JPH1154280A - ナフチルアミン誘導体を用いた有機電界発光素子 - Google Patents

ナフチルアミン誘導体を用いた有機電界発光素子

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JPH1154280A
JPH1154280A JP9218945A JP21894597A JPH1154280A JP H1154280 A JPH1154280 A JP H1154280A JP 9218945 A JP9218945 A JP 9218945A JP 21894597 A JP21894597 A JP 21894597A JP H1154280 A JPH1154280 A JP H1154280A
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naphthylamine derivative
organic electroluminescent
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JP9218945A
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Manabu Uchida
内田  学
Yusho Izumisawa
勇昇 泉澤
Kenji Furukawa
顕治 古川
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JNC Corp
Original Assignee
Chisso Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 高効率で長寿命な有機EL素子、これに用い
られる新規な発光材料及び有機電界発光材料を提供する
こと。 【解決手段】 次の化1 【化1】 (式中のR1〜R20はそれぞれ独立に水素原子、ハロ
ゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基、
置換又は無置換のアミノ基、アリール基、ヘテロ環基又
は隣接した場合には置換若しくは無置換のアリール基及
び/又はヘテロ環基が縮合した構造を示す。)で表され
るナフチルアミン誘導体を用いて成る有機EL素子であ
る。発光層、正孔輸送層又は正孔注入層にナフチルアミ
ン誘導体が含まれる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、エレクトロルミネ
ッセンス(以下ELと略記する。)素子等に係り、更に
詳細には、ナフチルアミン誘導体を用いたEL素子、発
光材料及び有機電界発光材料に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、これまでにない高輝度な平面ディ
スプレイの候補として有機EL素子が注目され、その研
究開発が活発化している。有機EL素子は、有機発光層
を2つの電極で挟んだ構造を有し、陽極から注入された
正孔と陰極から注入された電子とが発光層中で再結合し
て光を発する。用いられる有機材料には、低分子材料と
高分子材料があり、ともに高輝度のEL素子が得られる
ことが知られている。
【0003】このような有機EL素子には2つのタイプ
がある。1つは、タン(C.W.Tang)らによって
発表された蛍光色素を電荷輸送層中に添加したもの(ジ
ャーナル・オブ・ジ・アプライド・フィジックス(J.
Appl.Phys.),65,3610(198
9))、もう1つは、蛍光色素を単独に用いたものであ
る(例えば、ジャパニーズ・ジャーナル・オブ・ジ・ア
プライド・フィジックス(Jpn.J.Appl.Ph
ys.),27,L269(1988)に記載されてい
る素子)。
【0004】後者の素子では、蛍光色素が、電荷の1つ
である正孔のみを輸送する正孔輸送層及び/又は電子の
みを輸送する電子輸送層と積層しているような場合に発
光効率が向上することが記載されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の有機EL素子は、実用化のための性能を有していなか
った。その大きな原因は、使用材料の耐久性の不足にあ
り、特に正孔輸送材料の耐久性が乏しいことが挙げられ
る。また、かかる有機EL素子に使用される正孔輸送材
料としては、トリフェニルアミン誘導体を中心にして多
種多様の材料が知られているにも拘らず、実用化に適し
た材料は少ない。
【0006】例えば、N,N’−ジフェニル−N,N’
