JPH1178280A - Vender part cleaner for planographic printing plate - Google Patents

Vender part cleaner for planographic printing plate

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Publication number
JPH1178280A
JPH1178280A JP23810497A JP23810497A JPH1178280A JP H1178280 A JPH1178280 A JP H1178280A JP 23810497 A JP23810497 A JP 23810497A JP 23810497 A JP23810497 A JP 23810497A JP H1178280 A JPH1178280 A JP H1178280A
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JP
Japan
Prior art keywords
acid
weight
printing plate
bender
cleaner
Prior art date
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Pending
Application number
JP23810497A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Koichiro Aono
小一郎 青野
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication of JPH1178280A publication Critical patent/JPH1178280A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a vender part cleaner for planographic printing plate capable of obtaining a planographic printing plate not generating a contaminant on the paper surface corresponding to a vender part. SOLUTION: A vender part cleaner for a planographic printing plate contains at least one compd. selected from a group consisting of a hydrophilic org. polymeric compd., hexametaphosphoric acid and its salt and phytinic acid and its salt. As the hydrophilic org. polymeric compd., there are gum arabic, dextrin, alginate, for example, like sodium alginate, water-soluble cellulose, for example, like carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose or hydroxypropylmethylcellulose or the like. These hydrophilic polymeric compds. can be used as a combination of two or more kinds of them if necessary and are used in a concn. of about 1-40 wt.%, more pref., 3-30 wt.% with respect to the total wt. of the vender part cleaner.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版用ベンダ
ー部クリーナーに関し、更に詳しくは、ベンダー部に相
当する紙面に汚れが発生することのない平版印刷版を得
ることができる平版印刷版用ベンダー部クリーナーに関
するものである。アルミニウム板を支持体とする感光性
平版印刷版は、一般にシート状あるいはコイル状のアル
ミニウム板に砂目立て、陽極酸化、化成処理などの種々
の表面処理を単独又は適宜組み合わせて施し、次いで感
光液を塗布、乾燥してから所望のサイズに裁断して得ら
れる。このような感光性平版印刷版を画像露光して、現
像等の処理を行い、平版印刷版が得られる。かかる平版
印刷版を、輪転機を用いて印刷する場合には、輪転装置
の版胴部に印刷版を取り付けやすくするために、一般に
印刷版の上下2辺の端部から内側に2〜3cmの位置を
ベンダーで折り曲げて、いわゆるベンダー部を作製す
る。このとき、ベンダー部の陽極酸化皮膜にクラックが
発生して、このクラックに付着したインクが紙に印刷さ
れて汚れとなり、印刷物の商品価値を著しく損ねてい
た。従ってかかる印刷版のベンダー部の汚れを防止する
方法が、望まれていた。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a lithographic printing plate bender cleaner, and more particularly, to a lithographic printing plate bender capable of obtaining a lithographic printing plate having no stain on the paper surface corresponding to the bender portion. It is related to the part cleaner. A photosensitive lithographic printing plate having an aluminum plate as a support is generally subjected to various surface treatments such as graining, anodic oxidation, and chemical conversion treatment alone or in an appropriate combination on a sheet-like or coil-like aluminum plate. It is obtained by coating, drying and then cutting to a desired size. Such a photosensitive lithographic printing plate is image-exposed and subjected to processing such as development to obtain a lithographic printing plate. When printing such a lithographic printing plate using a rotary press, in order to make it easy to attach the printing plate to the plate body of the rotary printing device, generally, a width of 2 to 3 cm inward from the upper and lower edges of the printing plate. The position is bent by a bender to produce a so-called bender part. At this time, cracks occurred in the anodic oxide film of the bender portion, and the ink attached to the cracks was printed on paper and became soiled, thereby significantly impairing the commercial value of the printed matter. Therefore, a method for preventing such a stain on the bender section of the printing plate has been desired.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】本発明はベンダー部に
相当する紙面に汚れが発生することのない平版印刷版を
得ることができる平版印刷版用ベンダー部クリーナーを
提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a lithographic printing plate bender cleaner capable of obtaining a lithographic printing plate free from contamination on the paper surface corresponding to the bender portion.

【0003】[0003]

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、親
水性有機高分子化合物、ヘキサメタリン酸及びその塩、
並びにフイチン酸及びその塩からなる群から選択される
少なくとも一種の化合物を含有することを特徴とする平
版印刷版用ベンダー部クリーナーにより達成できる。
The object of the present invention is to provide a hydrophilic organic polymer compound, hexametaphosphoric acid and salts thereof,
And a lithographic printing plate bender part cleaner comprising at least one compound selected from the group consisting of phytic acid and salts thereof.

【0004】[0004]

【発明の実施の形態】本発明をさらに詳細に説明する。
具体的には、コイル状のアルミニウム板を種々の方法で
脱脂洗浄し、種々の方法で砂目立てし、次いで必要に応
じ残渣を除去し、陽極酸化処理、親水化処理を行ない、
感光液を塗布し、乾燥する。その後、所望の印刷機に合
ったサイズにスリットし、画像露光後、現像し、平版印
刷版を作成する。得られた平版印刷版の上下2辺の端部
から内側に約2〜3cmの位置を折り曲げ、ベンダー部
を作成する。通常、この屈曲部分の陽極酸化皮膜にクラ
ックが発生し、インクがクラック部分に付着して汚れが
発生するが、ベンダー部周辺に本発明のベンダー部クリ
ーナーを塗布し、輪転装置の版胴部に巻き付け、印刷を
行うことにより、驚くべきことにベンダー部に相当する
紙面の汚れが大幅に改善された。本発明のベンダー部ク
リーナーに使用される組成物としては、親水性有機高分
子化合物、ヘキサメタリン酸およびその塩、並びにフイ
チン酸およびその塩からなる群から選択される少なくと
も一種の化合物を含有する水溶液が挙げられる。親水性
有機高分子化合物、ヘキサメタリン酸およびその塩、並
びにフイチン酸およびその塩は、それぞれ単独で用いて
もよく、また、組み合わせて使用してもよい。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention will be described in more detail.
Specifically, the coiled aluminum plate is degreased and washed by various methods, grained by various methods, then, if necessary, the residue is removed, and anodizing treatment and hydrophilization treatment are performed.
A photosensitive solution is applied and dried. Thereafter, the plate is slit into a size suitable for a desired printing machine, and after image exposure, development is performed to prepare a lithographic printing plate. A position of about 2 to 3 cm is bent inward from the upper and lower edges of the obtained lithographic printing plate to form a bender portion. Normally, cracks occur in the anodic oxide film at the bent portion, and ink adheres to the cracked portion and stains are generated, but the bender portion cleaner of the present invention is applied around the bender portion, and applied to the plate body of the rotary press. By wrapping and printing, surprisingly, the stain on the paper surface corresponding to the bender section was greatly reduced. As the composition used for the bender part cleaner of the present invention, an aqueous solution containing at least one compound selected from the group consisting of a hydrophilic organic polymer compound, hexametaphosphoric acid and salts thereof, and phytic acid and salts thereof is used. No. The hydrophilic organic polymer compound, hexametaphosphoric acid and its salt, and phytic acid and its salt may be used alone or in combination.

