JPH11514676A - 立体選択的脱酸素化反応 - Google Patents

立体選択的脱酸素化反応

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JPH11514676A JP10509915A JP50991598A JPH11514676A JP H11514676 A JPH11514676 A JP H11514676A JP 10509915 A JP10509915 A JP 10509915A JP 50991598 A JP50991598 A JP 50991598A JP H11514676 A JPH11514676 A JP H11514676A
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Abstract

(57)【要約】 本発明は、エンドセリンアンタゴニストの合成におけるキー中間体、このキー中間体の合成、及び立体選択的脱酸素化反応においてこの中間体を用いるエンドセリンアンタゴニストの合成に関する。

Description

【発明の詳細な説明】 立体選択的脱酸素化反応 発明の背景 本発明は、エンドセリンアンタゴニストの合成における新規なキーである中間 体、及び式Iのこれらのキー中間体の製造法に関する。 2種のエンドセリンレセプターサブタイプであるETAとETBが今までに知ら れている。本発明の化合物は、2種のレセプターサブタイプの少なくとも1種に 高親和性を有し、血管又は気管などにおいて平滑筋の拡張を引起す。本発明のエ ンドセリンアンタゴニスト化合物は、特に、高血圧、肺高血圧、レイノー病、急 性腎不全、心筋梗塞、狭心症、脳梗塞、脳血管痙攣、動脈硬化、喘息、胃潰瘍、 糖尿病、再発狭窄、前立腺肥大、エンドトキシンショック、エンドトキシンによ って誘起される多臓器不全もしくは散在性血管内凝固、及び/又はシクロスポリ ンによって誘起される腎不全もしくは高血圧の治療の新しい可能性を提供する。 エンドセリンはアミノ酸からなるポリペプチドであり、ヒト 又はブタの血管内皮細胞によって産生される。エンドセリンは強力な血管収縮効 果を有し、持続し、且つ強力な昇圧作用を有する(Nature,332,411-415(1988) )。 3つのエンドセリンイソペプチド(エンドセリン−1、エンドセリン−2、及 びエンドセリン−3)は構造が互いに類似しており、ヒトを含めて動物の体内に 存在し、これらのペプチドは血管収縮作用と昇圧作用を有する(Proc.Natl.Acad. Sci,USA,86,2863-2867(1989))。 エンドセリンレベルは、正常レベルと比べて、本態性高血圧、急性心筋梗塞、 肺高血圧、レイノー病、糖尿病、もしくは動脈硬化の患者の血液で、又は喘息患 者の気管の洗液もしくは血液で明白に上昇していることが報告されている(Japan ,J.Hypertension,12,79(1989),J.Vascular medicine Biology,2,207(1990) ,Diabetologia,33,306-310(1990),J.Am.Med.Association,264,2868(19 90),及びThe Lancet,ii,747-748(1989),ii,1144-1147(1990))。 更に、脳血管痙攣の実験モデルでの脳血管のエンドセリンに対する感受性の増 大(Japan.Soc.Cereb.Blood Flow & Metabol.,1,73(1989))、急性腎不全モデル におけるエンドセリン抗体 による腎機能の改善(J.Clin.invest.,83,1762-1767(1989))、及び胃潰瘍モ デルにおけるエンドセリン抗体による胃潰瘍進行の阻害(Extract of Japanese Society of Experimental Gastric Ulcer,50(1991))が報告された。そのため 、エンドセリンは、急性腎不全又はクモ膜下出血後の脳血管痙攣を引起すメディ エーターの一つと推定される。 更に、エンドセリンは、内皮細胞だけではなく、気管内皮細胞や腎細胞によっ ても分泌される(FEBS Letters,255,129-132(1989)及びFEBS Letters,249,42- 46(1989))。 エンドセリンはまた、レニン、心房性利尿ペプチド、内皮由来弛緩因子(ED RF)、トロンボキサンA2、プロスタサイクリン、ノルアドレナリン、アンジ オテンシン II及びサブスタンスPなどの生理活性内因性物質の放出を制御する ことが見出された(Biochem.Biophys.Res.Commun.,157,1164-1168(1988);Bioc hem.Biophys.Res.Commun.,155,20,167-172(1989);Proc.Natl.Acad.Sci.USA ,85,1,9797-9800(1989);J.Cardiovasc.Pharmacol.,13,S89-S92(1989);Ja pan.J.Hypertension,12,76(1989);Neuroscience Letters,102,179-184(1 989))。更に、エンドセリンは胃腸管の平滑筋と子宮平 滑筋の収縮を引起す(FEBS Letters,247,337-340(1989);Eur.J.pharmacol., 154,227-228(1988);Biochem.Biophys.Res.Commun.,159,317-323(1989))。更 に、エンドセリンはラットの血管平滑筋細胞の増殖を促進することが見出され、 このことは、動脈肥大との関連の可能性を示唆した(Atherosclerosis,78,225 -228(1989))。更に、エンドセリンレセプターは末梢組織だけではなく中枢神経 系においても高密度に存在し、エンドセリンの脳投与は動物の行動変化を誘導す るので、エンドセリンは神経機能を制御するために重要な役割を果たすらしい( Neuroscience Letters,97,276-279(1989))。特に、エンドセリンは疼痛のメ ディエーターの一つであることが示唆される(Life Sciences,49,PL61-PL65(1 991))。 ラット頚動脈バルーン内皮削剥によって内部の過形成反応が誘導された。エン ドセリンは内部過形成のかなりの悪化を引起す(J.Cardiovasc.Pharmacol.,22, 355-359 & 371-373(1993))。これらのデータは、血管再発狭窄症の病因におけ るエンドセリンの役割を支持する。ETAレセプターとETBレセプターの両方が ヒト前立腺に存在し、エンドセリンはそれを強力に収縮させることが最近報告さ れた。これらの結果はエンドセリンが 前立腺過形成の病態生理学に関与している可能性を示唆する。(J.Urology,151 ,763-766(1994);Molecular Pharmocol.,45,306-311(1994))。 一方、エンドトキシンはエンドセリンの放出を促進する可能性のある候補の一 つである。エンドトキシンを動物に外部から投与した場合、又は培養内皮細胞に 添加した場合に、それぞれ、血液又は内皮細胞の培養上清でのエンドセリンレベ ルの顕著な上昇が観察された。これらの知見は、エンドセリンはエンドトキシン によって誘起される疾患の重要なメディエーターであることを示唆する(Bioche m.Biophys.Commun.,161,1220-1227(1989);Acta Physiol.Scand.,137,317-3 18(1989))。 更に、シクロスポリンは、腎細胞培養(LLC−PKL細胞)でエンドセリン 分泌を顕著に増大させることが報告された(Eur.J.Pharmacol.,180,191-192(19 90))。更に、ラットにシクロスポリンを投与すると、循環エンドセリンレベルの 顕著な増加と共に、糸球体濾過速度が減少し、血圧が上昇した。このシクロスポ リンで誘導される腎不全は、エンドセリン抗体の投与で抑制することができる( Kidney Int.,37,1487-1491(1990))。それ故、エンドセリンはシクロスポリン で誘起 される疾患の病因に有意に関与することが推定される。 エンドセリンのこのような種々の影響は、多数の組織に広範に分布しているエ ンドセリンレセプターへのエンドセリンの結合によって引起される(Am.J.Physio l.,256,R856-R866(1989))。 エンドセリンによる血管収縮はエンドセリンレセプターの少なくとも2つのサ ブタイプによって引起されることが知られている(J.Cardiovasc.Pharmacol., 17(Suppl.7),S119-S121(1991))。エンドセリンレセプターの一つは、ET−3 よりもET−1に選択性のあるETAレセプターであり、他方はET−1とET −3に等しく活性のあるETBレセプターである。これらのレセプタータンパク 質は互いに異なることが報告されている(Nature,348,730-735(1990))。 エンドセリンレセプターのこれらの2種のサブタイプは組織で異なるように分 布している。ETAレセプターは主に心臓血管組織に存在し、ETBレセプターは 脳、腎臓、肺、心臓及び血管組織などの種々の組織に広範に分布している。 エンドセリンレセプターへのエンドセリンの結合を特異的に阻害する物質は、 エンドセリンの種々の薬理活性に拮抗し、広範な分野で薬剤として有用であると 考えられる。エンドセリン の作用はETAレセプターばかりでなくETBレセプターによっても引起されるの で、どちらかのレセプターサブタイプに対してETレセプターアンタゴニスト活 性を有する新規な非ペプチド性物質は、種々の疾患で有効にエンドセリン活性を 遮断することが期待される。 エンドセリンは、直接的に、又は間接的に(種々の内因性物質の放出を制御す ることによって)血管平滑筋又は非血管平滑筋の収縮の維持又は弛緩の維持を誘 導する内因性物質であり、その過剰な産生又は過剰な分泌は、高血圧、肺高血圧 、レイノー病、気管支喘息、胃潰瘍、糖尿病、動脈硬化、再発狭窄症、急性腎不 全、心筋梗塞、狭心症、脳血管痙攣及び脳梗塞の病因の一つと考えられる。更に 、エンドセリンは、再発狭窄症、前立腺肥大、エンドトキシンショック、エンド トキシンによって誘起される多臓器不全もしくは散在性血管内凝固、及びシクロ スポリンによって誘起される腎不全もしくは高血圧に関与する重要なメディエー ターとして働くことが示唆される。今までに、2種のエンドセリンレセプターE TAとETBが知られている。ETAレセプターと同様にETBレセプターに対する アンタゴニスト剤は薬剤として有用である。抗エンドセリン剤の分野で、 エンドセリンレセプターに対しアンタゴニスト活性を有する幾つかの非ペプチド 性化合物は既に特許に開示された(例えば、欧州特許出願公開第0526708 号、WO93/08799)。それ故、本発明の目的は、ETAレセプター又は ETBレセプターに対し新規で強力な非ペプチド性アンタゴニストの発明によっ て、上記の種々の疾患の治療のための新規な治療薬を提供することである。 上記目的を達成するために、本発明者らは、式I の化合物を製造し、本発明者らによってまた開発された立体選択的脱酸素化反応 でこのキー中間体を用いて、以下の構造 [式中、 6員の炭素環、及びアリールを表す; R3bは、アリール又はヘテロアリールである; R1は、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8 シクロアルキル、アリール、又はヘテロアリールである; R2は、OR4及びN(R52である; R4はC1−C8アルキルである;並びに R5は、H、C1−C8アルキル又はアリールである] のエンドセリンアンタゴニストを製造できるアルドール反応を開発した。発明の概要 本発明は、エンドセリンアンタゴニストの合成におけるキー中間体、このキー 中間体の合成、及び立体選択的脱酸素化反応においてこの中間体を用いるエンド セリンアンタゴニストの合成に関する。 