−ジ(3−メチルフェニル)−4,4’−ジアミノビフ
ェニル(以下、「TPD」と略記する。)が報告されて
いるが(アプライド・フィジックス・レター第57巻第
6号第531頁1990年)、この化合物は熱安定性に
乏しく、素子の寿命等に問題があった。また、米国特許
第5047687号、米国特許第4047948号、米
国特許第4536457号明細書及び特開平8−871
22号公報にも多くのトリフェニルアミン誘導体が記載
されているが、十分な特性を持つ化合物はない。更に、
アドバンスド・マテリアル第6巻第677頁1994年
に記載されているスターバーストアミン誘導体や、ジャ
ーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエティー・ケミカ
ル・コミュニケーション第2175頁1996年に記載
されている化合物においても、実用上十分な特性を持っ
ていない。
【0007】一方、特開平7−301927号公報に
は、ナフチルアミン誘導体を電子写真材料に応用した例
が報告されているが、有機EL素子への適用には言及さ
れていない。
【0008】上述のように、従来の有機EL素子に用い
られる正孔輸送材料は、実用上十分な性能を有しておら
ず、優れた材料を使用することにより、有機EL素子の
効率及び寿命を高めることが望まれているという課題が
あった。
【0009】本発明は、このような従来技術の有する課
題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところ
は、高効率で長寿命な有機EL素子、これに用いられる
新規な発光材料及び有機電界発光材料を提供することに
ある。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、従来の有
機EL素子が抱えている上述の課題を解決すべく鋭意検
討した結果、特定のナフチルアミン誘導体を用いること
により、高効率、長寿命な有機EL素子が得られること
を見出し、本発明を完成するに至った。
【0011】即ち、本発明の有機電界発光素子は、次の
化4
【0012】
【化4】
【0013】(式中のR1〜R20はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、ア
ルコキシ基、置換又は無置換のアミノ基、アリール基、
ヘテロ環基又は隣接した場合には置換若しくは無置換の
アリール基及び/又はヘテロ環基が縮合した構造を示
す。)で表されるナフチルアミン誘導体を用いて成るこ
とを特徴とする。
【0014】また、本発明の有機電界発光素子の好適例
は、正孔輸送層、発光層又は正孔注入層及びこれらの任
意の組み合わせを有し、これらの層の少なくとも1つ
に、上記ナフチルアミン誘導体が含まれていることを特
徴とする。
【0015】更に、本発明の発光材料は、次の化5
【0016】
【化5】
【0017】(式中のR1〜R20はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、ア
ルコキシ基、置換又は無置換のアミノ基、アリール基、
ヘテロ環基又は隣接した場合には置換若しくは無置換の
アリール基及び/又はヘテロ環基が縮合した構造を示
す。)で表されることを特徴とする。
【0018】更にまた、本発明の有機電界発光材料は、
次の化6
【0019】
【化6】
【0020】(式中、R1〜R20はそれぞれ独立に水
素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、ア
ルコキシ基、置換又は無置換のアミノ基、アリール基、
ヘテロ環基又は隣接した場合には置換若しくは無置換の
アリール基及び/又はヘテロ環基が縮合した構造を示
す。)で表されることを特徴とする。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
上述の如く、本発明の有機EL素子は、上記ナフチルア
ミン誘導体を用いて成り、この場合、このナフチルアミ
ン誘導体は、主として正孔輸送材料、発光材料及び正孔
注入材料としての機能を有し、正孔輸送層、発光層又は
正孔注入層を構成するか、又はこれらの層中に含まれ
る。
【0022】ここで、本発明のEL素子の構成として
は、各種の態様があるが、基本的には一対の電極(陽極
と陰極)間に、上記ナフチルアミン誘導体を含む層を挟
持した構成とすることができ、所要に応じて、このナフ
チルアミン誘導体層に正孔注入材料、発光材料及び電子
輸送材料などを加えるか、又はこれら材料を含有する正
孔注入層、発光層及び電子輸送層などを別の層として積