【0005】具体的な親水性有機高分子化合物として
は、アラビアガム、デキストリン、例えばアルギン酸ナ
トリウムのようなアルギン酸塩、例えばカルボキシメチ
ルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキ
シプロピルメチルセルロースなどの水溶性セルロース、
ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリア
クリルアミド、アクリルアミド単位を含む水溶性共重合
体、ポリアクリル酸、アクリル酸単位を含む共重合体、
ポリアクリル酸、アクリル酸単位を含む共重合体、ポリ
メタクリル酸、メタクリル酸単位を含む共重合体、ビニ
ルメチルエーテルと無水マレイン酸との共重合体、酢酸
ビニルと無水マレイン酸との共重合体、燐酸変性澱粉な
どを挙げることができ、中でもヒドロキシアルキル化澱
粉の一種を含有することが好ましい。これらの親水性高
分子化合物は、必要に応じて二種以上組み合わせて使用
することができ、ベンダー部クリーナーの総重量に対し
て約1〜40重量%、より好ましくは3〜30重量%の
濃度で使用される。
Specific examples of hydrophilic organic high molecular compounds include gum arabic, dextrin, alginate such as sodium alginate, water-soluble cellulose such as carboxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose and hydroxypropylmethylcellulose;
Polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, polyacrylamide, water-soluble copolymer containing acrylamide units, polyacrylic acid, copolymer containing acrylic acid units,
Polyacrylic acid, copolymer containing acrylic acid units, polymethacrylic acid, copolymer containing methacrylic acid units, copolymer of vinyl methyl ether and maleic anhydride, copolymer of vinyl acetate and maleic anhydride And phosphoric acid-modified starch. Among them, it is preferable to contain one kind of hydroxyalkylated starch. These hydrophilic polymer compounds can be used in combination of two or more kinds as necessary, and have a concentration of about 1 to 40% by weight, more preferably 3 to 30% by weight, based on the total weight of the bender cleaner. Used in.

【0006】本発明に用いられるヒドロキシアルキル化
澱粉(すなわちヒドロキシアルキルエーテル化澱粉)と
しては、エーテル化度(すなわちグルコース残基の3個
の水酸基の置換度)が0.03〜0.08の範囲であり、よ
り好ましくは0.04〜0.07の範囲のものが挙げられ
る。具体的には、直鎖(アミロース)或いは分岐(アミ
ロペクチン)重合物中の水酸基にエチレンオキサイドま
たはプロピレンオキサイドを付加させたものであり、下
記一般式Iで示される単位と下記一般式IIで示される単
位とを含む高分子化合物である。
[0006] The hydroxyalkylated starch (ie, hydroxyalkyl etherified starch) used in the present invention has a degree of etherification (ie, the degree of substitution of three hydroxyl groups of a glucose residue) in the range of 0.03 to 0.08. And more preferably in the range of 0.04 to 0.07. Specifically, it is obtained by adding ethylene oxide or propylene oxide to a hydroxyl group in a linear (amylose) or branched (amylopectin) polymer, and is represented by a unit represented by the following general formula I and a unit represented by the following general formula II And a polymer compound containing a unit.

【0007】[0007]

【化1】 Embedded image

【0008】( 一般式[I] において、R1 〜R3 は互い
に同じでも異なっていてもよく、各々水素原子、−(C
2 CH2 O)n−Hまたは−(CH2 CH(CH3
O)n−Hを示し、nは1〜3の整数を示す。ただし、
1 〜R3 の内少なくとも1つは水素原子以外の基を表
す。)
(In the general formula [I], R 1 to R 3 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom,-(C
H 2 CH 2 O) n- H or - (CH 2 CH (CH 3 )
O) n-H, wherein n is an integer of 1 to 3; However,
At least one of R 1 to R 3 represents a group other than a hydrogen atom. )

【0009】[0009]

【化2】 Embedded image

【0010】上記の澱粉誘導体の合成方法は米国特許第
3067067 号に詳細に記載されている。ヒドロキシアルキ
ル化された澱粉を更に酵素分解して冷水易溶性にするこ
とができる。このような酵素としてはα−アミラーゼ、
β−アミラーゼ、糖化型アミラーゼ等が用いられる。本
発明の版面保護剤に使用されるヒドロキシアルキル化澱
粉は20℃の水に30重量%以上、より好ましくは40
重量%以上溶解するものがよい。また、このように変性
された澱粉の分子量は、20重量%の水溶液の20℃に
おける粘度が5〜100センチポイズとなるような範囲
が好ましい。本発明の版面保護剤中の上記ヒドロキシア
ルキル化澱粉の含有量は約5〜35重量%が適当であ
り、より好ましくは10〜25重量%である。これらの
ヒドロキシアルキル化澱粉は水(通常20〜25℃)に
溶解させ均一な水溶液として使用する。
The method for synthesizing the above-mentioned starch derivative is disclosed in US Pat.
It is described in detail in 3067067. The hydroxyalkylated starch can be further enzymatically degraded to make it more soluble in cold water. Such enzymes include α-amylase,
β-amylase, saccharified amylase and the like are used. The hydroxyalkylated starch used in the plate surface protective agent of the present invention is 30% by weight or more, more preferably 40% by weight, in water at 20 ° C.
Those that dissolve in an amount of at least% by weight are preferred. The molecular weight of the starch thus modified is preferably in such a range that the viscosity of the 20% by weight aqueous solution at 20 ° C. becomes 5 to 100 centipoise. The content of the hydroxyalkylated starch in the plate surface protective agent of the present invention is suitably about 5 to 35% by weight, more preferably 10 to 25% by weight. These hydroxyalkylated starches are dissolved in water (usually at 20 to 25 ° C.) and used as a homogeneous aqueous solution.