本発明は、式I [式中、 a)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含み、O、N 及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原子を含む5員又は6員の複 素環、ここで該複素環は非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F 、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8 アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nC H3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又 は3個の置換基で置換されている、 b)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含む5員又は 6員の炭素環、ここで該炭素環は非置換であるか、又はOH、CO24、Br、 Cl、F、I、CF3、N (R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2 −C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(C H2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換基 で置換されている、 c)アリール、ここでアリールは下記のとおりである、 を表す; C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキ ニル又はC3−C8シクロアルキルは、非置換であるか、又はOH、CO24、B r、Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C3−C8シクロ アルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群 から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されている; アリールは、非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3 、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル 、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びC O(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される 1個、2個又は3個の置換基で置換されているフェニル又はナフチルと定義し、 2個の置換基が隣接する炭素上にあるときは、それらは結合し、O、N及びSか ら選択される1個、2個又は3個のヘテロ原子を有する5員又は6員の環であっ て、非置換であるか、又はH、OH、CO26、Br、Cl、F、I、CF3、 N(R72、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2 −C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO( CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換 基で置換されている該環を形成する; nは0〜5である; R1は、 a)C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シ クロアルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; ヘテロアリールは、O、N及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原 子を含む5員又は6員の芳香環であって、非 置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3、N(R52 、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アル キニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nC H2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換さ れている該芳香環である; R2は、OR4又はN(R52である; R3aは、 a)−CO−C1−C8アルキル、 b)−CO−アリール、又は c)−CO−ヘテロアリール である; R3bは、 a)C1−C8アルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; R4はC1−C8アルキルである;並びに R5は、H、C1−C8アルキル又はアリールである] を有する化合物に関する。 式I [式中、置換基は上記定義のとおりである] の化合物の製造方法であって、 を、強塩基と非プロトン性溶媒の存在下、温度範囲−78℃〜約25℃で反応さ せることを特徴とする該方法も本発明の範囲内である。 式II [式中、置換基は上記定義のとおりである] の化合物の製造方法であって、 式I の化合物を、溶媒中で還元剤及び酸と温度範囲約−78℃〜約100℃で反応さ せることを特徴とする該方法も本発明の範囲内である。発明の詳細な説明 本発明は、式I [式中、 a)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含み、O、N 及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原子を含む5員又は6員の複 素環、ここで該複素環は非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F 、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8 アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nC H3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又 は3個の置換基で置換されている、 b)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含む5員又は 6員の炭素環、ここで該炭素環は非置換であるか、又はOH、CO24、Br、 Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、 C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(C H2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個 、2個又は3個の置換基で置換されている、 c)アリール、ここでアリールは下記のとおりである、 を表す; C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキ ニル又はC3−C8シクロアルキルは、非置換であるか、又はOH、CO24、B r、Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C3−C8シクロ アルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群 から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されている; アリールは、非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3 、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル 、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びC O(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の 置換基で置換されているフェニル又はナフチルと定義し、2個の置換基が隣接す る炭素上にあるときは、それらは結合し、O、N及びSから選択される1個、2 個又は3個のヘテロ原子を有する5員又は6員の環であって、非置換であるか、 又はH、OH、CO26、Br、Cl、F、I、CF3、N(R72、C1−C8 アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3 −C8シ クロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からな る群から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されている該環を形成す る; nは0〜5である; R1は、 a)C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シ クロアルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; ヘテロアリールは、O、N及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原 子を含む5員又は6員の芳香環であって、非置換であるか、又はOH、CO24 、Br、Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8ア ルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、 CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択さ れる1個、2個又は3個の置換基で置換されている該芳香環である; R2は、OR4又はN(R52である; R3bは、 a)C1−C8アルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; R4はC1−C8アルキルである;並びに R5は、H、C1−C8アルキル又はアリールである] を有する化合物に関する。 本発明の一実施態様は、式I [式中、 a)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含み、O、N 及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原子を含む5員又は6員の複 素環、ここで該複素環は非 置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3、N(R52 、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アル キニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nC H2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換さ れている、 b)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含む5員又は 6員の炭素環、ここで該炭素環は非置換であるか、又はOH、CO24、Br、 Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、 C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(C H2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個 、2個又は3個の置換基で置換されている、 c)アリール、ここでアリールは下記のとおりである、 を表す; C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキ ニル又はC3−C8シクロアルキルは、非置換であるか、又はOH、CO24、B r、Cl、F、I、 CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C3−C8シクロアルキル、CO(C H2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個 、2個又は3個の置換基で置換されている; アリールは、非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3 、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル 、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びC