JPH1166546A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】電磁変換特性と耐久性に優れ、特に高密度記録
領域でのエラーレートが格段に改良された０．２〜２Ｇ
bit/inch² という大容量の磁気記録媒体を提供するこ
と。 【解決手段】支持体上に実質的に非磁性である下層と強
磁性金属微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの
順に設けた磁気記録媒体において、少なくとも磁性層に
は平均粒子長が０．３５μｍ以下、針状比が２〜１５の
針状研磨剤を含有し、前記磁気記録媒体は前記塗布液を
前記支持体上に塗布し、得られた磁性層を長手に配向
後、ランダム配向したものであることを特徴とする磁気
記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は塗布型の高記録密度
の磁気記録媒体に関する。特に磁性層と実質的に非磁性
の下層を有し、最上層に強磁性金属微粉末を含む高密度
記録用のディスク形態の磁気記録媒体に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録媒体の分野において、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフロッピーディス
クがパーソナルコンピュータに標準搭載されようになっ
た。しかし扱うデータ容量が急激に増加している今日に
おいて、その容量は十分とは言えなくなり、フロッピー
ディスクの大容量化が望まれていた。

【０００３】従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性
酸化鉄、ＣｒＯ₂ 、強磁性金属粉末、六方晶系フェライ
ト粉末を結合剤中に分散した磁性層を支持体に塗設した
ものが広く用いられる。この中でも強磁性金属微粉末と
六方晶系フェライト微粉末は高密度記録特性に優れてい
ることが知られている。デイスクの場合、高密度記録特
性に優れる強磁性金属微粉末を用いた大容量ディスクと
しては１０ＭＢのＭＦ−２ＴＤ、２１ＭＢのＭＦ−２Ｓ
Ｄまたは六方晶フェライトを用いた大容量ディスクとし
ては４ＭＢのＭＦ−２ＥＤ、２１ＭＢフロプティカルな
どがあるが、容量、性能的に十分とは言えなかった。こ
のような状況に対し、高密度記録特性を向上させる試み
が多くなされている。以下にその例を示す。

【０００４】ディスク状磁気記録媒体の特性を向上させ
るために、特開昭６４−８４４１８には酸性基とエポキ
シ基と水酸基を有する塩化ビニル樹脂を用いることが提
案され、特公平３−１２３７４にはＨｃ１０００Oe以
上、比表面積２５〜７０m²/gの金属微粉末を用いること
が提案され、特公平６ー２８１０６には磁性体の比表面
積と磁化量を定め、研磨剤を含ませることが提案されて
いる。

【０００５】ディスク状磁気記録媒体の耐久性を改善さ
せるために、特公平７−８５３０４には不飽和脂肪酸エ
ステルとエーテル結合を有する脂肪酸エステルを用いる
ことが提案され、特公平７ー７００４５には分岐脂肪酸
エステルとエーテル結合を有する脂肪酸エステルを用い
ることが提案され、特開昭５４−１２４７１６にはモー
ス硬度６以上の非磁性粉末と高級脂肪酸エステルを含ま
せることが提案され、特公平７−８９４０７には潤滑剤
を含む空孔の体積と表面粗さを０．００５〜０．０２５
μmとすることが提案され、特開昭６１−２９４６３７
には低融点と高融点の脂肪酸エステルを用いることが提
案され、特公平７ー３６２１６には磁性層厚みに対し１
／４〜３／４の粒径の研磨剤と低融点の脂肪酸エステル
を用いることが提案され、特開平３−２０３０１８には
Ａｌを含むメタル磁性体と酸化クロム用いることが提案
されている。

【０００６】非磁性の下層や中間層を有するディスク状
磁気記録媒体の構成として、特開平３ー１２０６１３に
は導電層と金属微粉末を含む磁性層を有する構成が提案
され、特開平６−２９０４４６には１μm以下の磁性層
と非磁性層を有する構成が提案され、特開昭６２−１５
９３３７にはカーボン中間層と潤滑剤を含む磁性層から
なる構成が提案され、特開平５−２９０３５８にはカー
ボンサイズを規定した非磁性層を有する構成が提案され
ている。

【０００７】一方、最近になり薄層磁性層と機能性非磁
性層からなるディスク状磁気記録媒体が開発され、１０
０ＭＢクラスのフロッピーディスクが登場している。こ
れらの特徴を示すものとして、特開平５−１０９０６１
にはＨｃが１４００Oe以上で厚さ０．５μm以下の磁性
層と導電性粒子を含む非磁性層を有する構成が提案さ
れ、特開平５−１９７９４６には磁性層厚より大きい研
磨剤を含む構成が提案され、特開平５−２９０３５４に
は磁性層厚が０．５μm以下で、磁性層厚の厚み変動を
±１５％以内とし、表面電気抵抗を規定した構成が、特
開平６−６８４５３には粒径の異なる２種の研磨剤を含
ませ、表面の研磨剤量を規定した構成が提案されてい
る。

【０００８】従来から、デジタル信号記録システムにお
いて使用される磁気テープは、システム毎に決められて
おり、所謂ＤＬＴ型、３４８０、３４９０、３５９０、
ＱＩＣ、Ｄ８型、あるいはＤＤＳ型対応の磁気テープが
知られている。そしてどのシステムにおいても、用いら
れる磁気テープは、支持体上の一方の側に、膜厚が２．
０〜３．０μｍと比較的厚い単層構造の強磁性粉末、結
合剤、及び研磨剤を含む磁性層が設けられており、また
他方の側には、巻き乱れの防止や良好な走行耐久性を保
つために、バックコート層が設けられている。しかし一
般に上記のように比較的厚い単層構造の磁性層において
は、出力が低下するという厚み損失の問題がある。

【０００９】磁性層の厚み損失による再生出力の低下を
改良するために、磁性層を薄層化することが知られてお
り、例えば、特開平５ー１８２１７８号公報には支持体
上に無機質粉末を含み、結合剤に分散してなる下層非磁
性層と該非磁性層が湿潤状態にある内に強磁性粉末を結
合剤に分散してなる１．０μｍ以下の厚みの上層磁性層
を設けた磁気記録媒体が開示されている。

【００１０】しかしながら、急速なディスク状やテープ
状の磁気記録媒体の大容量化、高密度化にともない、こ
のような技術をもってしても満足な特性を得ることが難
しくなってきていた。また耐久性と両立させることも困
難な状況になってきている。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特
性、特に高密度記録特性が格段に改良されかつ優れた耐
久性を併せ持ち、特に高密度記録領域でのエラーレート
が格段に改良された磁気記録媒体を提供することを目的
としている。特に記録容量が０．２〜２Ｇbit/inch ² 、
特に好ましくは０．３５〜２Ｇbit/inch² という大容量
のディスク状磁気記録媒体を提供することを目的として
いる。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者らは電磁変換特
性と耐久性が良好で特に高密度記録領域でのエラーレー
トが格段に改良された磁気記録媒体を得るために鋭意検
討した結果、以下のような媒体とすることで本発明の目
的である優れた高密度記録特性と優れた耐久性が得られ
ることを見いだし、本発明に至ったものである。

【００１３】すなわち、本発明は支持体上に実質的に非
磁性である下層と強磁性金属微粉末を結合剤中に分散し
てなる磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体において、
少なくとも磁性層には平均粒子長が０．３５μｍ以下、
針状比が２〜１５の針状研磨剤を含有し、前記磁気記録
媒体は前記塗布液を前記支持体上に塗布し、得られた磁
性層を長手に配向後、ランダム配向したものであること
を特徴とする磁気記録媒体に関する。

