JPH1157586A - 塗布装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 塗布ムラのピッチを小さくして塗布品質を向
上させる。 【解決手段】 上下２個のスライダ部材１５を固定子の
コアピッチの１／２周期分だけコアピッチの周期位置か
らずらして取付けたダブルスライダー構成を、左右両側
の各リニアモータにおいて、互いにスケールコアピッチ
に対して１／４周期分ずらして取付けている。これで、
リニアモータのコアピッチが２ｍｍピッチの場合、２ｍ
ｍピッチのモータコアピッチｐの１／４周期である０．
５ｍｍピッチまで周期振動を細分化することができて、
レベリング効果により塗布ムラを完全に無くすことがで
きて、塗布品質の更なる向上と共に塗布膜厚の更なる均
一性をも向上させることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示デバイス
（ＬＣＤ）、プラズマ表示デバイス（ＰＤＰ）、半導体
デバイスおよび各種電子部品などの製造プロセスにおい
て、ＬＣＤまたはＰＤＰ用ガラス基板、半導体基板およ
びプリント基板などの基板表面に対して、フォトレジス
ト膜、カラーフィルタ材、平坦化材、層間絶縁膜、絶縁
膜および導電膜などを形成するために各種塗布液を毛細
管現象で汲み上げて塗布する塗布装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、基板表面に塗布液を塗布する方式
としては、回転塗布方式、ブレード塗布方式、スプレイ
塗布方式およびロールコート方式などがある。

【０００３】近年、液晶表示デバイスや半導体デバイス
などの製造プロセスにおいて、基板を水平に保った状態
で回転させ、その中央部に塗布液を供給して塗布液に遠
心力を与えることで、基板表面上の中央部から外周部に
均一に塗布液を塗布する回転塗布方式が広く利用されて
いる。

【０００４】ところが、この回転塗布方式では、基板の
大型化や角形化の傾向とも相俟って、塗布液を遠心力で
外方に飛ばすため、使用される塗布液の有効利用という
点で無駄があり、塗布液の利用効率が悪かった。また、
角形の基板を水平姿勢で回転させることで、基板の大型
化にも伴って装置も大型化し、その設置スペースも増大
せざるを得なかった。さらに、角形の基板を高速に回転
させると、基板表面に気流の乱れが発生し易く、しか
も、その基板が大型化すると、その回転時における基板
表面上の線速度差が増大することにより、塗布むらや塗
布膜厚の均一性などの塗布品質を確保することが難しく
なっていた。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような回転塗布方
式の上記問題、つまり、塗布液の利用効率の低下、設置
スペースの増大および塗布膜厚の不均一を解決すべく、
基板を鉛直姿勢または傾斜した姿勢に立てて保持し、そ
の基板の幅方向（左右方向）のノズルから基板表面に対
して塗布液を吐出させつつ、そのノズルを基板上端から
下端に移動させるようにして塗布液を塗布する方式の塗
布装置が、特開平８−２４７４０号公報「基板への塗布
液塗布装置」で提案されているが、この塗布装置につい
て、以下に説明する。

【０００６】図８は、本出願人による塗布装置の概略構
成を示す正面図であり、図９は、図８の塗布装置におけ
るＡＡ線の断面図である。

【０００７】図８および図９において、この塗布装置
は、基板１００を垂直方向に立てて保持するステージ１
０１と、基板１００の被塗布面に塗布液１０２を供給す
る塗布液槽を内部に有するノズル部材１０３と、このノ
ズル部材１０３を基板１００に沿って下方に直線移動さ
せる移動手段（図示せず）とから構成されている。この
ノズル部材１０３は、両端が閉塞され基板１００の幅方
向に延在する筒状をなしており、基板１００の被塗布面
と対向する前面壁部１０４に槽内から外部に貫通したス
リット状の塗布液流出路１０５をその幅方向に形成して
いる。また、基板１００の被塗布面と対向する前面壁部
１０４の前端面１０６は、基板１００の被塗布面に非接
触でかつ近接するように配設され、その下端１０６ａが
塗布液流出路１０５の流出口よりも下方で且つその反対
側の入口よりも上方に位置し、その上端１０６ｂが、基
板１００の被塗布面と前端面１０６との間の隙間１０７
を上方へ無限に延長させたと仮定した場合に塗布液流出
路１０５を通って隙間１０７内に流入した塗布液が少な
くとも毛細管現象などによって上昇するときの到達高さ
位置と塗布液流出路１０５の流出口との間に位置するよ
うになっている。

【０００８】上記構成により、塗布液槽内に塗布液流出
路１０５の入口と前端面１０６の下端１０６ａとの間の
高さまで塗布液を注入し、塗布液槽を大気開放とする
と、塗布液槽内に供給された塗布液１０２は、毛管現象
によって、塗布液流出路１０５を通って槽外に流出し、
ステージ１０１によって鉛直姿勢に保持された基板１０
０の被塗布面と前端面１０６との間の隙間１０７内に流
入する。

【０００９】この隙間１０７内に流入した塗布液は、毛
細管現象などによってその隙間１０７内を前端面１０６
の下端１０６ａまで下降するが、前端面１０６の下端１
０６ａから流下することはない。また、隙間１０７内に
流入した塗布液の上方への流動は、毛細管現象などによ
ってその隙間１０７内を前端面１０６の上端１０６ｂま
で上昇するが、前端面１０６の上端１０６ｂで規制され
てそれ以上には上昇しない。このようにして、基板１０
０の被塗布面と前端面１０６との間の隙間１０７内に、
基板１００の幅方向に延びる帯状の塗布液の液溜りが形
成されることになる。

【００１０】さらに、この塗布液の液溜りが形成された
状態で、基板１００の被塗布面と前端面１０６との間の
隙間１０７を保持したまま、基板１００の縦方向（基板
１００の幅方向と直交する上下方向）ａにノズル部材１
０３と基板１００とを相対的に直動させると、基板１０
０の被塗布面に塗布液が塗布される。このとき、基板１
００の被塗布面と前端面１０６の隙間１０７にある液溜
りの塗布液は、基板１００の被塗布面に塗布されていく
に従って消費されるが、大気開放されたノズル部材１０
３の塗布液槽の塗布液にかかる大気圧と毛細管現象など
によって、その消費量とほぼ同等の塗布液が塗布液槽内
から塗布液流出路１０５を通ってその隙間１０７内に供
給される。そのため、塗布時の隙間１０７内の塗布液量
は常にほぼ一定に保持されることになって、基板１００
に塗布液が連続して塗布されることになる。

【００１１】ところで、このように、ノズル部材１０３
を基板１００に沿って塗布するべく下方に直線移動させ
る移動手段（図示せず）としてはボールねじを用いる
が、このボールねじ移動方式では、ボールねじの１回転
に１回の周期振動を生じるようになる。これは、装置を
組んだときの微妙なねじれや、組んだときのストレスな
どによって生じ、例えばボールねじのねじピッチが１０
ｍｍの場合には、周期振動としては１０ｍｍ毎に発生
し、これが速度ムラや振動となって、図１０に示すよう
な左右に細長いノズル部材１０３の流出口に平行な塗布
ムラ１０８を発生させてしまう。このような周期振動は
そのｎ次倍の周期の速度ムラや振動を発生させる。例え
ばボールねじのねじピッチが１０ｍｍの場合には、１次
周期振動としては１０ｍｍ毎に発生し、２次周期振動と
しては５ｍｍ毎に発生し、４次周期振動としては２．５
ｍｍ毎に発生しすることになる。

