第９４／０１４３１号および同第９３／１８０３１号各公報等の文献に開示されている。しかしながらこれら公知化合物の除草性能および農作物との適合性はおおよそ満足であると言えるに止まる。しかるに本発明は、優れた性能を有する新規のピラゾールベンゾイル誘導体を提供することをその目的とする。本発明の上記目的は、式Ｉで表され、式中Ｌ、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ（これらの基は非置換であっても、１〜５個のハロゲン原子、またはＣ₁−Ｃ₄アルコキシにより置換されてもよい）、ハロゲン、シアノ、ニトロ、−（Ａ）_m−Ｓ（Ｏ）_nＲ¹で示される基、または−（Ａ）_m−ＣＯ−Ｒ² で示される基を意味し、ＹがＣ＝Ｏ、Ｃ＝Ｎ−Ｒ³、ＣＲ⁷−ＮＲ⁵Ｒ⁶、ＣＲ⁷−ＯＲ⁸、ＣＲ¹⁰Ｒ¹¹、ＣＲ⁷−ＳＲ⁸、１，３−ジオキサニルまたは１，３−ジオキソラニル（これらはそれぞれ水素またはＣ₁−Ｃ₄アルキルにより置換されてもよい）、酸素、硫黄および窒素からなる群から選択されるヘテロ原子を意味し、Ｘが鎖（−ＣＲ¹²Ｒ¹³−）、（−ＣＲ¹²Ｒ¹³−ＣＲ²¹Ｒ²²−）、（−ＣＲ¹²＝ＣＲ¹³−）、（−ＣＲ¹²Ｒ¹³−ＣＲ¹²＝ＣＲ¹³−）またはＮＲ²³を意味し、ＸとＹとの間の結合が飽和または不飽和であり、Ａが酸素またはＮＲ¹⁴を意味し、ｍが０または１であり、ｎが０、１または２であり、Ｒ¹がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、またはＮＲ¹⁴を意味し、Ｒ²がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシまたはＮＲ¹⁴、Ｒ³が水素、−ＮＲ⁹Ｒ⁴、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、モノ置換または多置換されたフェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、モノ置換または多置換されたベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、またはモノ置換または多置換されたベンジルオキシ（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ⁴が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ＝Ｏ−ＮＲ¹⁴、モノ置換または多置換されたフェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、モノ置換または多置換されたベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ⁹が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ＝Ｏ−ＮＲ¹⁴、モノ置換または多置換されたフェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、またはモノ置換または多置換されベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ⁵、Ｒ⁶が、それぞれ独立に水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₂−Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₆ハロアルコキシ、モノ置換または多置換されたフェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、またはモノ置換または多置換されたベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ⁷が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、非置換または１〜３個のハロゲン、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ニトロにより置換されてもよいフェニルを意味するか、Ｒ⁷とＲ²¹、Ｒ⁷とＲ²³、またはＲ⁷とＲ¹²が結合を形成してもよく、Ｒ⁸が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロで置換されてもよい）、または置換ベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロで置換されてもよい）を意味し、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹がそれぞれ独立に水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、非置換または１〜３個のハロゲン、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ニトロにより置換されてもよいフェニルを意味するか、またはＲ¹⁰とＲ¹²、Ｒ¹⁰とＲ²³、またはＲ¹⁰とＲ²¹が結合を形成してもよく、Ｒ¹²、Ｒ¹³がそれぞれ独立に水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ¹⁴がＣ₁−Ｃ₄アルキルを、Ｒ²¹が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ²²が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ²³が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、フェニルまたはベンジル（これらはそれぞれ非置換であっても、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｑが４位で結合する式ＩＩのピラゾール環（式中、Ｒ¹⁵はＣ₁−Ｃ₄アルキルを、Ｒ¹⁶は水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたはＣ₁−Ｃ₄ハロアルキルを、Ｒ¹⁷は水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、フェニルスルホニルまたはアルキルフェニルスルホニルをそれぞれ意味する）を意味し、ＹがＣ＝Ｏである場合、ＸがＮＲ²³ではないことを特徴とするピラゾール−４ −イルベンゾイル誘導体または化合物Ｉの農業上有用な塩により達成されることを、本発明者等が見出した。式Ｉの化合物は、式ＩＩａの５−ヒドロキシピラゾールを式ＩＩＩの安息香酸誘導体と反応させ、生成物を転位反応に付すことにより式Ｉのピラゾール−４− イルベンゾイル誘導体として得られる。ダイヤグラム１上記ダイヤグラム１において、各式中のＴはハロゲンまたはＯＨを、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶ 、Ｌ、Ｍ、Ｘ、Ｙおよびｎは上述の意味を有する。反応列の第一工程、すなわちアシル化は公知方法、例えば式ＩＩＩ（Ｔ＝Ｃｌ）酸塩化物またはカルボン酸ＩＩＩ（Ｔ＝ＯＨ）（ＤＣＣ（ジシクロカルボジイミド）またはこれと同様の、例えばトリフェニルホスフィン／ＤＥＡＤ＝ジエチルアゾジカルボキシラート、２−ピリジンジスルフィド／トリフェニルホスフィン等の文献により公知の薬剤を使用して活性化したもの）を、助剤塩基の存在下または不存在下に、シクロヘキサジオンＩＩの溶液または懸濁液に添加することにより行われる。反応体および助剤塩基は等モル量にて使用されると有利である。特定条件下において、ＩＩに対してやや過剰の、例えば１．２〜１．５モル当量の助剤塩基を用いることも有効である。適する助剤塩基は、第三級アルキルアミン、ピリジンまたは炭酸アルカリ金属塩である。使用可能な溶媒の例には、塩化メチレン、ジオキサン、ジエチルエーテル、トルエン、アセトニトリルまたは酢酸エチルが挙げられる。酸塩化物の添加中に反応混合物を０−１０℃に冷却すると好ましく、次いで反応が終結するまでこれを、２０−１００℃、特に２５−５０℃で攪拌する。後処理は、慣用の方法で、例えば反応混合物を水に注入し、必要な生成物を塩化メチレン等を用いて抽出することにより行われる。有機相を乾燥し、溶媒を除去した後の粗エノールエステルは、更に精製せずに転位反応に使用可能である。５−ヒドロキシピラゾールの安息香酸エステルの製造例は、ヨーロッパ特許出願公開第２８２９４４号公報、米国特許第４６４３７５７号明細書等に記載されている。５−ヒドロキシピラゾール安息香酸エステルの、式Ｉの化合物への転位は、２０−４０℃で、溶媒中、助剤塩基の存在下に、必要に応じて触媒としてシアノ化合物を用いて行われると有利である。ここで用いられる溶媒の例には、アセトニトリル、塩化メチレン、ｔｅｒｔ− アミルアルコール、ジオキサン、１，２−ジクロロエタン、酢酸エチル、トルエンが挙げられる。適する溶媒はアセトニトリルおよびジオキサンである。適する助剤塩基としては、第三級アルキルアミン、ピリジンまたは炭酸アルカリ金属塩が用いられ、これらは等モル量または５−ヒドロキシピラゾール安息香酸エステルに対して４倍までの過剰量で用いられると好ましい。好ましい助剤塩基には、トリエチルアミンおよび炭酸アルカリ金属塩があり、上記量の２倍で用いられる。適する触媒は、シアン化カリウム、アセトンシアノヒドリンおよびシアン化トリメチルシリルであり、エノールエステルに対して好ましくは１−５０モル％の量で用いられる。アセトシアノヒドリンは、例えば５−１５モル％、特に１０モル％の量で用いられる。５−ヒドロキシピラゾールの安息香酸エステルの転位は、例えばヨーロッパ特許出願公開第２８２９４４号公報または米国特許第４６４３７５７号明細書に記載されているが、これらの刊行物はジオキサン中での、炭酸カリウムまたは炭酸ナトリウムの触媒としての使用を言及するに止まっている。シアン化カリウムまたはアセトンシアノヒドリンの使用は、シクロヘキサン−１，３−ジオンのエノールエステルの同様の転位に関連して開示されているものの（米国特許第４６９５６７３号明細書）、同文献にはシアン化化合物が５−ヒドロキシピラゾールのＯ−アシル誘導体のフリース転位に特に有効であることについての例示はなされていない。後処理は公知方法で行われるが、例えば反応混合物を希鉱酸、例えば濃度５％の塩酸または硫酸で酸性とし、塩化メチレンまたは酢酸エチルなどの有機溶媒により抽出する等の方法が行われる。精製にあたっては、抽出物を５０−１０％濃度の炭酸アルカリ金属塩溶液で抽出し、最終生成物を水相で濃縮する。この水溶液を酸性とするか、或いは塩化メチレンまたは酢酸エチルで再抽出し、乾燥し、次いで溶媒を除去することにより、式Ｉａ−Ｉｅの生成物が沈殿する。これまでに公知ではなく、出発材料として使用される、この様な式ＩＩの５− ヒドロキシピラゾールは公知方法で製造される（例えばヨーロッパ特許出願公開第２４０００１およびＪ．Ｐｒａｋｔ．Ｃｈｅｍ．３１５、３８２（１９７３））。１，３−ジメチル−５−ヒドロキシピラゾールは市販の化合物である。式ＩＩＩの安息香酸は、以下のように製造される。式ＩＩＩの塩化ベンゾイル（Ｔ＝Ｃｌ）等のハロゲン化ベンゾイルは、公知方法により、式ＩＩＩの安息香酸（Ｔ＝ＯＨ）を塩化チオニルと反応させることにより製造される。式ＩＩＩの安息香酸（Ｔ＝ＯＨ）は、式ＩＩＩにより示される対応のエステル（Ｔ＝Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ）を酸性または塩基性加水分解することにより公知方法で製造される。式ＩＩＩで示される新規の中間体は文献により公知の方法で製造可能である。ダイヤグラム２例えば、ダイヤグラム２に示されるように、アリールチオ化合物ＩＶは置換ハロアルキル（Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９８４、２７、１５１６に記載）、置換アルキニルカルボン酸（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９８０、４５、４６１１、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｃ．１９８３、１０５、８８３に記載）、置換ハロアルキルカルボン酸（Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．１９２５、５８、１６１２）と、塩基、例えば水酸化アルカリ金属塩、水素化アルカリ金属または炭酸アルカリ金属塩の存在下に反応可能である。得られた化合物Ｖを、ルイス酸またはプロトン酸の添加によりフリーデル・クラフツ条件下に環化してＶＩとされる。Ｃａｎ．Ｊ．Ｃｈeｍ．１９８１、５９、１９９およびＣｈｅｍ．Ｂｅｒ．１９２５、５８、１６２５およびＣｈｅｍ．Ｂｅｒ．１９２６、５９、１０７４およびＰｈｏｓｐ．