O(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の 置換基で置換されているフェニル又はナフチルと定義し、2個の置換基が隣接す る炭素上にあるときは、それらは結合し、O、N及びSから選択される1個、2 個又は3個のヘテロ原子を有する5員又は6員の環であって、非置換であるか、 又はH、OH、CO26、Br、Cl、F、I、CF3、N(R72、C1−C8 アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3 −C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R5 2からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されている該 環を形成する; nは0〜5である; R1は、 a)C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シ クロアルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; ヘテロアリールは、O、N及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原 子を含む5員又は6員の芳香環であって、非置換であるか、又はOH、CO24 、Br、Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8ア ルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、 CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択さ れる1個、2個又は3個の置換基で置換されている該芳香環である; R2は、OR4又はN(R52である; R3aは、 a)−CO−C1−C8アルキル、 b)−CO−アリール、又は c)−CO−ヘテロアリール である; R3bは、 a)C1−C8アルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; R4はC1−C8アルキルである;並びに R5は、H、C1−C8アルキル又はアリールである] を有する化合物の製造方法であって、 を、強塩基と非プロトン性溶媒の存在下、温度範囲−78℃〜約25℃で反応さ せることを特徴とする該方法である。 上記方法で、強塩基は、約2〜約6当量で、LDA、LiHMDS、KHMD S、NaHMDS、KOtBu及びナトリウムt−アミラートからなる群から選 択され、非プロトン性溶媒は、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、MTB E(メチ ルt−ブチルエーテル)、ベンゼン、トルエン、ペンタン、ヘキサン、ジオキサ ン、及び上記溶媒の混合物からなる群から選択され、温度範囲は約−78℃〜約 25℃、好ましくは約−50℃〜約25℃である。 上記方法の条件は、強塩基はLiHMDS、KHMDS又はNaHMDSで、 好ましくは約3〜約4当量であり、非プロトン性溶媒はテトラヒドロフランであ り、温度範囲は好ましくは約0℃〜約25℃である。 本発明の第2の実施態様は、式II [式中、 a)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含み、O、N 及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原子を含む5員又は6員の複 素環、ここで該複素環は非 置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3、N(R52 、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アル キニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nC H2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換さ れている、 b)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含む5員又は 6員の炭素環、ここで該炭素環は非置換であるか、又はOH、CO24、Br、 Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、 C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(C H2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個 、2個又は3個の置換基で置換されている、 c)アリール、ここでアリールは下記のとおりである、 を表す; C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキ ニル又はC3−C8シクロアルキルは、非置換であるか、又はOH、CO24、B r、Cl、F、I、 CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C3−C8シクロアルキル、CO(C H2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個 、2個又は3個の置換基で置換されている; アリールは、非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3 、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル 、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びC O(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の 置換基で置換されているフェニル又はナフチルと定義し、2個の置換基が隣接す る炭素上にあるときは、それらは結合し、O、N及びSから選択される1個、2 個又は3個のヘテロ原子を有する5員又は6員の環であって、非置換であるか、 又はH、OH、CO26、Br、Cl、F、I、CF3、N(R72、C1−C8 アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3 −C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R5 2からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されている該 環を形成する; R1は、 a)C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シ クロアルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; ヘテロアリールは、O、N及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原 子を含む5員又は6員の芳香環であって、非置換であるか、又はOH、CO24 、Br、Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8ア ルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、 CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択さ れる1個、2個又は3個の置換基で置換されている該芳香環である; nは0〜5である; R2は、OR4又はN(R52である; R3bは、 a)C1−C8アルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; R4はC1−C8アルキルである;並びに R5は、H、C1−C8アルキル又はアリールである] を有する化合物の製造方法であって、式I を有する化合物を、還元剤及び場合によっては酸と、溶媒中、温度範囲約−78 ℃〜約100℃で反応させることを特徴とする該方法である。 上記方法で、還元剤は、水素化物、ボラン、遷移金属触媒含有C5−C6シクロ アルケン、及び遷移金属触媒存在下でのH2からなる群から選択される。約2〜 約20当量、好ましくは約2〜約5当量でこの方法で有用な還元剤は、R3Si H、R2SiH2(式中、RはC1−C8アルキル又はアリールである)及びNaB H4などの水素化物;BH3・NHMe2、BH3・S Me2、BH3・ピリジン、及びBH3・THFなどのボラン;Pd−C、Pt− C、Rh/Al、ラネーNiを含有するシクロヘキセンもしくはシクロヘキサジ エンのような遷移金属触媒含有C5−C6シクロアルケン;Pd−C、Pt−C、 Rh/Al、及びラネーNiなどの遷移金属触媒存在下でのH2;又はSmI2で ある。 上記方法で、還元剤が水素化物、ボラン、又は遷移金属触媒含有C5−C6シク ロアルケンであるとき、酸はルイス酸であり、還元剤が遷移金属触媒存在下での H2であるとき、酸はプロトン酸であり、又は還元剤がSmI2であるとき、酸は 存在しない。TiCl4、BF3、BCl3、SnCl4、AlCl3及びTiCl2 (OiPr)2のような、約2〜約5当量のルイス酸はこの方法で有用である。 トリフルオロ酢酸、HCl及びH2SO4などのプロトン酸はこの方法で有用であ る。 上記方法で、酸がルイス酸であり、還元剤が水素化物、ボラン又は遷移金属触 媒含有C5−C6シクロアルケンであるとき、溶媒は非プロトン性溶媒であり、酸 がプロトン酸であり、還元剤が遷移金属触媒存在下でのH2であるとき、溶媒は プロトン性溶媒であり、又は還元剤がSmI2であるとき、溶媒は非プ ロトン性溶媒とプロトン性溶媒からなる溶媒系である。テトラヒドロフラン、ジ エチルエーテル、MTBE(メチルt−ブチルエーテル)、ジオキサン、CH2 Cl2、CHCl3、ニトロメタン、トルエン、及びジクロロベンゼンなどの非プ ロトン性溶媒、並びにエタノール、メタノール又はイソプロパノールなどのプロ トン性溶媒は本発明の範囲内の溶媒である。 上記方法で、酸がルイス酸であり、還元剤が水素化物又はボランであるとき、 温度範囲は約−78℃〜約20℃、好ましくは約−20℃〜約10℃であり、酸 がルイス酸又はプロトン酸であり、還元剤が遷移金属触媒含有C5−C6シクロア ルケン、又は遷移金属触媒存在下でのH2であるとき、温度範囲は約0℃〜約1 00℃、好ましくは約0℃〜約40℃であり、あるいは還元剤がSmI2である とき、温度範囲は約0℃〜約30℃である。 上記方法の好適条件は、水素化物はR3SiHであり、ルイス酸はTiCl4で あり、非プロトン性溶媒はニトロメタンであり、温度範囲は約−5℃〜約5℃で ある。 式 を有する化合物の製造の上記方法であって、式 のケトンを、テトラヒドロフラン中、約3〜約5当量のリチウムビス(トリメチ ルシリル)アミドと、約−50℃〜約25℃で反応させることを特徴とする該方 法。 式 を有する化合物の製造の上記方法であって、第3級アルコール を、ニトロメタン中、Et3SiH及びTiCl4と約−5℃〜約5℃で反応させ ることを特徴とする該方法。 式 を有する化合物の製造の上記方法であって、第3級アルコール を、イソプロピルアルコールとテトラヒドロフランの溶液中、SmI2と約10 ℃〜30℃で反応させることを特徴とする該方法。 式 を有する化合物の製造の上記方法であって、第3級アルコール を、イソプロピルアルコールとテトラヒドロフランの溶液中、SmI2と約10 ℃〜30℃で反応させることを特徴とする該方法。 上記置換基は下記の定義を含むことを更に理解してほしい。 上記アルキル置換基は、特定の長さの直鎖及び分岐鎖の炭化水素、例えばメチ ル、エチル、イソプロピル、イソブチル、tert −ブチル、ネオペンチル、イソペンチルなどを表す。 アルケニル置換基は、置換基の各々が炭素−炭素二重結合を含むように改変さ れた上記アルキル、例えばビニル、アリル及び2−ブテニルを表す。 アルキニル置換基は、置換基の各々が炭素−炭素三重結合を含むように改変さ れた上記アルキル、例えばエチニル及びプロピニルを表す。 シクロアルキルは、各々が非置換であっても、又は他の炭化水素置換基で置換 されていてもよい3〜8個のメチレン基からなる環を表し、例えばシクロプロピ ル、シクロペンチル、シクロヘキシル、及び4−メチルシクロヘキシルがある。 