【００１２】そして、このボールねじ移動方式で、低速
から高速までを共用した場合、回転駆動源の回転数の制
約から、ボールねじのねじピッチは通常は４ｍｍ以上で
それ以上細かくできないため、このねじピッチ（４ｍｍ
以上）に起因した速度ムラや振動が発生することにな
る。これらの速度ムラや振動によって図１０に示すよう
なピッチの塗布ムラ１０８を発生させることになる。こ
の塗布ムラ１０８のピッチが小さい場合には、塗布され
た塗布液が乾くまでの間にレベリング（平坦化）して塗
布ムラ１０８は消えるかまたは目立たなくなる。この塗
布液のレベリング（平坦化）効果が期待できるのは、周
期振動のピッチが２ｍｍ以下の目立たない振動であって
この周期が細かいほどレベリング（平坦化）効果も大き
くなる。また、周期振動のピッチが１ｍｍ以下のピッチ
の場合には、もはやほとんど目立たずレベリング（平坦
化）されてしまう。また、周期振動のピッチが大きい塗
布膜のうねり状態の場合には、レベリング（平坦化）は
期待できないが、膜厚差（均一性）としては大きくても
塗布ムラ（塗布品質）としては目立ちにくい。目視によ
る塗布ムラがよく目立つのは、図１１に示すように２ｍ
ｍ〜１０ｍｍの周期ムラであって、５ｍｍ前後の周期ム
ラが最もよく目立ち、この場合、塗布品質が最も悪く評
価され易いことになる。

【００１３】本発明は、上記従来の問題を解決するもの
で、塗布ムラのピッチを小さくして塗布品質を向上させ
ることができる塗布装置を提供することを目的とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明の塗布装置は、立
設した基板の被塗布面に対して、毛管現象で塗布液槽か
ら汲み上げられた塗布液を塗布する塗布装置において、
この塗布液槽に一端が連通され外部流出口に他端が連通
されて斜め上方に延びる塗布液流出路が前面壁部に配設
され、外部流出口を介して塗布液を塗布可能なノズル手
段と、ノズル手段と基板を被塗布面に沿って相対移動さ
せるリニアモータと、このリニアモータを駆動制御する
制御手段とを有することを特徴とするものである。

【００１５】この構成により、ノズル手段と基板を被塗
布面に沿って相対移動させる移動手段として、従来のボ
ールねじの代りにリニアモータを採用し、リニアモータ
のコアピッチはボールねじのねじピッチよりも小さく２
ｍｍピッチ程度であるので、２ｍｍピッチの周期振動ま
で細分化することが可能となる。２ｍｍピッチの周期振
動であれば、レベリング効果によって塗布ムラがかなり
低減可能であって、その塗布品質が向上する。

【００１６】また、本発明の塗布装置におけるリニアモ
ータは、所定ピッチ毎に直線状にそれぞれ配置された固
定子と、この固定子上を移動する複数の移動子とを備え
ており、この複数の移動子は所定ピッチを移動子数で割
った寸法だけ所定ピッチの周期位置から順次ずらした位
置にそれぞれ連結されていることを特徴とするものであ
る。また具体的には、好ましくは、本発明の塗布装置
は、立設した基板の被塗布面に対して、毛管現象で塗布
液槽から汲み上げられた塗布液を塗布する塗布装置にお
いて、基板を立てた状態で保持するステージと、塗布液
を貯留可能な塗布液槽と、この塗布液槽に一端が連通さ
れ外部流出口に他端が連通されて斜め上方に延びる塗布
液流出路が前端壁部に配設され、外部流出口を介して塗
布液を塗布可能なノズル手段と、所定ピッチ毎に直線状
にそれぞれ配置された固定子上を移動する２個の移動子
が、所定ピッチの周期位置から所定ピッチの半ピッチだ
けずらした位置に連結されており、この２個の移動子側
に固定されたノズル手段を基板の被塗布面に沿って相対
移動させるリニアモータと、このリニアモータを駆動制
御する制御手段とを有することを特徴とする。

【００１７】この構成により、例えば２個の移動子を固
定子のコアピッチの１／２周期分だけコアピッチの周期
位置からずらして取付けてダブルスライダー構成とすれ
ば、リニアモータのコアピッチが２ｍｍピッチの場合、
その半分の１ｍｍの周期振動まで細分化が可能となり、
１ｍｍピッチの塗布ムラとなる。１ｍｍピッチ程度の塗
布ムラであれば、レベリング効果により塗布ムラを無く
すことが可能となって、塗布品質の向上と共に塗布膜厚
の均一性をも向上させることが可能となる。このよう
に、移動子の数を増加させて、コアピッチの１／（移動
子数）周期分だけコアピッチの周期位置から順次ずらし
て複数の移動子を取付けてスライダー構成とすれば、さ
らに周期振動のピッチを細かくすることが可能となっ
て、レベリング効果により塗布ムラを完全に無くすこと
が可能となって、塗布品質の更なる向上と共に塗布膜厚
の更なる均一性をも向上させることが可能となる。

【００１８】さらに、本発明の塗布装置におけるリニア
モータは、所定ピッチ毎に直線状にそれぞれ配置された
固定子が左右両側に上下方向にそれぞれ配設されてお
り、前記左右の複数の移動子を、前記ずらした寸法のさ
らに１／２の寸法をずらした位置に配設されていること
を特徴とするものである。また具体的には、好ましく
は、本発明の塗布装置は、立設した基板の被塗布面に対
して、毛管現象で塗布液槽から汲み上げられた塗布液を
塗布する塗布装置において、基板を立てた状態で保持す
るステージと、塗布液を貯留可能な塗布液槽と、この塗
布液槽に一端が連通され外部流出口に他端が連通されて
斜め上方に延びる塗布液流出路が前端壁部に配設され、
外部流出口を介して塗布液を塗布可能なノズル手段と、
所定ピッチ毎に直線状にそれぞれ配置された固定子上を
移動する２個の移動子が、所定ピッチの周期位置から所
定ピッチの半ピッチだけずらし位置に互いに連結された
移動子群が左右両側に配設され、これらの各移動子群は
互いに所定ピッチを１／４ピッチだけずらした位置に互
いに配設されており、これらの各移動子群の間に固定さ
れたノズル手段を基板の被塗布面に沿って相対移動させ
るリニアモータと、このリニアモータを駆動制御する制
御手段とを有することを特徴とするものである。