層することも可能である。
【0023】具体的な構成としては、(1)陽極/ナフ
チルアミン誘導体層/陰極、(2)陽極/ナフチルアミ
ン誘導体層/発光層/陰極、(3)陽極/ナフチルアミ
ン誘導体層/発光層/電子注入層/陰極、(4)陽極/
正孔注入層/ナフチルアミン誘導体層/発光層/電子注
入層/陰極、(5)陽極/ナフチルアミン誘導体層/正
孔輸送層/発光層/電子注入層/陰極、及び(6)陽極
/正孔注入層/ナフチルアミン誘導体層/電子注入層/
陰極などの積層構造を挙げることができる。
【0024】これらの場合、正孔注入層や電子注入層
は、必ずしも必要ではないが、これらの層を設けること
により、発光性能を一段と向上させることができる。ま
た、ナフチルアミン誘導体層を発光層として使用する場
合、発光材料を添加すれば、EL素子の発光効率が向上
する。
【0025】また、本発明のEL素子は、いずれの構成
であっても、基板に支持されていることが好ましいが、
この基板については特に制限はなく、EL素子に従来か
ら慣用されているもの、例えば、ガラス、透明プラスチ
ック、導電性高分子又は石英などから成る基板を用いる
ことができる。
【0026】本発明のEL素子を構成する各層は、各層
を構成すべき材料に、公知の方法、例えば、蒸着法、ス
ピンコート法及びキャスト法等を適用して薄膜化するこ
とにより、形成することができる。このようにして形成
された各層、例えば、発光層の薄膜については特に制限
はなく、適宜状況に応じて選定することができるが、通
常2nm〜5000nmの範囲で選定される。
【0027】また、本発明のEL素子における陽極とし
ては、仕事関数の大きい(4eV以上)金属、合金、電
気伝導性化合物及びこれらの混合物を電極物質とするも
のを好ましく用いることができる。かかる電極物質の具
体例としては、Auなどの金属、CuI、ITO、Sn
O2及びZnOなどの誘電性透明材料が挙げられる。
【0028】なお、陽極は、上述の電極物質に蒸着やス
パッタリングなどの方法を施し、薄膜を形成させること
により作製することができる。この電極より発光を取り
出す場合には、透過率を10%より大きくすることが望
ましく、また、電極としてのシート抵抗は数百Ω/mm
以下とするのが好ましい。なお、膜厚は材料にもよる
が、通常10nm〜1μm、好ましくは10〜200n
mの範囲で選定される。
【0029】一方、陰極としては、仕事関数の小さい
(4eV以下)金属、合金、電気伝導性化合物及びこれ
らの混合物を電極物質とするものを使用できる。かかる
電極物質の具体例としては、カルシウム、マグネシウ
ム、リチウム、アルミニウム、マグネシウム合金、リチ
ウム合金、アルミニウム合金、アルミニウム/リチウム
混合物、マグネシウム/銀混合物及びインジウムなどが
挙げられる。
【0030】陰極は、これらの電極物質に蒸着やスパッ
タリングなどの方法を適用して薄膜を形成させることに
より、作製することができる。また、電極としてのシー
ト抵抗は数百Ω/mm以下とするのが好ましく、膜厚は
通常10nm〜1μm、好ましくは50〜200nmの
範囲で選定される。なお、本発明のEL素子において
は、陽極、陰極のいずれか一方又は両方を透明ないし半
透明とし、発光を透過させて発光の取出し効率を向上さ
せることが好ましい。
【0031】上述したように、本発明のEL素子の構成
には各種の態様があり、各構成のEL素子における正孔
注入層又は正孔輸送層は、正孔伝達化合物を含有する層
であって、陽極より注入された正孔を発光層に伝達する
機能を有するが、この正孔注入層を陽極と発光層との間
に介在させることにより、より低い電界で多くの正孔が
発光層に注入され、その上、陰極又は電子注入層より注
入された電子を発光層に閉じ込めることも可能になるの
で、発光効率が向上するなど、発光性能に優れたEL素
子を得ることができる。
【0032】本発明の有機EL素子に係るナフチルアミ
ン誘導体は、この正孔注入及び正孔輸送性能に優れてお
り、しかも電子を閉じ込める作用も持っているので、本
発明の有機EL素子は、発光性能に優れ高効率である。
かかるナフチルアミン誘導体の具体例としては、以下の
化7〜化20に示す化合物を挙げることができる。
【0033】
【化7】
【0034】
【化8】
【0035】
【化9】
【0036】
【化10】
【0037】
【化11】
【0038】
【化12】
【0039】
【化13】
【0040】
【化14】
【0041】
【化15】
【0042】
【化16】
【0043】
【化17】
【0044】
【化18】
【0045】