【００１４】本発明はこのような磁気記録媒体とするこ
とで、従来の技術では得ることができなかった優れた高
密度特性と優れた耐久性を併せ持ち、特に高密度記録領
域でのエラーレートが格段に改良された磁気記録媒体を
得ることができることを見いだしたものである。

【００１５】本発明で実質的に非磁性である下層とは記
録に関与しない程度に磁性をもっていても良いという意
味であり、以降、単に下層ともいう。ここで面記録密度
とは線記録密度とトラック密度を掛け合わせたものであ
る。Φｍとは片側の単位面積当たりの磁性層から振動試
料型磁束計（ＶＳＭ：東英工業社製）を用い、Ｈｍ１０
ｋＯｅで直接測定できる磁気モ−メント量（ｅｍｕ／ｃ
ｍ²）であり、直接測定できる値である。Φｍを磁性層
厚みで割ったものがＢｍである。

【００１６】線記録密度は記録方向１インチ当たりに記
録する信号のビット数である。トラック密度とは１イン
チ当たりのトラック数である。これら線記録密度、トラ
ック密度、面記録密度はシステムによって決まる値であ
る。即ち本発明は面記録密度の向上に対しては線記録密
度の点で磁性層厚み、磁性層Ｈｃ、中心面平均表面粗さ
で改良を図り、トラック密度の点でΦｍの最適化を図っ
たものである。

【００１７】本発明の他の好ましい態様は次の通りであ
る。 （１）前記磁気記録媒体は面記録密度が０．２〜２Ｇbi
t/inch² の信号を記録する磁気記録媒体であり、前記磁
性層の乾燥厚みが０．０５〜０．２５μｍであり、且つ
Φｍが１．０×１０^-3〜８．０×１０^-3ｅｍｕ／ｃｍ²
であり、前記磁性層の抗磁力が１８００Ｏｅ以上であ
り、かつ前記磁性層の表面粗さは、３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法
による中心面平均表面粗さで４．０ｎｍ以下であること
を特徴とする磁気記録媒体。 （２）針状研磨剤のモース硬度が５以上のであることを
特徴とする磁気記録媒体。 （３）針状研磨剤が、針状三酸化二クロム、針状二酸化
クロム、針状Ａｌ固溶ヘマタイトであることを特徴とす
る磁気記録媒体。 （４）前記磁気記録媒体がディスクであることを特徴と
する磁気記録媒体。

【００１８】本発明は上記構成とすることで、従来の技
術では得ることができなかった面記録密度が０．２〜２
Ｇbit/inch² 更には面記録密度が０．３５〜２Ｇbit/in
ch²の信号を記録する磁気記録媒体であって、優れた高
密度特性と優れた耐久性を併せ持つ磁気記録媒体を得る
ことができることを見いだしたものであるが、以下のよ
うなポイントを有機的に結合し、総合した結果である。

【００１９】本発明のポイントは高Ｈｃ、超平滑化、
複合潤滑剤や高耐久性結合剤、強磁性粉末の改良によ
る耐久性確保、磁性層の超薄層化と下層との界面の変
動減、強磁性粉末の高充填化、粉体（強磁性粉末、
非磁性粉末）の超微粒子化、ヘッドタッチの安定化、
寸法安定性とサーボ、磁性層、支持体の熱収縮率改
良、高温、低温での潤滑剤の作用、等が挙げられ、こ
れらを結合し、総合した結果本発明に至った。

【００２０】マルチメデイア化が進むパソコンの分野で
はこれまでのフロッピーデイスクに代わる大容量の記録
メデイアが注目され始め、米国ＩＯＭＥＧＡ（アイオメ
ガ）社からＺＩＰデイスクとして販売された。これは本
件出願人が開発したＡＴＯＭＭ型であり、3.7インチで
１００ＭＢ以上の記録容量を持った製品が販売されてい
る。１００〜１２０ＭＢの容量はＭＯ（3.5インチ）と
ほぼ同じ容量であり、１枚で新聞記事なら７〜８月分収
まるものである。データ（情報）の書き込み・読み出し
時間を示す転送レートは、１秒当たり２ＭＢ以上とハー
ドデイスク並であり、これまでのＦＤの２０倍、ＭＯの
２倍以上の早さを有し非常に大きな利点を持つ。さらに
下層と薄層磁性層を有するこの記録媒体は現在のＦＤと
同じ塗布型メデイアで大量生産が可能であり、ＭＯやハ
ードデイスクに比べて低価格で有るというメリットを有
する。

【００２１】本発明者らは、この様な媒体の知見をもと
に鋭意研究を行った結果、前記ＺＩＰデイスクやＭＯ
（3.5インチ）よりも格段に記録容量の大きい面記録密
度が０．２〜２Ｇbit/inch² 、更には０．３５〜２Ｇbi
t/inch² の信号を記録する磁気記録媒体というかつて世
の中に知られた製品では達成されたことのない高密度記
録特性と優れた耐久性を併せ持ち特に高密度記録領域で
のエラーレートが格段に改良されたディスク状磁気記録
媒体が得られた。

【００２２】本発明の磁気記録媒体は、超薄層の磁性層
に高出力、分散性、耐久性に優れた超微粒子の強磁性金
属粉末を含み、下層に球状又は針状などの無機粉末を含
み、磁性層を薄くすることで磁性層内の自己減磁作用を
低減し、高周波領域での出力を大幅に高め、更に重ね書
き特性も向上させたものである。

【００２３】磁気ヘッドの改良により、狭ギャップヘッ
ドとの組合せにより超薄層磁性層の効果が一層発揮で
き、デジタル記録特性の向上が図れる。特に再生ヘッド
にＭＲ素子、巨大磁気抵抗素子を使用するシステムで使
用されると好適である。磁性層の厚みは高密度記録の磁
気記録方式や磁気ヘッドから要求される性能に適合する
ように０．０５〜０．２５μｍの薄層に選択される。均
一でかつ薄層にしたこのような超薄層磁性層は微粒子の
磁性粉や非磁性粉を分散剤の使用と分散性の高い結合剤
の組み合わせにより高度に分散させ、高充填化を図っ
た。使用される磁性体は大容量ＦＤの適性を最大限に引
き出すために、高出力、高分散性、ランダマイズ性に優
れた磁性体を使用している。即ち非常に微粒子で且つ高
出力を達成できる強磁性金属粉末、特に長軸長が０．１
２μｍ以下で、強磁性金属微粉末の結晶子サイズが８０
〜１８０Åであること、更にＣｏを多く含み、焼結防止
剤としてＡｌやＹを含むことにより、高出力、高耐久性
が達成できる。

【００２４】耐久性は磁気ディスクにとって重要な要素
である。特に高転送レートを実現するために磁気ディス
クの回転数を、従来のＦＤシステムに比べて１桁以上上
げる必要があり、磁気ヘッド／カートリッジ内部品と媒
体とが高速摺動する場合の媒体の耐久性の確保は重要な
課題である。媒体の耐久性を向上させる手段には、デイ
スク自身の膜強度を上げるバインダー処方と、磁気ヘッ
ドとの滑り性を維持する潤滑剤処方がある。本発明の媒
体では超薄層磁性層に適した３次元ネットワークバイン
ダーシステムを用い、高速回転時における走行の安定
性、耐久性を確保し、高転送レートを実現している。

【００２５】潤滑剤は、使用される種々の温・湿度環境
下でそれぞれ優れた効果を発揮する潤滑剤を複数組み合
わせて使用し、広範囲な温度（低温、室温、高温）、湿
度（低湿、高湿）環境下でも各潤滑剤がそれぞれ機能を
発揮し、総合的に安定した潤滑効果を維持できるもので
ある。