【００１９】この構成により、左右両側の各リニアモー
タにおける各ダブルスライダー構成を、互いにコアピッ
チに対して１／４周期分ずらして取付けているので、リ
ニアモータのコアピッチが２ｍｍピッチの場合、２ｍｍ
ピッチのコアピッチの１／４周期である０．５ｍｍピッ
チまで周期振動を細分化することが可能となって、レベ
リング効果により塗布ムラを完全に無くすことが可能と
なって、塗布品質の更なる向上と共に塗布膜厚の更なる
均一性をも向上させることが可能となる。

【００２０】さらに本発明の塗布装置における、リニア
モータは、所定ピッチ毎に直線状にそれぞれ配置された
固定子と、この固定子上を移動する複数の移動子とを備
えており、この複数の移動子は、互いにコギング推力を
細ピッチ化する位置関係に配置されていることを特徴と
するものである。さらに本発明の塗布装置におけるリニ
アモータは、所定ピッチ毎に直線状にそれぞれ配置され
た固定子が左右両側に上下方向に配設されており、左右
の前記複数の移動子は、互いにコギング推力を細ピッチ
化する位置関係に配置されていることを特徴とする。こ
のように移動子を複数設けて、それらをコギング推力を
細ピッチ化するように配置することで、周期振動のピッ
チを細かくすることができ、レベリング効果により塗布
ムラを低減することができる。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る塗布装置の実
施形態について図面を参照して説明するが、本発明は以
下に示す実施形態に限定されるものではない。

【００２２】図１は本発明の一実施形態における塗布装
置の概略構成を示す斜視図である。

【００２３】図１において、壁状に構成されて立設され
た架台１の表面側中央部に、ガラス基板などの基板２の
被塗布面を外側に向けた状態で基板２を吸着して鉛直姿
勢に保持する吸着ステージ３が配設されている。この吸
着ステージ３は、用いるサイズの基板２毎の外周部に対
応した適所に、吸引可能な吸着部材としての吸盤（図示
せず）が出退自在に為されている細長い凹部３ａが複数
配設されており、基板２への吸盤（図示せず）による吸
着後に吸盤（図示せず）を凹部３ａ内の所定位置に引き
込んで収納することで基板２を保持するようになってい
る。また、吸着部材としての吸盤（図示せず）が基板２
の中央部を保持しないのは、基板２の中央部は重要な回
路などが配置される部分であり、吸盤（図示せず）によ
る真空吸引と解除によって温度が下がったり上がったり
することで塗布むらとなるのを防止するためである。し
たがって、吸盤（図示せず）の形状も基板２の外周部だ
けを吸引すべく、細長い凹部３ａと同様の細長い吸盤形
状となっている。なお、ここでは、吸着ステージ３によ
る基板２の保持は、吸盤（図示せず）による吸着の場合
を示したが、基板２の上下左右を爪状の部材でひっかけ
て保持するような構成であってもよいことは言うまでも
ないことである。

【００２４】また、この架台１の表面側および裏面側の
幅方向両端部の上下位置の４角部にそれぞれ４個の各ア
イドルギヤ４が左右２組回転自在に各軸受部５でそれぞ
れ軸支されて配設されている。これらの上部に位置する
左右２組の各アイドルギヤ４にそれぞれ架けられた左右
の各スチールベルト６の一方端にはそれぞれ、ベース部
材７の両端上部がそれぞれ連結されており、また、左右
の各スチールベルト６の他方端にはそれぞれ、バランス
ウェイト８の両端上部がそれぞれ連結されている。ま
た、下部に位置する左右２組の各アイドルギヤ４にそれ
ぞれ架けられた左右の各スチールベルト６の一方端には
それぞれ、ベース部材７の両端下部がそれぞれ連結され
ており、また、その左右の各スチールベルト６の他方端
にはそれぞれ、バランスウェイト８の両端下部がそれぞ
れ連結されて、ベース部材７が架台１の表面側で、バラ
ンスウェイト８が架台１の裏面側でそれぞれ水平に保持
されかつ上下に移動可能な状態で、各スチールベルト６
が、架台１の幅方向両端部の上下方向にそれぞれ左右２
組の各アイドルギヤ４をそれぞれ介して巻回されてい
る。このベース部材７上の中央部には、基板２の幅寸法
のノズル口９を有し、そのノズル口９から塗布液を吐出
可能なノズルユニット１０が配設されている。これらの
ベース部材７およびノズルユニット１０とバランスウェ
イト８とがそれぞれバランスが取れた静止状態で架台１
の表と裏の幅方向両端部間に水平にそれぞれ保持される
ようになっている。

【００２５】また、架台１の表面側の両端部にはそれぞ
れ各上下方向に縦型の各リニアモータ１１の固定子ユニ
ット１２が配設されており、これら左右の各リニアモー
タ１１はその駆動によって、ノズルユニット１０を載置
したベース部材７の両端部を各固定子ユニット１２に沿
って上下に直線移動させる構成となっている。この移動
手段としてのリニアモータ１１は、各上下方向に配設さ
れた各スチールベルト６にそれぞれ沿ってベース部材７
の両端部および各スチールベルト６の内側にそれぞれ配
設されており、図２に示すように、幅方向両端部の各レ
ール部１３間に、所定ピッチ毎に直線状に固定子（図示
せず）がそれぞれ配設されたベース部１４を有する固定
子ユニット１２と、ベース部材７の両端部裏側の各側壁
にそれぞれ各固定子ユニット１２とそれぞれ対向して配
設され、各固定子ユニット１２の上をスライド自在な移
動子を構成するスライダ部材１５とを有している。この
スライダ部材１５は、その幅方向両側に各レール部１３
とそれぞれ嵌合して上下方向に案内される各リニアガイ
ド部１６と、各リニアガイド部１６の間に配設されると
共に、固定子ユニット１２のベース部１４に対向し、図
示しない巻線による励磁によって磁力を発生させる磁気
回路部１７と、この磁気回路部１７の巻線（図示せず）
の両端に接続されたコネクタ１８とを有しており、この
磁気回路部１７の励磁による磁力で、スライダ部材１５
は固定子ユニット１２の各レール部１３に各リニアガイ
ド部１６で案内されて上下に移動自在である。このスラ
イダ部材１５が、ノズルユニット１０を載置したベース
部材７の両端部裏側にそれぞれ固着されており、これら
の各スライダ部材１５の移動によってベース部材７が上
下に移動自在になっている。

【００２６】このスライダ部材１５は、図３に示すよう
に上下に２個、固定子ユニット１２側で直線状に上下に
それぞれ並べられて配設された固定子４５のコアピッチ
（取付けピッチ：本実施形態では２ｍｍ）ｐの半ピッチ
だけコアピッチｐの周期位置からずらした位置に連結さ
れてダブルスライダー構成となっている。このようなダ
ブルスライダー構成を左右のリニアモータ１１にそれぞ
れ設けると共に、右側のリニアモータ１１におけるダブ
ルスライダー構成が，左側のリニアモータ１１における
ダブルスライダー構成よりもコアピッチｐの１／４だけ
ずらした高さ位置に配設されている。