【0011】本発明に於いて、ヒドロキシアルキル化澱
粉は他の焙焼デキストリン等の澱粉を混合使用してもか
まわない。更にアラビアガムのような他の水溶性高分子
化合物を添加してもよい。また、特開昭62−1169
3号に記載されたリン酸またはその誘導体により変性さ
れた澱粉、特開平2−113997号に記載された尿素
−リン酸化澱粉、特開昭62−7595号に記載された
カルボキシアルキル化澱粉、特開平7−52577号に
記載された水溶性大豆多糖類等の他の澱粉類を更に添加
してもよい。また、一般にヒドロキシアルキル化澱粉の
エーテル化度(すなわちグルコース残基の3個の水酸基
の置換度)が0.1以下の場合は、その水溶液を保存して
おくと澱粉の老化現象(増粘化)が起こるが、本発明の
ヒドロキシアルキル化澱粉として最適のエーテル化度は
0.03〜0.08の範囲であり、より好ましくは0.04〜
0.07の範囲である。従って、本発明においては、上記
最適エーテル化度のヒドロキシアルキル化澱粉の老化現
象を抑制するために、さらに界面活性剤を含有させても
よい。使用できる界面活性剤としては、アニオン界面活
性剤および/またはノニオン界面活性剤が挙げられる。
In the present invention, the hydroxyalkylated starch may be a mixture of other starches such as roasted dextrin. Further, other water-soluble polymer compounds such as gum arabic may be added. Also, Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 62-1169
3, starch modified with phosphoric acid or a derivative thereof, urea-phosphorylated starch described in JP-A-2-113997, carboxyalkylated starch described in JP-A-62-7595, Other starches such as water-soluble soybean polysaccharide described in Kaihei 7-52577 may be further added. In general, when the degree of etherification of hydroxyalkylated starch (that is, the degree of substitution of three hydroxyl groups of glucose residues) is 0.1 or less, the aqueous solution is stored and the starch aging phenomenon (thickening phenomenon) occurs. ) Occurs, but the optimal degree of etherification as the hydroxyalkylated starch of the present invention is
0.03 to 0.08, more preferably 0.04 to 0.08.
0.07. Accordingly, in the present invention, a surfactant may be further contained in order to suppress the aging phenomenon of the hydroxyalkylated starch having the above-mentioned optimum degree of etherification. Surfactants that can be used include anionic surfactants and / or nonionic surfactants.

【0012】本発明において使用される具体的なヘキサ
メタリン酸塩としては、ヘキサメタリン酸アルカリ金属
塩又はアンモニウム塩が挙げられる。ヘキサメタリン酸
アルカリ金属塩又はアンモニウム塩としては、ヘキサメ
タリン酸ナトリウム、ヘキサメタリン酸カリウム、ヘキ
サメタリン酸アンモニウム等を挙げることができる。具
体的なフイチン酸の塩としては、ナトリウム塩、カリウ
ム塩、リチウム塩等のアルカリ金属塩、アンモニウム
塩、アミン塩等がある。アミン塩としては、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、n−プロピルアミン、ジ−n
−プロピルアミン、トリ−n−プロピルアミン、n−ブ
チルアミン、n−アミルアミン、n−ヘキシルアミン、
ラウリルアミン、エチレンジアミン、トリメチレンジア
ミン、テトラメチレンジアミン、ペンタメチレンジアミ
ン、ヘキサメチレンジアミン、エタノールアミン、ジエ
タノールアミン、トリエタノールアミン、アリルアミ
ン、アニリン等の塩を挙げることができる。フイチン酸
塩は12個の酸の水素がすべて置換された正塩、酸の水
素の一部が置換された水素塩(酸性塩)でもよく、また
1種類の塩基の塩からなる単純塩、2種以上の塩基が成
分として含まれる複塩のいずれの形態のものも使用でき
る。これらの化合物は単独又は2種以上組み合わせて用
いることができる。
Specific examples of the hexametaphosphate used in the present invention include alkali metal or ammonium hexametaphosphate. Examples of the alkali metal or ammonium hexametaphosphate include sodium hexametaphosphate, potassium hexametaphosphate, and ammonium hexametaphosphate. Specific salts of phytic acid include alkali metal salts such as sodium salt, potassium salt and lithium salt, ammonium salts, amine salts and the like. Examples of the amine salt include diethylamine, triethylamine, n-propylamine, di-n
-Propylamine, tri-n-propylamine, n-butylamine, n-amylamine, n-hexylamine,
Examples thereof include salts of laurylamine, ethylenediamine, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, pentamethylenediamine, hexamethylenediamine, ethanolamine, diethanolamine, triethanolamine, allylamine, aniline and the like. The phytate may be a normal salt in which all 12 hydrogens of an acid are substituted, a hydrogen salt in which a part of the acid hydrogen is substituted (an acidic salt), or a simple salt composed of a salt of one kind of base. Any form of double salt containing at least one kind of base as a component can be used. These compounds can be used alone or in combination of two or more.