アルコキシ置換基は、酸素ブリッジを介して結合した上記アルキル基を表す。 更に、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル及びアルコキシと いう用語は、OH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3、N(R52、C1− C8アルコキシ、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3、及びCO(C H2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換基 で置換されることができることを理解してほしい。 ヘテロアリール置換基は、カルバゾリル、フラニル、チエニル、ピロリル、イ ソチアゾリル、イミダゾリル、イソオキサゾリル、チアゾリル、オキサゾリル、 ピラゾリル、ピラジニル、ピリジル、ピリミジニル、プリニルを表す。 複素環置換基は、ピリジル、ピリミジル、チエニル、フラニル、オキサゾリジ ニル、オキサゾリル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、トリアゾリル 、イミダゾリル、イミダゾルジニル、チアゾリジルニル、イソオキサゾリル、オ キサジアゾリル、チアジアゾリル、モルホリニル、ピペリジニル、ピペラジニル 、ピロリル又はピロリジニルを表す。 α,β−不飽和エステル又はアミド は一般的に、2工程、即ち 1)A環の決まった一つの位置でのカップリング反応 [式中、ZはBr、Cl、I、Oトリフリル、Oトシル又はOメシルなどの脱離 基であり、R2はOR4又はN(R52である];及び 2)アルデヒド(R3a=CHO)の所望のキラル助剤(R3)への変換 [R3は、 又はNR5である;R4はC1−C8アルキルである;R5はH、C1−C8アルキル 又はアリールである;R6、R7、R8及びR9は独立に、H、C1−C8アルキル及 びアリールである、但し、R6とR7は同一ではなく、及び/又はR8とR9は同一 ではなく、あるいはR6とR8、又はR7とR9は結合して、5員又は6員の環を形 成できる(該環は非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、 CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケ ニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3、 CO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個 の置換基で置換されている)] により製造できる。 市販のピリドン1はそのジアニオンを経由し、臭化プロピルによりアルキル化 され、次いで生成物は、PBr3などの臭化剤を用い、ブロモピリジン3aに変 換される。次いでニトリル3aは、水素化アルミニウムジイソブチル(DIBA L)を用い、アルデヒド3に還元される。次いでアルデヒドは、NaOAc、( アリル)2PdCl2、トリ−o−トリルホスフィン、トルエンを用い、還流で、 アクリル酸t−ブチルによるヘック反応を受け、高収率で不飽和エステル4aを 得る。次いで不飽和エステル4aをキラル助剤と反応させ、アクセプター5aを 得る。この方法で有用なキラル助剤の例は、シュードエフェドリン、エフェドリ ン、1N,2N−ジメチル−ジアミノシクロヘキサン、ジフェニルプロリノール 、N−メチルアミノインダノール、及び1N,2N−ジエチルジアミノシクロヘ キサンの対掌体である。 スキーム1 市販の酸10は、BH3・SMe2により、アルコール11に還元され、次いで それは、塩化メシル、トリエチルアミンを用いて、メシラート12を経由し、次 いでNaBrとジメチルアセトアミド(DMAC)を添加して、臭化物13に変 換される。 スキーム2 市販の1,2−アミノインダノールをアシル化し(塩化プロピオニル,K2C O3)、アミド8を得、次いでそれを、アセトニド9に変換する(2−メトキシ プロペン、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム(PPTS))。次いでアセト ニド9を、臭化物13、(LiHMDS)でアルキル化し14を得、次いでそれ を加水分解し(H+,MeOH)、酸とメチルエステル15の混合物を得る。エ ステル/酸の混合物を還元し(LAH)、高収率及び高光学的純度でアルコール 16を得た。アルコール16の保護(TBSCl,イミダゾール)により、臭化 物17、即ちオルガノリチウム17aの前駆体を得る。 スキーム3 オルガノリチウム17aをアクセプター5aと反応させた(−78℃〜−50 ℃)。キラル助剤を除去する操作(酢酸−THF−水)により、アルデヒド6a を高収率及び良好な選択性で得る(スキーム4)。 スキーム4 分子内アルキル化化学により、5員環に閉環する試みを行った(スキーム5) 。即ち、アルデヒド6aを、塩化物25の1:1混合物に変換し(グリニャール 添加,次いでMsCl)、次いでLDAと反応させ(−78℃)、21cと21 aの60:40混合物を純度高く得た。 スキーム5 このアルキル化反応の立体選択性の低さのために、アルドール及び立体選択的 脱酸素化手順を含む別の閉環戦略を開発した(スキーム6及びスキーム7)。ア ルデヒド6aを、グリニャール添加を含む2工程でケトエステル19に変換した (85%)。アルコール18を得、次いでTPAPによる酸化を行った。最 後に、t−ブチルエステルのエステル交換反応(n−BuOH,Ti(OBu)4 )により、n−ブチルエステル19を定量的に得た(スキーム6)。 スキーム6 19はアルドール反応(LiHMDS,THF,25℃)を受け、2種の第3 級アルコール20(1:1)を得、それは純度高く脱酸素化され、良好な収率( 3工程で75%)で所望の複素環21を得た。この反応の選択性は1H NMR で90%deを上回ると推定された(スキーム7)。脱酸素化工程は、水素化ト リアルキルシリル又はヨウ化サマリアンを含むがそれらに限定されない還元剤を 用い、還元剤である水素化物を含有する酸を用いて行うことができる。このアル ドール反応と脱酸素化手順は、−COアリールや−COヘテロアリールなどの種 々のケトンで行うことができる。 スキーム7 カルボン酸22への側鎖ヒドロキシル21の酸化は、標準的条件(触媒RuC l3−NaIO4,CH3CN,又はi)三酸化硫黄ピリジン複合体−ジメチルス ルホキシド、ii)亜塩素酸ナトリウム−tertブタノール、を含む2工程)を用い て行っ た。次なる22の加水分解(NaOH−MeOH)により、標的化合物23を純 度高く得た。この物質の1Hと13C NMRスペクトルは、真正の標的化合物の それと同一であった(スキーム8)。 スキーム8 スキーム9では、スキーム8に記載の化合物23のイソプロ ピルエステルアナログの製造を記載する。不飽和オキサゾリン25は、ブロモピ リジンアルデヒド3によるホスホン酸エステル24のホルナー−エモンス反応に より製造した。25への4−ブロモ−1,2−(メチレンジオキシ)ベンゼンの リチウムアニオンの共役付加により、所望の付加物26を高ジアステレオマー過 剰で得た。 オキサゾリン26の加水分解は、濃硫酸を用いるイソプロピルアルコール中で の還流により行い、イソプロピルエステルを得た(スキームに示さず)。 次いで、メタノール中の触媒パラジウムを用いるイソプロピルエステルのカル ボニル化により、ジエステル27を得た。−78℃でメチルエステル27へのリ チウムアニオン17の逆付加により、所望のケトエステル28を得た。次いで、 化合物28をHF水溶液で処理し、シリル保護基を除去した。次いで、脱保護ア ルコールを、ナトリウムt−アミラートによって環状化し、アルドール付加物を 生成させた。最後に、アルドール付加物29をカルボン酸に酸化し、次いでSm I2の作用により立体選択的に脱酸素化し唯一のジアステレオマーとして30が 生成した。 スキーム9 スキーム9(続き) 以下の実施例により本発明を更に理解できる。実施例は本発明を限定するもの ではない。以下の実施例で用いた参照番号は、スキームで用いた参照番号に必ず しも対応しないことに注意されたい。 実施例1 1の製造 化合物1は市販の出発物質であり、例えばAldrich Chemical Company,Milwauk ee,WI,USA 53201を参照されたい。 実施例2 2の製造 THF200mL中のジイソプロピルアミン(分子量101.19,d 0. 772,2.1当量,20.54mL)を−50℃に冷却し、n−BuLi(ヘ キサン中1.6M, 2.05当量,96mL)を加えると、溶液を−20℃に温めた。0−3℃に1 5分間放置し、次いで−30℃に冷却し、1(分子量134.14,75mmo l,10.0g)を加える。0℃〜43℃の2時間放置する。−50℃に冷却し 、ブロモプロパン(MW123.00,d 1.354,1.0当量,6.8m L)を加える。25℃に30分間温め、30分間放置する。NH4ClとCH2C l2を加える。有機溶媒を乾燥させ(硫酸マグネシウム)、次いで真空蒸発させ 、2を収率61%で得る。 実施例3 3の製造 2(分子量176.22,46mmol)とPBr3(分子量270.70, d 2.880,2.5当量,10.8mL)を混合し、160℃に放置する。 2時間後、25℃に冷却し、CH2Cl2を加える。水を加えて、ゆっくりと反応 を止める。層を分離し、水層をCH2Cl2で2度洗浄する。有機層を一 緒にし、乾燥する(硫酸マグネシウム)。濃縮し、シリカゲルクロマトグラフィ ー(ヘキサン:酢酸エチル90:10)により収率60%で固体を単離する(分 子量239.12,6.60g)。 トルエン66mL中に臭素化反応の生成物(分子量239.12,27.6m mol,6.60g)を溶解し、−42℃に冷却する。DIBAL(トルエン中 1.5M,2当量,37mL)をゆっくりと添加し、−42℃で1時間放置する 。HCl(2N,10当量,134mL)を加え、30分間激しく攪拌する。酢 酸エチルで希釈し、層を分離し、酢酸エチルで水層を洗浄する。有機層を一緒に し、乾燥し(硫酸マグネシウム)、真空濃縮し、3を収率90%で得る(分子量 242.11,6.01g)。 実施例4a 4aの製造 トルエン75mLに3(分子量242.11,24.8mm ol,6.01g)を溶解する。酢酸ナトリウム(分子量82,3当量,6.1 3g)、アクリル酸t−ブチル(分子量128.17,d 0.875,2.5 当量,9.08mL)、P(o−トリル)3(分子量304.38,10モル% ,755mg)及び塩化パラジウムアリルダイマー(分子量365.85,5モ ル%,455mg)を加える。24時間還流する。冷却し、濾過し、真空蒸発さ せる。4a(分子量289.37)を収率80%でシリカゲルクロマトグラフィ ー(ヘキサン:酢酸エチル92:8)で単離する(5.74g)。 実施例4b 4bの製造 トルエン75mLに3(分子量242.11,24.8mmol,6.01g )を溶解する。酢酸ナトリウム(分子量82,3当量,6.13g)、ジメチル アクリルアミド(分子量99.13,d 0.962,1当量,2.55mL) 、PPh3(分子量262.29,10モル%,653mg)及び塩化パ ラジウムアリルダイマー(分子量365.85,5モル%,455mg)を加え る。密封チューブ中24時間140℃で放置する。冷却し、濾過し、真空蒸発さ せる。4b(分子量260.34)を収率70%でシリカゲルクロマトグラフィ ー(ヘキサン:酢酸エチル80:20)で単離する(4.52g)。 実施例5a 5aの製造 CH2Cl253mL中に4a(分子量289.37,19.8mmol,5. 74g)を溶解する。(1R,2R)−N,N−ジメチルシクロヘキサンジアミ ン(分子量142.24,1当量,2.83g)とシーブ(粉末,1重量当量, 5.74g)を加え、25℃で8時間放置する。濾過し、濾液を真空濃縮して、 定量的収率で5a(分子量413.60,8.19g)を得る。 実施例5b 5bの製造 CH2Cl240mL中に4b(分子量260.34,17.4mmol,4. 53g)を溶解する。(1R,2R)−N,N−ジメチルシクロヘキサンジアミ ン(分子量142.24,1当量,2.47g)とシーブ(粉末,1重量当量, 4.53g)を加え、25℃で8時間放置する。