【００２６】また上下２層の構造を活用し、下層に潤滑
剤のタンク効果を持たせることで磁性層に常に適量の潤
滑剤が供給されるようにし、磁性層の耐久性を向上でき
るようにしたものである。超薄層に磁性層に含ませるこ
とができる潤滑剤量には限度があり、単純に磁性層をう
すくすることは潤滑剤の絶対量が減少し、走行耐久性の
劣化につながる。この場合、両者のバランスを得ること
は困難であった。上下２層に別々の機能を持たせ、互い
に補完することで電磁変換特性の向上と耐久性の向上を
両立させた。この機能分化は磁気ヘッドとメデイアを高
速摺動させるシステムでは特に有効であった。

【００２７】下層には潤滑剤の保持機能の他に表面電気
抵抗のコントロール機能を付与できる。一般に電気抵抗
のコントロールには、磁性層中にカーボンブラック等の
固体導電材料を加えることが多い。これらは磁性体の充
填密度を上げることの制約となるほか、磁性層が薄層に
なるに従い、表面粗さにも影響を与える。下層に導電材
料を加えることによってこれらの欠点を除くことができ
る。また下層のクッション効果は良好なヘッドタッチと
安定した走行性をもたらすことができる。

【００２８】大容量記録システムでは高転送レートが求
められる。このためには磁気デイスクの回転数を、従来
のＦＤシステムに比べて１桁以上上げる必要がある。磁
気記録の大容量化／高密度化に伴い、記録トラック密度
が向上する。一般には媒体上にサーボ記録エリアを設
け、記録トラックに対する磁気ヘッドのトレーサビリテ
イを確保している。本発明の磁気記録媒体では支持体ベ
ースとして等方的寸度安定性を高めたベースを使用し、
トレーサビリテイの一層の安定化をはかったものであ
る。そして超平滑なベースを用いることによって、磁性
層の平滑性を更に向上できる。

【００２９】デイスク形態の磁気記録の高密度化には、
線記録密度とトラック密度の向上が必要である。このう
ちトラック密度の向上には、支持体の特性が重要であ
る。本発明の媒体では支持体ベースの寸度安定性、特に
等方性に配慮している。高トラック密度における記録再
生では、サーボ記録は不可欠な技術であるが、支持体ベ
ースを出来るだけ等方化することで媒体サイドからもこ
の改良が図れる。

【００３０】マルチメデイア社会になり、画像記録への
ニーズは産業界のみならず家庭でも益々強くなってお
り、本発明の大容量磁気記録媒体は単に文字、数字など
のデータ以外に、画像記録用媒体としての機能／コスト
の要請に十分応えられる能力を持つものである。本発明
の大容量媒体は実績のある塗布型磁気記録媒体をベース
としており、長期信頼性に富み、またコストパフォーマ
ンスに優れているものである。

【００３１】本発明は以上のような種々の要因を積み重
ね、相乗的、有機的に作用させ、初めて達成されるもの
である。

【００３２】

【発明の実施の形態】

［磁性層］本発明の磁気記録媒体は下層と超薄層磁性層
を支持体の片面だけでも、両面に設けても良い。上下層
は下層を塗布後、下層が湿潤状態の内（Ｗ／Ｗ）でも、
乾燥した後（Ｗ／Ｄ）にでも上層磁性層を設けることが
出来る。生産得率の点から同時、又は逐次湿潤塗布が好
ましいが、デイスクの場合は乾燥後塗布も十分使用でき
る。本発明の重層構成で同時、又は逐次湿潤塗布（Ｗ／
Ｗ）では上層／下層が同時に形成できるため、カレンダ
ー工程などの表面処理工程を有効に活用でき、超薄層で
も上層磁性層の表面粗さを良化できる。磁性層の抗磁力
Ｈｃは１８００Ｏｅ以上であることが好ましく、Ｂｍは
２０００〜５５００Ｇで有ることが好ましい。

【００３３】［強磁性金属微粉末］本発明の上層磁性層
に使用する強磁性粉末としては、α−Ｆｅを主成分とす
る強磁性金属微粉末が好ましい。これらの強磁性粉末に
は所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｃ
ｕ、Ｙ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂａ、Ｗ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎ
ｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子
を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、
Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｃｏ、Ｎｉの少なくとも１つ
をα−Ｆｅ以外に含むことが好ましい。ＣｏはＦｅと合
金を作ると飽和磁化が増加し、かつ減磁が改良されるの
で特に好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅに対して１〜４０
原子％が好ましく、さらに好ましくは１５〜３５原子
％、より好ましくは２０〜３５原子％である。Ｙや希土
類元素の含有量は１．５〜１２原子％が好ましく、さら
に好ましくは３〜１０原子％、より好ましくは４〜９原
子％である。Ａｌは１．５〜１２原子％が好ましく、さ
らに好ましくは３〜１０原子％、より好ましくは４〜９
原子％である。これらの強磁性粉末にはあとで述べる分
散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤などで分散前に
あらかじめ処理を行ってもかまわない。具体的には、特
公昭４４−１４０９０号、特公昭４５−１８３７２号、
特公昭４７−２２０６２号、特公昭４７−２２５１３
号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４６−３８７５
５号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４７−１２４２
２号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭４７−１８５
０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公昭３９−１０
３０７号、特公昭４６−３９６３９号、米国特許第３０
２６２１５号、同３０３１３４１号、同３１００１９４
号、同３２４２００５号、同３３８９０１４号などに記
載されている。

【００３４】強磁性合金微粉末には少量の水酸化物、ま
たは酸化物が含まれてもよい。強磁性合金微粉末の公知
の製造方法により得られたものを用いることができ、下
記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主とし
てシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方
法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅある
いはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化
合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホ
ウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなど
の還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性
気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。この
ようにして得られた強磁性合金粉末は公知の徐酸化処理
する。酸化鉄を水素等の還元性気体で還元し、酸素含有
ガスと不活性ガスの分圧、温度、時間を制御して表面に
酸化被膜を形成する方法が、減磁量が少なく好ましい。

【００３５】本発明の磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法に
よる比表面積で表せば４０〜８０ｍ ² ／ｇであり、好ま
しくは４５〜７０ｍ²／ｇである。４０ｍ²／ｇ以下では
ノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上では表面性が得に
くく好ましくない。本発明の磁性層の強磁性粉末の結晶
子サイズは８０〜１８０Åであり、好ましくは１００〜
１７０Å、更に好ましくは１１０〜１６５Åである。強
磁性粉末の長軸径は０．０２〜０．２５μmであり、好
ましくは０．０３〜０．１５μmであり、さらに好まし
くは０．０３〜０．１２μmである。強磁性粉末の針状
比は３〜１５が好ましく、さらには３〜１０が好まし
い。磁性金属粉末のσs は９０〜１７０emu/gであり、
好ましくは１００〜１６０emu/g 、更に好ましくは１１
０〜１６０emu/g である。金属粉末の抗磁力は１７００
〜３５００Oeが好ましく、更に好ましくは１，８００〜
３０００Oeである。