【0013】本発明のベンダー部クリーナーには、更に
強酸の金属塩を含有させておくことが好ましく、これに
よりインキの付着防止作用を高めることができる。具体
的な強酸の金属塩としては、硝酸のナトリウム塩、カリ
ウム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩及び亜鉛塩、硫
酸のナトリウム塩、カリウム塩、マグネシウム塩、カル
シウム塩及び亜鉛塩、クロム酸のナトリウム塩、カリウ
ム塩、マグネシウム塩、カルシウム塩及び亜鉛塩、並び
に弗化ナトリウム及び弗化カリウムなどを挙げることが
できる。これらの強酸の金属塩は二種以上を組み合わせ
て使用することができ、その量はベンダー部クリーナー
の総重量を基準に約0.01〜5重量%が好ましい。本発
明のベンダー部クリーナーは、pH値を酸性域、より好
ましくは1〜5、最も好ましくは1.5〜4.5に調整され
る。従って、水相のpHが酸性でない場合には、水相に
更に酸が加えられる。かかるpH調整剤として加えられ
る酸としては、例えば燐酸、硫酸、硝酸などの鉱酸、例
えばくえん酸、たんにん酸、りんご酸、氷酢酸、乳酸、
蓚酸、p−トルエンスルホン酸、有機ホスホン酸などの
有機酸が例示できる。この内、燐酸は、pH調整剤とし
て機能するだけでなく、不感脂化作用を強化する作用も
あるので特に優れており、ベンダー部クリーナーの総重
量に対して0.01〜20重量%、最も好ましくは0.1〜
10重量%の範囲で含有させておくと好ましい。
It is preferable that the bender part cleaner of the present invention further contains a metal salt of a strong acid, whereby the action of preventing adhesion of ink can be enhanced. Specific metal salts of strong acids include sodium, potassium, magnesium, calcium and zinc nitrates, sodium, potassium, magnesium, calcium and zinc salts of sulfuric acid, sodium salts of chromic acid, Potassium, magnesium, calcium and zinc salts, and sodium and potassium fluorides and the like can be mentioned. Two or more of these strong acid metal salts can be used in combination, and the amount thereof is preferably about 0.01 to 5% by weight based on the total weight of the bender cleaner. The pH value of the bender cleaner of the present invention is adjusted to an acidic range, more preferably 1 to 5, and most preferably 1.5 to 4.5. Thus, if the pH of the aqueous phase is not acidic, more acid is added to the aqueous phase. Examples of the acid added as such a pH adjuster include mineral acids such as phosphoric acid, sulfuric acid, and nitric acid, for example, citric acid, tannic acid, malic acid, glacial acetic acid, lactic acid,
Examples include organic acids such as oxalic acid, p-toluenesulfonic acid, and organic phosphonic acid. Of these, phosphoric acid is particularly excellent because it not only functions as a pH adjuster, but also has the effect of enhancing the desensitizing effect, and is preferably 0.01 to 20% by weight based on the total weight of the bender cleaner. Preferably 0.1 to
It is preferable to contain it in the range of 10% by weight.

【0014】本発明のベンダー部クリーナーには湿潤剤
及び/又は界面活性剤を含有させておくことが好まし
く、これによりベンダー部クリーナーの塗布性を向上さ
せることができる。具体的な湿潤剤としては低級多価ア
ルコールが好ましく、例えばエチレングリコール、ジエ
チレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレ
ングリコール、ブチレングリコール、ペンタンジオー
ル、ヘキシレングリコール、テトラエチレングリコー
ル、ポリエチレングリコール、ジプロピレングリコー
ル、トリプロピレングリコール、グリセリン、ソルビト
ール、ペンタエリスリトールなどが挙げられ、特に好ま
しいものはグリセリンである。また、界面活性剤として
は、例えばポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロック
コポリマーなどのノニオン界面活性剤、例えば脂肪酸塩
類、アルキル硫酸エステル塩酸、アルキルベンゼンスル
ホン酸塩類、アルキルナフタレンスルホン酸塩類、ジア
ルキルスルホこはく酸エステル塩類、アルキル燐酸エス
テル塩類、ナフタレンスルホン酸ホルマリン縮合物など
のアニオン界面活性剤、例えばベタイン型、グリシン
型、アラニン型、スルホベタイン型の両性界面活性剤が
使用できる。これらの湿潤剤及び/又は界面活性剤はベ
ンダー部クリーナーの総重量に対して約0.5〜10重
量%、より好ましくは1〜5重量%の範囲で含有させら
れる。本発明に使用されるベンダー部クリーナーには、
更に二酸化珪素、タルク、粘土などの充填剤を2重量%
までの量で、また染料や顔料などを1重量%までの量で
含有させることもできる。
[0014] The bender cleaner of the present invention preferably contains a wetting agent and / or a surfactant, whereby the coatability of the bender cleaner can be improved. As specific wetting agents, lower polyhydric alcohols are preferable, for example, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, pentanediol, hexylene glycol, tetraethylene glycol, polyethylene glycol, dipropylene glycol, and tripropylene Examples include glycol, glycerin, sorbitol, pentaerythritol and the like, and particularly preferred is glycerin. Examples of the surfactant include nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl phenyl ether and polyoxyethylene polyoxypropylene block copolymers, such as fatty acid salts, alkyl sulfates, alkyl benzene sulfonates, and alkyl naphthalene sulfonates. Anionic surfactants such as dialkylsulfosuccinate salts, alkylphosphate salts, and naphthalenesulfonic acid formalin condensates, for example, betaine-type, glycine-type, alanine-type, and sulfobetaine-type amphoteric surfactants can be used. These wetting agents and / or surfactants are contained in the range of about 0.5 to 10% by weight, more preferably 1 to 5% by weight, based on the total weight of the bender cleaner. The bender cleaner used in the present invention includes:
2% by weight of filler such as silicon dioxide and talc clay
And dyes and pigments can be contained in an amount of up to 1% by weight.

【0015】本発明のベンダー部クリーナーは、上述の
如き親水性の水溶液からなるものであるが、PS版の感光
層への悪影響がある場合を考慮して、例えば米国特許第
4253999号、同第4268613号、同第434
8954号などの各明細書に記載されているような乳化
型のベンダー部クリーナーも使用することができる。上
述の如きベンダー部クリーナーで平版印刷版のベンダー
部を処理するには、平版印刷版のベンダー部へ本発明の
クリーナーを含ませたモルトンロール、スポンジまたは
刷毛等により塗布する方法並びにスプレーする方法があ
るが、スプレーによる方法が簡便で好ましい。ベンダー
部へのクリーナーの塗布量は、乾燥重量で0.001〜5
0g/m2 、好ましくは0.01〜10g/m2 、より好
ましくは0.05〜5g/m2 である。0.001g/m2
未満の場合は、ベンダー部に対応する印刷紙面に汚れが
発生する。通常、平版印刷版は、上下2辺の端部から内
側に2〜3cmの位置でベンダーにより折り曲げられる
が、この屈曲部分の陽極酸化皮膜にクラックが発生し、
インクがクラック部分に付着して汚れが発生する。従っ
て、本発明のベンダー部クリーナーは、折り曲げ部周辺
に塗布される。
The bender cleaner of the present invention comprises a hydrophilic aqueous solution as described above. In consideration of the adverse effect on the photosensitive layer of the PS plate, for example, US Pat. No. 4,253,999 and US Pat. No. 4268613, No. 434
Emulsion type bender cleaners such as those described in each specification such as No. 8954 can also be used. In order to treat the lithographic printing plate bender portion with the above-described bender portion cleaner, a method of applying the cleaner of the present invention to the bender portion of the lithographic printing plate using a Molton roll, a sponge, a brush, or the like, and a method of spraying are used. However, a spray method is simple and preferable. The amount of the cleaner applied to the bender was 0.001 to 5 in terms of dry weight.
0 g / m 2 , preferably 0.01 to 10 g / m 2 , more preferably 0.05 to 5 g / m 2 . 0.001 g / m 2
If it is less than 3, the printing paper corresponding to the bender section is stained. Usually, a lithographic printing plate is bent by a bender at a position of 2 to 3 cm inward from the ends of the upper and lower sides, and cracks occur in the anodic oxide film at the bent portion,
The ink adheres to the cracked portion, causing stains. Therefore, the bender cleaner of the present invention is applied around the bent part.