濾過し、濾液を真空濃縮して、 定量的収率で5b(分子量384.57,6.69g)を得る。 実施例5c 5cの製造 トルエン53mL中に4a(分子量289.37,19.8mmol,5.7 4g)を溶解する。(S,S)−シュードエフェドリン(分子量165.24, 1.1当量,3.60g)と濃HCl 4滴を加える。Dean-Starkトラップを用 い2時間還流する。飽和NaHCO3水溶液で洗浄し、酢酸エチルで抽出する。 有機層をMgSO4で乾燥し、次いで濾過し、濾液を真空濃縮して、定量的収率 で5c(分子量4436.59,8.64g)を得る。1 H NMR(CDCl3):8.23(d,J=11.78,1H),7.88(d,J=7.33,1H),7.39(m,5H),7.16(d,J= 7.33,1H),7.02(d,J=11.78,1H),5.31(s,1H),4.80(d,J=9.18,1H),2.80(t,J=5.79,2 H),2.59(m,1H),2.19(s,3H),1.72(m,2H),1.56(s,9H),1.39(m,2H),1.27(d,J=4.83, 3H),0.94(t,J=6.76,3H). 実施例5d 5dの製造 トルエン53mL中に4b(分子量260.34,117.4 mmol,5.74g)を溶解する。(S,S)−シュードエフェドリン(分子 量165.24,1.1当量,3.16g)と濃HCl 4滴を加える。Dean-S tarkトラップを用い2時間還流する。飽和NaHCO3水溶液で洗浄し、酢酸エ チルで抽出する。有機層をMgSO4で乾燥し、次いで濾過し、濾液を真空濃縮 して、5cを得る。 実施例6a 6aの製造 THF85mL中に17(実施例17参照,分子量373.41,2当量,1 4.79g)を溶解する。−78℃に冷却し、 温度を−70℃未満に保ちながらt−BuLi(ペンタン中1.7M,4当量, 46.6mL)を加える。15分放置し、次いでTHF65mL中に5cの溶液 (分子量436.59,19.8mmol,8.64g)をゆっくりと加える。 −78℃に1時間放置し、次いで冷NH4Cl水溶液(100mL)中にカニュ ーレで入れる。酢酸エチルを加え、層を分離する。酢酸エチルで水層を洗浄する 。有機層を一緒にし、ブラインで洗浄し、次いで乾燥し(硫酸マグネシウム)、 真空蒸発させる。1H NMRはdeのデータを与える。THF(75mL)、 酢酸(AcOH)(30mL)及び水(10mL)を加える。25℃で5時間放 置する。層を分離し、酢酸エチルで2度水層を洗浄する。有機層を一緒にし、ブ ラインで洗浄し、乾燥し(硫酸マグネシウム)、真空蒸発させる。6a(分子量 583.89)をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル92: 8)により、収率85%(9.83g)で単離する。1 H NMR(C6D6):10.5(s,1H),7.72(d,J=7.85,1H),7.30(d,J=8.64,1H),6.83(d,J=8. 05,1H),6.59(dd,J=8.65,2.61,1H),6.56(d,J=7.99,1H),5.92(m,1H),3.85(dd,J=16 .32,10.77,1H),3.48(m,2H),3.32(s,3H),3.01(dd,J=14.11,6.77,1H),2.87(dd,J=1 6.30,3.91,1H),2.79(dd,J=13.25,6.21,1H),2.68(t,J=7.66,2H),2.10(m,1H),1.72 (m,2H),1.30(s,9H),1.25(m,2H),1.01(s,9H),0.95(d,J=6.42,3H),0.94(t,J=8.40, 3H),0.10(d,J=5.83,6H). 実施例6b 6bの製造 THF70mL中に17(実施例17参照,分子量373.41,2当量,1 2.99g)を溶解する。−78℃に冷却し、温度を−70℃未満に保ちながら t−BuLi(ペンタン中1.7M,4当量,40.9mL)を加える。15分 放置し、次いでTHF55mL中に5b(分子量384.57,17.4mmo l,6.69g)の溶液をゆっくりと加える。−78℃に1時間放置し、次いで 冷NH4Cl水溶液(100mL)中にカニューレで入れる。酢酸エチルを加え 、層を分離する。酢 酸エチルで水層を洗浄する。有機層を一緒にし、ブラインで洗浄し、次いで乾燥 し(硫酸マグネシウム)、真空蒸発させる。1H NMRはdeのデータを与え る。THF(55mL)、AcOH(20mL)及び水(8mL)を加える。2 5℃で5時間放置する。層を分離し、酢酸エチルで2度水層を洗浄する。有機層 を一緒にし、ブラインで洗浄し、乾燥し(硫酸マグネシウム)、真空蒸発させる 。6b(分子量678.99)をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢 酸エチル70:30)により、収率75%(8.86g)で単離する。1 H NMR(CDCl3):10.30(s,1H),7.99(d,J=4.74,1H),7.11(d,J=3.19,1H),6.89(d,J=8 .61,1H),6.78(d,J=2.76,1H),6.59(t,J=2.78,1H),5.70(t,J=2.86,1H),3.87(dd,J= 11.18,4.29,1H),3.74(s,3H),3.58(m,2H),3.11(s,3H),3.25(dd,J=14.35,6.25,1H) ,2.88(s,3H),2.84(m,2H),2.68(dd,J=14.35,8.30,1H),2.47(dd,J=9.02,2.89,1H), 2.09(m,1H),1.75(m,2H),1.39(m,2H),0.99(t,J=3.49,3H),0.92(s,9H),0.92(d,J=7 .15,6H),0.08(d,J=1.91,6H).13 C NMR(CDCl3):190.5,171.6,165.9,163.7,157.9,139.3,137.2,135.5,130.0,12 7.1,120.8,115.5,111.7,67.8,55.11,39.7,38.9,38.4,37.2,36.8,36.0,35.4,26.0 (3C),22.3,18.4,17.3,14.7,-5.3(2C). 実施例7 7の製造 化合物7は市販の出発物質であり、例えばDSM Andeno,Grubbenvorsterwe g 8,P.O.Box 81,5900 AB Venlo,The Netherlandsを参照されたい。 実施例8 8の製造 水82mLにNa2CO3(分子量105.99,1.5当量,8.8g)を溶 解する。CH2Cl2160mL中に(1R,2S)アミノインダノール7(分子 量149.19,55.0mmol,8.2g)の溶液を加える。−5℃に冷却 し、塩化プロピオニル(分子量92.53,d 1.065,1.3当量,6. 2mL)を加える。25℃に温め、1時間放置する。層を分離し、有機層を乾燥 する(硫酸マグネシウム)。真空濃縮し、単離収率89%で8(分子量205. 26,10g)を得る。 実施例9 9の製造 THF200mL中の8(分子量205.26,49.3mmol,10g) の溶液に、p−トルエンスルホン酸ピリジニウム(PPTS)(分子量251. 31,0.16当量,2g)、次いでメトキシプロペン(分子量72.11,d 0.753,2.2当量,10.4mL)を加える。38℃で2時間放置し、 次いで重炭酸ナトリウム水溶液と酢酸エチルを加える。有機層を乾燥した(硫酸 マグネシウム)。真空濃縮後、9(分子量245.32,12.09g)が定量 的収率で生成した。 実施例10 10の製造 化合物10は市販の出発物質であり、例えばLancaster Synthesis,P.O.Box 1 000,Windham,NH 03087-9977又はRyan Scientific,Inc.,P.O.Box 845,Isle of Palms,SC 29451-0845を参照されたい。 実施例11 11の製造 0℃のCH2Cl2300mL中の10(分子量231.05,130mmol ,30.0g)。BH3−SMe2(3当量,25.2mL)を加え、25℃で2 時間放置する。2N HCl水溶液中に入れて反応を止め、層を分離する。有機 層を乾燥し(硫酸マグネシウム)、真空乾燥し、11(分子量217.06,2 5.5g)を収率94%で得る。 実施例12 12の製造 CH2Cl255mL中に11(分子量217.06,47.2mmol,10 .24g)を溶解し、−20℃に冷却する。DIEA(分子量129.25,d 0.742,1.3当量,10.69mL)、次いでメタンスルホニルクロリ ド(MsCl)(分子量114.55,d 1.480,1.2当量,4.38 mL)を加える。−5℃〜0℃で1時間放置し、次いで水55mL中に入れて反 応を止める。CH2Cl2で抽出し、次いで1N H2SO4(40mL)、次にブ ラインで洗浄する。有機層を乾燥し(硫酸マグネシウム)、真空濃縮し、12( 分子量295.15,13.23g)を収率95%で得る。 実施例13 13の製造 ジメチルアセトアミド(DMAC)44mL中の12(分子量295.15, 44.8mmol,13.23g)。NaBr(分子量102.90,2当量, 9.22g)を加え、1時間放置する。水88mLを加え、濾過で固体を集める 。水でケーキを洗浄し、吸引乾燥する。定量的収率で13(分子量279.96 ,12.54g)を得る。 実施例14 14の製造 THF1L中の9(分子量245.32,1.1当量,89.1 g)を−50℃に冷却する。リチウム ビス(トリメチルシリル)アミド(Li HMDS)(THF中の1.0M,1.5当量,545mL)を加え、−30℃ に温めながら1.5時間放置する。THF300mL中に13(分子量279. 96,327mmol,91.3g)を加え、−35℃で1時間放置する。−1 0℃に1時間温め、次いでNH4Cl水溶液中に入れて反応を止める。層を分離 し、酢酸エチルで抽出する。有機層を乾燥し、真空濃縮し、粗14(分子量44 4.37)を得る。 実施例15 15の製造 MeOH1L中の14を10℃に冷却する。HCl気体を1時間泡立て通気す ると、反応が完了する。H2O2Lを加え、生成物を濾過した。ケーキをH2Oで 洗浄し、乾燥し、生成物であるヒドロキシアミドを得、次いでそれをMeOH1 Lと6 N HCl 1.5Lに溶解し、一晩還流した。混合液を25℃に冷却し、CH2 Cl2で抽出し、濃縮後、化合物15(60g,臭化物13から収率64%)を 得た。 実施例16 16の製造 −78℃のTHF150mL中の15(酸とエステルの混合物,26.88m mol)。水素化アルミニウムリチウム(LiAlH4)(THF中1M,2当 量,53.76mL)を30分で加える。25℃に1時間温め、次いでNH4C l水溶液に入れて反応を止める。酢酸エチルを加え、酢酸エチルで抽出する。ブ ラインで有機層を洗浄し、乾燥し(硫酸マグネシウム)、真空濃縮し、16(分 子量259.14,6.62g)を収率95%で得る。 実施例17 17の製造 CH2Cl235mL中の16(分子量259.14,25.54mmol,6 .62g)を0℃に冷却する。イミダゾール(分子量68.08,2.5当量, 4.35g)、次いでtert−ブチルジメチルシリルクロリド(TBSCl)(分 子量150.73,1当量,3.85g)を加える。25℃で1時間放置し、次 いでNaHCO3水溶液で反応を止め、酢酸エチルを加える。酢酸エチルで抽出 し、次いで有機層を乾燥し(硫酸マグネシウム)、真空濃縮し、17(分子量3 73.41,9.54g)を定量的収率で得る。1 H NMR(CDCl3):7.41(d,J=8.74,1H),6.77(d,J=3.04,1H),6.63(dd,J=8.73,3.06,1 H),3.78(s,3H),3.50(d,J=5.75,2H),2.89(dd,J=13.31,6.15,1H),2.45(dd,J=13.30 ,8.26,1H),2.03(m,1H),0.94(s,9H),0.92(d,J=5.01,3H),0.07(s,6H).13 C NMR(CDCl3):159.1,141.6,133.2,117.0,115.4,113.2,67.4,55.4,39.7,36.3, 26.0(3C),18.4,16.5,-5.3(2C). 実施例18 18の製造 THF84mL中で4−ブロモ−1,2−(メチレンジオキシ)ベンゼン(分 子量201.01,42.1mmol,8.46g)とMg(分子量24.31 ,1.5当量,1.54g)から0.5Mグリニャール溶液を製造する。