【００２７】このように、両側に上下方向のリニアモー
タ１１をそれぞれ配設し、各リニアモータ１１の移動子
側にはそれぞれ、上下２個のスライダ部材１５が１組み
になって連結されている。これらの２個のスライダ部材
１５はコアピッチｐの１／２周期分（半ピッチ：本実施
形態では１ｍｍ）だけコアピッチｐの周期位置からずら
した位置に取付け固定され、ダブルスライダー構成の基
本周期振動ピッチ（コギングピッチ）をモータコアピッ
チｐの１／２周期（本実施形態では１ｍｍ）まで細分化
できるようになっている。さらに、２本のリニアモータ
１１の各ダブルスライダー構成は互いにスケールコアピ
ッチに対して１／４周期分ずらして取付け固定され、基
板２とノズル部材１９との被塗布面２ａに沿った相対移
動の総合的な基本周期振動ピッチ（コギングピッチ）を
モータコアピッチｐの１／４周期（本実施形態では０．
５ｍｍ）まで細分化できるようになっている。なお、こ
れらのリニアモータ１１の制御は後述する制御部５３に
よりなされるが、かかる制御は、これらのスライダ部材
１５の全体で生じるコギング推力を細ピッチ化するもの
であればよい。図３においては左側にスライダ部材１５
ａ１，１５ａ２を、右側にスライダ部材１５ｂ１，１５
ｂ２を設けているが、それらの駆動制御は例えば、左側
のスライダ部材１５ａ１と右側のスライダ部材１５ｂ１
のみを電気制御により駆動し、左側のスライダ部材１５
ａ２と右側のスライダ部材１５ｂ２に対しては磁気回路
部１７の巻線に通電駆動を行わないという駆動制御であ
っても、それらスライダ部材１５ａ２，１５ｂ２（の電
気回路部１７）の存在によりコギング推力の細ピッチ化
が実現可能である。もちろん、全てのスライダ部材１５
ａ１，１５ａ２，１５ｂ１，１５ｂ２を通電駆動制御し
て、全体として、相対移動の総合的なコギング推力のピ
ッチを細ピッチ化するものとしてもよい。

【００２８】これに伴って、ノズルユニット１０などの
可動部材とバランスウェイト８などのカウンターバラン
ス部材とを連結するスチールベルト６（またはワイヤ
ー）などの連結部材の固有振動数も、上記塗布時の１ｍ
ｍピッチ以下になるように、その厚さ（または太さ）、
長さおよび重さ、その材質などを選定する。例えば塗布
時におけるノズルユニット１０の速度を３０ｍｍ／ｓｅ
ｃ以下とすると、スチールベルト６の張り側の固有振動
数を３０Ｈｚ以上とする部材を選定することになる。

【００２９】一方、ここでは、ノズルユニット１０を載
置したベース部材７の両端部を各固定子ユニット１２に
沿って上下に移動させるように構成したが、ノズルユニ
ット１０と基板２とが被塗布面に沿って相対的に移動す
るように構成すればよく、ノズルユニット１０を固定し
て基板２を吸着ステージ３と共に上下にリニアモータで
移動するように構成することもできる。このように、吸
着ステージ３を上下に移動させる方がノズルユニット１
０を移動させるよりも振動が少なく、その振動による塗
布むら防止などの観点から吸着ステージ３を移動させる
方がよいのであるが、吸着ステージ３を上下に移動させ
ると、装置の高さが倍必要となり、クリーンルームの天
井高さには制限があるので、装置の設置が難しくなって
しまう。

【００３０】さらに、ノズルユニット１０は、図４に示
すように、基板２の被塗布面に対向して開口した水平方
向の細長いノズル口９から塗布液を吐出可能なノズル手
段としてのノズル部材１９と、このノズル部材１９のノ
ズル口９を基板２の被塗布面への対向位置Ｍと、洗浄用
の下方位置Ｎ（２点鎖線で示す）との間で、ノズル部材
１９をその長手方向を回動軸として回動させるノズル部
材回動機構部２０と、ノズル部材１９のノズル口９と基
板２の被塗布面との水平方向の隙間（ギャップ）を可変
させるべく、ノズル部材１９を基板２に対して接近また
は離間自在に駆動するギャップ可変機構部２１とを備え
ている。このノズルユニット１０は、塗布処理される基
板２のサイズに合った幅寸法のノズル部材１９と付け変
え可能に構成されている。

【００３１】このノズル部材１９のうち、図５（ａ）に
はノズル部材１９ａが、図５（ｂ）には別の型のノズル
部材１９ｂが模式的に示されている。これらのノズル部
材１９ａ，１９ｂ内には、塗布液２２を溜める塗布液槽
２３が配設されており、この塗布液槽２３は、両端が閉
塞され基板２の幅方向に延在する水平方向に細長い筒状
に構成されている。また、この塗布液槽２３の中央部に
塗布液２２を供給する図１の供給チューブ２４が連結さ
れており、ベース部材７上に載置されたポンプ４３によ
って供給チューブ２４を介して外部から塗布液を塗布液
槽２３内に供給可能に構成している。前端面２７の下端
２７ａは、スリット２６の出口であるノズル口９と、そ
の反対側の塗布液槽２３内への開口との間の高さに位置
するよう形成されている。また、ノズル部材１９ａ，１
９ｂの塗布液槽２３には、その内部に貯留される塗布液
の液面よりも上方部分において塗布液槽２３内部と連通
してその内部を加圧し、減圧し、または大気開放にする
ための圧力設定機構（図示せず）が接続されている。ま
た、基板２の被塗布面２ａと対向する前面壁部２５に塗
布液槽２３内から外部に斜め上向きに貫通した塗布液流
出路としてスリット２６がその幅方向に形成されてい
る。このスリット２６は、塗布液槽２３の下部とノズル
口９との間で直線状に左上向きに傾斜した状態で連結し
ており、スリット２６の下方端が塗布液槽２３内に開口
し、その上方端が水平方向に細長いノズル口９となって
いる。さらに、基板２の被塗布面２ａと対向する前面壁
部２５の前端面２７は、塗布液の液溜りが形成可能なよ
うに、基板２の被塗布面２ａに非接触でかつ所定の隙間
２８で近接するように配置される。

【００３２】さらに、図５（ａ）のノズル部材１９ａで
は、この前端面２７の下端２７ａとスリット２６の塗布
液槽２３内への開口上端との高さ範囲Ｂ内に塗布液槽２
３内の塗布液面が位置するように液面を設定し、その前
端面２７の上端２７ｂが、基板２の被塗布面２ａと前端
面２７との間の隙間２８を上方へ無限に延長させたと仮
定した場合にその隙間２８内に流入した塗布液２２が少
なくとも毛細管現象などによって上昇できる到達高さ位
置とスリット２６の出口であるノズル口９との間に位置
するようになっている。

【００３３】また、図５（ｂ）の別の型のノズル部材１
９ｂでは、前端面２７の下端２７ａとスリット２６の塗
布液槽２３内への開口上端との高さ範囲Ｂ内に塗布液槽
２３内の塗布液面が位置するように液面を設定し、ノズ
ル口９から前端面２７の前端面上部２９は、上方に開く
ように傾斜している。つまり、基板２の被塗布面２ａと
前端面上部２９との間の隙間３０は上に行くほど広がっ
ており、塗布液２２が毛細管現象などによってスリット
２６さらにノズル口９を介して隙間３０内を上昇する液
面到達高さ位置まで来ている。