【００３６】強磁性金属粉末の含水率は０．１〜２％と
するのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉末の
含水率は最適化するのが好ましい。強磁性粉末のｐＨ
は、用いる結合剤との組合せにより最適化することが好
ましい。その範囲は６〜１２であるが、好ましくは７〜
１１である。強磁性金属微粉末のＳＡ（ステアリン酸）
吸着量（表面の塩基性点の尺度）は１〜１５μｍｏｌ／
ｍ² 、好ましくは２〜１０μｍｏｌ／ｍ² 、更に好まし
くは３〜８μｍｏｌ／ｍ² である。ステアリン酸吸着量
が多い強磁性金属微粉末を使用する時、表面に強く吸着
する有機物で表面修飾して磁気記録媒体を作成すること
が好ましい。強磁性金属微粉末には、可溶性のＮａ、Ｃ
ａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒ、ＮＨ₄ 、ＳＯ₄ 、Ｃｌ、Ｎ
Ｏ₂ 、ＮＯ₃ などの無機イオンを含む場合がある。これ
らは、本質的に無い方が好ましい。各イオンの総和が３
００ｐｐｍ以下程度であれば、特性に影響しない。ま
た、本発明に用いられる強磁性粉末は空孔が少ないほう
が好ましくその値は２０容量％以下、さらに好ましくは
５容量％以下である。また形状については先に示した粒
子サイズ、磁気特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状
のいずれでもかまわない。強磁性粉末自体のＳＦＤは小
さい方が好ましく、強磁性粉末のＨｃの分布を小さくす
ることが好ましい。テープのＳＦＤが小さいと、磁化反
転がシャープでピークシフトが小さくなり、高密度デジ
タル磁気記録に好適である。Ｈｃの分布を小さくするた
めには、強磁性金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分
布を良くする、単分散α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ を使用する、粒子
間の焼結を防止するなどの方法がある。

【００３７】［下層］次に支持体と磁性層の間に設けら
れる下層に関する詳細な内容について説明する。本発明
の下層は実質的に非磁性であればその構成は制限される
べきものではないが、通常、少なくとも樹脂からなり、
好ましくは、粉体、例えば、無機粉末あるいは有機粉末
が樹脂中に分散されたものが挙げられる。該無機粉末
は、通常、好ましくは非磁性粉末であるが、下層が実質
的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用され得るもので
ある。

【００３８】該非磁性粉末としては、例えば、金属酸化
物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化
物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができ
る。無機化合物としては、例えばα化率９０％以上のα
−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪
素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化
スズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジル
コニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫
酸カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが
単独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒
度分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二
酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、
更に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。通
常、二酸化チタンは光触媒性を持っているので、光があ
たるとラジカルが発生し、バインダー、潤滑剤と反応す
る懸念がある。このため、本発明に使用する二酸化チタ
ンは、Ａｌ、Ｆｅを１〜１０％固溶させ、光触媒活性を
低下させることが必要である。さらに表面をＡｌ、Ｓｉ
化合物で処理し、触媒作用を低下させることが好まし
い。これら非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜１μ
mが好ましいが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁
性粉末を組み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分
布を広くして同様の効果をもたせることもできる。とり
わけ好ましいのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１〜
０．５μmである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物
である場合は、平均粒子径０．０８μm以下が好まし
く、針状金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μm
以下が好ましく、０．２μm以下がさらに好ましい。タ
ップ密度は０．１〜２g/ml、好ましくは０．２〜１．５
g/mlである。非磁性粉末の含水率は０．１〜５重量％、
好ましくは０．２〜３重量％、更に好ましくは０．３〜
１．５重量％である。非磁性粉末のｐＨは２〜１２であ
るが、ｐＨは５．５〜１１の間が特に好ましい。非磁性
粉末の比表面積は１〜１００m² /g、好ましくは５〜８
０m² /g、更に好ましくは１０〜７０m² /gである。非磁
性粉末の結晶子サイズは４０〜１０００Åが好ましく、
４０〜８００Åが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタ
レート）を用いた吸油量は５〜１００ml/100g、好まし
くは１０〜８０ml/100g、更に好ましくは２０〜６０ml/
100gである。比重は１．５〜７、好ましくは３〜６であ
る。形状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良
い。モース硬度は４〜１０のものが好ましい。非磁性粉
末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は１〜２０μmol／
m² 、好ましくは２〜１５μmol/m² 、さらに好ましくは
３〜８μmol/m² である。ＳＡ吸着量が多い非磁性粉末
を使用する時、表面に強く吸着する有機物で表面修飾し
て磁気記録媒体を作成することが好ましい。これらの非
磁性粉末の表面には、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、
Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ｙ化合物で表面処理することが好ま
しい。特に粒子表面に存在して分散性に好ましいのは、
Ａｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 及びこれら
の含水酸化物であるが、更に好ましいのはＡｌ₂ Ｏ₃ 、
ＳｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂ 及びこれらの含水酸化物である。こ
れらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いるこ
ともできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理層
を用いても良いし、先ずアルミナを存在させた後にその
表層にシリカを存在させる方法、またはその逆の方法を
採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多
孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般に
は好ましい。

【００３９】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
ＨＩＴ−１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイ
トＤＰＮ−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４
５，ＤＰＮ−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５００ＢＸ，ＤＰＮ
５５０ＲＸ，ＤＢＮ−６５０ＲＸ，ＤＡＮ−６５０Ｒ
Ｘ，ＤＢＮ−ＳＡ１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化
チタンＴＴＯ−５１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５
Ｂ，ＴＴＯ−５５Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５
Ｄ，ＳＮ−１００、αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，
Ｅ３００，Ｅ３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−
４Ｄ，ＳＴＴ−３０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５
Ｃ、αヘマタイトα−４０、テイカ製酸化チタンＭＴ−
１００Ｓ，ＭＴ−１００Ｔ，ＭＴ−１５０Ｗ，ＭＴ−５
００Ｂ，ＭＴ−６００Ｂ，ＭＴ−１００Ｆ，ＭＴ−５０
０ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５，ＢＦ−１，ＢＦ−
１０，ＢＦ−２０，ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製酸化鉄ＤＥＦ
ＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２Ｂ
Ｍ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ，５００Ａ、
及びそれを焼成したものが挙げられる。特に好ましい非
磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化鉄である。

【００４０】下層にカーボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすること、所望のマイクロビッカース硬度を得
る事ができる。また、下層にカーボンブラックを含ませ
ることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能であ
る。カーボンブラックの種類はゴム用ファーネス、ゴム
用サーマル、カラー用ブラック、導電性カーボンブラッ
ク、アセチレンブラック、等を用いることができる。下
層のカーボンブラックは所望する効果によって、以下の
ような特性を最適化すべきであり、併用することでより
効果が得られることがある。

【００４１】下層のカーボンブラックの比表面積は５０
〜５００m² ／ｇ、好ましくは７０〜４００m² ／ｇ、Ｄ
ＢＰ吸油量は２０〜４００ml/100g、好ましくは３０〜
４００ml/100gである。カーボンブラックの粒子径は５
〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましく
は１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２
〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１
〜１ｇ／mlが好ましい。本発明に用いられるカーボンブ
ラックの具体的な例としてはキャボット社製ＢＬＡＣＫ
ＰＥＡＲＬＳ ２０００，１３００，１０００，９０
０，８００，８８０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７
２、三菱化学社製 ＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３
２５０Ｂ，＃３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃
６５０Ｂ，＃９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，Ｍ
Ａ−２３０，＃４０００，＃４０１０、コロンビアンカ
−ボン社製 ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ
８８００，８０００，７０００，５７５０，５２５０，
３５００，２１００，２０００，１８００，１５００，
１２５５，１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラック
ＥＣなどがあげられる。カーボンブラックを分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかま
わない。また、カーボンブラックを塗料に添加する前に
あらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカ
ーボンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を
越えない範囲、下層総重量の４０％を越えない範囲で使
用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組
合せで使用することができる。本発明で使用できるカー
ボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カー
ボンブラック協会編）を参考にすることができる。