【0016】本発明のベンダー部クリーナーを塗布する
平版印刷版の支持体としては、アルミニウム及びアルミ
ニウム被覆された複合支持体が好ましく、さらに鉄を0.
1〜0.5重量%、ケイ素を0.03〜0.3重量%、銅を0.
001〜0.03重量%、更にチタンを0.002〜0.1重
量%含有する1Sアルミニウム板が好ましい。アルミニ
ウム材の表面は、保水性を高め、感光層との密着性を向
上させる目的で表面処理されていることが望ましい。ア
ルカリ好ましくは、1〜30重量%の水酸化ナトリウ
ム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム
等の水溶液に、20〜80℃の温度で5秒〜250秒間
浸漬してエッチングするのもよい。エッチング浴には、
アルミニウムイオンをアルカリの5分の1程度加えても
良い。ついで、10〜30重量%硝酸または硫酸水溶液
に20〜70℃の温度で5秒〜25秒間浸漬して、アル
カリエッチング後の中和及びスマット除去を行う。例え
ば、粗面化方法として、一般に公知のブラシ研磨法、ボ
ール研磨法、電解エッチング、化学的エッチング、液体
ホーニング、サンドブラスト等の方法およびこれらの組
合せが挙げられ、好ましくはブラシ研磨法、電解エッチ
ング、化学的エッチングおよび液体ホーニングが挙げら
れ、これらのうちで、特に電解エッチングの使用を含む
粗面化方法が好ましい。さらに、特開昭54−6390
2号公報に記載されているようにブラシ研磨した後、電
解エッチングする方法も好ましい。
The support of the lithographic printing plate to which the bender cleaner of the present invention is applied is preferably aluminum or an aluminum-coated composite support.
1 to 0.5% by weight, 0.03 to 0.3% by weight of silicon, and 0.3% by weight of copper.
A 1S aluminum plate containing 001 to 0.03% by weight and further 0.002 to 0.1% by weight of titanium is preferable. The surface of the aluminum material is desirably surface-treated for the purpose of increasing water retention and improving adhesion to the photosensitive layer. Alkali, preferably, may be etched by immersing it in an aqueous solution of 1 to 30% by weight of sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium silicate or the like at a temperature of 20 to 80 ° C. for 5 to 250 seconds. In the etching bath,
Aluminum ions may be added to about one fifth of the alkali. Then, it is immersed in an aqueous solution of 10 to 30% by weight of nitric acid or sulfuric acid at a temperature of 20 to 70 ° C. for 5 to 25 seconds to neutralize and remove smut after alkali etching. For example, as the surface roughening method, generally known brush polishing method, ball polishing method, electrolytic etching, chemical etching, liquid honing, sand blasting and the like and combinations thereof, and preferably, brush polishing method, electrolytic etching, Chemical etching and liquid honing are mentioned, of which the surface roughening method including the use of electrolytic etching is preferred. Further, JP-A-54-6390
As described in Japanese Patent Publication No. 2 (1994), a method of performing electrolytic polishing after brush polishing is also preferable.

【0017】また、電解エッチングの際に用いられる電
解浴としては、酸、アルカリまたはそれらの塩を含む水
溶液あるいは有機溶剤を含む水性溶液が用いられ、これ
らのうちで、特に塩酸、硝酸またはそれらの塩を含む電
解液が好ましい。ブラシ研磨はパミストン−水懸濁液と
ナイロンブラシとを用いるのが好ましく、平均表面粗さ
を0.25〜0.9μmとすることが好ましい。電解エッチ
ング処理に使用される電解液は塩酸、または硝酸の水溶
液であり、濃度は0.01〜3重量%の範囲で使用するこ
とが好ましく、0.05〜2.5重量%であれば更に好まし
い。また、この電解液には必要に応じて硝酸塩、塩化
物、モノアミン類、ジアミン類、アルデヒド類、リン
酸、クロム酸、ホウ酸、シュウ酸アンモニウム塩等の腐
蝕抑制材(または安定化剤)、砂目の均一化剤などを加
えることが出来る。また電解液中には、適当量(1〜1
0g/リットル)のアルミニウムイオンを含んでいても
よい。
As the electrolytic bath used in the electrolytic etching, an aqueous solution containing an acid, an alkali or a salt thereof or an aqueous solution containing an organic solvent is used. Electrolytes containing salts are preferred. For brush polishing, it is preferable to use a pamistone-water suspension and a nylon brush, and it is preferable that the average surface roughness is 0.25 to 0.9 μm. The electrolytic solution used for the electrolytic etching treatment is an aqueous solution of hydrochloric acid or nitric acid, and the concentration is preferably used in the range of 0.01 to 3% by weight, and more preferably 0.05 to 2.5% by weight. preferable. In addition, a corrosion inhibitor (or stabilizer) such as nitrate, chloride, monoamines, diamines, aldehydes, phosphoric acid, chromic acid, boric acid, ammonium oxalate, etc., if necessary, A graining agent and the like can be added. Also, an appropriate amount (1 to 1)
0 g / liter) of aluminum ions.

【0018】電解エッチング処理は、通常10〜60℃
の電解液の温度で行なわれる。この際に使用される交流
電流は、正負の極性が交互に交換されたものであれば、
矩形波、台形波、正弦波いずれのものも用いることがで
き、通常の商用交流の単相及び三相交流電流を用いるこ
とができる。また電流密度は、5〜100A/dm2 で、
10〜300秒間処理することが望ましい。アルミニウ
ム合金支持体の表面粗さは、電気量によって調整し、0.
2〜0.8μmとする。
The electrolytic etching process is usually performed at 10 to 60 ° C.
At the temperature of the electrolyte. If the alternating current used at this time is one in which the positive and negative polarities are alternately exchanged,
Any of a rectangular wave, a trapezoidal wave, and a sine wave can be used, and normal commercial AC single-phase and three-phase AC currents can be used. The current density is 5 to 100 A / dm 2 ,
It is desirable to process for 10 to 300 seconds. The surface roughness of the aluminum alloy support is adjusted by the quantity of electricity,
2 to 0.8 μm.