ａｎｄＳｕｌｆ．１９８４、１９、３１に記載されてるように、ルイス酸としてはＡｌＣｌ₃またはＳｎＣｌ₄、プロトン酸としてはポリ燐酸および硫酸が好ましく用いられる。更にチオクロメノン酸は、Ａｎｎ．Ｃｈｅｍ．１９６４、６８０、４０に記載されているように、例えば３−ハロチオクロ間ノン酸からハロゲン化水素を除去することにより、または例えば置換チオフェノール酸を置換α−アルキルアセトアセタートと、五酸化燐の存在下に反応させることにより合成される。アリールチオ化合物ＩＶは、例えばサンドマイヤー反応により対応のアニリンから得られるが、ここで用いられるアニリンはＯｒｇａｎｉｋｕｍ、第１９版、１９９２、５５２等に記載のように、適するニトロ化合物を還元することにより合成される。例えばＸが（−ＣＲ¹²Ｒ¹³−）または（−ＣＲ¹²Ｒ¹³ＣＲ²¹Ｒ²²−）を意味し、ＹがＣ＝Ｏを意味し、およびＴがＣ₁−Ｃ₄アルコキシを意味する場合、上記チオクロマノンエステルまたはジヒドロベンゾチオフェンエステルはダイヤグラム２に記載のようにアリールチオ化合物ＩＶをハロプロピオン酸またはハロ酢酸により上記塩基のいずれかの存在下、溶媒または水の中でアルキル化することにより得られ、これを環化してＶＩを得る。反応体および塩基は等モル量で用いられると有利である。反応混合物を、好ましくは２０−１００℃、特に２０−４０℃で攪拌する。反応混合物を水に注入し、塩酸または硫酸等の鉱酸を用いて水相を酸性化し、所望の生成物を吸引濾過または塩化メチレンまたは酢酸エチルによる抽出により得、これを乾燥し、溶媒を除去する等の方法により後処理が行われる。得られたエステルは更に精製せずに反応に使用される。Ｖをポリ燐酸等に４０−１４０℃、特に７０−１００℃で攪拌しながら導入するか、或いはカルボン酸を酸塩化物として活性化させ、２−６時間、特にルイス酸、例えばＡｌＣｌ₃またはＳｎＣｌ₄に対して３．５−４．５モル当量で、溶媒中攪拌を行うか、または硫酸と共にまたは硫酸中で攪拌することにより、公知方法、例えば氷水の添加と吸引濾過または酢酸エチルまたは塩化メチレンによる水相の抽出により所望の生成物を除去し、乾燥させ、溶媒を除去することにより式ＩＩＩの中間体が得られる。式ＩＩＩの中間体は、更にＪｅｒｒｙＭａｒｃｈ著、「ＡｄｖａｎｃｅｄＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ」、第４版、例えば第９１０頁に記載の還元、ＪｅｒｒｙＭａｒｃｈ著、「ＡｄｖａｎｃｅｄＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ」、第４版、例えば第９３４、９３５、１０３９、１２２６、４０５等に記載のオキシム化、ＪｅｒｒｙＭａｒｃｈ著、「ＡｄｖａｎｃｅｄＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ」、第４版に記載のイミンまたはアミンへの転化、ＪｅｒｒｙＭａｒｃｈ著、「ＡｄｖａｎｃｅｄＯｒｇａｎｉｃＣｈｅｍｉｓｔｒｙ」、第４版に記載のケタール化、アルキル化、ハロゲン化、脱離および酸化等の、文献により公知の反応により官能化される。対応のサッカリン誘導体または１，２−ベンゾイソチアゾールから出発して、例えば米国特許第４５７１４２９号明細書、Ａｒｃｈ．Ｐｈａｒｍ．１９８４、３１７、８０７、米国特許第４４６１９０１号、同第４５０９１６号各明細書、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．１９８６、２９、３５９等に記載ように、例えばＰＣｌ₅ 、ＰＯＣｌ₃または塩素およびアルコールと、助剤、例えばトリエチルアミンの存在下または不存在下に、３−アルコキシ−１，２−ベンゾイソチアゾール１，１−ジオキシドまたは３−アルコキシ−１，２−ベンゾイソチアゾールの酸を得ることができる。サッカリンカルボン酸は、Ｃｈｅｍ．４２７、２３１、１９２２、Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．１３、１５５４、１９８０、Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．２５、１７４０、１８９２、ドイツ特許出願公開第３６０７３４３号公報、ドイツ特許出願第Ｐ４４２７９９５．７号に記載のような文献に公知の方法により製造可能である。例えばＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９６８、３３、４５６から、未だ公知ではないこれらのベンゾ−１，４−オキサチオン酸誘導体は、例えばＣｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．１９７５、４５１、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．１９７４、３９、１８１１、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１９５４、７６、１０６８に記載の反応により、或いはＪ．Ｈｅｔ．Ｃｈｅｍ．１９８３、２０、８６７に記載のようなハロゲン置換チオフェノール誘導体上の置換反応とこれに次ぐ酸化、還元または付加等の反応の組み合わせにより合成可能とされる。式ＩＩＩの安息香酸は、対応の式ＶＩＩの臭素または沃素置換化合物を、以下のダイヤグラム３で示されるように、ダイヤグラム３（上記式中、ＴはＯＨ、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシを、Ｙ、Ｌ、Ｍ、Ｘは上述の意味を有する。）一酸化炭素または水と、高圧にて、パラジウム、ニッケル、コバルト、ロジウム遷移金属触媒と塩基との存在下に反応させることにより得られる。触媒のニッケル、コバルト、ロジウム、特にパラジウムは金属形状または慣用の塩、例えばハロゲン化合物、例えばＰｄＣｌ₂、ＲｈＣｌ₃・Ｈ₂Ｏ、酢酸塩、例えばＰｄ（ＯＡｃ）₂、シアン化物等の形状で公知原子価レベルで存在可能である。第三級ホスフィン、金属アルキルカルボニル、金属カルボニル、例えばＣＯ₂（ＣＯ）₈、Ｎｉ（ＣＯ）₄、第三級ホスフィンとの金属カルボニル錯体、例えば［Ｐ（Ｐｈ）₃］₂Ｎｉ（ＣＯ）₂、または第三級ホスフィンとの遷移金属塩錯体または第三級ホスフィンと遷移金属塩との錯体も存在可能である。後者の例はパラジウムを触媒として用いる場合に特に有効である。たとえばこれらは以下の式により示される。（上記式中、ｎは１、２、３または４の数値を示し、置換基Ｒ²⁴−Ｒ²⁶は低分子量アルキル、例えばＣ₁−Ｃ₆アルキル、アリール、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルアリール、例えばベンジル、フェニルエチルまたはアリールオキシを意味する。アリールの例には、ナフチル、アントリル、および好ましくは非置換または置換フェニルを意味し、この置換基はカルボキシル化反応に対して不活性である限り広範囲で変更可能であり、あらゆるＣ−有機基、例えばメチル等のＣ₁−Ｃ₆アルキル基、ＣＯＯＨ等のカルボキシル基、ＣＯＯＭ（Ｍは例えばアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩またはアンモニウム塩を意味する。）、またはＣ₁−Ｃ₆アルコキシ基等、酸素を介して結合するＣ−有機基を含む。ホスフィン錯体は、冒頭で言及した各文献中に記載されているような公知方法により製造可能である。例えば出発材料を通常市販されている金属塩、例えばＰｄＣｌ₂、Ｐｄ（ＯＣＯＣＨ₃）₂とし、これにＰ（Ｃ₆Ｈ₅）₃、Ｐ（ｎ−Ｃ₄Ｈ₉）₃ 、ＰＣＨ₃（Ｃ₆Ｈ₅）または１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン等のホスフィンを添加する。遷移金属に対するホスフィンの使用量は、通常０−２０モル当量、好ましくは０．１−１０モル当量、特に１−５モル当量とされる。遷移金属の使用量は臨界的ではない。工業的理由からは、出発材料ＩＩまたはＩＩＩに対して例えば０．１−１０モル％、特に１−５モル％程度の少量が用いられる。安息香酸ＩＩＩ（Ｔ＝ＯＨ）を製造するためには、一酸化炭素と、出発材料ＶＩに対して等モル以上の水とを用いて反応を行う。反応体である水を同時に溶媒として作用させることも可能であるため、最大使用量は臨界的ではない。しかしながら出発材料と使用する触媒の性質により、溶媒として反応体とは異なる不活性溶媒またはカルボキシル化反応に用いられる塩基を用いることも有効である。カルボキシル化反応に適する不活性溶媒は、慣用の溶媒、例えば炭化水素、例えばトルエン、キシレン、ヘキサン、ペンタン、シクロヘキサン、エーテル、例えばメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメトキシエタン、置換アミド、例えばジメチルホルムアミド、過置換尿素、例えばテトラ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキル尿素、またはニトリル類、例えばベンゾニトリルまたはアセトニトリルである。この方法の好ましい実施形態において、反応体の１種、特に塩基を過剰で用いると、付加的な溶媒の使用が省略される。この方法に適する塩基は、反応中に遊離する沃化水素または臭化水素を結合可能な全ての不活性塩基であり、具体例には第三級アミン、例えばｔｅｒｔ−アルキルアミン、例えばトリエチルアミン等のトリアルキルアミン、環状アミン、例えばＮ−メチルピペリジンまたはＮ，Ｎ’−ジメチルピペラジン、ピリジン、炭酸アルカリ金属塩または炭酸水素アルカリ金属塩、またはテトラアルキル置換尿素誘導体、例えばテトラメチル尿素等のテトラ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキル尿素が挙げられる。塩基の使用量は臨界的ではないが、通常は１−１０モル、特に１−５モルが使用される。塩基を同時に溶媒として使用する場合には、反応体を溶解する量として通常は用いられるが、コスト削減、小さい反応容器の使用、反応体同士を最大限に接触させるといった実際的な理由から、不必要な過剰は避けられる。反応中の一酸化炭素圧は、ＶＩに対して常にＣＯが過剰となるように調整される。一酸化炭素圧は室温、好ましくは１−２５０バール、特に５−１５０バールとする。カルボニル化は、通常２０−２５０℃、３０−１５０℃で、連続的にもバッチ式にも行われる。バッチ式操作の場合、反応混合物に一酸化炭素を連続的に注入し、一定圧を保つようにすると有利である。この様な、出発化合物として用いられ、公知ではないアリールハロゲン化合物ＶＩＩは、公知合成法を適切に組み合わせ、上述の反応列を用いると容易に製造可能である。一般式Ｉのピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体の所望の使用法に鑑みて、以下の各基が置換基として好適に用いられる。Ｌ、Ｍは水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、例えばメチル、エチル、プロピル、１−メチルエチル、ブチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチル、ペンチル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、１− エチルプロピル、ヘキシル、１−メチルペンチル、２−メチルペンチル、３−メチルペンチル、４−メチルペンチル、１，１−ジメチルブチル、１，２−ジメチルブチル、１，３−ジメチルブチル、２，２−ジメチルブチル、２，３−ジメチルブチル、３，３−ジメチルブチル、１−エチルブチル、１，１，２−トリメチルプロピル、１，２，２−トリメチルプロピル、１−エチル−１−メチルプロピルまたは１−エチル−２−メチルプロピル、特にメチル、エチル、１−メチルエチル、１−メチルプロピル、２−メチルプロピル、１，１−ジメチルエチルまたは１，１−ジメチルプロピル、またはＣ₂−Ｃ₆アルケニル、例えば２−プロペニル、２−ブテニル、３−ブテニル、１−メチル−２−プロペニル、２−メチル−２−プロペニル、２−ペンテニル、３−ペンテニル、４−ペンテニル、３−メチル−２−ブテニル、１−メチル−２ −ブテニル、２−メチル-２−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、２−メチル−４−ブテニル、３−メチル−３−ブテニル、１，１−ジメチル−２−プロペニル、１，２−ジメチル−２−プロペニル、１−エチル−２−プロペニル、２− ヘキセニル、３−ヘキセニル、４−ヘキセニル、５−ヘキセニル、１−メチル− ２−ペンテニル、２−メチル−２−ペンテニル、３−メチル−２−ペンテニル、４−メチル-２−ペンテニル、１−メチル−３−ペンテニル、２−メチル−３− ペンテニル、３−メチル−３−ペンテニル、４−メチル−３−ペンテニル、１− メチル−４−ペンテニル、２−メチル−４−ペンテニル、３−メチル−４−ペンテニル、４−メチル−４−ペンテニル、１，１−ジメチル−２−ブテニル、１，２−ジメチル−３−ブテニル、１，３−ジメチル−３−ブテニル、２，２−ジメチル−３−ブテニル、２，３−ジメチル−２−ブテニル、２，３−ジメチル−３ −ブテニル、１−エチル−２−ブテニル、１−エチル−３−ブテニル、２− エチル−２−ブテニル、２−エチル−３−ブテニル、１，１，２−トリメチル− ２−プロペニル、１−エチル−１−メチル−２−プロペニルまたはエチル−２− メチル−２−プロペニル、特に１−メチル−２−プロペニル、−メチル−２−ブテニル、１，１−ジメチル−２−プロペニルまたは１，１−ジメチル−２−ブテニルまたは、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、例えばプロパルギル、２−ブチニル、３−ブテニル、２ −ペンチニル、３−ペンチニル、４−ペンチニル、１−メチル−３−ブチニル、２−メチル−３−ブチニル、１−メチル−２−ブチニル、１，１−ジメチル−２ −プロピニル、１−エチル−２−プロピニル、２−ヘキシニル、３−ヘキシニル、４−ヘキシニル、５−ヘキシニル、１−メチル−２−ペンチニル、１−メチル −３−ペンチニル、１−メチル−４−ペンチニル、３−メチル−４−ペンチニル、４−メチル−２−ペンチニル、１，１−ジメチル−２−ブチニル、１，１−ジメチル−３−ブチニル、１，２−ジメチル−３−ブチニル、２，２−ジメチル− ３−ブチニル、１−エチル−２−ブチニル、１−エチル−３−ブチニル、２−エチル−３−ブチニルまたは１−エチル−１−メチル−２−プロピニルまたは、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、１−メチルエトキシ、ｎ−ブトキシ、１−メチルプロポキシ、２−メチルプロポキシまたは１，１−ジメチルエトキシ、特にＣ₁−Ｃ₃アルコキシ、例えばメトキシ、エトキシまたはｉ−プロポキシであり、これらの基は非置換であるか、または上述のように１−５個までのハロゲン原子、例えば弗素、塩素、臭素および沃素、好ましくは弗素および塩素、またはＣ₁ −Ｃ₄アルコキシにより置換されてもよい。上記定義による−（Ａ）_m−Ｓ（Ｏ）_nＲ¹は例えば、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、例えばメチルチオ、エチルチオ、ｎ−プロピルチオ、１−メチルエチルチオ、ｎ−ブチルチオ、１−メチルプロピルチオ、２−メチルプロピルチオまたは１，１−ジメチルエチルチオ、特にメチルチオ、またはＣ₁−Ｃ₄アルキルスルフィニル、例えばメチルスルフィニル、エチルスルフィニル、ｎ−プロピルスルフィニル、１−メチルエチルスルフィニル、ｎ−ブチルスルフィニル、１−メチルプロピルスルフィニル、２−メチルプロピルスルフィニルまたは１，１−ジメチルエチルスルフィニル、特にメチルスルフィニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、例えばメチルスルホニル、エチルスルホニル、ｎ−プロピルスルホニル、１−メチルエチルスルホニル、ｎ−ブチルスルホニル、１−メチルプロピルスルホニル、２−メチルプロピルスルホニルまたは１，１ −ジメチルエチルスルホニル、特にメチルスルホニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシスルホニル、例えばメトキシスルホニル、エトキシスルホニル、ｎ−プロポキシスルホニル、１−メチルエトキシスルホニル、ｎ−ブトキシスルホニル、１−メチルプロポキシスルホニル、２−メチルプロポキシスルホニルまたは１，１−ジメチルエトキシスルホニル、特にメトキシスルホニル、Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルファモイル、例えばＮ−メチルスルファモイル、Ｎ −エチルスルファモイル、Ｎ−ｎ−プロピルスルファモイル、Ｎ−１−メチルエチルスルファモイル、Ｎ−２−メチルプロピルスルファモイルまたはＮ−１，１ −ジメチルエチルスルファモイル、特にＮ−メチルスルファモイル、Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィナモイル、例えばＮ−メチルスルフィナモイル、Ｎ−エチルスルフィナモイル、Ｎ−ｎ−プロピルスルフィナモイル、Ｎ−１− メチルエチルスルフィナモイル、Ｎ−ｎ−ブチルスルフィナモイル、Ｎ−１−メチルプロピルスルフィナモイル、Ｎ−２−メチルプロピルスルフィナモイルまたはＮ−１，１−ジメチルエチルスルフィナモイル、例えばＮ−メチルスルフィナモイル、ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルファモイル、例えばジメチルスルファモイル、ジエチルスルファモイル、ジプロピルスルファモイル、ジブチルスルファモイル、Ｎ −メチル−Ｎ−エチルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−１−メチルエチルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルスルファモイル、ジ−１−メチルエチルスルファモイル、Ｎ −エチル−Ｎ−１−メチルスルファモイルまたはＮ−エチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルスルファモイル、特にジメチルスルファモイル、ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィナモイル、例えばジメチルスルフィナモイル、ジエチルスルフィナモイル、ジプロピルスルフィナモイル、ジブチルスルフィナモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−エチルスルフィナモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルスルフィナモイル、Ｎ−メチル-Ｎ−１−メチルエチルスルフィナモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルスルフィナモイル、ジ−１−メチルエチルスルフィナモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−１−メチルエチルスルフィナモイルおよびＮ−エチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルスルフィナモイル、特にジメチルスルフィナモイル、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィニルオキシ、例えばメチルスルフィニルオキシ、エチルスルフィニルオキシ、ｎ−プロピルスルフィニルオキシ、１−メチルエチルスルフィニルオキシ、ｎ−ブチルスルフィニルオキシ、１−メチルプロピルスルフィニルオキシ、２−メチルプロピルスルフィニルオキシおよび１，１−ジメチルエチルスルフィニルオキシ、特にメチルスルフィニルオキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニルオキシ、例えばメチルスルホニルオキシ、エチルスルホニルオキシ、ｎ−プロピルスルホニルオキシ、１−メチルエチルスルホニルオキシ、ｎ−ブチルスルホニルオキシ、１−メチルプロピルスルホニルオキシ、２−メチルプロピルスルホニルオキシまたは１，１−ジメチルエチルスルホニルオキシ、特にメチルスルホニルオキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィニルアミノ、例えばメチルスルフィニルアミノ、エチルスルフィニルアミノ、ｎ−プロピルスルフィニルアミノ、１−メチルエチルスルフィニルアミノ、ｎ−ブチルスルフィニルアミノ、１−メチルプロピルスルフィニルアミノ、２−メチルプロピルスルフィニルアミノまたは１，１−ジメチルエチルスルフィニルアミノ、特にメチルスルフィニルアミノ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニルアミノ、例えばメチルスルホニルアミノ、エチルスルホニルアミノ、ｎ−プロピルスルホニルアミノ、１−メチルエチルスルホニルアミノ、ｎ−ブチルスルホニルアミノ、１−メチルプロピルスルホニルアミノ、２−メチルプロピルスルホニルアミノまたは１，１−ジメチルエチルスルホニルアミノ、特にメチルスルホニルアミノ、Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、例えばＮ−メチルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ｎ−プロピルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−１−メチルエチルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ｎ−ブチルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−１−メチルプロピルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−２−メチルプロピルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノまたはＮ−１，１−ジメチルエチルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、特にＮ−メチルスルフィニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、例えばＮ−メチルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エチルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｎ−プロピルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−１−メチルエチルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｎ−ブチルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−１−メチルプロピルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−２−メチルプロピルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノまたはＮ−１，１−ジメチルエチルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、特にＮ−メチルスルフィニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、例えばＮ−メチルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ｎ −プロピルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−１−メチルエチルスルホニル− Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ｎ−ブチルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−１−メチルプロピルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−２−メチルプロピルスルホニル−Ｎ−メチルアミノまたはＮ−１，１−ジメチルエチルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、特にＮ−メチルスルホニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、例えばＮ−メチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−エチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｎ −プロピルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−１−メチルエチルスルホニル− Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−ｎ−ブチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−１−メチルプロピルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、Ｎ−２−メチルプロピルスルホニル−Ｎ−エチルアミノまたはＮ−１，１−ジメチルエチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、特にＮ−メチルスルホニル−Ｎ−エチルアミノ、またはＣ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、例えばクロロメチルチオ、ジクロロメチルチオ、トリクロロメチルチオ、フルオロメチルチオ、ジフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルチオ、クロロフルオロメチルチオ、クロロジフルオロメチルチオ、１−フルオロエチルチオ、２−フルオロエチルチオ、２，２−ジフルオロエチルチオ、２，２，２−トリフルオロエチルチオ、２−クロロ−２，２−ジフルオロエチルチオ、２，２−ジクロロ−２−フルオロエチルチオ、２，２，２−トリクロロエチルチオまたはペンタフルオロエチルチオ、特にトリフルオロメチルチオを意味する。