【００３４】これらのノズル部材１９ａ，１９ｂの特徴
を比較すると、ノズル部材１９ａでは、塗布液２２が毛
細管現象などによって上昇する到達高さ位置よりも低い
位置で前端面２７の上端２７ｂが形成されているため、
毛細管現象などによる塗布液２２の上昇力が内在されて
おり、塗布液２２の塗始めから所定膜厚に至るまでの時
間がノズル部材１９ｂの場合よりも早く到達するという
メリットがある。つまり、ノズル部材１９ａでは、塗布
液２２の塗始めに生じる薄い膜厚範囲が、ノズル部材１
９ｂの場合よりも狭いというメリットがある。

【００３５】また、ノズル部材１９ａでは、その前端面
２７は塗布液２２で常に濡れているために塗布液２２が
乾くことがなく、乾くことによるコンタミネーションの
発生原因は抑えられることになる。一方、ノズル部材１
９ｂでは、前端面上部２９の傾斜面を、塗布液２２の液
面が毛細管現象などによって上昇する到達高さ位置は、
塗始めと塗終わりなどで、消費した液量差による槽内の
液面高さの低下などのため一定しておらず、液面が低下
することによって、今まで塗布液２２で濡れていた前端
面上部２９の傾斜面が乾いてコンタミネーションが生
じ、そこから発生したパーティクルが塗布液２２中に混
入して塗布されることになって、塗布膜の品質が低下す
るという虞がある。また、ノズル部材１９ｂでは、次に
別の基板２の被塗布面２ａを塗布する場合にも同様に、
前端面上部２９の傾斜面を、塗布液２２の液面が毛細管
現象などによって上昇する到達高さ位置は、前回の塗布
時と比べて、基板２の被塗布面２ａと前端面上部２９と
の隙間３０が広くなったり狭くなったりすることで一定
化しない。このため、その隙間３０が広くなったギャッ
プ部分では液面到達高さ位置が低下することによって、
今まで塗布液２２で濡れていた前端面上部２９の傾斜面
が乾くことになる。その乾いた部分にコンタミネーショ
ンが発生し、それによるパーティクルが塗布液２２中に
混入して塗布されることになって、塗布膜の品質が低下
するという虞がある。

【００３６】さらに、ノズル部材１９ａでは、基板２の
被塗布面２ａと前端面２７との隙間２８の寸法によって
塗布する塗布液２２の膜厚が変化するために、膜厚調整
用としては効力を発揮するが、細長いノズル口９と基板
２の被塗布面２ａとの隙間２８に、細長いノズル口９の
両端位置で、また、塗始めの位置と塗終わりの位置など
でギャップ差が生じるような場合には、その隙間２８の
差が塗布膜厚差となって反映することになって、基板２
の被塗布面２ａに均一な膜厚の塗布液２２を塗布するこ
とができないという虞がある。これに対して、ノズル部
材１９ｂでは、基板２の厚みが一定でなかったり基板２
の被塗布面２ａと細長いノズル口９との隙間３０に、基
板２が反っていたりノズル部材１９ｂが傾いていたりし
て、細長いノズル口９の両端位置で、また、塗始めの位
置と塗終わりの位置でギャップ差があるような場合に
も、隙間３０が上方に広がっているので、細長いノズル
口９の両端部などでのギャップ差が吸収されて、塗布膜
厚差が生じにくく、基板２の被塗布面２ａにより均一な
膜厚の塗布液２２を塗布することができるようになる。
つまり、隙間３０の寸法が小さくなるほど塗布膜厚が厚
くなるが、この場合、隙間３０を上昇する塗布液２２の
液面到達高さ位置も上昇することになり、前端面２９の
傾斜面で液面が上になるほど液面位置における隙間寸法
も増えて、細長いノズル口９の両端部などでのギャップ
差が吸収されることになる。この上昇液面位置における
隙間寸法が塗布膜厚に影響しているため、隙間３０の寸
法が小さくなるほど塗布膜厚が厚くなるが、上昇液面位
置における隙間寸法は広がって塗布膜厚が薄くなって塗
布膜厚差は生じにくくなり、基板２の被塗布面２ａに対
してより均一な膜厚の塗布液２２を塗布することができ
るようになる。

【００３７】一方、図４のノズル部材回動機構部２０
は、図示しない電磁弁で制御されて、ロッド先端部３１
を伸長位置と収縮位置との間を移動させるエアーシリン
ダ３２が、矢印方向Ｃにシリンダ前方部のピン３２ａを
回動中心として回動可能に軸支されている。このロッド
先端部３１は、アーム部材３３の一方端部と回動可能に
ピン連結されてリンク機構を構成しており、アーム部材
３３の他方端部は駆動軸３４にその長手方向に直交する
方向から回動力を伝達可能に固定されている。この駆動
軸３４は、所定幅で水平方向に延びたベース部材３５を
下方から支持する支持部材３５ａを横方向から貫通して
固定されている。このベース部材３５の前方端縁上側に
はノズル部材１９がそのノズル口９を基板２の被塗布面
２ａ側に向けた状態で、ノズル部材１９の長手方向と駆
動軸３４の軸方向が一致する方向になるように取り付け
られている。図４は、エアーシリンダ３２のロッド先端
部３１が伸長した場合であり、このとき、ノズル部材１
９のノズル口９は基板２の被塗布面２ａに対向して塗布
可能な状態である。これに対して、エアーシリンダ３２
のロッド先端部３１が短縮した場合には、ノズル部材１
９のノズル口９は、２点鎖線で示すように下方を向いて
図示しないノズル洗浄手段によりノズル部材１９が洗浄
可能な状態となる。このロッド短縮の途中で、ピン３２
ａを回動中心としてエアーシリンダ３２が矢印方向Ｃに
揺動しつつロッド先端部３１が短縮されることになる。

【００３８】また、ギャップ可変機構部２１は、ステッ
ピングモータやサーボモータなどの接離モータ３６と、
前後の軸受部３７，３８で軸支され、この接離モータ３
６の回転軸に連結部３９を介して連結されたボールねじ
４０と、このボールねじ４０に螺合した移動部材４１
と、移動部材４１の上端が下面で固着されていると共に
ノズル部材回動機構部２０を支持して基板２の被塗布面
２ａに対してノズル部材１９の前端面２７が接近または
離間するようにスライド自在なスライド部材４２とを備
えており、接離モータ３６によるボールねじ４０の回転
で、移動部材４１が、ノズル部材１９およびノズル部材
回動機構部２０を載置した状態で前後に移動自在に構成
されている。