【0019】さらに、粗面化処理の施されたアルミニウ
ム板は、必要に応じて酸またはアルカリの水溶液にてデ
スマット処理される。このように砂目立てされたアルミ
ニウム合金は、10〜50重量%の熱硫酸(40〜60
℃)や希薄なアルカリ(水酸化ナトリウム等)により、
表面に付着したスマットの除去及びエッチング(好まし
くは0.01〜2.0g/m2 の範囲で)されるのが好まし
い。アルカリでスマットの除去及びエッチングした場合
は、引き続いて洗浄のため酸(硝酸または硫酸)に浸漬
して中和する。表面のスマット除去を行った後、陽極酸
化皮膜が設けられる。陽極酸化法は、従来よりよく知ら
れている方法を用いることが出来るが、硫酸が最も有用
な電解液として用いられる。それに次いで、リン酸もま
た有用な電解液である。さらに特開昭55−28400
号公報に開示されている硫酸とリン酸の混酸もまた有用
である。
Further, the surface-roughened aluminum plate is desmutted with an acid or alkali aqueous solution as required. The grained aluminum alloy is made of 10 to 50% by weight of hot sulfuric acid (40 to 60% by weight).
℃) or dilute alkali (such as sodium hydroxide)
The smut attached to the surface is preferably removed and etched (preferably in the range of 0.01 to 2.0 g / m 2 ). If the smut has been removed and etched with an alkali, it is subsequently neutralized by immersion in an acid (nitric acid or sulfuric acid) for cleaning. After de-smutting the surface, an anodic oxide coating is provided. As the anodic oxidation method, a conventionally well-known method can be used, but sulfuric acid is used as the most useful electrolytic solution. Subsequently, phosphoric acid is also a useful electrolyte. Further, JP-A-55-28400
The mixed acid of sulfuric acid and phosphoric acid disclosed in the publication is also useful.

【0020】硫酸法は通常直流電流で処理が行われる
が、交流を用いることも可能である。硫酸の濃度5〜3
0重量%、20〜60℃の温度範囲で5〜250秒間電
解処理されて、表面に1〜10g/m2 の酸化皮膜が設
けられる。この電解液には、アルミニウムイオンが含ま
れていることが好ましい。さらにこのとき電流密度は1
〜20A/dm2 が好ましい。リン酸法の場合には、5〜
50重量%のリン酸濃度、30〜60℃の温度で、10
〜300秒間、1〜15A/dm2 の電流密度で処理され
る。
In the sulfuric acid method, the treatment is usually performed with a direct current, but an alternating current can be used. Sulfuric acid concentration 5-3
Electrolysis treatment is performed at 0% by weight in a temperature range of 20 to 60 ° C. for 5 to 250 seconds, and an oxide film of 1 to 10 g / m 2 is provided on the surface. The electrolyte preferably contains aluminum ions. At this time, the current density is 1
~20A / dm 2 is preferred. In the case of the phosphoric acid method, 5-
At a phosphoric acid concentration of 50% by weight and a temperature of 30 to 60 ° C., 10
300 seconds, is treated at a current density of 1 through 15A / dm 2.

【0021】また、更に必要に応じて米国特許第2,71
4,066号明細書や米国特許第3,181,461号明細書
に記載されている珪酸塩(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム)処理、米国特許第2,946,638号明細書に記
載されている弗化ジルコニウム酸カリウム処理、米国特
許第3,201,247号明細書に記載されているホスホモ
リブデート処理、英国特許第1,108,559号明細書に
記載されているアルキルチタネート処理、独国特許第1,
091,433号明細書に記載されているポリアクリル酸
処理、独国特許第1,134,093号明細書や英国特許第
1,230,447号明細書に記載されているポリビニルホ
スホン酸処理、特公昭44−6409号公報に記載され
ているホスホン酸処理、米国特許第3,307,951号明
細書に記載されているフィチン酸処理、特開昭58−1
6893号や特開昭58−18291号の各公報に記載
されている親水性有機高分子化合物と2価の金属との塩
による処理、特開昭59−101651号公報に記載さ
れているスルホン酸基を有する水溶性重合体の下塗りに
よって親水化処理を行ったもの、特開昭60−6435
2号公報に記載されている酸性染料による着色を行った
ものは、特に好ましい。その他の親水化処理方法として
は米国特許第3,658,662号明細書に記載されている
シリケート電着をも挙げることが出来る。また、砂目立
て処理及び陽極酸化後、封孔処理を施したものが好まし
い。かかる封孔処理は熱水及び無機塩または有機塩を含
む熱水溶液への浸漬ならびに水蒸気浴などによって行わ
れる。
Further, if necessary, US Pat. No. 2,71
The silicate (sodium silicate, potassium silicate) treatment described in US Pat. No. 4,066 and US Pat. No. 3,181,461 and the process described in US Pat. No. 2,946,638 are described. Potassium fluoride zirconate treatment, phosphomolybdate treatment described in U.S. Pat. No. 3,201,247, alkyl titanate treatment described in British Patent 1,108,559, German Patent No. 1,
No. 091,433, polyacrylic acid treatment, German Patent 1,134,093 and British Patent No.
1,230,447, polyvinylphosphonic acid treatment described in JP-B-44-6409, and U.S. Pat. No. 3,307,951. Phytic acid treatment, JP-A-58-1
No. 6,893 and JP-A-58-18291, the treatment with a salt of a hydrophilic organic polymer compound with a divalent metal, and the sulfonic acid described in JP-A-59-101651. Having been subjected to a hydrophilic treatment by undercoating of a water-soluble polymer having a group, JP-A-60-6435
Those colored with an acid dye described in JP-A No. 2 are particularly preferable. Other hydrophilic treatment methods include silicate electrodeposition described in U.S. Pat. No. 3,658,662. Further, after graining treatment and anodic oxidation, sealing treatment is preferable. Such a sealing treatment is performed by immersion in hot water and a hot aqueous solution containing an inorganic salt or an organic salt, a steam bath, or the like.