上記定義による−（Ａ）_m−ＣＯ−Ｒ²で示される基は、例えばＣ₁−Ｃ₄アルキルカルボニル、例えばメチルカルボニル、エチルカルボニル、ｎ−プロピルカルボニル、１−メチルエチルカルボニル、ｎ−ブチルカルボニル、１−メチルプロピルカルボニル、２−メチルプロピルカルボニルまたは１，１ −ジメチルエチルカルボニル、特にメチルカルボニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシカルボニル、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｎ−プロポキシカルボニル、１−メチルエトキシカルボニル、ｎ−ブトキシカルボニル、１−メチルプロポキシカルボニル、２−メチルプロポキシカルボニルまたは１，１−ジメチルエトキシカルボニル、特にメトキシカルボニル、Ｎ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルカルバモイル、例えばＮ−メチルカルバモイル、Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−１−メチルエチルカルバモイル、Ｎ−ｎ−ブチルカルバモイル、Ｎ−１−メチルプロピルカルバモイル、Ｎ−２−メチルプロピルカルバモイルまたはＮ−１，１−ジメチルエチルカルバモイル、特にＮ−メチルカルバモイル、ジ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルカルバモイル、例えばジメチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、ジプロピルカルバモイル、ジブチルカルバモイル、Ｎ−メチル− Ｎ−エチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−プロピルカルバモイル、Ｎ−メチル −Ｎ−１−メチルエチルカルバモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルカルバモイル、ジ−１−メチルエチルカルバモイル、Ｎ−エチル−Ｎ−メチルエチルカルバモイルまたはＮ−エチル−Ｎ−１，１−ジメチルエチルカルバモイル、特にジメチルカルバモイル、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルカルボニルオキシ、例えばメチルカルボニルオキシ、エチルカルボニルオキシ、ｎ−プロピルカルボニルオキシ、１−メチルエチルカルボニルオキシ、ｎ−ブチルカルボニルオキシ、１−メチルプロピルカルボニルオキシ、２−メチルプロピルカルボニルオキシまたは１，１−ジメチルエチルカルボニルオキシ、特にメチルカルボニルオキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルカルボニルアミノ、例えばメチルカルボニルアミノ、エチルカルボニルアミノ、ｎ−プロピルカルボニルアミノ、１−メチルエチルカルボニルアミノ、ｎ−ブチルカルボニルアミノ、１−メチルプロピルカルボニルアミノ、２−メチルプロピルカルボニルアミノまたは１，１−ジメチルエチルカルボニルアミノ、特にメチルカルボニルアミノ、またはＮ−Ｃ₁−Ｃ₄アルキルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、例えばＮ−メチルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−エチルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ｎ −プロピルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−１−メチルエチルカルボニル− Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−ｎ−ブチルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−１−メチルプロピルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、Ｎ−２−メチルプロピルカルボニル−Ｎ−メチルアミノまたはＮ−１，１−ジメチルエチルカルボニル−Ｎ−メチルアミノ、特にＮ−メチルカルボニル−Ｎ−メチルアミノを意味する。Ｘは例えばを、Ｙは例えば１，３−ジオキサニル、１，３−ジオキソラニル、５，５−ジメチル−１，３− ジオキサニルを意味する。好ましいピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体は、式Ｉａで表され、式中Ｌが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｑ、Ｘ、ｎおよびＹがそれぞれ上述の意味を有し、ＹがＣ＝Ｏを意味する場合、ＸはＮＲ²³ではない。更に好ましいピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体は、式Ｉｂで表され、式中ＬがＣ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆ アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｑ、Ｘ、ｎおよびＹがそれぞれ上述の意味を有し、ＹがＣ＝Ｏを意味する場合、ＸはＮＲ²³ ではない。更に、式Ｉで示される好ましいピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体は、ＬおよびＭが水素、メチル、メトキシ、塩素、シアノ、ニトロまたはトリフルオロメチルを意味するものである。好ましいピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体は、式Ｉｃで表され、式中Ｌが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆ アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｑ、ｎ、Ｙ、Ｒ²²、Ｒ²¹、Ｒ¹²およびＲ¹³が上述の意味を有する。また、好ましいピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体は、式Ｉｄで表され、式中Ｌが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆ アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｑ、ｎ、Ｙ、Ｒ¹²およびＲ¹³が上述の意味を有する。他の好ましいピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体は、式Ｉｅで表され、式中Ｌが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆ アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｑ、Ｙ、Ｒ¹²およびＲ¹³が上述の意味を有する。式Ｉで表される他の好ましいピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体には、ｎが１または２であり、ＹがＣＲ⁷−ＯＲ⁸を意味し、このＲ⁷およびＲ⁸が上述の意味を有するものがある。製造実施例Ａ）出発材料と中間体の製造［１．３−チオ−２−メチル安息香酸］１００ｇ（０．６６モル）の３−アミノ−２−メチル安息香酸を２７０ｇの氷と、１２７ミリリットルの濃ＨＣｌと共に、反応容器に導入した。次いで２７０ミリリットルの水中の４５．７ｇ（０．６６モル）の亜硝酸ナトリウムを０−１０℃で滴下した。第二の容器で、８４．２ｇ（０．７９モル）の炭酸ナトリウムと１０６ｇ（０．６６モル）のメチルキサントゲン酸カリウムを４５０ミリリットルの水中に溶解し、この溶液を６０−７０℃に加熱した。得られたジアゾニウム溶液を注意深く滴下し、攪拌を１時間継続した。この後、２７０ミリリットルの水中の１０６ｇ（２．６５モル）の水酸化ナトリウムを添加し、得られた溶液を更に２時間攪拌して、塩酸により酸性と成した。得られた沈殿を吸引濾過した。固体物質を水で洗浄し、乾燥した。収量：１１０ｇ（化学量論量の１００％）の３−チオ−２−メチル安息香酸、融点：１５５℃、¹ＨＮＭＲ（ｄ⁶−ＤＭＳＯ）、δ［ｐｐｍ］＝１３．０（１Ｈ、ｂｓ）、７．７（２Ｈ、ｍ）、７．３（１Ｈ、ｔｒ）、２．４（３Ｈ、ｓ）。［２．３−チオ−２−メチル安息香酸メチル］１１０ｇ（０．６６モル）の３−チオ−２−メチルベンゾエートを５％の硫酸を含有する１．６リットルのメタノールに溶解し、得られた混合物を５時間攪拌した。次いでアルコールを留去し、残渣を酢酸エチルに取り込んだ。有機相を水、および炭酸ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥し、回転式蒸発器で蒸発させた。収量：１０４ｇ（化学量論量の８７％）の３−チオ−２−メチル安息香酸メチル：¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ［ｐｐｍ］＝７．６（１Ｈ、ｄ）、７．４（１Ｈ、ｄ）、７．１（１Ｈ、ｄ）、３．９（３Ｈ、ｓ）、３．４（１Ｈ、ｓ）、２．５（３Ｈ、ｓ）。［３．３−カルボキシエチルチオ−２−メチル安息香酸メチル］７０ｇ（０．３８モル）の３−チオ−２−メチル安息香酸メチルを４００ミリリットルの水中に溶解し、３０．８ｇ（０．７７モル）の水酸化ナトリウム溶液および５８．８ｇ（０．４５モル）のブロモプロピオン酸と共に７時間還流した。冷却後、水相をメチルｔｅｒｔ−ブチルエーテルで洗浄した。次いで水相を２ＮのＨＣｌにより酸性とし、得られた沈殿を吸引濾過し、水で洗浄し、生成物を乾燥した。収量：７５．５（化学量論量の７８％）の２−メチル−３−カルボキシエチルチオ安息香酸メチル：¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ［ｐｐｍ］＝７．６６（１Ｈ、ｄ）、７．５１（１Ｈ、ｄ）、７．２０（１Ｈ、ｔｒ）、３．９６（３Ｈ、ｓ）、３．１８（２Ｈ、ｔｒ）、２．７０（２Ｈ、ｔｒ）、２．６３（３Ｈ、ｓ）。［４．８−メチルチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸メチル］４ｇ（１５．８ミリモル）の２−メチル−３−カルボキシエチルチオ安息香酸メチルを４０ｇのポリ燐酸中、７０℃で１５分間攪拌した。次いで反応溶液を氷水中に注入し、得られた沈殿を吸引濾過した。生成物を水で洗浄し、乾燥炉中で乾燥した。環化により８−メチルチオクロメン−４−オンカルボン酸メチル生成の可能性があるが、これはクロマトグラフィーにより除去可能である。収量：３．１ｇ（化学量論量の８３％）の８−メチルチオクロマン−４−オン −７−カルボン酸メチル：¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ［ｐｐｍ］＝８．００（１Ｈ、ｄ）、７．３０（１Ｈ、ｄ）、３．９４（３Ｈ、ｓ）、３．１５（２Ｈ、ｍ）、２．９８（２Ｈ、ｍ）、２．５０（３Ｈ、ｓ）。［二次生成物］８−メチルチオクロメン−４−オンカルボン酸メチル：¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃ ）：δ［ｐｐｍ］＝８．４（１Ｈ、ｄ）、７．９（１Ｈ、ｄ）、７．８（１Ｈ、ｄ）、７．０（１Ｈ、ｄ）、４．０（３Ｈ、ｓ）、２．７（３Ｈ、ｓ）。［５．８−メチルチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸］４１．１ｇ（０．