THF 80mL中に6a(分子量583.89,16.8mmol,9.83g)を溶 解し、−78℃に冷却する。グリニャール溶液(2.5当量,0.5M,84m L)をゆっくりと加え、30分間放置する。NH4Cl水溶液に入れて反応を止 め、酢酸エチルを加える。有機層をブラインで洗浄し、乾燥し(硫酸マグネシウ ム)、 真空蒸発させる。粗物質を酸化する。 実施例19 19の製造 ACN150mL中の粗18(分子量706.01,16.8mmol)。N MO(分子量117.15,3当量,5.90g)、シーブ(粉末,3重量当量 ,35.6g)、及びTPAP(分子量351.43,10モル%,590mg )を加え、25℃で2時間放置する。濃縮し、ACNを除去し、次いでシリカゲ ル床を酢酸エチルで溶出する。真空濃縮し、次いでクロマトグラフィーを行い( ヘキサン:酢酸エチル90:10)、酸化生成物を単離する(2工程で収率85 %)。 n−BuOH100mL中に溶解し、Ti(OBu)4(分子量340.36 6,5当量,28.59g)を加える。48時間還流し、次いで水に入れて反応 を止め、酢酸エチルを加え る。セライトで濾過し、層を分離し、有機層をブラインで洗浄する。乾燥し(硫 酸マグネシウム)、真空濃縮し、19(分子量703.99,9.58g)を収 率81%(3工程で)で得る。 実施例20 20の製造 THF75mL中に19(分子量703.99,13.6mmol,9.58 g)を溶解し、−50℃に冷却する。LiHMDS(THF中1.0M,5当量 ,68.0mL)をゆっくりと加え、25℃で16時間放置する。NH4Cl水 溶液中に入れて反応を止め、酢酸エチルを加える。有機層をブラインで洗浄し、 乾燥し(硫酸マグネシウム),真空蒸発させ、20(分子量703.99)を得 る。 実施例21 21の製造 ニトロメタン125mL中に20(分子量703.99,13.6mmol) を溶解し、Et3SiH(分子量116.28,d 0.728,10当量、2 1.7mL)を加える。0℃に冷却し、TiCl4(CH2Cl2中1.0M,4 当量,54.4mL)をゆっくりと加え、0℃に1時間放置する。2N HCl に入れて反応を止め、酢酸エチルで希釈する。水層を酢酸エチルで洗浄し、次い で有機層を一緒にし、ブラインで洗浄する。乾燥し(硫酸マグネシウム)、真空 蒸発させる。シリカゲルクロマトグラフィー(ヘキサン:酢酸エチル75:25 )で単離し、21(分子量573.73,5.85g)を収率75%(2工程で )で得る。1 H NMR(CDCl3):7.20(d,J=7.80,1H),6.95(d,J=7.83,1H),6.88(d,J=8.37,1H),6.7 6(m,5H),5.95(s,2H),5.04(d,J=9.86,1H),4.53(d,J=9.67,1H),4.02(m,2H),3.78(s ,3H),3.55(m,1H),3.45(m,1H),3.34(,J=9.82,1H),2.66(m,2H),2.58(m,2H),2.14(m ,1H),1.56(m,2H),1.44(m,2H),1.28(m,2H),1.11(m,2H),1.01(d,J=6.77,3H),0.86( t,J=7.26,3H),0.81(t,J=7.37,3H).13 C NMR(CDCl3):174.1,164.3,162.8,157.8,148.1,146.8,141.6,136.3,135.0,13 3.1,132.4,129.6,121.8,121.2,115.5,112.3,108.4,101.1,67.4,64.8,63.6,60.4, 55.1,51.5,38.8,37.6,37.4,32.3,30.6,22.3,18.9,18.0,14.2,14.0,13.6. 実施例22 22の製造 THF(450mL)とDMF(10mL)中の60%NaH(1.25当量 ,7.71g)の懸濁液に、10℃未満でTHF(200mL)中の16(分子 量259.14,154mmol,40.0g)(化合物16は実施例16に記 載の方法により製造した)の溶液を滴下添加した。ベンジルクロリド(分子量1 26.59,1.1当量,21.4g)を混合液に加え、混合液を4時間還流し 、室温に冷却し、氷水(500mL)に 注ぎ、酢酸エチル(1L)で抽出した。層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出し た。一緒にした有機層を希HCl、飽和NaHCO3水溶液、水、次いでブライ ンで洗浄し、無水の硫酸マグネシウムで乾燥し、真空蒸発させた。22(分子量 349.27)をシリカゲルクロマトグラフィー(ヘプタン−酢酸エチル/グラ ジエント)によって収率98%(52.8g)で単離した。1 H NMR(CDCl3):0.96(d,J=6.60,3H),2.20(m,1H),2.70(m,2H),3.37(m,2H),3.73(s, 3H),4.52(s,2H),6.63(dd,J=2.97,8.91,1H),6.75(d,J=2.97,1H),7.37(m,5H),7.41 (d,J=8.91,1H). 実施例23 27の製造 工程A:25の製造 エチルアセトイミデート塩酸塩23 100g(0.81mol)と(S,S )−チオミカミン24 173g(0.81mol)をCH2Cl21L中で混合 し、室温で一晩攪拌した。次いで反応を水で止め、CH2Cl2で抽出した。有機 相をMgSO4で乾燥し、濾過し、減圧濃縮した。熱アセトニトリル700mL を用い、再結晶化を行った。結晶化は約40℃で始まった。溶液を室温に冷却し (約20℃)、次いで15℃に冷却した。得られた結晶を真空濾過で集め、夜間 中空気乾燥し、生成物である化合物25を134.5g(70%)得た。 工程B:26の製造 実施例23工程Aからの化合物25 51.1g(215mmol)をTHF 1L中に溶解し、0℃に冷却した。次いでナトリウムt−ペントキシド24.7 g(224mmol)を加えた。混合液を0〜5℃に約30分間放置した。次い でMeI 13.9mL(224mmol)を滴下添加し、溶液を室温に温めた。4時間後 、反応を水で止め、酢酸エチルで抽出した。有機層をMgSO4で乾燥し、濾過 し、減圧濃縮し、粗生成物26を54.04g(100%)得た。 工程C:27の製造 ジイソプロピルアミン132mL(946mmol)をTHF200mLに溶 解し、−21℃に冷却した。次いでnBuLi420mL(946mmol)( ヘキサン中2.25M)を加えた。混合液を−30〜−45℃で約40分間放置 した。次いで混合液を−78℃に冷却し、THF200mL中の実施例23工程 Bからの生成物26 108g(430mmol)を滴下添加した。その間内部 温度を約−70℃に維持した。更に40分後、クロロホスホン酸ジエチル66. 5mL(460.1mmol)を手際よく加えた。次いで溶液を−10℃に温め 、水で反応を止め、酢酸エチルで抽出した。有機層をMgSO4 で乾燥し、濾過し、減圧濃縮し、粗生成物27を166.11g(99%)得た 。 実施例24 28の製造 実施例23工程Cからの生成物、即ち化合物27 83.3g(215mmo l)をTHF1Lに溶解し、−15℃に冷却した。次いで、内部温度を0℃未満 に保ちながら、nBuLi(ヘキサン中2.5M)90.3mL(226mmo l)を滴下添加した。15分後、内部温度を−5℃〜0℃に保ちながら、THF 70mL中の2−ブロモ−6−ブチル−3−ピリジンカルボキサルデヒド41. 6g(172mmol)を滴下添加した。約−5℃で30分後、ホスホン酸エス テルの約13%がま だ未反応であった。次いでアルデヒドを更に6.7g(28mmol)、0℃で THF中に加えた。更に20分後、ホスホン酸エステルの4〜5%が残った。更 にアルデヒドを0.27g(1.12mmol)加えた。30分後、反応を水で 止め、酢酸エチルで抽出した。有機層をMgSO4で乾燥し、濾過し、減圧濃縮 し、粗生成物28を得た。 実施例25 29の製造 4−ブロモ−1,2−(メチレンジオキシ)ベンゼン107.6mL(893 mmol)をTHF2Lに溶解し、−78℃に冷却した。次いでnBuLi(ヘ キサン中2.5M)357mL(893mmol)を、内部温度を−72℃未満 に維持しな がら滴下添加した。THF300mL中の実施例24からの生成物202g(4 25mmol)を、内部温度を−70℃未満に維持しながら滴下添加した。30 分後、反応を−70℃でメタノールで止め、−10℃に温めた。飽和NaHCO3 水溶液を加え、相を分離した。水層をセライトで濾過し、酢酸エチルで抽出し た。次いで酢酸エチル層をMgSO4で乾燥し、濾過し、減圧濃縮し、粗生成物 29を320g得た。 1H NMRδ(ppm)0.92(3H,t);1.35(2H,m);1.68(2H,m);2.46(3H,s);2.75(2H,m);cent ered at 3.05(2H,dd,dd);centered at 3.4(2H,dd,dd);3.34(3H,s);3.96(1H,m);4 .87(1H,t);5.18(1H,d);5.92(2H,s);6.71-6.79(3H,aromatic multiplet);6.81-6. 88(2H,aromatic multiplet);7.09-7.18(3H,aromatic multiplet),7.64(1H,d). 実施例26 30の製造 イソプロパノール200mL中の実施例25からの生成物2947.6g(7 9.6mmol)の溶液に、濃H2SO4(18M)44mLを加えた。次いで混 合液を加熱還流した。2.5 時間後、混合液を室温に冷却し、水で希釈した。次いで混合液を酢酸エチルで抽 出し、飽和NaHCO3水溶液で洗浄した。有機相を減圧濃縮し、残渣をtert− ブチルメチルエーテルに溶解した。エーテル溶液を1N HCl水溶液と飽和N aHCO3水溶液で洗浄した。次いで、有機層をMgSO4で乾燥し、濾過し、減 圧濃縮した。ヘキサン/酢酸エチル10:1〜ヘキサン/酢酸エチル5:1の溶 媒グラジエントを用い、粗生成物をカラムクロマトグラフィーで精製し、生成物 30を25.15g(70%)得た。1 H NMRδ(ppm)0.91(3H,triplet);1.07(3H,d);1.13(3H,d);1.35(2H,m);1.65(2H,m );2.71(2H,m);2.93(2H,m);4.7-4.96(2H,overlapping multiplets);5.96(2H,s);6 .72(3H,aromatic multiplet);7.05(1H,d),7.43(1H,d). 実施例27 31の製造 メタノール20mL中の実施例26からの生成物30 2g (3.9mmol)、DPPF(1,1′−ビス(ジフェニルホスフィノ)−フ ェロセン)66mg(0.12mmol)、及びNaHCO367mg(8mm ol)の溶液に、二酢酸パラジウム27mg(0.12mmol)を加えた。一 酸化炭素40psi下、70℃で12時間混合液を加熱した。次いで混合液を冷 却し、減圧濃縮し、酢酸エチルと水の間で分配した。水層を酢酸エチルで抽出し 、一緒にした有機層をMgSO4で乾燥した。有機溶媒を減圧除去し、粗生成物 31 1.56g(94%)を得た。1 H NMRδ(CDCl3,ppm):0.9(3H,t);1.06(6H,d);1.37(2H,m);1.66(2H,m);2.78(2H,m );2.93(2H,m);3.94(3H,s);4.89(1H,m);5.13(1H,t);5.88(2H,s);6.67-6.75(3H,ar omatic multiplet);7.2(1H,d);7.56(1H,d). 実施例28 32の製造 THF(450mL)中の22(実施例22参照、分子量349.27,1. 3当量,63.76g)の冷溶液に、温度を−70℃未満に保ちながらn−Bu Li(ヘキサン中1.7M,1.3当量,110mL)を加え、混合液を−78 ℃で10分間攪拌した。混合液を−70℃未満でカニューレを通し、THF(4 50mL)中の31(分子量427.50,0.14mol,60.0g)の溶 液に加えた。混合液を−78℃で30分間攪拌し、水(450mL)で反応を止 め、酢酸エチル(900mL)で抽出した。層を分離し、水層を酢酸エチルで抽 出した。一緒にした有機層を水、次いでブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウ ムで乾燥し、真空蒸発させた。シリカゲルクロマトグラフィー(ヘプタン−酢酸 エチル/グラジエント)によって収率84%(78.4g)で32(分子量66 5.82)を単離した。