【００３９】ここでは、ギャップ可変機構部２１は中央
部１個所として、基板２の厚さのばらつき範囲内でギャ
ップ寸法を調整するようにしているが、さらに、基板２
の厚さのばらつきだけではなく、基板２の幅方向にテー
パがあって左右両端部での厚さ寸法に差があるような場
合には、ギャップ可変機構部２１をベース部材７の左右
２個所配設することで左右独立にギャップ寸法を調整す
ることができ、ノズルユニット１０の左右に長いノズル
部材１９を、基板２の幅両端部で厚さが異なることによ
る幅方向テーパに合わせて平行に、左右位置で等ギャッ
プ寸法として傾け得るように構成することもできる。

【００４０】図６は、図１の塗布装置の概略制御構成を
示すブロック図である。

【００４１】図６において、操作部５２としては、数字
を入力するテンキー、電源のオン・オフを入力する電源
キー、塗布スタートキー、リニアモータ１１の駆動速度
をマニュアル設定する速度設定キーおよび、接離モータ
３６を駆動させて基板２の被塗布面２ａとノズル口９と
の隙間２８または隙間３０を調整する隙間設定キー、基
板サイズ、基板厚さ、塗布液粘度および塗布膜厚などを
設定する各種設定キーなどで構成されている。この操作
部５２が接続される制御部５３はＲＯＭ５４およびＲＡ
Ｍ５５に接続されており、ＲＯＭ５４内に登録された各
制御プログラムで用いる制御データを操作部５２からＲ
ＡＭ５５内に書き込み可能である。

【００４２】また、これらの操作部５２、ＲＯＭ５４お
よびＲＡＭ５５が接続される制御部５３は、リニアモー
タ駆動回路５６を介してリニアモータ１１に接続されて
おり、ＲＯＭ５４内に登録されたリニアモータ駆動制御
プログラムと、操作部５２から入力され、リニアモータ
駆動制御プログラムに対応した制御データに基づいて、
制御部５３は、その制御信号をリニアモータ駆動回路５
６に出力し、リニアモータ駆動回路５６がリニアモータ
１１を駆動してベース部材７上のノズルユニット１０を
基板２の被塗布面２ａに対する所定の上下位置に移動自
在である。この場合の制御データは、基板２の保持位置
が精密な場合には、登録された原点データであり、ま
た、マニュアル的に操作部５２から所定の高さ位置が入
力されたデータであってもよい。さらに、塗布液２２の
塗始め位置に原点センサ（図示せず）を設けて、その原
点センサ（図示せず）がベース部材７を検知する所定の
塗始め位置で、制御部５３がベース部材７を停止するよ
うにリニアモータ駆動回路５６を介してリニアモータ１
１を駆動制御してもよい。また、制御部５３は、ＲＯＭ
５４内に登録されたリニアモータ駆動制御プログラム
と、基板サイズ、塗布液粘度および塗布膜厚などの各種
設定キーからの入力や、操作部５２の塗布スタートキー
の入力によって、リニアモータ駆動制御プログラムに対
応した制御データに基づいて、リニアモータ駆動回路５
６を介してリニアモータ１１を駆動して所定速度でノズ
ル走行させつつ塗布可能なようになっている。

【００４３】さらに、これらの操作部５２、ＲＯＭ５４
およびＲＡＭ５５が接続される制御部５３は、接離モー
タ駆動回路５７を介して接離モータ３６に接続されてお
り、ＲＯＭ５４内に登録された接離モータ駆動制御プロ
グラムと、操作部５２から入力され、接離モータ駆動制
御プログラムに対応した制御データに基づいて、制御部
５３は、その制御信号を接離モータ駆動回路５７に出力
し、接離モータ駆動回路５７が接離モータ３６を駆動し
てベース部材７上のノズルユニット１０を基板２の被塗
布面２ａに対して接近または離間させて所定のギャップ
位置に移動自在である。この場合の制御データは、塗布
液２２の粘度や必要塗布膜厚、塗布速度などの各種塗布
条件に応じて設定され登録されたギャップデータ（所定
ギャップ位置データ）であってもよく、また、これらの
各塗布種条件に応じた実験データを参照してマニュアル
的に操作部５２から入力されたギャップデータであって
もよい。

【００４４】上記構成により、以下、その動作を説明す
る。

【００４５】まず、所定の塗布液を塗布処理する基板２
を搬送ロボット（図示せず）などによって搬送後に、基
板２の外周部を吸着ステージ３の複数の吸盤に対応させ
た状態で所定の位置に位置決めして、基板２の被塗布面
を外側に向けた状態で基板２を各吸盤で吸着する。さら
に、各吸盤を吸着ステージ３の凹部３ａ内の所定位置に
引き込んで収納することで基板２を保持する。

【００４６】次に、ノズル部材１９内の塗布液槽２３に
所定量の塗布液２２を、図１のベース部材７上に載置さ
れたポンプ４３にて所定の供給速度で供給チューブ２４
を介して供給する。この塗布液槽２３への塗布液２２の
供給は、ノズルユニット１０の停止中に行う方がよい。
これは、塗布中に塗布液槽２３に塗布液２２の供給を行
えば、塗布液槽２３内の塗布液２２の液面が揺れて、そ
の高さが変化する液面に応じた波動がノズル口９を介し
て伝播して塗布むらとなる虞があるためである。

【００４７】さらに、制御部５３は、基板２の被塗布面
に対する原点位置にノズルユニット１０におけるノズル
部材１９のノズル口９を上方向または下方向に移動する
べく、ノズルユニット１０と共にベース部材７をリニア
モータ１１によって移動させる。このとき、ＲＯＭ５４
内に登録されたリニアモータ駆動制御プログラムとその
制御データに基づいて、制御部５３が、その制御信号を
リニアモータ駆動回路５６に出力することで、リニアモ
ータ駆動回路５６がリニアモータ１１を駆動してベース
部材７上のノズルユニット１０を基板２の被塗布面２ａ
に対する所定の塗始め位置に原点復帰させることができ
る。

【００４８】さらに、基板２の被塗布面とノズル部材１
９のノズル口９との所定のギャップ寸法に移動するべ
く、接離モータ３６の駆動によるボールねじ４０および
移動部材４１によりノズル部材１９のノズル口９を基板
２の被塗布面２ａに対して接近または離間するように移
動させる。このとき、ＲＯＭ５４内に登録された接離モ
ータ駆動制御プログラムとその制御データに基づいて、
制御部５３が、その出力制御信号を接離モータ駆動回路
５７に出力し、接離モータ駆動回路５７が接離モータ３
６を駆動してベース部材７上のノズル部材１９を基板２
の被塗布面２ａに対する所定のギャップ位置に移動させ
る。この所定のギャップ位置にノズル部材１９を移動さ
せたとき、前記圧力設定機構を動作させて塗布液槽２３
内の圧力を大気圧とするかまたは一時的に高めるなどに
よるディスペンス動作によって基板２の被塗布面２ａと
ノズル部材１９の前端面２７との間には、塗布液２２が
毛管現象などで塗布液槽２３内から汲み上げられて液溜
りが形成される。