１７モル）の８−メチルチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸メチルを、４００ミリリットルの水とメタノールの混合物中、１０．３ｇ（０．２６モル）のＮａＯＨにより、還流温度で加水分解した。次いでメタノールを留去し、残渣を水で希釈し、２Ｎの塩酸で酸性と成した。所望の生成物が沈殿し、これを吸引濾過し、水で洗浄し、乾燥した。収量：３４．４ｇ（化学量論量の８９％）の８−メチルチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸、融点：２４３−２４６℃。［６．８−メチル−１，１−ジオキソチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸］２０ｇ（０．０９モル）の８−メチルチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸を１００ミリリットルの酢酸に溶解した。スパチュウラ１杯のタングステン酸ナトリウムを添加した。次いで２４．９ｇ（０．２２モル）の３０％濃度の過酸化水素溶液を５０℃で滴下した。室温にて１時間攪拌を継続した。次いで反応溶液を水に注入し、この操作の間に沈殿が生成し、これを吸引濾過した。生成物を水で洗浄し、乾燥した。収量：１８．４ｇ（化学量論量の８０％）の８−メチル−１，１−ジオキソチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸、融点：２２４−２２５℃。［７．４−ヒドロキシ−８−メチルチオクロマン−７−カルボン酸メチル］３０ｇ（０．１２７モル）の８−メチルチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸メチルを、１２０ミリモルの塩化メチレンと６０ミリリットルのメタノール中との混合物中に溶解し、得られた溶液を０−５℃に冷却した。次いで２．４ｇ（０．０６４モルの）硼水素化ナトリウムを少量ずつ添加した。２００ミリリットルの２Ｎ塩酸を反応溶液に添加した。これにより二層が得られた。有機相を分離し、乾燥させ、溶媒を留去した。次いで粗生成物を更に精製することなく直接反応に使用した。収量：２７．６ｇ（化学量論量の９１％）の４−ヒドロキシ−８−メチルチオクロマン−７−カルボン酸メチル。［８．４−エトキシ−８−メチルチオクロマン−７−カルボン酸メチル］１３．８ｇ（０．０５８モル）の４−ヒドロキシ−８−メチルチオクロマン− ７−カルボン酸メチルを、６０ミリリットルのエタノール中、１ｇの硫酸を添加して、沸点未満に４時間に亘り加熱した。次いで溶媒を留去し、残渣を水に取り込んだ。水相を酢酸エチルで抽出した。有機相を炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、乾燥し、濃縮した。生成物をクロマトグラフィーで精製した。収量：１０．１ｇ（化学量論量の６０％）の４−エトキシ−８−メチルチオクロマン−７−カルボン酸メチル：¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ［ｐｐｍ］＝７．４４（１Ｈ、ｄ）、７．１３（１Ｈ、ｄ）、４．４０（１Ｈ、ｍ）、３．９０（３Ｈ、ｓ）、３．６０（２Ｈ、ｍ）、３．３８（１Ｈ、ｄｔｒ）、２．９０（１Ｈ、ｍ）、２．５０（３Ｈ、ｓ）、２．４０（１Ｈ、ｍ）、１．９８（１Ｈ、ｍ）、１．１０（３Ｈ、ｔｒ）。上記操作と類似の反応により、４−メトキシ−８−メチルチオクロマン−４− オン−７−カルボン酸メチルおよび４−イソプロポキシ−８−メチルチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸メチルが得られた。ここで４−メトキシ−８−メチルチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸メチルの場合はエタノールの代わりにメタノールを、４−イソプロポキシ−８−メチルチオクロマン−４−オン− ７−カルボン酸メチルの場合はエタノールの代わりにイソプロパノールを用いた。［９．４−エトキシ−８−メチルチオクロマン−７−カルボン酸］２．１ｇの水酸化ナトリウム溶液を２０ミリリットルの水に溶解した。２０ミリリットルのメタノールに溶解した４−エトキシ−８−メチルチオクロマン−４ −オン−７−カルボン酸メチルを約２０℃にて滴下した。混合物を２時間にわたり還流した。次いで溶媒を留去し、残渣を２Ｎ塩酸中に注入した。水相を塩化メチレンで抽出した。有機相を乾燥し、濃縮した。収量：９．３ｇ（化学量論量の１００％）の４−エトキシ−８−メチルチオクロマン−７−カルボン酸が得られた。融点：８９−９８℃。対応のエステルの、４−メトキシ−８−メチルチオクロマン−７−カルボン酸および４−イソプロポキシ−８−メチルチオクロマン−７−カルボン酸への加水分解も同様に進行した。以下に記載する対応のベンゾ［ｂ］チオフェン誘導体の加水分解も同様に行われた。［１０．８−メチル−４−エトキシ−１，１−ジオキソチオクロマン−７−カルボン酸］８．４ｇ（０．０３３モル）の４−エトキシ−８−メチルチオクロマン−７− カルボン酸を６０ミリリットルの酢酸中に導入した。スパチュウラ１杯のタングステン酸ナトリウムを添加した。７．９ｇ（０．０７モル）の３０％濃度の過酸化水素溶液を５０℃にてゆっくりと滴下し、攪拌を２時間継続した。この後、反応バッチを水に注入し、水相を酢酸エチルで抽出した。有機相を亜硫酸水素塩溶液で洗浄し、乾燥し、濃縮した。収量：９．５ｇ（化学量論量の１００％）の８−メチル−４−エトキシ−１，１−ジオキソチオクロマン−７−カルボン酸、融点：１５０℃。［１１．８−メチルチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸Ｏ−エチルオキシム］０．８８ｇ（９ミリモル）のエチルヒドロキシルアミンを２０ミリリットルのメタノール中に導入した。次いで０．６２ｇ（４．５ミリモル）の炭酸カリウムを添加し、この後２．０ｇ（９ミリモル）の８−メチルチオクロマン−４−オン −７−カルボン酸を添加した。反応混合物を約２０℃にて１０日間にわたり攪拌した。水と２Ｎの塩酸を添加することにより後処理を行った。得られた沈殿を吸引濾過し、乾燥した。収量：２．２ｇ（化学量論量の９２％）の８−メチルチオクロマン−４−オン− ７−カルボン酸Ｏ−エチルオキシム、融点：１６６℃。［１２．８−メチル−１，１−ジオキソチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸Ｏ−エチルオキシム］３．０ｇ（０．０１１モル）の８−メチルチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸Ｏ−エチルオキシムをスパチュウラ１杯のタングステン酸ナトリウムと共に、３０ミリリットルの酢酸に導入した。２．８ｇ（０．０２４モル）の３０％濃度の過酸化水素溶液を５０℃で滴下した。反応混合物を更に１時間攪拌した後、氷水に注入し、得られた沈殿を吸引濾過した。生成物を水で洗浄し、乾燥した。収量：２．５ｇ（化学量論量の７４％）の８−メチル−１，１−ジオキソチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸Ｏ−エチルオキシム、融点：１９８℃。［１３．８−メチル−１−オキソチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸］７．０ｇ（３１．５ミリモル）の８−メチルチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸を、スパチュウラ１杯のタングステン酸ナトリウムと共に、７０ミリリットルの酢酸中に導入した。３．６ｇ（３１．５ミリモル）の３０％濃度の過酸化水素溶液を５０℃にて滴下し、攪拌を３時間継続した。生成物を酢酸エチルで抽出した。有機相を乾燥させ、溶媒を除去した。生成物をクロマトグラフィーで精製した。収量：５．４ｇ（化学量論量の７２％）の８−メチル−１−オキソチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸：¹ＨＮＭＲ（ｄ⁶−ＤＭＳＯ）：δ［ｐｐｍ］＝８．０（２Ｈ、ｍ）、３．５（３Ｈ、ｍ）、２．８（１Ｈ、ｄ）、２．７（３Ｈ、ｓ）。［１４．２−メチル−３−カルボキシメチルチオ安息香酸メチル］８０ミリリットルのジメチルホルムアミド中の１２．４ｇ（０．０６８モル）の３−チオ−２−メチル安息香酸メチルを４０ミリリットルのジメチルホルムアミド中の１．６ｇ（０．０６８モル）のＮａＨ中に滴下した。混合物を約２０℃ にて６０分間攪拌し、次いで８ｇ（０．０６８モル）のクロロ酢酸を添加した。混合物を約２０℃にて４時間攪拌した。反応混合物を氷水／ＨＣｌに攪拌しつつ導入することにより後処理を行った。得られた沈殿を吸引濾過し、水で洗浄し、乾燥した。収量：１４．６ｇ（化学量論量の８９％）の２−メチル−３−カルボキシメチルチオ安息香酸メチル、¹ＨＮＭＲ（ｄ⁶−ＤＭＳＯ）：δ［ｐｐｍ］＝７．５５（１Ｈ、ｄ）、７．４５（１Ｈ、ｄ）、７．２１（１Ｈ、ｔｒ）、３．８２（２Ｈ、ｓ）、２５０（３Ｈ、ｓ）。［１５．７−メチルベンゾ［ｂ］チオフェン−３［２Ｈ］−オン−６−カルボン酸メチル］１４．３ｇ（０．０６ミリモル）の２−メチル−３−カルボキシメチルチオ安息香酸を３００ミリリットルの塩化メチレンに溶解した。１３．１ｇ（０．１１ミリモル）の塩化チオニルを滴下した。混合物を１時間還流し、次いで溶媒と過剰の塩化チオニルを留去した。残渣を１００ミリリットルの塩化メチレン中に取り込み、３１．８ｇ（０．２４ミリモルの）三塩化アルミニウムで処理した。反応混合物を約２０℃にて１時間攪拌し、次いで混合物を氷水中に注入し、有機相を分離した。有機相を洗浄し、乾燥した後、溶媒を除去した。更に精製せずに生成物を反応に用いた。収量：１２．９ｇ（化学量論量の９７％）の７−メチル−ベンゾ［ｂ］−チオフェン−３［２Ｈ］−オン−６−カルボン酸メチル、¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）： δ［ｐｐｍ］＝７．６５（２Ｈ、ｍ）、３．９３（３Ｈ、ｓ）、３．８８（２Ｈ、ｓ）、２．５０（３Ｈ、ｓ）。［１６．７−メチル−３−ヒドロキシベンゾ［ｂ］チオフェン−［２Ｈ］−６− カルボン酸メチル］１２．８ｇ（０．０５８モル）の７−メチル−ベンゾ−［ｂ］チオフェン−３［２Ｈ］−オン−６−カルボン酸エステルを１２０ミリリットルの塩化メチレンと６０ミリリットルのメタノールに溶解し、得られた溶液を０℃に冷却した。１．１ｇ（０．０２９モル）の水素化硼素ナトリウムを少量ずつ添加した。混合物を３時間攪拌し、水を添加して反応を停止した。各相を分離し、塩化メチレンで水相を抽出した。合わせた有機相を乾燥した。溶媒を留去し、得られた粗生成物を更なる反応に用いた。収量：１３．２ｇ（化学量論量の１００％）の７−メチル−３−ヒドロキシベンゾ−［ｂ］チオフェン−［２Ｈ］−オン−６−カルボン酸メチル、¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ［ｐｐｍ］＝７．６（２Ｈ、ｍ）、５．３（１Ｈ、ｍ）、３．９（３Ｈ、ｓ）、３．７（１Ｈ、ｍ）、３．３（１Ｈ、ｍ）、２．４（３Ｈ、ｓ）。［１７．７−メチル−３−メトキシベンゾ［ｂ］チオフェン−［２Ｈ］−６−カルボン酸メチル］２．４ｇ（０．０５９モル）のＮａＨを５０ミリリットルのＤＭＦに溶解した。５０ミリリットルに溶解した１３．２ｇの７−メチル−３−ヒドロキシベンゾ［ｂ］チオフェン−［２Ｈ］−６−カルボン酸メチルを滴下した。次いで混合物を約２０℃で２時間攪拌し、この後８．４ｇ（０．０５９モル）のヨードメタンを添加し、混合物を更に２時間攪拌した。反応溶液を氷水に注入し、酢酸エチルで抽出した。有機相を乾燥し、次いで濃縮した。生成物をクロマトグラフィーで精製した。収量：３．５ｇ（化学量論量の２５％）の７−メチル−３−メトキシベンゾ［ｂ］−チオフェン−［２Ｈ］−６−カルボン酸メチル、¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ［ｐｐｍ］＝７．６０（１Ｈ、ｄ）、７．２０（１Ｈ、ｄ）、５．０４（１Ｈ、ｍ）、３．９０（３Ｈ、ｓ）、３．５６（１Ｈ、ｍ）、３．４０（３Ｈ、ｓ）、３．３８（１Ｈ、ｍ）、２．５０（３Ｈ、ｓ）。対応のベンゾチオフェン酸も、上述のチオクロマノンエステルの加水分解と同様の方法で得られた。下記表に記載の化合物も同様の方法で得られた。［最終生成物の製造］［１．１，３−ジメチル−４−（８−メチル−１，１−ジオキソチオクロマン− ４−オン−７−カルボニル）−５−ヒドロキシピラゾール］ａ）１７．４ｇ（０．０６８５ミリモル）の８−メチル−１，１−ジオキソチオクロマン−４−オン−７−カルボン酸を１７０ミリリットルのトルエンに溶解し、混合物をジメチルホルムアミド１滴で処理し、８．９６ｇ（０．０７５３モル）の塩化チオニルを添加した。