【化19】
【0046】
【化20】
【0047】これらの化合物は、既知の合成法を利用し
て合成することができ、例えば、特開平7−30192
7号公報記載の方法又は本明細書の合成例に記載の方法
により、得ることができる。
【0048】一方、本発明のEL素子に使用される他の
正孔注入材料又は正孔輸送材料については、光導電材料
において、正孔の電荷輸送材として従来から慣用されて
いるものや、EL素子の正孔注入層又は正孔輸送層に使
用される公知のものの中から任意のものを選択して用い
ることができる。
【0049】例えば、カルバゾール誘導体(Nーフェニ
ルカルバゾール、ポリビニルカルバゾールなど)、トリ
アリールアミン誘導体(TPD、芳香族第3級アミンを
主鎖又は側鎖に持つポリマー、1,1−ビス(4−ジ−
p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン、N,N’
−ジフェニル−N,N’−ジナフチル−4,4’−ジア
ミノビフェニル、4,4,4−トリス{N−(3−メチ
ルフェニル)−N−フェニルアミノ}トリフェニルアミ
ン、ジャーナル・オブ・ザ・ケミカル・ソサイエティー
・ケミカル・コミュニケーション第2175頁1996
年に記載されている化合物、特開昭57−14455
8、特開昭61−62038、特開昭61−12494
9、特開昭61−134354、特開昭61−1343
55、特開昭61−112164、特開平4−3086
88、特開平6−312979、特開平6−26765
8、特開平7−90256、特開平7−97355及び
特開平8−48656号公報に記載されている化合物な
ど)、スチルベン誘導体(日本化学会第72春季年会講
演予稿集II、1392頁、2PB098に記載のもの
など)、フタロシアニン誘導体(無金属、銅フタロシア
ニンなど)、ポリシランなどが挙げられる。
【0050】なお、本発明のEL素子における正孔注入
層又は正孔輸送層は、これらの化合物の一種又は二種以
上を含有する1つの層で構成されてもよいし、また、該
1つの層とは別種の化合物を含有する正孔注入層等を積
層したものであってもよい。
【0051】また、本発明に係るナフチルアミン誘導体
は、発光層材料としても適しており、これはビナフチレ
ン基を導入したことに起因している。特に、発光色が青
色であるため、青、緑、赤色の発光材料を添加すること
によって、EL素子の発光色を変化させることができ
る。また、EL素子の構成層に用いられる化合物は、発
光層や正孔輸送層と励起錯体を形成しない方がよく、本
発明に係るナフチルアミン誘導体は、他の化合物と励起
錯体を形成し難いという利点もある。
【0052】上記各構成のEL素子における電子輸送層
は、電子伝達化合物を含有するものであって、陰極より
注入された電子を発光層に伝達する機能を有している。
このような電子伝達化合物については特に制限はなく、
本発明のナフチルアミン誘導体のみならず、従来公知の
化合物の中から任意のものを選択して用いることができ
る。かかる電子伝達化合物の好ましい例としては、次の
化21
【0053】
【化21】
【0054】などで表されるジフェニルキノン誘導体
(電子写真学会誌、30,3(1991)などに記載の
もの)、あるいは以下の化22及び化23
【0055】
【化22】
【0056】
【化23】
【0057】などで表される化合物(J.Apply.
Phys.,27,269(1988)などに記載のも
の)や、オキサジアゾール誘導体(上記文献、Jpn.
J.Appl.Phys.,27,L713(198
8)、アプライド・フィジックス・レター(Appl.
Phys.Lett.),55,1489(1989)
などに記載のもの)、チオフェン誘導体(特開平4−2
12286号公報などに記載のもの)、トリアゾール誘
導体(Jpn.J.Appl.Phys.,32,L9
17(1993)などに記載のもの)、チアジアゾール
誘導体(第43回高分子学会予稿集、IIIP1a00
7などに記載のもの)、オキシン誘導体の金属錯体(電
子情報通信学会技術研究報告、92(311),43
(1992)などに記載のもの)、キノキサリン誘導体
のポリマー(Jpn.J.Appl.Phys.,3
3,L250(1994)などに記載のもの)、フェナ
ントロリン誘導体(第43回高分子討論会予稿集、14
J07などに記載のもの)などを挙げることができる。
【0058】また、本発明のEL素子に用いる他の発光
材料には、高分子学会編 高分子機能材料シリーズ”光
機能材料”、共立出版(1991)、236頁に記載さ