【００４９】さらに、基板２の被塗布面２ａに所定の塗
布膜厚で塗布するべく、前記圧力設定機構を動作させて
塗布液槽２３内の圧力を大気圧とし、操作部５２のスタ
ートキーを操作すると、ＲＯＭ５４内に登録されたリニ
アモータ駆動制御プログラムとその制御データとに基づ
いて、制御部５３は、その出力制御信号をリニアモータ
駆動回路５６に出力し、リニアモータ駆動回路５６がリ
ニアモータ１１を駆動してベース部材７をノズルユニッ
ト１０と共に基板２の被塗布面２ａに対して下方向に移
動させつつ塗布することになる。

【００５０】このとき、従来のボールねじ駆動方式の場
合には、ボールねじのリード（ねじピッチ）によって決
まるが、ボールねじのリード（ねじピッチ）は４ｍｍ以
上であり、例えばリード（ねじピッチ）が１０ｍｍとし
てもその１次周期振動は１０ｍｍピッチで２次周期振動
は５ｍｍピッチとなるから、目視で塗布ムラが目立つ２
ｍｍ〜１０ｍｍピッチの周期振動（５ｍｍピッチ前後の
塗布ムラが最も目立つ）の範囲内の周期振動を有するこ
とになる。このように、従来のボールねじ駆動方式で
は、目視で塗布ムラが目立つ２ｍｍ〜１０ｍｍピッチの
周期振動による一定周期の塗布ムラが強く発生していた
が、リニアモータ１１のモータコアピッチ（コギングピ
ッチ）ｐは２ｍｍであって、リニアモータ１１の使用に
よって、リニアモータ１１の周期振動を２ｍｍを程度に
細かくすることができる。これに加えて、本実施形態で
は、２個のスライダ部材１５はコアピッチｐの１／２周
期分（半ピッチ：本実施形態では１ｍｍピッチ）だけコ
アピッチｐの周期位置からずらして取付けてダブルスラ
イダー構成とし、左右両側の各リニアモータ１１におけ
る各ダブルスライダー構成は互いにスケールコアピッチ
ｐに対して１／４周期分ずらして取付けているため、周
期振動をコアピッチｐの１／４周期（本実施形態では
０．５ｍｍピッチ）まで細分化できる。０．５ｍｍピッ
チの周期振動による塗布ムラであれば、レベリング効果
によって塗布ムラは解消されて塗布品質を向上させるこ
とができる。この場合、周期振動による塗布ムラとして
は、モータコアピッチｐの１／２周期の１ｍｍピッチの
塗布ムラが、左側のリニアモータ１１と右側のリニアモ
ータ１１とからそれぞれ０．５ｍｍピッチずれた状態で
形成され、その結果として０．５ｍｍピッチの塗布ムラ
となっており、レベル差も小さくよりレベリングし易い
塗布ムラとなっている。したがって、本発明の塗布装置
においては、レベリングに有効な周期の塗布ムラだけに
することができるため、目視による塗布ムラ品質を向上
させることができることはもちろんのこと、レベリング
効果によって塗布膜厚の均一性をも達成することができ
る。

【００５１】また、従来のボールねじ駆動方式の場合に
は、基板の大型化に伴ってボールねじの長さが長くなる
と、ねじ部のねじり剛性が低下して、回転駆動用のサー
ボモータと共振し易くなるため、モータ制御の限界上、
ボールねじに螺合するナット側の走行ムラや振動が大き
くなるという問題があった。リニアモータ１１の採用に
よって、基板の大型化に伴って長いリニアモータを選定
しても、上記従来のボールねじ駆動方式のような捩じれ
などの問題はなく、基板の大型化に伴って走行ムラや振
動が大きくなるという従来の問題は回避されることにな
る。

【００５２】さらには、従来の回転塗布方式のように基
板２を水平に支持せず基板２を立設するために、その設
置スペースの縮小を図ることができ、また、従来の回転
塗布方式のように基板２を回転させた遠心力で塗布液を
周りに振りきりつつ塗布するのではなく、立設した基板
２に対して、基板２の被塗布面に沿ってノズル部材１９
をリニアモータ１１で移動させつつ、毛管現象で供給さ
れた塗布液を基板２の被塗布面に塗布するため、塗布液
の節約を図ることができる。

【００５３】なお、本実施形態では、２個のスライダ部
材１５をコアピッチｐの１／２周期分（半ピッチ：本実
施形態では１ｍｍ）だけコアピッチｐの周期位置からず
らして取付けてダブルスライダー構成としたリニアモー
タ１１を左右両側に設け、これらの左右の各ダブルスラ
イダー構成は互いにスケールコアピッチに対して１／４
周期分ずらして取付けることで、２ｍｍピッチのコアピ
ッチｐの１／４周期である０．５ｍｍまで周期振動を細
分化するように構成したが、１個のスライダ部材１５を
有するリニアモータ１１であっても２ｍｍピッチの周期
振動まで細分化することができ、２ｍｍピッチの周期振
動であれば、レベリング効果によって塗布ムラをさらに
低減することができて、塗布品質を向上させることがで
きる。また、２個のスライダ部材１５をコアピッチｐの
１／２周期分（半ピッチ：本実施形態では１ｍｍ）だけ
コアピッチｐの周期位置からずらして取付けてダブルス
ライダー構成としたリニアモータ１１を左右両側に縦方
向に設けるだけであっても、１ｍｍの周期振動まで細分
化することができ、１ｍｍの周期振動であれば、レベリ
ング効果によって塗布ムラを無くすことができて、塗布
品質を向上させることができる。このとき、図７に示す
ように、破線で示した２ｍｍピッチの周期振動は、実線
で示した１ｍｍピッチの周期振動となって、短ピッチで
レベル差も小さい周期振動となり、よりレベリングし易
い塗布ムラとなる。

【００５４】また、スライダ部材１５の取付けは、上記
実施形態に限らず以下のような構成も可能である。例え
ば、図３の左側のスライダ部材１５ａ１，１５ａ２を互
いにコアピッチｐの１／４周期分だけコアピッチｐの周
期位置からずらすとともに、右側のスライダ部材１５ｂ
１，１５ｂ２も互いにコアピッチｐの１／４周期分だけ
コアピッチｐの周期位置からずらし、かつ左側のスライ
ダ部材１５ａ１と右側のスライダ部材１５ｂ１とを、互
いにコアピッチｐに対して１／２周期分ずらして取り付
けてもよい。また例えば、図３の左側のスライダ部材１
５ａ１，１５ａ２を互いにコアピッチｐの３／４周期分
だけコアピッチｐの周期位置からずらすとともに、右側
のスライダ部材１５ｂ１，１５ｂ２を互いにコアピッチ
ｐの１／４周期分だけコアピッチｐの周期位置からずら
し、かつ左側のスライダ部材１５ａ１と右側のスライダ
部材１５ｂ１とを、互いにコアピッチｐに対して１／４
周期分ずらし、かつ左側のスライダ部材１５ａ２と右側
のスライダ部材１５ｂ２とも、互いにコアピッチｐに対
して１／４周期分ずらすように取り付けてもよい。

【００５５】

【発明の効果】以上のように本発明によれば、従来のボ
ールねじの代りにリニアモータを採用したため、２ｍｍ
ピッチ程度の周期振動まで細分化することができ、レベ
リング効果によって塗布ムラを低減することができて、
塗布品質を向上させることができる。