反応混合物を４時間還流した後、濃縮した。反応生成物を更に直接反応させた。収量：１８．６ｇ（化学量論量の９９％）の８−メチル−１，１−ジオキソチオクロマン−４−オン−７−カルボニルクロリド。ｂ）０．８２ｇ（７．３ミリモル）の１，３−ジメチルピラゾロンと０．７４ｇ（７．３ミリモル）のトリエチルアミンを１０ミリリットルのアセトニトリル中に溶解した。２０ミリリットルのアセトニトリル中に溶解した、ａ）で得られた２．０ｇ（７．３ミリモル）の酸塩化物を、上記混合物に滴下した。この混合物を室温にて１時間攪拌した。次いで０．４２ｇ（４．９ミリモル）のアセトンシアノヒドリンと３．７ｇ（３６．７ミリモル）のトリエチルアミンを添加し、混合物を６時間攪拌した。２Ｎの塩酸を添加し、混合物を酢酸エチルで抽出することにより後処理を行った。この後、有機相を炭酸ナトリウム水溶液で洗浄し、水相を酸性化し、得られた沈殿を吸引濾過し、乾燥した。収量：０．２ｇ（化学量論量の８％）の１，３−ジメチル−４−（８−メチル −１，１−ジオキソチオクロマン−４−オン−７−カルボニル）−５−ヒドロキシピラゾール、融点：８３℃。［２．７−（１，３−ジメチル−５−ヒドロキシピラゾール−４−カルボニル） −８−メチルチオクロマン−４−オンＯ−エチルオキシム］１ｇ（３．７７ミリモル）の７−カルボキシ−８−メチルチオクロマン−４− オンＯ−エチルオキシムをｔｅｒｔ−アミルアルコール中、０．４６ｇ（４．０７ミリモル）の１，３−ジメチルピラゾロンと０．８４ｇ（４．０７ミリモル）のジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）と共に、室温にて２時間攪拌した。次いで０．７８（５．６６ミリモル）の炭酸カリウムを添加し、混合物を９０℃に加熱し、この温度で５時間攪拌した。反応バッチを攪拌しながら水中に導入し、更に酢酸エチルで抽出することにより後処理を行った。有機相を廃棄した。水相をＨＣｌで酸性化し、所望の生成物を酢酸エチルで抽出した。抽出剤を除去した。抽出剤を除去し、生成物をクロマトグラフィーで精製した。収量：０．３５ｇ（化学量論量の２６％）の７−（１，３−ジメチル−５−ヒドロキシピラゾール−４−カルボニル）−８−メチルチオ−クロマン−４−オンＯ−エチルオキシム、¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ［ｐｐｍ］＝７．９５（１Ｈ、ｄ）、６．９９（１Ｈ、ｄ）、４．２８（２Ｈ、ｑ）、３．６９（３Ｈ、ｓ）、３．１０（２Ｈ、ｍ）、２．９７（２Ｈ、ｍ）、２．３０（３Ｈ、ｓ）、１．７５（３Ｈ、ｓ）、１．３８（３Ｈ、ｔｒ）。［３．７−（１，３−ジメチル−５−ヒドロキシピラゾール−４−カルボニル） −８−メチル−１，１−ジオキソチオクロマン］０．３５ｇ（１ミリモル）の１，３−ジメチル−４−（８−メチルチオクロマン−４−オン−７−カルボニルＯ−エチルオキシム）−５−ヒドロキシピラゾールを、５ミリリットルの酢酸およびスパチュウラ１杯のタングステン酸ナトリウムと共に反応容器に導入し、この混合物を５０℃に加熱した。次いで０．２４ｇ（２．１ミリモルの）３０％濃度の過酸化水素溶液を添加し、混合物を４時間攪拌した。水を添加し、混合物を酢酸エチルで抽出した。有機相をチオ硫酸塩溶液で洗浄し、回転式蒸発器で蒸発させた。収量：０．３５ｇ（化学量論量の８９％）の７−（１，３−ジメチル−５−ヒドロキシピラゾール−４−カルボニル）−８−メチル−１，１−ジオキソ−チオクロマンＯ−エチルオキシム）−５−ヒドロキシピラゾール、¹ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）：δ［ｐｐｍ］＝９．９０（１Ｈ、ｂｓ）、８．１２（１Ｈ、ｄ）、７．３５（１Ｈ、ｄ）、７．３５（１Ｈ、ｄ）、４．３２（２Ｈ、ｑ）、３．６５（３Ｈ、ｓ）、３．４４（４Ｈ、ｍ）、２．７０（３Ｈ、ｓ）、１．７３（３Ｈ、ｓ）、１．３８（３Ｈ、ｔｒ）。化合物Ｉおよびその農業上有用な塩は（双方共に異性体混合物および純粋な異性体として）除草剤として適している。Ｉを含有する除草剤組成物は非耕作地帯の植物を、特に高施与率にて、非常に良好に防除する。栽培植物に害を与えることなく、小麦、稲、とうもろこし、大豆、綿花などの栽培植物における広葉の雑草および稲科の雑草を非常に良好に防除することができる。この効果は特に低使用量において顕著である。施与方法の多様性を考慮して、化合物Ｉまたはこれらを含有する除草剤を更に多種類の農作物に使用し、望ましくない植物を除去することも可能である。使用に適する農作物の例を以下に示す。タマネギ（Ａｌｌｉｕｍｃｅｐａ）パイナップル（Ａｎａｎａｓｃｏｍｏｓｕｓ）ナンキンマメ（Ａｒａｃｈｉｓｈｙｐｏｇａｅａ）アスパラガス（Ａｓｐａｒａｇｕｓｏｆｆｉｃｉｎａｌｉｓ）フダンソウ（Ｂｅｔａｖｕｌｇａｒｉｓｓｐｐ．ａｌｔｉｓｓｉｍａ）サトウジシヤ（Ｂｅｔａｖｕｌｇａｒｉｓｓｐｐ．ｒａｐａ）アブラナ（変種カブラ）（Ｂｒａｓｓｉｃａｎａｐｕｓｖａｒ．ｎａｐｕｓ）カブカンラン（変種ナポプラシーカ）（Ｂｒａｓｓｉｃａｎａｐｕｓｖａｒ．ｎａｐｏｂｒａｓｓｉｃａ）テンサイ（変種シルベストリス）（Ｂｒａｓｓｉｃａｒａｐａｖａｒ．ｓｉｌｖｅｓｔｒｉｓ）トウツバキ（Ｃａｍｅｌｌｉａｓｉｎｅｎｓｉｓ）ベニバナ（Ｃａｒｔｈａｍｕｓｔｉｎｃｔｏｒｉｕｓ）キヤリーヤイリノイネンシス（Ｃａｒｙａｉｌｌｉｎｏｉｎｅｎｓｉｓ）レモン（Ｃｉｔｒｕｓｌｉｍｏｎ）ナツミカン（Ｃｉｔｒｕｓｓｉｎｅｎｓｉｓ）コーヒー〔Ｃｏｆｆｅａａｒａｂｉｃａ（Ｃｏｆｆｅａｃａｎｅｐｈｏｒａ、Ｃｏｆｆｅａｌｉｂｅｒｉｃａ）〕キユウリ（Ｃｕｃｕｍｉｓｓａｔｉｖｕｓ）ギヨウギシバ（Ｃｙｎｏｄｏｎｄａｃｔｙｌｏｎ）ニンジン（Ｄａｕｃｕｓｃａｒｏｔａ）アブラヤシ（Ｅｌａｅｉｓｇｕｉｎｅｅｎｓｉｓ）イチゴ（Ｆｒａｇａｒｉａｖｅｓｃａ）大豆（Ｇｌｙｃｉｎｅｍａｘ）木棉〔Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍｈｉｒｓｕｔｕｍ（Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍａｒｂｏｒｅｕｍ、Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍｈｅｒｂａｃｅｕｍ、Ｇｏｓｓｙｐｉｕｍｖｉｔｉｆｏｌｉｕｍ）〕ヒマワリ（Ｈｅｌｉａｎｔｈｕｓａｎｎｕｕｓ）ゴムノキ（Ｈｅｖｅａｂｒａｓｉｌｉｅｎｓｉｓ）大麦（Ｈｏｒｄｅｕｍｖｕｌｇａｒｅ）カラハナソウ（Ｈｕｍｕｌｕｓｌｕｐｕｌｕｓ）アメリカイモ（Ｉｐｏｍｏｅａｂａｔａｔａｓ）オニグルミ（Ｊｕｇｌａｎｓｒｅｇｉａ）レンズマメ（Ｌｅｎｓｃｕｌｉｎａｒｉｓ）アマ（Ｌｉｎｕｍｕｓｉｔａｔｉｓｓｉｍｕｍ）トマト（Ｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｏｎｌｙｃｏｐｅｒｓｉｃｕｍ）リンゴ属（Ｍａｌｕｓｓｐｐ．）キヤツサバ（Ｍａｎｉｈｏｔｅｓｃｕｌｅｎｔａ）ムラサキウマゴヤシ（Ｍｅｄｉｃａｇｏｓａｔｉｖａ）バシヨウ属（Ｍｕｓａｓｐｐ．）タバコ〔Ｎｉｃｏｔｉａｎａｔａｂａｃｕｍ（Ｎ．ｒｕｓｔｉｃａ）〕オリーブ（Ｏｌｅａｅｕｒｏｐａｅａ）イネ（Ｏｒｙｚａｓａｔｉｖａ）アズキ（Ｐｈａｓｅｏｌｕｓｌｕｎａｔｕｓ）ゴガツササゲ（Ｐｈａｓｅｏｌｕｓｖｕｌｇａｒｉｓ）トウヒ（Ｐｉｃｅａａｂｉｅｓ）マッ属（Ｐｉｎｕｓｓｐｐ．）シロエンドウ（Ｐｉｓｕｍｓａｔｉｖｕｍ）サクラ（Ｐｒｕｎｕｓａｖｉｕｍ）モモ（Ｐｒｕｎｕｓｐｅｒｓｉｃａ）ナシ（Ｐｙｒｕｓｃｏｍｍｕｎｉｓ）スグリ（Ｒｉｂｅｓｓｙｌｖｅｓｔｒｅ）トウゴマ（Ｒｉｃｉｎｕｓｃｏｍｍｕｎｉｓ）サトウキビ（Ｓａｃｃｈａｒｕｍｏｆｆｉｃｉｎａｒｕｍ）ライムギ（Ｓｅｃａｌｅｃｅｒｅａｌｅ）ジャガイモ（Ｓｏｌａｎｕｍｔｕｂｅｒｏｓｕｍ）モロコシ〔Ｓｏｒｇｈｕｍｂｉｃｏｌｏｒ（ｓ．ｖｕｌｇａｒｅ）〕カカオ（Ｔｈｅｏｂｒｏｍａｃａｃａｏ）ムラサキツメクサ（Ｔｒｉｆｏｌｉｕｍｐｒａｔｅｎｓｅ）小麦（Ｔｒｉｔｉｃｕｍａｅｓｔｉｖｕｍ）トリテイカム、ドラム（Ｔｒｉｔｉｃｕｍｄｕｒｕｍ）ソラマメ（Ｖｉｃｉａｆａｂａ）ブドウ（Ｖｉｔｉｓｖｉｎｉｆｅｒａ）トウモロコシ（Ｚｅａｍａｙｓ）。更に、遺伝子工学的方法を含む、栽培により除草剤に高い抵抗性を有する農作物においても、化合物Ｉを用いることが可能である。除草剤またはその有効物質は事前法または事後法により施与される。有効物質がある種の栽培植物にうまく適合しない場合は、下部に成長している雑草または露出している土壌には付着しても、敏感な栽培植物の葉にできるだけ接触しないように、噴霧装置により除草剤を噴霧することができる（後直接撒布、レイーバイ）。化合物Ｉおよびこれを含有する除草剤は、例えば直接的に噴霧可能な水溶液、粉末、懸濁液、高濃度の水性、油性またはその他の懸濁液または分散液、エマルジョン、油性分散液、ペースト、ダスト剤、散布剤または顆粒の形で噴霧、ミスト法、ダスト法、散布法または注入法によって適用することができる。適用形式は、完全に使用目的に基づいて決定される。いずれの場合にも、本発明の有効物質の可能な限りの微細分が保証されるべきである。適する不活性添加剤としては、主に中位乃至高位の沸点の鉱油留分、例えば燈油またはディーゼル油、更にコールタール油等、並びに植物性または動物性産出源の油、脂肪族、環状および芳香族炭化水素、例えばパラフィン、テトラヒドロナフタレン、アルキル置換ナフタレンまたはその誘導体、アルキル化ベンゼンおよびその誘導体、アルコール、例えばメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサノン、強極性溶剤、例えばＮ− メチルピロリドン、水が使用される。水性使用形は、乳濁液濃縮物、懸濁液、ペースト、または湿潤可能の粉末、水分散可能の粒体に水を添加して製造することができる。乳濁液、ペーストまたは油分散液を製造するためには、物質を油または溶剤中に溶解して、湿潤剤、接着剤、分散剤または乳化剤により水中に均質に混合、或いは油又は溶媒中に溶解することができる。有効物質、湿潤剤、接着剤、分散剤または乳化剤および場合により溶剤または油よりなる濃縮物を製造することもでき、これは水にて希釈するのに適する。適する界面活性剤（助剤）としては、芳香族スルホン酸、たとえばリグノスルホン酸、フェノールスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、ジブチルナフタレンスルホン酸の各アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、並びに脂肪酸、アルキルスルホナート、アルキアリールスルホナート、アルキルスルファート、ラウリルエーテルスルファート、および脂肪アルコールスルファートのアルカリ金属塩およびアルカリ土類金属塩、アンモニウム塩、並びに硫酸化ヘキサデカノール、ヘプタデカノールおよびオクタデカノールの塩、並びに脂肪アルコールグリコールエーテルの塩、スルホン化ナフタレンおよびナフタレン誘導体とホルムアルデヒドとの縮合生成物、ナフタレン或はナフタレンスルホン酸とフェノールおよびホルムアルデヒドとの縮合生成物、ポリオキシエチレン−オクチルフェノールエーテル、エトキシル化イソオクチルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノール、アルキルフェニルポリグコールエーテル、トリブチルフェニルポリグリコールエーテル、アルキルアリールポリエーテルアルコール、イソトリデシルアルコール、脂肪アルコール／エチレンオキシド縮合物、エトキシル化ヒマシ油、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、またはポリオキシプロピレンアルキルエーテル、ラウリルアルコールポリグリコールエーテルアセタート、ソルビトールエステル、リグノ亜硫酸塩廃液およびメチルセルロースが挙げられる。粉末、散布剤および振りかけ剤は有効物質と固状担体物質とを混合または一緒に磨砕することにより製造することができる。粒状体、例えば被覆−、含浸−および均質粒状体は、有効物質を固状担体物質に結合することにより製造することができる。固状担体物質は、例えば鉱物土、例えばシリカ、シリカゲル、珪酸塩、タルク、カオリン、石灰石、石灰、白亜、膠塊粒土、石灰質黄色粘土、粘土、白雲石、珪藻土、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、酸化マグネシウム、磨砕合成樹脂、肥料、例えば硫酸アンモニウム、燐酸アンモニウム、硝酸アンモニウム、尿素および植物性生成物、例えば穀物粉、樹皮、木材およびクルミ穀粉、セルロース粉末および他の固状担体物質である。直接使用可能な調整における有効成分Ｉの濃度は広範囲に変更可能である。一般的に製剤は、０．００１〜９８重量％、好ましくは０．０１〜９５重量％の少なくとも１種類の有効物質を含有する。