れているような昼光蛍光材料、蛍光増白剤、レーザー色
素、有機シンチレータ、各種の蛍光分析試薬などの公知
の発光材料を用いることができる。
【0059】具体的には、アントラセン、フェナントレ
ン、ピレン、クリセン、ペリレン、コロネン、ルブレ
ン、キナクリドンなどの多環縮合化合物、クオーターフ
ェニルなどのオリゴフェニレン系化合物、1,4−ビス
(2−メチルスチリル)ベンゼン、1,4−ビス(4−
メチルスチリル)ベンゼン、1,4−ビス(4−メチル
−5−フェニル−2−オキザゾリル)ベンゼン、1,4
−ビス(5−フェニル−2−オキサゾリル)ベンゼン、
2,5−ビス(5−タシャリー−ブチル−2−ベンズオ
キサゾリル)チオフェン、1,4−ジフェニル−1,3
−ブタジエン、1,6−ジフェニル−1,3,5−ヘキ
サトリエン、1,1,4,4−テトラフェニル−1,
3,−ブタジエンなどの液体シンチレーション用シンチ
レータ、特開昭63−264692号公報記載のオキシ
ン誘導体の金属錯体、クマリン染料、ジシアノメチレン
ピラン染料、ジシアノメチレンチオピラン染料、ポリメ
チン染料、オキソベンズアントラセン染料、キサンテン
染料、カルボスチリル染料及びペリレン染料、独国特許
2534713公報に記載のオキサジン系化合物、第4
0回応用物理学関係連合講演会講演予稿集、1146
(1993)に記載のスチルベン誘導体、特開平7−2
78537号公報記載のスピロ化合物及び特開平4−3
63891号公報記載のオキサジアゾール系化合物が好
ましい。
【0060】更に、上述のような他の発光材料として
は、本発明者らによる1997年6月27日出願の国際
出願(PCT/JP97/02206)に提案されてい
る、ポルフィリンを好ましく用いることができ、かかる
ポルフィリンは、次の化24
【0061】
【化24】
【0062】(式中のR1〜R12は、それぞれ独立に
水素、ハロゲン、置換若しくは無置換のアルキル基、ア
ルコキシ基、アリールオキシ基、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルコキシ基、アミノ基、アルキルカ
ルボニル基、アリールカルボニル基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基、アゾ基、アルキ
ルカルボニルオキシ基、アリールカルボニルオキシ基、
アルコキシカルボニルオキシ基、アリールオキシカルボ
ニルオキシ基、スルフィニル基、スルフォニル基、スル
ファニル基、シリル基、カルバモイル基、アリール基、
ヘテロ環基、アルケニル基、アルキニル基、ニトロ基、
ホルミル基、ニトロソ基、ホルミルオキシ基、イソシア
ノ基、シアネート基、イソシアネート基、チオシアネー
ト基、イソチオシアネート基、シアノ基、又は隣接した
置換基の場合には置換若しくは無置換の環が縮合したも
のを示す。)で表される。
【0063】また、かかるポルフィリンは、上記化24
で表されるものに限定されるものではなく、天然に存在
するものや上記ポルフィリンから誘導される高分子及び
それらの金属錯体である金属ポルフィリンなども用いる
ことができる。
【0064】具体例としては、エチオポルフィリン−
I、オクタエチルポルフィリン、デューテロポルフィリ
ン−IX、メゾポルフィリン−IX、ヘマトロポルフィ
リン−IX、プロトポルフィリン−IX、コプロポルフ
ィリン−I、コプロポルフィリン−III、ウロポルフ
ィリン−I、ウロポルフィリン−III、クロロクルオ
ロポルフィリン、ペムトポルフィリン、デューテロポル
フィリン−IX、2,4−ジーアクリル酸、2,4−ジ
フォルミルデューテロポルフィリン−IX、2、4ージ
アセチルデューテロポルフィリン−IX、デューテロポ
ルフィリン−IX、2,4−ジスルフォニックアシッ
ド、フィロポルフィリン−XV、ピロポルフィリン−X
V、ロードポルフィリン−XV、フィロエリスリン、フ
ェオポルフィリン−a5、テトラフェニルポルフィリン
及びプロトヘムなどが挙げられる。
【0065】また、金属ポルフィリンに導入される金属
としては、Mg,Al,Si,Ca,Sc,Ti,V,
Cr,Mn,Fe,Co,Ni,Cu,Zn,Ga,G
e,As,Sr,Y,Zr,Nb,Mo,Rh,Pd,
Ag,Cd,In,Sn,Sb,Ba,Hf,Ta,
W,Re,Os,Ir,Pt,Au,Hg,Tl,P
b,Bi,Pr,Yb及びThなどがある。
【0066】なお、以上で説明したポルフィリンとは、
4つのピロール環をメチン基で結合したポルフィンを基
本骨格とし、周囲にある水素原子の置換によって得られ