【００４２】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。

【００４３】下層の結合剤樹脂（種類と量）、潤滑剤・
分散剤・添加剤の量、種類、溶剤、分散方法に関しては
磁性層に関する公知技術が適用できる。

【００４４】［結合剤］本発明に使用される結合剤とし
ては従来公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹
脂やこれらの混合物が使用される。熱可塑性樹脂として
は、ガラス転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子
量が１,０００〜２００,０００、好ましくは１０,００
０〜１００,０００、重合度が約５０〜１０００程度の
ものである。このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセ
タール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネートを組み合わせたものがあげられる。

【００４５】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ，−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、
−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、
またはアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ₂ 、−Ｎ⁺
Ｒ₃ （Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−Ｃ
Ｎ、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を
共重合または付加反応で導入したものを用いることが好
ましい。このような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇ
であり、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００４６】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹ
ＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫ
ＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，
ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９，７２０９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、
大日精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２０，５
１００，５３００，９０２０，９０２２、７０２０，三
菱化成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０など
があげられる。

【００４７】本発明の下層、磁性層に用いられる結合剤
は非磁性粉末または強磁性金属微粉末に対し、５〜５０
重量％の範囲、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用
いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重
量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量
％、ポリイソシアネートは２〜２０重量％の範囲でこれ
らを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微
量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレ
タンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使
用することも可能である。本発明において、ポリウレタ
ンを用いる場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、
好ましくは０℃〜１００℃、破断伸びが１００〜２００
０％、破断応力は０．０５〜１０Kg/mm² 、降伏点は
０．０５〜１０Kg/mm² が好ましい。

【００４８】本発明のＡＴＯＭＭ型磁気記録媒体は二層
以上からなる。本発明は、磁性層を機能の異なる磁性粉
末を含む層を複数設けることもできる。従って、結合剤
量、結合剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン
樹脂、ポリイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の
量、磁性層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、ある
いは先に述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ下層、
磁性層とで変えることはもちろん可能であり、むしろ各
層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する公知技術
を適用できる。例えば、各層でバインダー量を変更する
場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性層のバイ
ンダー量を増量することが有効であり、ヘッドに対する
ヘッドタッチを良好にするためには、下層のバインダー
量を多くして柔軟性を持たせることができる。

【００４９】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネ
ート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭ
Ｒ，ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ
−１０２，タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２
００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ，デスモジュールＨＬ，等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層とも用いることができる。

【００５０】［カーボンブラック］本発明の磁性層に使
用されるカーボンブラックはゴム用ファーネス、ゴム用
サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブラック、等
を用いることができる。比表面積は５〜５００m² ／
ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００mｌ／１００ｇ、粒子
径は５〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１
〜１０重量％、タップ密度は０．１〜１ｇ／cc、が好ま
しい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な
例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ
２０００、１３００、１０００、９００、９０５、８０
０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カーボン社
製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５０、＃３５、三菱化
学社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００，＃１０
００、＃３０，＃４０、＃１０Ｂ、コロンビアンカーボ
ン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５
０、５０，４０，１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本Ｅ
Ｃ社製、ケッチェンブラックＥＣ、などがあげられる。
カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂
でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイ
ト化したものを使用してもかまわない。また、カーボン
ブラックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で
分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは単
独、または組合せで使用することができる。カーボンブ
ラックを使用する場合は強磁性金属微粉末に対する量の
０．１〜３０重量％でもちいることが好ましい。カーボ
ンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性
付与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカ
ーボンブラックにより異なる。従って本発明に使用され
るこれらのカーボンブラックは磁性層、下層でその種
類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、
ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い
分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化
すべきものである。本発明の磁性層で使用できるカーボ
ンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」カーボン
ブラック協会編を参考にすることができる。

【００５１】［研磨剤］本発明の磁性層、下層に使用さ
れる研磨剤としては、平均粒子長が０．３５μｍ以下、
好ましくは０．０４〜０．３０μｍ、針状比が２〜１
５、好ましくは３〜１０の針状研磨剤が少なくとも用い
られる。ここで、平均粒子長とは、最大長軸径の算術平
均を意味し、針状比とは、最大短軸径の平均値で平均粒
子長を除した値を指す。

【００５２】針状研磨剤のモース硬度は５以上が好まし
い。モース硬度５以上の針状研磨剤としては、例えば、
α−酸化鉄（α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ）、α−アルミナ（α−Ａ
ｌ₂Ｏ₃ ）、二酸化クロム（ＣｒＯ₂ ）、三酸化二クロ
ム（Ｃｒ₂ Ｏ₃ ）等を挙げることができる。針状のＣｒ
₂ Ｏ₃ は、ＣｒＯ₂ を空気中で４００〜５５０℃で加熱
しＣｒ₂ Ｏ ₃ とした後、水洗して不純物を除去して使用
することが好ましい。α酸化鉄は、針状ゲータイトを脱
水したり、湿式反応で直接針状ヘマタイトを合成したも
のを使用することができる。α酸化鉄の硬度を高めるた
めに、ゲータイト、ヘマタイト反応時にアルミニウムを
固溶させる、および／または、該反応後にアルミニウム
を表面に被着処理し熱処理することが有効である。

【００５３】ここで、固溶されるアルミニウムはＦｅ原
子に対し０．５〜１５原子％が好ましく、更に好ましく
は１〜１０原子％の範囲である。また、微細なアルミナ
ウィスカーも使用できる。これらの針状研磨剤は、それ
ぞれ単独で用いて良いし、あるいは併用しても良い。こ
れらの内では三酸化二クロム（Ｃｒ₂ Ｏ₃ ）、二酸化ク
ロム（ＣｒＯ₂ ）、Ａｌ固溶ヘマタイト（Ａｌ固溶α−
Ｆｅ₂ Ｏ₃ ）、アルミナウィスカー（Ａｌ ₂ Ｏ₃ ウィス
カー）が好ましい。

【００５４】これらの研磨剤は、必要に応じ下層に添加
することもできる。下層に添加することで表面形状を制
御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることがで
きる。これら磁性層、下層への添加する研磨剤の平均粒
子長、針状比、量はむろん上記本発明の範囲内で最適値
に設定すべきものであるが、下層については必ずしも本
発明範囲内でなくともよい。

【００５５】本発明においては、磁性層への針状研磨剤
の添加量は強磁性金属微粉末に対し、１〜２０重量％が
好ましく、更に好ましくは３〜１５重量％の範囲であ
る。また、下層への針状研磨剤の添加量は、前記［下
層］の項で説明した非磁性粉末に対して１〜２０重量％
が好ましく、２〜１５重量％が更に好ましい。また、本
発明においては、磁性層、下層へ本発明範囲外のサイ
ズ、形状を有した研磨剤を針状研磨剤に対し、２００重
量％以下で使用し得る。この場合、平均粒子長の最大
は、０．２５μｍ程度である。

【００５６】［添加剤］本発明の磁性層と下層に使用さ
れる、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効
果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モ
リブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ
素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリ
コーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコー
ン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリ
オレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよび
そのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニル
ホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニ
ル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホス
フィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和
結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭
素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合を
含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１
０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、ま
た分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれ
か一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪
酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキ
シド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、
炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪
族アミン、などが使用できる。

【００５７】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレ
ート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物 等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０重量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０重量％以下である。

【００５８】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
下層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面へのにじ
み出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステル
類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性剤量
を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の
添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考
えられ、無論ここに示した例のみに限られるものではな
い。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁性粉
体に対し、０．１〜５０重量％、好ましくは２〜２５重
量％の範囲で選択される。