この際有効物質は純度９０〜１００％、特に９５〜１００％（ＮＭＲスペクトルによる）で使用される。本発明による化合物Ｉは以下のように調製される。Ｉ．２０重量部の化合物Ｎｏ．６．１を、アルキル化ベンゼン８０重量部、エチレンオキシド８〜１０モルをオレイン酸−Ｎ−モノエタノールアミド１モルに付加した付加生成物１０重量部、ドデシルベンゼンルスルホン酸のカルシウム塩５重量部、およびエチレンオキシド４０モルをヒマシ油１モルに付加した付加生成物５重量部よりなる混合物中に添加する。この混合物を１０００００重量部の水に注入しかつ細分布することにより有効物質０．０２重量％を含有する水性分散液が得られる。ＩＩ．２０重量部の化合物Ｎｏ．６．２を、シクロヘキサノン４０重量部、イソブタノール３０重量部、イソオクチルフェノール４０モルの付加生成物２０重量部、エチレンオキシド４０モルをヒマシ油１モルに付加した付加生成物１０重量部よりなる混合物中に溶解する。この溶液を水１０００００重量部に注入することにより有効成分０．０２重量％を含有する水性分散液が得られる。ＩＩＩ．２０重量部の有効成分Ｎｏ．６．３を、シクロヘキサノン２５重量部、沸点２１０〜８０℃の鉱油留分６５重量部、およびエチレンオキシド４０モルをヒマシ油１モルに付加した付加生成物１０重量部よりなる混合物中に溶解する。この溶液を水１０００００重量部に注入することにより有効物質０．０２重量％を含有する水性分散液が得られる。ＩＶ．２０重量部の有効成分Ｎｏ．６．４を、ジイソブチルナフタレン−ａ− スルホン酸のナトリウム塩３重量部、亜硫酸塩−廃液よりのリグニンスルホン酸のナトリウム塩１７重量部および粉末状シリカゲル６０重量部と充分に混和し、かつハンマーミル中において磨砕する。この混合物を水２００００重量部に細分布することにより有効物質０．１重量％を含有する噴霧液が得られる。Ｖ．３重量部の有効成分Ｎｏ．６．５を細粒状カオリン９７重量部と密に混和する。かくして有効物質３重量％を含有するダスト剤が得られる。ＶＩ．２０重量部の有効成分Ｎｏ．６．８を、ドデシルベンゼンスルホン酸のカルシウム塩２重量部、脂肪アルコールポリグリコールエーテル８重量部、フェノール−尿素−ホルムアルデヒド縮合物のナトリウム塩２重量部およびパラフィン系鉱油６８重量部と密に混和する。安定な油状分散液が得られる。ＶＩＩ．１重量部の有効成分Ｎｏ．６．９を、シクロヘキサノン７０重量部、エトキシル化イソオクチルフェノール２０重量部、エトキシル化ヒマシ油１０重量部に溶解する。これにより安定な乳濁液濃縮物が得られる。ＶＩＩＩ．１重量部の有効成分Ｎｏ．６．１０を、シクロヘキサノン８０重量部、Ｗｅｔｔｏｌ（登録商標）ＥＭ３１（エトキシル化ヒマシ油を基礎とする非イオン性乳化剤）２０重量部からなる混合物に溶解した。これにより安定な乳濁液濃縮物が得られる。有効作用範囲を拡張し、相乗効果を達成するために、ピラゾール−４−イルベンゼン誘導体Ｉは、多様な他の除草剤ないし生長抑制有効物質と混合され、同時に施与される。その混合対称物質としては、例えば１，２，４−チアジアゾール、１，３，４−チアジアゾール、アミド、アミノ燐酸およびその誘導体、アミノトリアゾール、アニリド、アリールオキシ−／ヘテロアリールオキシアルカン酸およびその誘導体、安息香酸およびその誘導体、ベンゾチアジアジノン、２− （ヘテロアリール／アロイル）−１，３−シクロヘキサンジオン、ヘテロアリールアリールケトン、ベンジルイソキサゾリジノン、メタ−ＣＦ₃−フェニル誘導体、カルバマート、キノリンカルボン酸およびその誘導体、クロロアセトアニリド、シクロヘキサン−１，３−ジオン誘導体、ジアジン、ジクロロプロピオン酸およびその誘導体、ジヒドロベンゾフラン、ジヒドロフラン−３−オン、ジニトロアニリン、ジニトロフェノール、ジフェニルエーテル、ジピリジル、ハロカルボン酸およびその誘導体、尿素、３−フェニルウラシル、イミダゾール、イミダゾリノン、Ｎ−フェニル−３，４，５，６−テトラヒドロフタルイミド、オキサジアゾール、オキシラン、フェノール、アリールオキシ−およびヘテロアリールオキシフェノキシプロピオン酸エステル、フェニル酢酸およびその誘導体、２− フェニルプロピオン酸およびその誘導体、ピラゾール、フェニルピラゾール、ピリダジン、ピリジンカルボン酸およびその誘導体、ピリミジルエーテル、スルホンアミド、スルホニル尿素、トリアジン、トリアジノン、トリアゾリノン、トリアゾールカルボキシアミドおよびウラシルが挙げられる。更に、化合物Ｉは単独で、または他の除草剤と組み合わせて、または他の植物保護剤、例えば殺害虫剤または植物殺菌剤または殺バクテリア剤と混合して施与することができるという利点を有する。更に苗栄養不足、希元素欠乏などの症状治癒のために使用されるミネラル塩溶液と混合し得ること、植物に無害の油類、油濃縮物類に添加し得ることも重要である。また有効成分の使用量は、その防除目的、季節、目的植物、その生長段階を考慮して、１ヘクタール当たり０．００１〜３．０ｋｇ、好ましくは０．０１〜１．０ｋｇとされる。使用実施例式Ｉのピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体の除草効果を以下の温室実験で示す。プラスチック植木鉢を栽培容器として用い、約３．０％腐蝕したローム質の砂を培養基とした。被検植物の種子を種類ごとに播種した。事前法により、水中に懸濁または乳化させた有効物質を、種子を撒いた後に細分布したノズルを使用して直接撒布した。出芽と成長を促進するために容器を軽く潅水し、次いで植物が根付くまで半透明のプラスチックの覆いを被せた。有効物質により害が与えられない限り、この被覆が被検植物の均一な出芽を促進する。事後法による処理を行う目的で、被検植物を発育型により、草丈３−１５ｃｍとなった後、水中に懸濁または乳化させた有効物質で処理した。この場合、被検植物を直接播種し同一の容器で栽培することも、当初は別々に苗として植え、処理の行われる２−３日前に試験用容器に移植することも可能である。事後法の場合の有効物質（ａ．ｉ．）の使用量を、１ヘクタール当たり０．５ｋｇまたは０．２５ｋｇとした。各被検植物を種類ごとに１０−２５℃または２０−３５℃に保持し、実験期間を２−４週間とした。この間、被検植物を管理し、個々の処理に対する反応を評価した。０−１００の基準に基づき評価を行った。この基準において１００は植物が全く出芽しないか、或いは少なくとも地上に出ている部分の全てが破壊してしまったことを示し、０は全く被害がなく正常な成長を遂げたことを示す。以下に温室実験で使用した植物の種類を示す。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項【提出日】１９９７年７月２３日【補正内容】請求の範囲１．式Ｉで表され、式中Ｌ、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ（これらの基は非置換であっても、１〜５個のハロゲン原子、またはＣ₁−Ｃ₄アルコキシにより置換されてもよい）、ハロゲン、シアノニトロ、−(Ａ)_m−Ｓ(Ｏ)_nＲ¹で示される基、または−(Ａ)_m−ＣＯ−Ｒ²で示される基を意味し、ＹがＣ＝Ｏ、Ｃ＝Ｎ−Ｒ³、ＣＲ⁷−ＮＲ⁵Ｒ⁶、ＣＲ⁷−ＯＲ⁸、ＣＲ¹⁰Ｒ¹¹、ＣＲ⁷−ＳＲ⁸、酸素、硫黄および窒素からなる群から選択されるヘテロ原子を意味し、Ｘが鎖（−ＣＲ¹²Ｒ¹³−）、（−ＣＲ¹²Ｒ¹³−ＣＲ²¹Ｒ²²−）、（−ＣＲ¹²＝ＣＲ¹³−）、（−ＣＲ¹²Ｒ¹³−ＣＲ¹²＝ＣＲ¹³−）またはＮＲ²³を意味し、ＸとＹとの間の結合が飽和または不飽和であり、Ａが酸素またはＮＲ¹⁴を意味し、ｍが０または１であり、ｎが０、１または２であり、Ｒ¹がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルまたはＮＲ¹⁴、Ｒ²がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシまたはＮＲ¹⁴、Ｒ³が水素、−ＮＲ⁹Ｒ⁴、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、非置換または置換ベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、または非置換または置換ベンジルオキシ（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ⁴が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ＝Ｏ−ＮＲ¹⁴、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、非置換または置換ベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ⁹が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ＝Ｏ−ＮＲ¹⁴、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、または非置換または置換ベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ⁵、Ｒ⁶が、それぞれ独立に水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₂−Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₆ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、または非置換または置換ベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ⁷が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（１〜３個のハロゲン、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ニトロにより置換されてもよい）を意味するか、またはＲ⁷とＲ²¹、Ｒ⁷とＲ²³、またはＲ⁷ とＲ¹²が結合を形成してもよく、Ｒ⁸が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロで置換されてもよい）、または非置換または置換ベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロで置換されてもよい）を意味し、Ｒ¹⁰、Ｒ¹¹がそれぞれ独立に水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、非置換または置換フェニル（１〜３個のハロゲン、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ ハロアルコキシ、ニトロにより置換されてもよい）、またはＲ¹⁰とＲ¹²、Ｒ¹⁰とＲ²¹、Ｒ¹⁰とＲ²³が結合を形成してもよく、Ｒ¹⁰とＲ¹¹が合体して１，４−ジオキサブタン−１，４−ジイル、１，３−ジオキサブタン−１，４−ジイル、１，５−ジオキサペンタン−１，５−ジイル、１，３−ジオキサペンタン−１，５− ジイル、または２，４−ジオキサペンタン−１，５−ジイル鎖（これらは水素またはＣ₁−Ｃ₄アルキルにより置換されている）を形成してもよい、Ｒ¹²、Ｒ¹³がそれぞれ独立に水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ¹⁴がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｒ²¹が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁ −Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ²²が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁ −Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ²³が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、フェニルまたはベンジル（これらはそれぞれ非置換であっても、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｑが４位で結合する式ＩＩのピラゾール環（式中、Ｒ¹⁵はＣ₁−Ｃ₄アルキルを、Ｒ¹⁶は水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたはＣ₁−Ｃ₄ハロアルキルを、Ｒ¹⁷は水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、フェニルスルホニルまたはアルキルフェニルスルホニルをそれぞれ意味する）を意味し、ＹがＣ＝Ｏである場合、ＸがＮＲ²³ではないことを特徴とするピラゾール−４ −イルベンゾイル誘導体、またはその農業上有用な塩。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＵＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＵ，ＢＧ，ＢＲ，ＣＡ，ＣＮ，ＣＺ，ＥＥ，ＧＥ，ＨＵ，ＩＬ，ＪＰ，ＫＲ，ＬＴ，ＬＶ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＲＯ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＴＲ，ＵＡ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ (72)発明者エンゲル，シュテファンドイツ国、Ｄ−65510、イートシュタイン、フリードリヒ−エーベルト−シュトラーセ、13 (72)発明者ヒル，レジナ，ルイーゼドイツ国、Ｄ−67346、シュパイァ、ツィーゲルオーフェンヴェーク、40 (72)発明者カルドルフ，ウヴェドイツ国、Ｄ−68159、マンハイム、デー３．４ (72)発明者フォセン，マルクスドイツ国、Ｄ−68199、マンハイム、ヴィルヘルム−ヴント−シュトラーセ、７ (72)発明者プラト，ペータードイツ国、Ｄ−67227、フランケンタール、ハンス−バルケ−シュトラーセ、13 (72)発明者ゲツ，ノルベルトドイツ国、Ｄ−67547、ヴォルムス、シェファーシュトラーセ、25 (72)発明者ヴァルター，ヘルムートドイツ国、Ｄ−67283、オブリッヒハイム、グリューンシュタッター、シュトラーセ、 82 (72)発明者ヴェストファレン，カール−オットードイツ国、Ｄ−67346、シュパイァ、マウスベルクヴェーク、58 (72)発明者ミスリッツ，ウルフドイツ国、Ｄ−67433、ノイシュタット、アム、ヘルツェル、40