る化合物の総称である。また、フタロシアニンをポルフ
ィリンの一種であるとする定義が用いられる場合もある
が、本明細書ではフタロシアニンは除くものとする。フ
タロシアニンは、ポルフィリンの持つ蛍光特性を有さず
好ましくない。
【0067】次に、本発明のナフチルアミン誘導体を用
いたEL素子を作製する好適方法の一例について説明す
る。上述した陽極/ナフチルアミン層/陰極を備えるE
L素子の作製法について説明すると、まず適当な基板上
に、所望の電極物質、例えば陽極用物質から成る薄膜を
1μm以下、好ましくは10〜200nmの範囲の膜厚
になるように、蒸着やスパッタリングなどの方法により
形成させて陽極を作製した後、この陽極上にナフチルア
ミン誘導体の薄膜を形成させる。
【0068】ナフチルアミン誘導体を薄膜化する方法と
しては、例えば、スピンコート法、キャスト法及び蒸着
法などがあるが、均質な膜が得られやすく、かつピンホ
ールが生成しにくいなどの点から蒸着法を適用するのが
好ましい。なお、蒸着法を用いて薄膜化する場合、その
蒸着条件は、ナフチルアミン層(この場合は発光層)に
用いるナフチルアミン誘導体の種類、分子累積膜の目的
とする結晶構造及び会合構造などにより異なるが、一般
に、ボート加熱温度50〜400℃、真空度10-6〜1
-3Pa、蒸着速度0.01〜50nm/sec、基板
温度−150〜+300℃、膜厚5nm〜5μmの範囲
で適宜選定することが望ましい。
【0069】そして、このナフチルアミン層(発光層)
の形成後、この層上に陰極用物質から成る薄膜を、例え
ば、蒸着やスパッタリング等の方法により、1μm以下
の膜厚で形成させて陰極を設けることにより、所望のE
L素子が得られる。なお、上述のEL素子の作製におい
ては、作製順序を逆にして、陰極、発光層、陽極の順に
作製することも可能である。
【0070】このようにして得られたEL素子に直流電
圧を印加する場合には、陽極を+、陰極を−の極性とし
て印加すればよく、電圧3〜40V程度を印加すると、
透明又は半透明の電極側(陽極又は陰極、及び両方)よ
り発光が観測できる。また、このEL素子は、交流電圧
を印加した場合にも発光する。なお、印加する交流の波
形は任意でよい。
【0071】以上に説明してきた本発明の有機EL素子
は、発光性能に優れ高効率であるばかりでなく、保存時
及び駆動時における耐久性も高い。これは、本発明に係
るナフチルアミン誘導体のガラス転移点(以下「Tg」
と略記する。)が高いためであり、本発明では、Tgが
約80℃以上のナフチルアミン誘導体を用いることが望
ましい。
【0072】一般に、有機EL素子の有機層はアモルフ
ァス状態であるので、これらの結晶化等がEL素子の破
壊につながると考えられている。このため、Tgが高い
材料を用いることが好ましいのであり、例えば、本発明
に係るナフチルアミン誘導体の一例であるN,N−ジフ
ェニル−N,N−ビス(3−メチルフェニル)−4,4
−ジアミノビナフチル(以下、「PMPAN」と略記す
る。)のTgは120℃であり、対応するTPDのTg
よりも約50℃高い。
【0073】
【実施例】以下、本発明を実施例に基づいて更に詳細に
説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるもので
はない。
【0074】(合成例1)PMPANの合成 窒素雰囲気下、N−フェニル−N−(3−メチルフェニ
ル)−N−(4−ブロモ−1−ナフチル)アミン900
mgを含有する5mlのテトラヒドロフラン(以下、
「THF」と略記する。)溶液に、1.6mol/lの
ブチルリチウムのヘキサン溶液1.7mlを−78℃で
加えた。15分撹拌後、塩化亜鉛のテトラメチルエチレ
ンジアミン錯体640mgを添加し、室温で30分撹拌
した。
【0075】次いで、N−フェニル−N−(3−メチル
フェニル)−N−(4−ブロモ−1−ナフチル)アミン
900mgを含有するTHF溶液5mlとビストリフェ
ニルフォスフィンパラジウム50mgを加え、19時間
還流した。放冷後、水とトルエンを加え、有機層に抽出
した。減圧濃縮後、シリカゲルカラムクロマトグラフィ
ー(ヘプタン/トルエン=5/1)にて精製後、ヘプタ
ンと酢酸エチルの混合溶媒から再結晶した。収量は0.
5gであった。得られたPMPANのトルエン中での蛍
光色は青紫色であった。 1HNMR(CDCl3)δ=2.28(s,6H),
6.81(d,2H),6.9−7.1(m,6H),
7.1−7.2(m,6H),7.2−7.4(m,8
H),7.42(d,2H),7.5−7.6(m,4
H),8.08(q,2H).