【００５９】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。

【００６０】本発明で用いられる有機溶剤は公知のもの
が使用でき、例えば特開平６−６８４５３に記載の溶剤
を用いることができる。

【００６１】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は支持体が５〜１００μｍ、好ましくは１０〜８０μ
ｍである。磁気ディスクの支持体は、３０〜１００μ
m、好ましくは４５〜８０μmである。磁性層を単独で設
ける場合、磁性層厚は、０．０５〜０．２５μｍが好ま
しく、更に好ましくは０．０５〜０．２０μｍの範囲で
ある。

【００６２】支持体と下層または磁性層の間に密着性向
上のための下塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚
みは０．０１〜０．５μm、好ましくは０．０２〜０．
５μmである。また、磁性層は磁気ディスクの場合、通
常、両面に設けられるが、片面でもよい。片面にのみ磁
性層を設けた場合、帯電防止やカール補正などの効果を
出すために磁性層側と反対側にバックコート層を設けて
もかまわない。この厚みは０．１〜４μm、好ましくは
０．３〜２．０μmである。これらの下塗層、バックコ
ート層は公知のものが使用できる。

【００６３】本発明の媒体の磁性層の厚みは用いるヘッ
ドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域に
より最適化されるものである。磁性層は、異なる磁気特
性を有する２層以上に分離してもかまわず、公知の重層
磁性層に関する構成が適用できる。

【００６４】本発明になる媒体の下層の厚みは通常、
０．２〜５．０μm、好ましくは０．３〜３．０μｍ、
さらに好ましくは０．５〜２．５μmである。なお、本
発明媒体の下層は実質的に非磁性であればその効果を発
揮するものであり、たとえば不純物としてあるいは意図
的に少量の磁性体を含んでも、本発明の効果を示すもの
であり、本発明と実質的に同一の構成と見なすことがで
きることは言うまでもない。実質的に非磁性とは下層の
残留磁束密度が２００Ｇ以下または抗磁力が磁性層の略
４０％以下であることを示し、好ましくは残留磁束密度
と抗磁力がゼロである。

【００６５】［支持体］本発明に用いられる支持体は、
特に限定されるべきものではないが、実質的に非磁性で
かつ可撓性のものが好ましい。本発明に用いられる可撓
性支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレ
フィン類、セルローストリアセテート、ポリカーボネー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリ
スルフォン、ポリアラミド、芳香族ポリアミド、ポリベ
ンゾオキサゾールなどの公知のフィルムが使用できる。
ポリエチレンテレフタレートの他にポリエチレンナフタ
レート、ポリアミドなどの高強度支持体を用いることが
好ましい。また必要に応じ、磁性面とベース面の表面粗
さを変えるため特開平３−２２４１２７に示されるよう
な積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの
支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、
易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっても良
い。また本発明の支持体としてアルミまたはガラス基板
を適用することも可能である。

【００６６】本発明の目的を達成するには、支持体とし
て３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法で測定した中心面平均表面粗さＲ
ａは８．０nm以下、好ましくは４．０nm以下、さらに好
ましくは２．０nm以下のものを使用することが望まし
い。これらの支持体は単に中心面平均表面粗さが小さい
だけではなく、０．５μm以上の粗大突起がないことが
好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に
添加されるフィラーの大きさと量により自由にコントロ
ールされるものである。これらのフィラーとしては一例
としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、
アクリル系などの有機微粉末があげられる。支持体の最
大高さＳＲmaxは１μm以下、十点平均粗さＳＲzは０．
５μm以下、中心面山高さはＳＲpは０．５μm以下、中
心面谷深さＳＲvは０．５μm以下、中心面面積率ＳＳr
は１０％以上、９０％以下、平均波長Ｓλaは５μm以
上、３００μm以下が好ましい。所望の電磁変換特性と
耐久性を得るため、これら支持体の表面突起分布をフィ
ラーにより任意にコントロールできるものであり、０．
０１μmから１μmの大きさのもの各々を０．１mm² あた
り０個から２０００個の範囲でコントロールすることが
できる。

【００６７】本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好
ましくは５〜５０Kg/mm² 、また、支持体の１００℃３
０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好まし
くは１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好まし
くは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。
破断強度は５〜１００Kg/mm² 、弾性率は１００〜２０
００Kg/mm² が好ましい。温度膨張係数は１０^-4〜１０
^-8/℃であり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃である。
湿度膨張係数は１０^-4/RH%以下であり、好ましくは１０
^-5/RH％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械
強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差で
ほぼ等しいことが好ましい。

【００６８】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗
料、非磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工
程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じ
て設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段
階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する
強磁性金属微粉末、非磁性粉末、結合剤、カーボンブラ
ック、研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての
原料はどの工程の最初または途中で添加してもかまわな
い。また、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加
してもかまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、
分散工程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割し
て投入してもよい。本発明の目的を達成するためには、
従来の公知の製造技術を一部の工程として用いることが
できる。混練工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加
圧ニーダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを
使用することが好ましい。ニーダを用いる場合は磁性体
または非磁性粉体と結合剤のすべてまたはその一部（た
だし全結合剤の３０％以上が好ましい）および磁性体１
００部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。
これらの混練処理の詳細については特開平１−１０６３
３８、特開平１−７９２７４に記載されている。また、
磁性層液および下層液を分散させるにはガラスビーズを
用ることができるが、高比重の分散メディアであるジル
コニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適
である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化し
て用いられる。分散機は公知のものを使用することがで
きる。分散速度が異なる磁性体、研磨剤、カーボンブラ
ックをあらじめ別々に分散し、混合し必要により更に微
分散して塗布液とすることができる。

【００６９】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９，特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１，特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実
現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、
本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠
陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させる
ためには、前述の同時重層塗布を用いることが好まし
い。

【００７０】［配向］本発明の磁気記録媒体は、上述し
た針状研磨剤を含有する磁性塗布液、あるいは更に下層
塗布液を支持体上に塗布し、得られた磁性層を長手に配
向後、ランダム配向したものである。一般に、磁気ディ
スクの場合、配向装置を用いず無配向でも十分に等方的
な配向性が得られることもあるが、コバルト磁石を斜め
に交互に配置すること、ソレノイドで交流磁場を印加す
るなど公知のランダム配向装置を用いることが知られて
いる。

【００７１】本発明では、永久磁石、ソレノイドを使用
して予め長手に配向した後、ランダム配向することによ
り、中心面平均表面粗さＲａが好ましくは４．０ｎｍ以
下という平滑な表面性を得ることができ、あわせて下層
と磁性層界面の乱れを大幅に改良することを達成した。
長手方向に使用する永久磁石は同極対向磁石を用いた場
合、中心磁界強度は、好ましくは３０００〜１５０００
Oe、更に好ましくは４０００〜１００００Oeであり、ラ
ンダム配向に使用するソレノイドは、好ましくは周波数
３０〜３００Ｈｚ、更に好ましくは３０〜１５０Ｈｚ
で、中心磁界強度は好ましくは１００〜５００Oe、更に
好ましくは１００〜３５０Oeである。

【００７２】本発明においては、実施例で定義する界面
変動σ／ｄ（σ：標準偏差、ｄ：磁性層厚み）（％）を
好ましくは２０％以下、更に好ましくは１５％以下とす
ることができたために電磁変換特性、特に、エラーレー
トの改善を図ることができた。また、本発明は磁性層の
中心面平均表面粗さを上記範囲としたことにより、特に
出力の改善を図ることができたものである。