1 H NMR(CDCl3):0.87(t,J=7.26,3H),1.04(d,J=6.93,3H),1.05(d,J=6.27,6H),1.26 (m,2H),1.62(m,2H),2.29(m,1H),2.71(t,J=7.59,2H),2.92(J=6.26,2H),3.03(m,2H ),3.45(m,2H),3.80(s,3H),4.52(s,2H),4.66(t,J=7.26,1H),4.85(m,1H),5.82(m,2 H),6.56(m,4H),6.78(s,1H),7.02(d,J=8.91,1H),7.14(d,J=8.25,1H),7.35(m,5H), 7.56(d,J=8.25,1H). 実施例29 33の製造 THF(750mL)中の32(分子量665.82,110mL,73.0 6g)の溶液に、ナトリウムtert−ペントキシド(分子量110.14,3当量 ,36.35g)を−40℃で加えた。混合液を0℃に温め、0℃で1.5時間 攪拌し、水(1L)に注ぎ、酢酸エチル(1L)で抽出した。層を分離し、水層 を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水、次いでブラインで洗浄し、無 水硫酸マグネシウムで乾燥し、真空蒸発させた。シリカゲルクロマトグラフィー (ヘプタン−酢酸エチル/グラジエント)によって収率66%で33(分子量6 65.82)(48.1g)を単離した。1 H NMR(CDCl3,ppm):0.80(d,J=5.94,3H),0.87(t,J=7.26,3H),1.03(d,J=6.27,3H), 1.13(d,J=6.27,3H),1.30(m,2H),1.60(m,2H),2.14(m,2H),2.27(m,1H),2.71(m,2H) ,3.08(m,2H),3.37(s,1H),3.48(d,J=8.91,1H),3.80(s,3H),4.37and4,44(ABq,J=11 .5,2H),4.91(d,J=8.91,1H),4.99(m,1H),5.92(s,2H),6.65(d,J=7.92,1H),6.76(m, 4H),7,05(d,J=7.92,1H),7.28(m,6H),7.71(d,J=8.54,1H). 実施例30 方法A:34の製造 THF(100mL)中の33(分子量665.82,22.8mmol,1 5.2g)とイソプロピルアルコール(5当量,8.7mL)の前もって脱気し た溶液に、室温でアルゴン雰囲気下、SmI2(THF中0.1M,4.8当量 ,1.1L)を加えた。混合液を同温で一晩攪拌し、真空濃縮し、0.5N H Cl(250mL)に注ぎ、酢酸エチル(250mL)で抽出 した。層を分離し、水層を酢酸エチルで抽出した。一緒にした有機層を水、飽和 NaHCO3水溶液、5%Na2SO3、水、次いでブラインで洗浄し、無水硫酸 マグネシウムで乾燥し、真空蒸発させた。シリカゲルクロマトグラフィー(ヘプ タン−酢酸エチル/グラジエント)によって、定量的収率で34(分子量649 .83)(15.1g)を単離した。1 H NMR(CDCl3,ppm):0.84(t,J=7.26,3H),1.04(d,J=6.93,3H),1.08(d,J=6.27,3H), 1.11(d,J=6.27,3H),1.26(m,2H),1.56(m,2H),2.20(m,1H),2.65(m,2H),2.72(m,2H) ,3.18(t,J=9.74,1H),3.38(m,2H),3.75(s,3H),4.48(d,J=8.90 IH),4.49(s,2H),4. 96(m,2H),5.95(s,2H),6.73(m,5H),6.91(d,J=7.91,1H),7.15(d,J=7.92,1H),7.30( m,6H). 実施例31 35の製造 THF(60mL)中の34(分子量649.83,18.5mL,12.0 g)の溶液とイソプロピルアルコール(60mL)に、10%Pd−C(10. 5g)を加え、混合液をH2(3.5kg/cm2)下、60℃で4時間水素化し た。触媒を濾過で除去し、濾液を真空蒸発させ、35(分子量559.70)を 収率83%(8.62g)で得た。1 H NMR(CDCl3,ppm):0.86(t,J=7,26,3H),1.01(d,J=6.60,3H),1.10(d,J=6.27,3H), 1.13(d,J=6.27,3H),1.26(m,2H),1.56(m,2H),2.13(m,1H),2.65(m,2H),2.78(m,2H) ,3.28(t,J=9.73,1H),3.50(m,2H),3.78(s,3H),4.51(d,J=9.57,1H),4.98(m,1H),5. 04(d,J=10.2,IH),5.97(s,2H),6.73(m,5H),6,86(d,J=8.25,1H),6.95(d,J=7.92,1H ),7.20(d,J=7.92,1H). 実施例32 36の製造 DMSO(25mL)中の35(分子量559.70,15.4mmol,8 .62g)とTEA(5.7当量,12.3mL)の溶液に、室温でSO3−P Y(分子量159.16,2.9当量,7.05g)を加えた。混合液を15分 間攪拌し、水(1L)に注ぎ、酢酸エチルで抽出した(200mL×3回)。一 緒にした有機層を10%クエン酸、次いでブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシ ウムで乾燥し、真空蒸発させ、粗アルデヒド9.6gを得た。 Tert−ブタノール(60mL)中の粗アルデヒドと2−メチル−2−ブテン( 30mL)の溶液に、室温で0.5M(pH3.3)KH2PO4−H3PO4緩衝 液(60mL)中のNaCIO2(22.1mmol,2.00g)の溶液を加 えた。混合液を45分間攪拌し、酢酸エチル(200mL)で抽出した。有機層 を10%クエン酸、水、次いでブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥 し、真空蒸発させ、粗モノカルボン酸を得た。 メタノール(40mL)とジオキサン(20mL)中の粗モノカルボン酸の溶 液に、4N NaOH(148mmol,37mL)を加え、混合液を60℃で 1時間攪拌した。冷却後、混合液を水(50mL)で希釈し、6N HClでp H8に調整 し、酢酸エチル(100mL)で洗浄した。水層をHCl水溶液でpH3に酸性 化し、酢酸エチルで抽出した(100mL×3回)。一緒にした有機層を水、次 いでブラインで洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、真空蒸発させた。シリ カゲルクロマトグラフィー(CH2Cl2−酢酸エチル/グラジエント)によって 、収率48%(3.90g)で36(分子量531.60)を単離した。1 H NMR(CDCl3,ppm):0.84(t,J=7.26,3H),1.26(m,2H),1.32(d,J=6.60,3H),1.49(m, 2H),2.67(m,3H),3.14(m,2H),3.59(t,J=9.57,1H),3.75(s,3H),4.58(d,J=9.57,1H) ,4.99(d,J=9.56,1H),6.00(s,2H),6.70(d,J=2.97,1H),6.78(s,1H),6.83(m,3H),6. 94(d,J=8.90,1H),7.06(d,J=7.91,1H),7.33(d,J=7.91,1H). 実施例33 37の製造 THF15mL中の実施例17の臭化アリール17の2.62(7.02mm ol)の溶液に、内部温度を−70℃未満に保ちながらnBuLi(ヘキサン中 2.15M)の3.3mL(7.1mmol)を加えた。10分後、溶液を冷却 カニューレ(ドライアイス)を通し、THF35mL中の実施例27で製造した ジエステル31の溶液に移した。溶液が緑黒色に変わるのが観察された。混合液 を更に0.5時間攪拌し、次いでNaHCO3水溶液で反応を止めた。水層を酢 酸エチルで抽出し(2回)、一緒にした有機層をMgSO4で乾燥した。ヘキサ ン/酢酸エチル6:1溶媒系を用いるカラムクロマトグラフィーにより、黄色油 状物として生成物37を2.0g(62%)得た。 1H NMRδ(CDCl3,ppm):0.08(6H,s);0.88(3H,t);0.92(9H,s);0.98(3H,d);1.05(6H, d);1.32(2H,m);1.62(2H,m);2.11(1H,dd);2.72(2H,m);2.93(2H,m);3.12(1H,dd);3 .51(1H,dd);3.62(1H,dd);3.83(3H,s);4.66(1H,t);4.87(1H,m);5.82(2H,m);6.5-6 .63(4H,aromatic multiplets);6.81(1H,m);7.02(1H,d);7.13(1H,d);7.58(1H,d). 実施例34 38の製造 室温のアセトニトリル20mL中の実施例33からのシリルエーテル37の0 .8g(1.16mmol)の溶液に、HF水溶液0.5mLを加えた。10分 後、反応をNaHCO3水溶液で止め、酢酸エチルで抽出した(2回)。有機層 をMgSO4で乾燥し、濾過し、減圧濃縮し、黄色泡状物として脱シリル化生成 物38を0.66g(99%)得た。 1H NMR(CDCl3,ppm,300MHz):δ0.8(t,3H),0.95(d,3H),1.00(m,6H),1.25(m,3H),1. 55(m,2H),2.00(m,1H),2.77(m,3H),2.90(m,1H),3.16(m,1H),3.40(m,2H),3.75(s,3 H),4.55(t,1H),4.81(m,1H),5.76(m,2H),6.50(m,4H),6.74(bs,1H),6.89(d,1H),7. 43(d,1H),7.85(d,1H). 実施例35 39の製造 実施例34からの化合物38の0.21g(0.37mmol)をTHF5m Lに溶解し、−10℃に冷却した。次いでナトリウムt−ペントキシド0.12 g(1.1mmol)を固体で加え、反応液を室温に温めた。次いで反応を1N HCl水溶液で止め、酢酸エチルで抽出した(2回)。有機層をMgSO4で 乾燥し、濾過し、減圧濃縮し、粗環状化生成物39を0.21g(100%)得 た。1 H NMRδ(CDCl3,ppm,300MHz):0.8(m,2H),0.89(t,3H),1.03(d,3H),1.17(m,6H),1. 32(m,2H),1.61(m,2H),2.11(m,1H),2.29(m,1H),2.82(m,2H),3.15(m,1H),3.30(m,1 H),3.49(d,1H),3.78(t,3H),5.11(m,2H),5.93(s,2H),6.78(m,6H),7.25(d,1H),7.5 8(d,1H). 実施例36 40の製造 −15℃のアセトン(20mL)中のジヒドロキシエステル39(4.2g) の溶液に、1時間でジョーンズ試薬(8.4mL)を加えた。反応液を0.5時 間放置し、0℃に温め、水で反応を止めた。相を分離し、水相をMTBE(2× 10mL)で抽出した。有機相を濃縮し、黄褐色固体を得、粗物質に直接に脱酸 素化反応を行った。1 H NMRδ(CDCl3,ppm,300MHz):0.85(t,3H),1.08(m,9H),1.39(m,2H),1.52(m,2H),2 .54(m,1H),2.69(m,2H),3.65(m,2H),3.73(s,3H),4.83(m,1H),5.02(m,1H),5.97(s, 2H),6.75(m,6H),7.10(d,1H),7.43(d,1H). 実施例37 41の製造 テトラヒドロフラン(THF)10mL中の実施例36からの化合物40の1 .0g(1.7mmol)の溶液に、室温でSmI2(THF中0.1M)51 mL(5.1mmol)を加えた。15分後、反応を1N HCl水溶液で止め 、酢酸エチルで2回抽出した。有機層をMgSO4で乾燥し、濾過し、減圧濃縮 し、1H NMRで分析して単一ジアステレオマーとして粗生成物41を0.9 8g(100%)を得た。1 H NMRδ(CDCl3,ppm,300MHz):0.85(t,3H),1.05(d,3H),1.13(m,2H),1.15(d,3H),1 .3(d,3H),1.5(m,2H),2.65(m,2H),2.95(m,2H),3.35(dd,1H),3.52(t,1H),3.72(t,3 H),4.55(d,1H),5.00(d,1H),5.90(s,2H),6.75(m,5H),6.95(d,1H),7.08(d,1H),7.3 7(d,1H).