【0076】(実施例1)25mm×75mm×1.1
mmのガラス基板上にITOを蒸着法にて50nmの厚
さで製膜したもの(東京三容真空(株)製)を透明支持
基板とした。この透明支持基板を市販の蒸着装置(真空
機工(株)製)の基板ホルダーに固定し、石英製のるつ
ぼにPMPANを入れ、別のるつぼに1−アリル−1,
2,3,4,5−ペンタフェニルシラシクロペンタジエ
ン(以下「APS」と略記する。)を入れて真空槽を1
×10-4Paまで減圧した。
【0077】次いで、PMPAN入りのるつぼを加熱
し、上記透明支持基板上に膜厚50nmになるようにP
MPANを蒸着した。更に、APS入りのるつぼを加熱
して、このPMPAN蒸着層上に、膜厚50nmになる
ようにAPSを蒸着し、本実施例に係る発光層を形成し
た。蒸着速度は0.1〜0.2nm/秒であった。その
後、真空槽を2×10-4Paまで減圧してから、グラフ
ァイト製のるつぼよりマグネシウムを1.2〜2.4n
m/秒の蒸着速度で、同時にもう一方のるつぼより銀を
0.1〜0.2nm/秒の蒸着速度で蒸着し、マグネシ
ウムと銀の混合金属電極を発光層上に200nm積層し
て対向電極とし、EL素子を形成した。
【0078】ITO電極を陽極、マグネシウムと銀の混
合電極を陰極として、得られたEL素子に直流電圧14
Vを印加すると、約90mA/cm2の電流が流れ、6
00cd/m2の緑色の発光を得た。発光波長は503
nmであった。
【0079】(実施例2)実施例1で用いたAPSをト
リス(8−ヒドロキシキノリン)アルミニウム(以下、
「ALQ」と略記する。)に代えた以外は、実施例1と
同様の操作を繰り返し、本実施例のEL素子を作成し
た。ITO電極を陽極、マグネシウムと銀の混合電極を
陰極として、得られたEL素子に直流電圧9Vを印加す
ると、20mA/cm2程度の電流が流れ、緑色の発光
を得た。
【0080】(実施例3)実施例1と同様に、透明支持
基板を蒸着装置の基板ホルダーに固定し、石英製の各る
つぼに、それぞれPMPAN、TPD及びALQを入れ
て真空槽を1×10-4Paまで減圧した。次いで、各る
つぼを加熱し、透明支持基板上に、膜厚10nmのPM
PAN層、膜厚40nmのTPD層及び膜厚50nmの
ALQ層の順で積層蒸着し、本実施例に係る発光層を形
成した。蒸着速度は0.1〜0.2nm/秒であった。
その後、真空槽を2×10-4Paまで減圧してから、グ
ラファイト製のるつぼよりマグネシウムを1.2〜2.
4nm/秒の蒸着速度で、同時にもう一方のるつぼより
銀を0.1〜0.2nm/秒の蒸着速度で蒸着し、マグ
ネシウムと銀の混合金属電極を発光層上に200nm積
層して対向電極とし、EL素子を形成した。
【0081】ITO電極を陽極、マグネシウムと銀の混
合電極を陰極として、得られたEL素子に直流電圧10
Vを印加すると、約5mA/cm2の電流が流れ、15
0cd/m2の緑色の発光を得た。
【0082】(実施例4)実施例1と同様に、透明支持
基板を蒸着装置の基板ホルダーに固定し、石英製の各る
つぼに、それぞれPMPAN、TPD及び9,9−スピ
ロビシラフルオレンを入れて真空槽を1×10-4Paま
で減圧した。次いで、各るつぼを加熱し、透明支持基板
上に、膜厚50nmのTPD層、膜厚20nmのPMP
AN層及び膜厚50nmの9,9−スピロビシラフルオ
レン層の順で積層蒸着し、本実施例に係る発光層を形成
した。蒸着速度は0.1〜0.2nm/秒であった。そ
の後、真空槽を2×10-4Paまで減圧してから、グラ
ファイト製のるつぼよりマグネシウムを1.2〜2.4
nm/秒の蒸着速度で、同時にもう一方のるつぼより銀
を0.1〜0.2nm/秒の蒸着速度で蒸着し、マグネ
シウムと銀の混合金属電極を発光層上に200nm積層
して対向電極とし、EL素子を形成した。
【0083】ITO電極を陽極、マグネシウムと銀の混
合電極を陰極として、得られたEL素子に直流電圧15
Vを印加すると、約50mA/cm2の電流が流れ、P
MPANからの青色の発光を得た。
【0084】(実施例5)実施例1と同様に、透明支持
基板を蒸着装置の基板ホルダーに固定し、石英製の各る
つぼに、それぞれPMPAN、4,4,4−トリス{N
−(3−メチルフェニル)−N−フェニルアミノ}トリ
フェニルアミン及び2,5ービス{5−(2−ベンゾ
[b]チエニル)チエニル}−1,1,3,4−テトラ
フェニルシラシクロペンタジエンを入れて真空槽を1×
10-4Paまで減圧した。
【0085】各るつぼを加熱し、透明基板上に、膜厚3