【００７３】本発明では上記配向により、強磁性金属微
粉末は等方的な配向をとることができるが、この等方的
な配向としては、一般的には面内２次元ランダムが好ま
しいが、垂直成分をもたせて３次元ランダムとすること
もできる。角形比は２次元ランダムの場合は０．５５以
上０．６７以下で、好ましくは０．５８以上、０．６４
以下、３次元ランダムの場合は０．４５以上、０．５５
以下が好ましい。

【００７４】２次元ランダム、３次元ランダムとも配向
度比（％）（１００×長手方向の角形比／長手方向に対
し面内で垂直な方向の角形比）は９５％以上が好まし
く、更に好ましくは９７〜１００％の範囲である。２次
元ランダムの場合、各々垂直方向の角形比、Ｂｒ、Ｈｃ
およびＨｒは面内方向の好ましくは０．１〜０．５倍で
ある。

【００７５】配向は、乾燥風の温度、風量、塗布速度を
制御することで塗膜の乾燥位置を制御できる様にするこ
とが好ましく、塗布速度は２０m/分〜１０００m/分、乾
燥風の温度は６０℃以上が好ましい、また磁石ゾーンに
入る前に適度の予備乾燥を行なうこともできる。カレン
ダ処理ロールとしてエポキシ、ポリイミド、ポリアミ
ド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあるプラスチックロ
ールまたは金属ロールで処理するが、特に両面磁性層と
する場合は金属ロール同志で処理することが好ましい。
処理温度は、好ましくは５０℃以上、さらに好ましくは
１００℃以上である。線圧力は好ましくは２００Kg/cm
以上、さらに好ましくは３００Kg/cm以上である。

【００７６】［物理特性］本発明になる磁気記録媒体
は、磁性層の抗磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤ
およびＳＦＤｒは０．６以下が好ましい。本発明の磁気
記録媒体のヘッドに対する摩擦係数は温度−４０〜４０
℃、湿度０〜９５％の範囲において、０．５以下、好ま
しくは０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは磁性面１
０⁴ 〜１０¹²オーム/sq、帯電位は−５００Vから＋５０
０V以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率
は面内各方向で好ましくは１００〜２０００Kg/mm² 、
破断強度は好ましくは１０〜７０Kg/mm² 、磁気記録媒
体の弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜１５００
Kg/mm² 、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００
℃以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以
下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましく
は０．１％以下である。磁性層のガラス転移温度(１１
０Hzで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点)
は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層のそれは０
℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０⁸ 〜８
×１０⁹ dyne/cm² の範囲にあることが好ましく、損失
正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が大
きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や
機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内でほぼ等しい
ことが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は好まし
くは１００mg/m² 以下、さらに好ましくは１０mg/m² 以
下である。塗布層が有する空隙率は非磁性下層、磁性層
とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０
容量％以下である。空隙率は高出力を果たすためには小
さい方が好ましいが、目的によってはある値を確保した
方が良い場合がある。

【００７７】磁性層は３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法で測定した中
心面平均表面粗さＲａが４．０nm以下が好ましく、更に
好ましくは３．８nm以下、特に好ましくは３．５nm以下
である。ここで、３Ｄ−ＭＩＲＡＵ法とは、ＷＹＣＯ社
製のＴＯＰＯ−３Ｄの表面粗さ計を用いてＭＩＲＡＵ法
で約２５０μｍ×２５０μｍの面積で測定する方法をい
う。磁性層の最大高さＲmaxは０．５μm以下、十点平均
粗さＲzは０．３μm以下、中心面山高さＲpは０．３μm
以下、中心面谷深さＲvは０．３μm以下、中心面面積率
Ｓrは２０〜８０％、平均波長λaは５〜３００μmが好
ましい。磁性層の表面突起は０．０１〜１μmの大きさ
のものを０〜２０００個の範囲で任意に設定することが
可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を最適
化することが好ましい。これらは支持体のフィラーによ
る表面性のコントロールや磁性層に添加する粉体の粒径
と量、カレンダ処理のロール表面形状などで容易にコン
トロールすることができる。カールは±３mm以内とする
ことが好ましい。

【００７８】本発明の磁気記録媒体は、目的に応じ下層
と磁性層でこれらの物理特性を変えることができるのは
容易に推定されることである。例えば、磁性層の弾性率
を高くし走行耐久性を向上させると同時に下層の弾性率
を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを
良くするなどである。

【００７９】

【実施例】実施例中、「部」との表示は、「重量部」を
示す。 針状研磨剤（Ａ）の作製（１） ビデオグレードのＣｒＯ₂ （平均粒子長０．２１μｍ、
針状比９、Ｈｃ５５０Oe、σｓ６８ｅｍｕ／ｇ、比表面
積３２ｍ² ／ｇ）を空気中で４５０℃で６０分加熱し、
Ｃｒ₂ Ｏ₃ に相変化させた。

【００８０】得られたＣｒ₂ Ｏ₃ をアルカリ性の水でサ
ンドグラインダーで分散した。濾過、水洗、乾燥し、針
状のＣｒ₂ Ｏ₃ （針状研磨剤Ａ）（平均粒子長０．２１
μｍ、針状比９、比表面積３３ｍ² ／ｇ）を作製した。 針状研磨剤（Ｂ）の作製（２） 攪拌機つきの１５０リットルに１．７モル／ｌの炭酸ナ
トリウム３５リットルと２．０モル／ｌの水酸化ナトリ
ウム１５リットルの混合溶液に燐酸ナトリウム０．５モ
ル／ｌの水溶液０．６リットルを添加し、窒素でバブリ
ングしつつ、液温を２０℃とし、別のタンクで窒素をバ
ブリングさせながら溶解した液温２０℃の硫酸第一鉄
（Ｆｅ²⁺濃度が１．３５モル／ｌ）水溶液４０リットル
を添加し、混合した。１０分間攪拌した後、懸濁液の温
度を２５℃とし、第一鉄を主成分とする沈殿物を生成し
た。窒素にかえて空気を導入し、沈殿物を酸化し、ゲー
タイト核晶を生成させた。懸濁液中のＦｅ²⁺濃度が０．
７５モル／ｌとなった時、空気酸化を中断し、窒素にき
りかえ、懸濁液の温度を４０℃に加熱し、２時間保持し
た後、アルミン酸ナトリウム１．１モル／ｌ水溶液１．
５リットルを添加した。その後、窒素を空気に切り換え
酸化反応を進め、Ａｌを固溶させた紡錘状を呈したゲー
タイトを生成させた。得られた粒子を濾過、水洗した。
一部を乾燥し、透過型電子顕微鏡写真をとり、平均粒子
長を求めたところ、０．１０μｍであり、針状比は７で
あった。また、窒素中で１２０℃で３０分加熱脱水後の
比表面積を測定すると１２０ｍ² ／ｇであった。得られ
た紡錘型ゲータイトを水に再分散し、硫酸アルミニウム
水溶液〔Ａｌ／（ゲータイト中のＦｅ）：３％（原子
比）〕を添加し攪拌した。この懸濁液にＮａＯＨを添加
し、中和し、ｐＨを８．０とし、紡錘状ゲータイト表面
にＡｌ化合物を沈着させた。濾過、水洗、乾燥し、空気
中で３５０℃、１時間脱水処理をした。窒素雰囲気と
し、６５０℃１時間熱処理して表面のＡｌ化合物の一部
を粒子内に拡散させた。得られたＡｌドープヘマタイト
（針状研磨剤Ｂ）は平均粒子長が０．１０μｍ、針状比
が６、比表面積が６１ｍ² ／ｇであった。