【００５６】また、例えば２個の移動子を固定子のコア
ピッチの１／２周期分だけコアピッチの周期位置からず
らして取付けてダブルスライダー構成としたため、１ｍ
ｍ程度のピッチの周期振動まで細分化することができ、
レベリング効果により塗布ムラを無くすことができて、
塗布品質の向上と共に塗布膜厚の均一性をも向上させる
ことができる。また、さらに移動子の数を増加させて、
コアピッチの１／（移動子数）周期分だけコアピッチの
周期位置から順次ずらして複数の移動子を取付けたスラ
イダー構成とすれば、さらに周期振動のピッチを細かく
することができて、レベリング効果により塗布ムラを完
全に無くすことができて、塗布品質の更なる向上と共に
塗布膜厚の更なる均一性をも向上させることができる。

【００５７】さらに、左右両側の各リニアモータにおけ
る各ダブルスライダー構成を、互いにコアピッチに対し
て１／４周期分ずらして取付けているため、２ｍｍピッ
チのコアピッチｐの１／４周期である０．５ｍｍピッチ
程度まで周期振動を細分化することができて、レベリン
グ効果により塗布ムラを完全に無くすことができて、塗
布品質の更なる向上と共に塗布膜厚の更なる均一性をも
向上させることができる。

【００５８】また、固定子上を移動する複数の移動子を
互いにコギング推力を細ピッチ化する位置関係に配置す
ることで、周期振動のピッチを細かくすることができ、
レベリング効果により塗布ムラを低減することができ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態における塗布装置の概略構
成を示す斜視図である。

【図２】図１のリニアモータの概略構成を示す一部破断
斜視図である。

【図３】図２のリニアモータの構成を詳細に模式的に示
す図１の塗布装置における要部正面図である。

【図４】図１のノズルユニットの概略構成図である。

【図５】図１の基板とノズル部材の概略断面構成を示す
模式図であって、（ａ）と（ｂ）はそれぞれ異なるノズ
ルタイプを示す図である。

【図６】図１の塗布装置の概略制御構成を示すブロック
図である。

【図７】固定子のコアピッチに対して２個のスライダ部
材の取付けを半ピッチだけずらした場合と、ずらさない
場合の周期振動を示す図である。

【図８】本出願人による塗布装置の概略構成を示す正面
図である。

【図９】図８の塗布装置におけるＡＡ線の断面図であ
る。

【図１０】図７の塗布装置における塗布ムラを示す正面
図である。

【図１１】周期ムラのピッチと振動の強さとの関係を示
す図である。

【符号の説明】

２ 基板 ３ 吸着ステージ １０ ノズルユニット １１ リニアモータ １２ 固定子ユニット １４ ベース部 １５ スライダ部材 １７ 磁気回路部 １９，１９ａ，１９ｂ ノズル部材 ２３ 塗布液槽 ４５ 固定子 ５３ 制御部 ５４ ＲＯＭ ５５ ＲＡＭ ５６ リニアモータ駆動回路

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁶ 識別記号 ＦＩ Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６４Ｚ

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 立設した基板の被塗布面に対して、毛管
   現象で塗布液槽から汲み上げられた塗布液を塗布する塗
   布装置において、 前記塗布液槽に一端が連通され外部流出口に他端が連通
   されて斜め上方に延びる塗布液流出路が前面壁部に配設
   され、前記外部流出口を介して塗布液を塗布可能なノズ
   ル手段と、 前記ノズル手段と基板を前記被塗布面に沿って相対移動
   させるリニアモータと、 このリニアモータを駆動制御する制御手段とを有するこ
   とを特徴とする塗布装置。
2. 【請求項２】 前記リニアモータは、所定ピッチ毎に直
   線状にそれぞれ配置された固定子と、この固定子上を移
   動する複数の移動子とを備えており、この複数の移動子
   は前記所定ピッチを移動子数で割った寸法だけ前記所定
   ピッチの周期位置から順次ずらした位置にそれぞれ連結
   されていることを特徴とする請求項１記載の塗布装置。
3. 【請求項３】 前記リニアモータは、所定ピッチ毎に直
   線状にそれぞれ配置された固定子が左右両側に上下方向
   にそれぞれ配設されており、左右の前記複数の移動子
   を、前記ずらした寸法のさらに１／２の寸法をずらした
   位置に配設されていることを特徴とする請求項２記載の
   塗布装置。
4. 【請求項４】 立設した基板の被塗布面に対して、毛管
   現象で塗布液槽から汲み上げられた塗布液を塗布する塗
   布装置において、 基板を立てた状態で保持するステージと、 塗布液を貯留可能な塗布液槽と、 この塗布液槽に一端が連通され外部流出口に他端が連通
   されて斜め上方に延びる前記塗布液流出路が前端壁部に
   配設され、前記外部流出口を介して塗布液を塗布可能な
   ノズル手段と、 所定ピッチ毎に直線状にそれぞれ配置された固定子上を
   移動する２個の移動子が、前記所定ピッチの周期位置か
   ら前記所定ピッチの半ピッチだけずらした位置に連結さ
   れており、この２個の移動子側に固定された前記ノズル
   手段を基板の被塗布面に沿って相対移動させるリニアモ
   ータと、 このリニアモータを駆動制御する制御手段とを有するこ
   とを特徴とする塗布装置。
5. 【請求項５】 立設した基板の被塗布面に対して、毛管
   現象で塗布液槽から汲み上げられた塗布液を塗布する塗
   布装置において、 基板を立てた状態で保持するステージと、 塗布液を貯留可能な塗布液槽と、 この塗布液槽に一端が連通され外部流出口に他端が連通
   されて斜め上方に延びる前記塗布液流出路が前端壁部に
   配設され、前記外部流出口を介して塗布液を塗布可能な
   ノズル手段と、 所定ピッチ毎に直線状にそれぞれ配置された固定子上を
   移動する２個の移動子が、前記所定ピッチの周期位置か
   ら前記所定ピッチの半ピッチだけずらし位置に互いに連
   結された移動子群が左右両側に配設され、これらの各移
   動子群は互いに前記所定ピッチを１／４ピッチだけずら
   した位置に互いに配設されており、これらの各移動子群
   の間に固定された前記ノズル手段を基板の被塗布面に沿
   って相対移動させるリニアモータと、 このリニアモータを駆動制御する制御手段とを有するこ
   とを特徴とする塗布装置。
6. 【請求項６】 前記リニアモータは、所定ピッチ毎に直
   線状にそれぞれ配置された固定子と、この固定子上を移
   動する複数の移動子とを備えており、この複数の移動子
   は、互いにコギング推力を細ピッチ化する位置関係に配
   置されていることを特徴とする請求項１記載の塗布装
   置。
7. 【請求項７】 前記リニアモータは、所定ピッチ毎に直
   線状にそれぞれ配置された固定子が左右両側に上下方向
   に配設されており、左右の前記複数の移動子は、互いに
   コギング推力を細ピッチ化する位置関係に配置されてい
   ることを特徴とする請求項６記載の塗布装置。