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI C07D 263/52 C07D 263/52 405/06 221 405/06 221 413/06 213 413/06 213 413/14 213 413/14 213 (31)優先権主張番号 60/028,438 (32)優先日 1996年10月10日 (33)優先権主張国 米国(US) (31)優先権主張番号 9625806.6 (32)優先日 1996年12月12日 (33)優先権主張国 イギリス(GB) (81)指定国 EP(AT,BE,CH,DE, DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,IT,L U,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ,CF ,CG,CI,CM,GA,GN,ML,MR,NE, SN,TD,TG),AP(GH,KE,LS,MW,S D,SZ,UG,ZW),UA(AM,AZ,BY,KG ,KZ,MD,RU,TJ,TM),AL,AM,AU ,AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CN, CU,CZ,EE,GE,HU,IL,IS,JP,K G,KR,KZ,LC,LK,LR,LT,LV,MD ,MG,MK,MN,MX,NO,NZ,PL,RO, RU,SG,SI,SK,SL,TJ,TM,TR,T T,UA,US,UZ,VN,YU (72)発明者 ドリング,ウルフ・エイチ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 フレイ,リサ・エフ アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 テイリヤー,リチヤード・デイー アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 チヤエン,デイビツド・エム アメリカ合衆国、ニユー・ジヤージー・ 07065、ローウエイ、イースト・リンカー ン・アベニユー・126 (72)発明者 加藤 喜章 東京都中央区日本橋本町2丁目2番3号

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1. 式I [式中、 a)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含み、O、N 及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原子を含む5員又は6員の複 素環、ここで該複素環は非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F 、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8 アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nC H3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又 は3個の置換基で置換されている、 b)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含む5員又は 6員の炭素環、ここで該炭素環は非置換であるか、又はOH、CO24、Br、 Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、 C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(C H2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個 、2個又は3個の置換基で置換されている、 c)アリール、ここでアリールは下記のとおりである、 を表す; C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキ ニル又はC3−C8シクロアルキルは、非置換であるか、又はOH、CO24、B r、Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C3−C8シクロ アルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群 から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されている; アリールは、非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3 、N(R52、C1−C8アルコキシ、 C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロ アルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群 から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されているフェニル又はナフ チルと定義し、2個の置換基が隣接する炭素上にあるときは、それらは結合し、 O、N及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原子を有する5員又は 6員の環であって、非置換であるか、又はH、OH、CO26、Br、Cl、F 、I、CF3、N(R72、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8 アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nC H3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又 は3個の置換基で置換されている該環を形成する; nは0〜5である; R1は、 a)C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シ クロアルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; ヘテロアリールは、O、N及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原 子を含む5員又は6員の芳香環であって、非置換であるか、又はOH、CO24 、Br、Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8ア ルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、 CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択さ れる1個、2個又は3個の置換基で置換されている該芳香環である; R2は、OR4又はN(R52である; R3bは、 a)C1−C8アルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; R4はC1−C8アルキルである;並びに R5は、H、C1−C8アルキル又はアリールである] を有する化合物。 2. 式I [式中、 a)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含み、O、N 及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原子を含む5員又は6員の複 素環、ここで該複素環は非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F 、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8 アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nC H3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又 は3個の置換基で置換されている、 b)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含む5員又は 6員の炭素環、ここで該炭素環は非置換であるか、又はOH、CO24、Br、 Cl、F、I、CF3、N (R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2 −C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(C H2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換基 で置換されている、 c)アリール、ここでアリールは下記のとおりである、 を表す; C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキ ニル又はC3−C8シクロアルキルは、非置換であるか、又はOH、CO24、B r、Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C3−C8シクロ アルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群 から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されている; アリールは、非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3 、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル 、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びC O(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1 個、2個又は3個の置換基で置換されているフェニル又はナフチルと定義し、2 個の置換基が隣接する炭素上にあるときは、それらは結合し、O、N及びSから 選択される1個、2個又は3個のヘテロ原子を有する5員又は6員の環であって 、非置換であるか、又はH、OH、CO26、Br、Cl、F、I、CF3、N (R72、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2 −C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(C H2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換基 で置換されている該環を形成する; nは0〜5である; R1は、 a)C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シ クロアルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; ヘテロアリールは、O、N及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原 子を含む5員又は6員の芳香環であって、非 置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3、N(R52 、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アル キニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nC H2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換さ れている該芳香環である; R2は、OR4又はN(R52である; R3aは、 a)−CO−C1−C8アルキル、 b)−CO−アリール、又は c)−CO−ヘテロアリール である; R3bは、 a)C1−C8アルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; R4はC1−C8アルキルである;並びに R5は、H、C1−C8アルキル又はアリールである] を有する化合物の製造方法であって、 を、強塩基と非プロトン性溶媒の存在下、温度範囲−78℃〜約25℃で反応さ せることを特徴とする該方法。 3. 強塩基を、LDA、LiHMDS、KHMDS、NaHMDS、KOtB u及びナトリウムt−アミラートからなる群から選択することを特徴とする請求 項2に記載の方法。 4. 非プロトン性溶媒を、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、メチルt −ブチルエーテル、ベンゼン、トルエン、ペンタン、ヘキサン、ジオキサン、及 び上記溶媒の混合物からなる群から選択することを特徴とする請求項3に記載の 方法。 5. 温度範囲は約−50℃〜約25℃であることを特徴とする請求項4に記載 の方法。 6. 強塩基はLiHMDS、KHMDS又はNaHMDSであり、非プロトン 性溶媒はテトラヒドロフランであり、温度範囲は約−0℃〜約25℃であること を特徴とする請求項5に記載の方法。 7. 式II [式中、 a)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含み、O、N 及びSから選択される1個、2個又は3個のヘテロ原子を含む5員又は6員の複 素環、ここで該複素環は非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F 、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8 アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nC H3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又 は3個の置換基で置換されている、 b)1個、2個又は3個の二重結合、少なくとも1個の二重結合を含む5員又は 6員の炭素環、ここで該炭素環は非置換であ るか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8 アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、 C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されている、 c)アリール、ここでアリールは下記のとおりである、 を表す; C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキ ニル又はC3−C8シクロアルキルは、非置換であるか、又はOH、CO24、B r、Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコキシ、C3−C8シクロ アルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群 から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されている; アリールは、非置換であるか、又はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3 、N(R52、C1−C8アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル 、C2−C8アルキニル、C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及び CO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個 の置換基で置換されているフェニル又はナフチルと定義し、2個の置換基が隣接 する炭素上にあるときは、それらは結合し、O、N及びSから選択される1個、 2個又は3個のヘテロ原子を有する5員又は6員の環であって、非置換であるか 、又はH、OH、CO26、Br、Cl、F、I、CF3、N(R72、C1−C8 アルコキシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、 C3−C8シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52からなる群から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されている該 環を形成する; nは0〜5である; R1は、 a)C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8シ クロアルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; ヘテロアリールは、O、N及びSから選択される1個、2個又 は3個のヘテロ原子を含む5員又は6員の芳香環であって、非置換であるか、又 はOH、CO24、Br、Cl、F、I、CF3、N(R52、C1−C8アルコ キシ、C1−C8アルキル、C2−C8アルケニル、C2−C8アルキニル、C3−C8 シクロアルキル、CO(CH2nCH3及びCO(CH2nCH2N(R52から なる群から選択される1個、2個又は3個の置換基で置換されている該芳香環で ある; R2は、OR4又はN(R52である; R3bは、 a)C1−C8アルキル、 b)アリール、又は c)ヘテロアリール である; R4はC1−C8アルキルである;並びに R5は、H、C1−C8アルキル又はアリールである] を有する化合物の製造方法であって、式I を有する化合物を、還元剤及び場合によっては酸と、溶媒中、温度範囲約−78 ℃〜約100℃で反応させることを特徴とする該方法。 8. 還元剤を、水素化物、ボラン、遷移金属触媒含有C5−C6シクロアルケン 、遷移金属触媒存在下でのH2、及びSmI2からなる群から選択することを特徴 とする請求項7に記載の方法。 9. 還元剤が水素化物、ボラン、又は遷移金属触媒含有C5−C6シクロアルケ ンであるとき、酸はルイス酸であり、還元剤が遷移金属触媒存在下でのH2であ るとき、酸はプロトン酸であり、又は還元剤がSmI2であるとき、酸は存在し ないことを特徴とする請求項8に記載の方法。 10. 酸がルイス酸であり、還元剤が水素化物、ボラン又は遷移金属触媒含有 C5−C6シクロアルケンであるとき、溶媒は非プロトン性溶媒であり;酸がプロ トン酸であり、還元剤が遷移金属触媒存在下でのH2であるとき、溶媒はプロト ン性溶媒であり;又は溶媒は非プロトン性溶媒と組合せてプロトン性溶媒からな る溶媒系であることを特徴とする請求項9に記載の方法。 11. 酸はルイス酸であり、還元剤は水素化物又はホランであるとき、温度範 囲は約−78℃〜約20℃であることを特徴とする請求項10に記載の方法。 12. 酸はルイス酸又はプロトン酸であり、還元剤は遷移金属触媒含有C5− C6シクロアルケン又は遷移金属存在下でのH2であるとき、温度範囲は約0℃〜 100℃であることを特徴とする請求項10に記載の方法。 13. 還元剤がSmI2であるとき、温度範囲は約0℃〜30℃であることを 特徴とする請求項10に記載の方法。 14. 非プロトン性溶媒を、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、メチル t−ブチルエーテル、ジオキサン、CH2Cl2、CHCl3、ニトロメタン、ト ルエン及びジクロロベンゼンからなる群から選択することを特徴とする請求項1 1に記載の方法。 15. プロトン性溶媒を、エタノール、メタノール及びイソプロパノールから なる群から選択することを特徴とする請求項12に記載の方法。 16. 溶媒系は、メタノール、エタノール又はイソプロパノールからなる群か ら選択されるプロトン性溶媒と、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、メチ ルt−ブチルエーテル又は ジオキサンからなる群から選択される非プロトン性溶媒からなることを特徴とす る請求項13に記載の方法。 17. ルイス酸を、TiCl4、BF3、BCl3、SnCl4、AlCl3及び TiCl2(OiPr)2からなる群から選択することを特徴とする請求項13に 記載の方法。 18. 還元剤が水素化物又はボランであるとき、温度範囲は約−20℃〜約1 0℃であることを特徴とする請求項15に記載の方法。 19. プロトン酸を、トリフルオロ酢酸、HCl及びH2SO4からなる群から 選択することを特徴とする請求項13に記載の方法。 20. 水素化物を、R3SiH、R2SiH2(式中、RはC1−C8アルキル又 はアリールである)及びNaBH4からなる群から選択することを特徴とする請 求項16に記載の方法。 21. ボランを、BH3・NHMe2、BH3・SMe2、BH3・ピリジン及び BH3・THFからなる群から選択することを特徴とする請求項16に記載の方 法。 22. 還元剤は、Pd/C、Pt−C、Rh/Al又はラネ−Niを含有する シクロヘキセン又はシクロヘキサジエンから選択される遷移金属触媒含有C5− C6シクロアルケンである ことを特徴とする請求項15に記載の方法。 23. 温度範囲は約0℃〜約40℃であることを特徴とする請求項20に記載 の方法。 24. H2/遷移金属触媒を、Pd/C、Pt−C、Rh/Al又はラネーN iからなる群から選択することを特徴とする請求項18に記載の方法。 25. 温度範囲は約0℃〜約40℃であることを特徴とする請求項22に記載 の方法。 26. 水素化物はR3SiHであり、ルイス酸はTiCl4であり、非プロトン 性溶媒はニトロメタンであり、温度範囲は約−5℃〜約5℃であることを特徴と する請求項18に記載の方法。 27. 式 を有する化合物の製造方法であって、式 のケトンを、テトラヒドロフラン中、約3〜約5当量のリチウムビス(トリメチ ルシリル)アミドと、約−50℃〜約25℃で反応させることを特徴とする該方 法。 28. 式 を有する化合物の製造方法であって、第3級アルコール を、ニトロメタン中、Et3SiH及びTiCl4と約−5℃〜約5℃で反応させ ることを特徴とする該方法。 29. 式 を有する化合物の製造方法であって、第3級アルコール を、イソプロピルアルコールとテトラヒドロフランの溶液中、SmI2と約10 ℃〜30℃で反応させることを特徴とする該方法。 30. 式 を有する化合物の製造方法であって、第3級アルコール を、イソプロピルアルコールとテトラヒドロフランの溶液中、SmI2と約10 ℃〜30℃で反応させることを特徴とする該方法。
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