【００８１】 ＜塗料の作製＞ 磁性塗料 強磁性金属微粉末 １００部 組成：Ｆｅ１００％、Ｃｏ３０％（原子比） Ｈｃ２４５０Oe、比表面積５５m²/g 、σs１４０emu/g 結晶子サイズ１２０Å、長軸長０．０６８μm、針状比 ５ 焼結防止剤 Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ 原子比 ８％） Ｙ化合物（Ｙ／Ｆｅ 原子比 ６％） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 研磨剤（表１に記載） １０部 カ−ボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） ５部 フェニルホスホン酸 ３部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部

【００８２】 非磁性塗料 非磁性粉末 α−Ｆｅ₂ Ｏ₃ ヘマタイト ８０部 長軸長 ０．１５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m² /g ｐＨ ９ 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ が粒子全体に対し１重量％存在 研磨剤（表１に記載） ５部 カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 製法１（長手配向＋ランダム配向） 上記の塗料のそれぞれについて、顔料、塩化ビニル重合
体、ポリウレタン樹脂、フェニルホスホン酸と処方量の
５０％の各溶剤をニ−ダで混練したのち、残りの成分を
加えてサンドミルで分散した。得られた分散液にポリイ
ソシアネ−トを下層の塗布液には１０部、磁性層の塗布
液には１０部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノ
ン３０部を加え、１μmの平均孔径を有するフィルター
を用いて濾過し、下層形成用および磁性層形成用の塗布
液をそれぞれ調製した。

【００８３】得られた下層塗布液を、乾燥後の厚さが
１．５μmになるようにさらにその直後にその上に磁性
層の厚さが０．１５μmになるように、厚さ６２μmで中
心面平均表面粗さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレ−
ト支持体上に同時重層塗布をおこない、両層がまだ湿潤
状態にあるうちに中心磁界強度５０００Oeの同極対向希
土類磁石中を通過させ、長手方向に配向した後、周波数
５０Hz、磁場強度３００Oe、ついで周波数５０Hz、磁場
強度１５０Oeの２つの交流磁場発生装置の中を通過させ
ランダム配向処理を行った。これにより配向度比９８％
以上を得ることができた（表１参照）。

【００８４】もう片方の支持体面にも同様に塗布、配向
し、乾燥後、７段のカレンダー温度９０℃、線圧３００
Kg/cmにて処理を行った。３．７吋に打ち抜き、サーモ
処理（７０℃、２４時間）を行い塗布層の硬化処理を促
進させ、研磨テープでバーニッシュ処理を行い、表面の
突起を削る後処理を行った。ライナーが内側に設置済の
３．７吋のカートリッジ（米 Ｉｏｍｅｇａ社製 ｚｉ
ｐ−ｄｉｓｋカートリッジ）に入れ、所定の機構部品を
付加し、３．７吋フロッピーディスクを得た。 製法２（ランダム配向のみ） 製法１に記載した中心磁場強度５０００Oeの同極対向希
土類磁石を通過させずに周波数５０Hz、磁場強度３００
Oe、ついで周波数５０Hz、磁場強度１５０Oeの２つの交
流磁場発生装置の中を通過させランダム配向処理を行っ
た。

【００８５】表１のように組み合わせて得られたサンプ
ルについて磁気特性、中心面平均表面粗さ、磁性層厚み
と界面変動、出力とエラーレートを測定した。以下に各
サンプルの特性の評価方法を示す。 （１）磁気特性（Ｈｃ、Φｍ、配向度比）：振動試料型
磁束計（東英工業社製）を用い、Ｈｍ１０ＫＯｅで測定
した。 （２）中心面平均表面粗さ（Ｒａ）：３Ｄ−ＭＩＲＡＵ
での表面粗さ（Ｒａ）：ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用
いて、ＭＩＲＡＵ法で約２５０×２５０μｍの面積のＲ
ａ値を測定した。測定波長約６５０nmにて球面補正、円
筒補正を加えている。本方式は光干渉にて測定する非接
触表面粗さ計である。 （３）磁性層厚み、界面変動：磁気記録媒体を長手方向
に渡ってダイヤモンドカッターで約０．１μｍの厚味に
切り出し、透過型電子顕微鏡で倍率５００００倍で観察
し、その写真撮影を行った。写真のプリントサイズはＡ
４〜Ａ５でプリントした総合倍率を２０００００倍とし
た。その後、磁性層、下層の強磁性粉末や非磁性粉末の
形状差に注目して界面を目視判断して黒く渕どり、かつ
磁性層表面も同様に黒く渕どった。その後、Ｚｅｉｓｓ
社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にて渕どりした線の長さを
測定した。試料写真の長さが２１ｃｍの場合、測定を８
５〜３００回行った。その際の測定値の平均値を磁性層
厚みｄとし、その測定値の標準偏差σとした。σ／ｄ
（％表示）を界面変動とする。 （４）出力は、線記録密度１４４ｋｂｐｉ、トラック密
度１４４ｔｐｉで測定した。出力のｒｅｆは市販のＺＩ
Ｐ−１００を使用した。 （５）エラーレートは上記の線記録密度の信号を（２，
７）ＲＬＬ変調方式をディスクに記録し測定した。

【００８６】

【表１】 実施例３および４の磁気ディスクをトラック密度を７５
００ｔｐｉ、線記録密度を２００ｋｂｐｉとしてエラー
レートを測定したところ、各々０．２、０．１５であっ
た。上記表の結果から本発明の磁気記録媒体は、比較例
に比べ出力が高く、かつエラーレートが低いことがわか
る。

【００８７】

【発明の効果】本発明は支持体上に実質的に非磁性であ
る下層と強磁性金属微粉末を結合剤中に分散してなる磁
性層をこの順に設けた磁気記録媒体において、少なくと
も磁性層には平均粒子長が０．３５μｍ以下、針状比が
２〜１５の針状研磨剤を含有し、前記磁気記録媒体は前
記塗布液を前記支持体上に塗布し、得られた磁性層を長
手に配向後、ランダム配向したものであることを特徴と
する磁気記録媒体によって、従来の技術では得ることが
できなかった優れた高密度特性と耐久性を併せ持ち、特
に電磁変換特性が格段に改良された磁気記録媒体を得る
ことができる。

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に実質的に非磁性である下層と
   強磁性金属微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこ
   の順に設けた磁気記録媒体において、少なくとも磁性層
   には平均粒子長が０．３５μｍ以下、針状比が２〜１５
   の針状研磨剤を含有し、前記磁気記録媒体は前記塗布液
   を前記支持体上に塗布し、得られた磁性層を長手に配向
   後、ランダム配向したものであることを特徴とする磁気
   記録媒体。
2. 【請求項２】 前記磁気記録媒体は面記録密度が０．２
   〜２Ｇbit/inch² の信号を記録する磁気記録媒体であ
   り、前記磁性層の乾燥厚みが０．０５〜０．２５μｍで
   あり、且つΦｍが１．０×１０^-3〜８．０×１０^-3ｅｍ
   ｕ／ｃｍ² であり、前記磁性層の抗磁力が１８００Ｏｅ
   以上であり、かつ前記磁性層の表面粗さは、３Ｄ−ＭＩ
   ＲＡＵ法による中心面平均表面粗さで４．０ｎｍ以下で
   あることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 針状研磨剤のモース硬度が５以上のであ
   ることを特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録
   媒体。
4. 【請求項４】 針状研磨剤が、針状三酸化二クロム、針
   状二酸化クロム、針状Ａｌ固溶ヘマタイトであることを
   特徴とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記磁気記録媒体がディスクであること
   を特徴とする請求項１または２記載の磁気記録媒体。