【0022】さらに、アルミニウム支持体には下塗りを
施してもよい。下塗りに用いられる化合物としては例え
ば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラ
ビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基
を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニル
ホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン
酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸および
エチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を
有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキ
ルリン酸およびグリセロリン酸などの有機リン酸、置換
基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホス
フィン酸、アルキルホスフィン酸およびグリセロホスフ
ィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニ
ンなどのアミノ酸類、およびトリエタノールアミンの塩
酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩、特
開昭59−101651号公報に記載されているスルホ
ン酸基を有する水溶性重合体、および特開昭60−64
352号公報に記載されている酸性染料等が好ましく用
いられる。この下塗層は、水、メタノール、エタノー
ル、メチルエチルケトンなどもしくはそれらの混合溶剤
に上記の化合物を溶解させ、支持体上に塗布、乾燥して
設けることができる。また、感光性平版印刷版の調子再
現性改良のために黄色染料を添加することもできる。下
塗層の乾燥後の被覆量は、2〜200mg/m2 が適当で
あり、好ましくは5〜100mg/m2 である。
Further, the aluminum support may be undercoated. Examples of the compound used for the undercoat include carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, phosphonic acids having an amino group such as 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid optionally having a substituent, naphthylphosphonic acid, and alkylphosphonic acid. Acids, organic phosphonic acids such as glycerophosphonic acid, methylene diphosphonic acid and ethylene diphosphonic acid, organic phosphoric acids such as phenylphosphoric acid, naphthyl phosphoric acid, alkyl phosphoric acid and glycerophosphoric acid which may have a substituent, substituents Having organic groups such as phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and hydroxyl groups such as triethanolamine hydrochloride. Water-soluble polymer having hydrochloride Min, a sulfonic acid group as described in JP-A-59-101651, and JP 60-64
Acid dyes and the like described in JP-A-352 are preferably used. This undercoat layer can be provided by dissolving the above compound in water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or the like, or a mixed solvent thereof, coating the support on a support, and drying. Further, a yellow dye can be added for improving the tone reproducibility of the photosensitive lithographic printing plate. The coating amount of the undercoat layer after drying is suitably from 2 to 200 mg / m 2 , and preferably from 5 to 100 mg / m 2 .

【0023】本発明に係わる感光性平版印刷版の感光層
には種々のものが含まれ、ジアゾ樹脂と疎水性樹脂から
なるネガ型感光性組成物、o−キノンジアジド化合物と
ノボラック樹脂からなるポジ型感光性組成物、付加重合
性不飽和モノマー、光重合開始剤及びバインダーとして
の有機高分子化合物からなる光重合性組成物又は分子中
に−CH=CH−CO−結合を有し、光架橋反応を起こ
す感光性樹脂を設けたものなどを挙げることができる。
ネガ型感光性組成物の代表的なものとしては、ジアゾ樹
脂と結合剤を含有するものが挙げられる。ジアゾ樹脂
は、芳香族ジアゾニウム塩と活性カルボニル基含有化合
物、例えばホルムアルデヒドとの縮合物で代表されるジ
アゾ樹脂である。上記ジアゾ樹脂としては、例えば、p
−ジアゾジフェニルアミン類とホルムアルデヒド、アセ
トアルデヒドなどのアルデヒドとの縮合物とヘキサフル
オロ燐酸塩またはテトラフルオロ硼酸塩との反応生成物
である有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂無機塩や、特公昭47
−1167号公報に記載されているような前記縮合物と
のスルホン酸塩類、例えばp−トルエンスルホン酸また
はその塩、プロピルナフタレンスルホン酸またはその
塩、ブチルナフタレンスルホン酸またはその塩、ドデシ
ルベンゼンスルホン酸またはその塩、2−ヒドロキシ−
4−メトキシベンゾフェノン−5−スルホン酸またはそ
の塩との反応生成物である有機溶媒可溶性ジアゾ樹脂有
機塩が挙げられる。特に、特開昭59−78340号公
報記載の6量体以上を20モル%以上含んでいる高分子
量ジアゾ化合物が好ましい。
The photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention includes various types, including a negative photosensitive composition comprising a diazo resin and a hydrophobic resin, and a positive photosensitive composition comprising an o-quinonediazide compound and a novolak resin. A photopolymerizable composition comprising a photosensitive composition, an addition polymerizable unsaturated monomer, a photopolymerization initiator, and an organic polymer compound as a binder, or a photocrosslinking reaction having -CH = CH-CO- bonds in the molecule; And the like provided with a photosensitive resin which causes the following.
A typical negative photosensitive composition includes a composition containing a diazo resin and a binder. The diazo resin is a diazo resin represented by a condensate of an aromatic diazonium salt and a compound containing an active carbonyl group, for example, formaldehyde. Examples of the diazo resin include, for example, p
An organic solvent-soluble inorganic salt of a diazo resin which is a reaction product of a condensate of diazodiphenylamines with an aldehyde such as formaldehyde or acetaldehyde and hexafluorophosphate or tetrafluoroborate;
Sulfonic acid salts with the condensate as described in JP-A-1167, for example, p-toluenesulfonic acid or a salt thereof, propylnaphthalenesulfonic acid or a salt thereof, butylnaphthalenesulfonic acid or a salt thereof, dodecylbenzenesulfonic acid Or a salt thereof, 2-hydroxy-
An organic solvent-soluble diazo resin organic salt which is a reaction product with 4-methoxybenzophenone-5-sulfonic acid or a salt thereof is exemplified. In particular, a high molecular weight diazo compound containing at least 20 mol% of a hexamer or more described in JP-A-59-78340 is preferable.