0nmの4,4,4−トリス{N−(3−メチルフェニ
ル)−N−フェニルアミノ}トリフェニルアミン層、膜
厚20nmのPMPAN、及び膜厚50nmの2,5ー
ビス{5−(2−ベンゾ[b]チエニル)チエニル}−
1,1,3,4−テトラフェニルシラシクロペンタジエ
ン層の順で積層蒸着し、本実施例に係る発光層を形成し
た。蒸着速度は0.1〜0.2nm/秒であった。その
後、真空槽を2×10-4Paまで減圧してから、グラフ
ァイト製のるつぼよりマグネシウムを1.2〜2.4n
m/秒の蒸着速度で、同時にもう一方のるつぼより銀を
0.1〜0.2nm/秒の蒸着速度で蒸着し、マグネシ
ウムと銀の混合金属電極を発光層の上に200nm積層
して対向電極とし、EL素子を形成した。
【0086】ITO電極を陽極、マグネシウムと銀の混
合電極を陰極として、得られたEL素子に直流電圧15
Vを印加すると、約100mA/cm2の電流が流れ、
赤色の発光を得た。
【0087】(比較例1)PMPANをTPDに代えた
以外は、実施例2と同様の操作を繰り返し、本例のEL
素子を作成した。ITO電極を陽極、マグネシウムと銀
の混合電極を陰極として、得られた素子に100℃で直
流電圧を印加すると、数秒後に発光しなくなった。これ
に対して、実施例2で得られたEL素子は、100℃に
おいて直流電圧を印加すると、1時間後にも発光してい
た。
【0088】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、特定のナフチルアミン誘導体を用いることとしたた
め、高効率で長寿命な有機EL素子、これに用いられる
新規な発光材料及び有機電界発光材料を提供することが
できる。即ち、本発明のEL素子は、ナフチルアミン誘
導体を発光層や正孔輸送層等の有機層として使用してい
ることにより、高発光効率で長寿命であり、また、ナフ
チルアミン誘導体は、他の化合物と励起錯体を形成し難
いため、フルカラー化が容易である。従って、本発明の
EL素子を用いることにより、フルカラーディスプレイ
等の高効率なディスプレイ装置が作成できる。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 次の化1 【化1】 (式中のR1〜R20はそれぞれ独立に水素原子、ハロ
    ゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基、
    置換又は無置換のアミノ基、アリール基、ヘテロ環基又
    は隣接した場合には置換若しくは無置換のアリール基及
    び/又はヘテロ環基が縮合した構造を示す。)で表され
    るナフチルアミン誘導体を用いて成ることを特徴とする
    有機電界発光素子。
  2. 【請求項2】 正孔輸送層を有し、この正孔輸送層に上
    記ナフチルアミン誘導体が含まれていることを特徴とす
    る請求項1記載の有機電界発光素子。
  3. 【請求項3】 発光層を有し、この発光層に上記ナフチ
    ルアミン誘導体が含まれていることを特徴とする請求項
    1又は2記載の有機電界発光素子。
  4. 【請求項4】 正孔注入層を有し、この正孔注入層に上
    記ナフチルアミン誘導体が含まれていることを特徴とす
    る請求項1〜3のいずれか1つの項に記載の有機電界発
    光素子。
  5. 【請求項5】 次の化2 【化2】 (式中のR1〜R20はそれぞれ独立に水素原子、ハロ
    ゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基、
    置換又は無置換のアミノ基、アリール基、ヘテロ環基又
    は隣接した場合には置換若しくは無置換のアリール基及
    び/又はヘテロ環基が縮合した構造を示す。)で表され
    ることを特徴とする発光材料。
  6. 【請求項6】 次の化3 【化3】 (式中、R1〜R20はそれぞれ独立に水素原子、ハロ
    ゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、アルコキシ基、
    置換又は無置換のアミノ基、アリール基、ヘテロ環基又
    は隣接した場合には置換若しくは無置換のアリール基及
    び/又はヘテロ環基が縮合した構造を示す。)で表され
    ることを特徴とする有機電界発光材料。
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