Claims

【特許請求の範囲】１．式Ｉで表され、式中Ｌ、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ（これらの基は非置換であっても、１〜５個のハロゲン原子、またはＣ₁−Ｃ₄アルコキシにより置換されてもよい）、ハロゲン、シアノ、ニトロ、−（Ａ）_m−Ｓ（Ｏ）_nＲ¹で示される基、または−（Ａ）_m−ＣＯ−Ｒ² で示される基を意味し、ＹがＣ＝Ｏ、Ｃ＝Ｎ−Ｒ³、ＣＲ⁷−ＮＲ⁵Ｒ⁶、ＣＲ⁷−ＯＲ⁸、ＣＲ¹⁰Ｒ¹¹、ＣＲ⁷−ＳＲ⁸、１，３−ジオキサニルまたは１，３−ジオキソラニル（これらはそれぞれ水素またはＣ₁−Ｃ₄アルキルにより置換されてもよい）、酸素、硫黄および窒素からなる群から選択されるヘテロ原子を意味し、Ｘが鎖（−ＣＲ¹²Ｒ¹³−）、（−ＣＲ¹²Ｒ¹³−ＣＲ²¹Ｒ²²−）、（−ＣＲ¹²＝ＣＲ¹³−）、（−ＣＲ¹²Ｒ¹³−ＣＲ¹²＝ＣＲ¹³−）またはＮＲ²³を意味し、ＸとＹとの間の結合が飽和または不飽和であり、Ａが酸素またはＮＲ¹⁴を意味し、ｍが０または１であり、ｎが０、１または２であり、Ｒ¹がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルまたはＮＲ¹⁴、Ｒ²がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシまたはＮＲ¹⁴、Ｒ³が水素、−ＮＲ⁹Ｒ⁴、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルコキシ、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、非置換または置換ベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、または非置換または置換ベンジルオキシ（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ⁴が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ＝Ｏ−ＮＲ¹⁴、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、非置換または置換ベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ⁹が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ＝Ｏ−ＮＲ¹⁴、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、または非置換または置換ベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ⁵、Ｒ⁶が、それぞれ独立に水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₂−Ｃ₆ハロアルケニル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₆ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）、または非置換または置換ベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ⁷が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（１〜３個のハロゲン、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ニトロにより置換されてもよい）を意味するか、またはＲ⁷とＲ²¹、Ｒ⁷とＲ²³、またはＲ⁷ とＲ¹²が結合を形成してもよく、Ｒ⁸が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロで置換されてもよい）、または非置換または置換ベンジル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロで置換されてもよい）を意味し、Ｒ¹⁰、Ｒ^llがそれぞれ独立に水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、非置換または置換フェニル（１〜３個のハロゲン、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ ハロアルコキシ、ニトロにより置換されてもよい）、またはＲ¹⁰とＲ¹²、Ｒ¹⁰とＲ²¹、Ｒ¹⁰とＲ²³が結合を形成してもよく、Ｒ¹²、Ｒ¹³がそれぞれ独立に水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ¹⁴がＣ₁−Ｃ₄アルキル、Ｒ²¹が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ²²が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₆ハロアルコキシ、非置換または置換フェニル（Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁ −Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｒ²³が水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₁−Ｃ₆アルコキシ、フェニルまたはベンジル（これらはそれぞれ非置換であっても、Ｃ₁−Ｃ₄アルキル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、ハロゲン、シアノ、ニトロにより置換されてもよい）を意味し、Ｑが４位で結合する式ＩＩのピラゾール環（式中、Ｒ¹⁵はＣ₁−Ｃ₄アルキルを、Ｒ¹⁶は水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルまたはＣ₁−Ｃ₄ハロアルキルを、Ｒ¹⁷は水素、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、フェニルスルホニルまたはアルキルフェニルスルホニルをそれぞれ意味する）を意味し、ＹがＣ＝Ｏである場合、ＸがＮＲ²³ではないことを特徴とするピラゾール−４ −イルベンゾイル誘導体、またはその農業上有用な塩。２．式Ｉａで表され、式中Ｌが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁ −Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルチオ、Ｃ₁− Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ ハロアルキルチオ、Ｃ₁−Ｃ₄アルキルスルホニル、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｑ、Ｘ、ｎおよびＹは請求項１に記載の意味を有し、ＹがＣ＝Ｏである場合、ＸがＮＲ²³ではないことを特徴とするピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体。３．式Ｉｂで表され、式中ＬがＣ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄ アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂− Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｑ、Ｘ、ｎおよびＹが請求項１に記載の意味を有し、ＹがＣ＝Ｏである場合、ＸがＮＲ²³ではないことを特徴とするピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体。４．ＬおよびＭが水素、メチル、メトキシ、塩素、シアノ、ニトロ、またはトリフルオロメチルを意味することを特徴とする請求項１に記載の式Ｉのピラゾール −４−イルベンゾイル誘導体。５．式Ｉｃで表され、式中Ｌが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁ −Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｑ、ｎ、ＹおよびＲ²² 、Ｒ²¹、Ｒ¹²およびＲ¹³が請求項１に記載の意味を有することを特徴とするピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体。６．式Ｉｄで表され、式中Ｌが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁ −Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｑ、ｎ、Ｙ、Ｒ¹²およびＲ¹³が請求項１に記載の意味を有することを特徴とするピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体。７．式Ｉｅで表され、式中Ｌが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁ −Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを、Ｍが水素、Ｃ₁−Ｃ₆アルキル、Ｃ₂−Ｃ₆アルケニル、Ｃ₂−Ｃ₆アルキニル、Ｃ₁−Ｃ₄アルコキシ、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルキル、Ｃ₁−Ｃ₄ハロアルコキシ、ハロゲン、ニトロまたはシアノを意味し、Ｑ、ｎ、Ｙ、Ｒ¹²およびＲ¹³が請求項１に記載の意味を有することを特徴とするピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体。８．ｎが１または２であり、ＹがＣＲ⁷−ＣＲ⁸を意味し、このＲ⁷およびＲ⁸ が請求項１に記載の意味を有することを特徴とする、請求項１に記載のピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体。９．式ＩＩａのピラゾールを、式ＩＩＩａの酸塩化物または式ＩＩＩｂの酸（式中のＲ¹⁵、Ｒ¹⁶、Ｌ、Ｍ、Ｘ、ｎおよびＹは請求項１に記載の意味を有する）によりアシル化し、アシル化生成物を触媒の存在下に転位反応に付し化合物Ｉを得ることを特徴とする、請求項１に記載の式Ｉの化合物の製造法。１０．請求項１に記載の式Ｉで表される少なくとも１種類のピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体と慣用の不活性添加剤を含有することを特徴とする除草剤組成物。１１．除草有効量の、請求項１に記載の式１のピラゾール−４−イルベンゾイル誘導体を植物またはその自生帯域に作用させることを特徴とする、望ましくない草木の防除方法。