【0024】また、特開昭58−27141号公報に示
されているような3−メトキシ−4−ジアゾ−ジフェニ
ルアミンを4,4′−ビス−メトキシ−メチル−ジフェ
ニルエーテルで縮合させメシチレンスルホン酸塩とした
ものなども適当である。さらに、カルボキシル基、スル
ホン酸基、スルフィン酸基、リンの酸素酸基およびヒド
ロキシル基のうち少なくとも一つの基を有する芳香族化
合物と、ジアゾニウム化合物、好ましくは芳香族ジアゾ
ニウム化合物とを構造単位として含む共縮合体が望まし
い。結合剤として好ましいものは、酸含量0.1〜3.0 m
eq/g、好ましくは0.2〜2.0 meq/gであり、実質的
に水不溶性(すなわち、中性または酸性水溶液に不溶
性)で、皮膜形成性を有する有機高分子化合物である
が、アルカリ水溶液系現像液に溶解または膨潤すること
ができかつ前記の感光性ジアゾ樹脂の共存下で光硬化し
て上記現像液に不溶化または非膨潤化するものが好まし
い。尚、酸含量0.1 meq/g未満では現像が困難であ
り、3.0 meq/gを越えると現像時の画像強度が著しく
弱くなる。
Further, 3-methoxy-4-diazo-diphenylamine as disclosed in JP-A-58-27141 is condensed with 4,4'-bis-methoxy-methyl-diphenyl ether to form a mesitylene sulfonate. What is done is also suitable. Further, a copolymer containing at least one of a carboxyl group, a sulfonic acid group, a sulfinic acid group, an oxygen acid group of phosphorus, and a hydroxyl group, and a diazonium compound, preferably an aromatic diazonium compound, as structural units. Condensates are preferred. Preferred binders have an acid content of 0.1 to 3.0 m.
eq / g, preferably 0.2 to 2.0 meq / g, which is a substantially water-insoluble (ie, insoluble in a neutral or acidic aqueous solution) and film-forming organic polymer compound, Those which can be dissolved or swelled in an aqueous alkali-based developer and are photo-cured in the presence of the photosensitive diazo resin to make them insoluble or non-swellable in the developer are preferred. When the acid content is less than 0.1 meq / g, development is difficult, and when the acid content exceeds 3.0 meq / g, the image intensity during development is significantly reduced.

【0025】特に好適な結合剤としてはアクリル酸、メ
タクリル酸、クロトン酸またはマレイン酸を必須成分と
して含む共重合体、例えば特開昭50−118802号
公報に記載されている様な2−ヒドロキシエチルアクリ
レートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ア
クリロニトリルまたはメタクリロニトリル、アクリル酸
またはメタクリル酸および必要に応じて他の共重合可能
なモノマーとの多元共重合体、特開昭53−12090
3号公報に記載されている様な末端がヒドロキシ基であ
り、かつジカルボン酸エステル残基を含む基でエステル
化されたアクリル酸またはメタクリル酸、アクリル酸、
またはメタクリル酸および必要に応じて他の共重合可能
なモノマーとの多元共重合体、特開昭54−98614
号公報に記載されている様な芳香族性水酸基を末端に有
する単量体(例えばN−(4−ヒドロキシフェニル)メ
タクリルアミドなど)、アクリル酸またはメタクリル酸
および必要に応じて他の共重合可能なモノマーとの多元
共重合体、特開昭56−4144号公報に記載されてい
る様なアルキルアクリレート、アクリロニトリルまたは
メタクリロニトリルおよび不飽和カルボン酸よりなる多
元共重合体をあげることが出来る。この他、酸性ポリビ
ニルアルコール誘導体や酸性セルロース誘導体も有用で
ある。またポリビニルアセタールやポリウレタンをアル
カリ可溶化した特公昭54−19773号、特開昭57
−94747号、同60−182437号、同62−5
8242号、同62−123453号記載の結合剤も有
用である。さらに、特公平5−2227号公報に記載の
マレイミド基を側鎖に有する光網状化可能な重合体も有
用である。感光性平版印刷版の感光層におけるこれらの
ジアゾ樹脂と結合剤の含有量は、これら両者の総量を基
準にしてジアゾ樹脂3〜30重量%、結合剤は97〜7
0重量%が適当である。ジアゾ樹脂の含有量は少ない方
が感度は高いが3重量%より低下すると結合剤を光硬化
させるためには不十分となり現像時に光硬化膜が現像液
によって膨潤し膜が弱くなる。逆にジアゾ樹脂の含有量
が30重量%より多くなると感度が低くなり実用上難点
が出てくる。従って、より好ましい範囲はジアゾ樹脂5
〜25重量%で結合剤95〜75重量%である。
Particularly preferred binders include copolymers containing acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid or maleic acid as an essential component, for example, 2-hydroxyethyl as described in JP-A-50-118802. Multi-component copolymers of acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate, acrylonitrile or methacrylonitrile, acrylic acid or methacrylic acid and, if necessary, other copolymerizable monomers, JP-A-53-12090
Acrylic or methacrylic acid, acrylic acid, in which the terminal is a hydroxy group and esterified with a group containing a dicarboxylic acid ester residue as described in JP-A-3
Or a multi-component copolymer of methacrylic acid and, if necessary, another copolymerizable monomer, JP-A-54-98614.
No. 4,086,098, and a monomer having an aromatic hydroxyl group at the terminal thereof (for example, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, etc.), acrylic acid or methacrylic acid, and other copolymerizable if necessary. And a multi-component copolymer comprising an alkyl acrylate, acrylonitrile or methacrylonitrile and an unsaturated carboxylic acid as described in JP-A-56-4144. In addition, acidic polyvinyl alcohol derivatives and acidic cellulose derivatives are also useful. Japanese Patent Publication No. 54-19773, in which polyvinyl acetal or polyurethane is alkali-soluble,
Nos. -94747, 60-182437 and 62-5
The binders described in Nos. 8242 and 62-123453 are also useful. Further, a polymer having a maleimide group in the side chain and capable of photoreticulation described in JP-B-5-2227 is also useful. The content of the diazo resin and the binder in the photosensitive layer of the photosensitive lithographic printing plate is 3 to 30% by weight of the diazo resin and the binder is 97 to 7 based on the total amount of both.
0% by weight is suitable. When the content of the diazo resin is small, the sensitivity is high, but when the content is lower than 3% by weight, it is insufficient for photocuring the binder, and the photocured film swells with the developing solution during development, and the film becomes weak. Conversely, if the content of the diazo resin is more than 30% by weight, the sensitivity is lowered and practical difficulties arise. Therefore, a more preferable range is the diazo resin 5
-25% by weight and 95-75% by weight of binder.

【0026】ポジ型感光性組成物の感光性化合物として
は、o−キノンジアジド化合物が挙げられ、その代表と
してo−ナフトキノンジアジド化合物が挙げられる。o
−ナフトキノンジアジド化合物としては、特公昭43−
28403号公報に記載されている1,2−ジアゾナフ
トキノンスルホン酸クロライドとピロガロール−アセト
ン樹脂とのエステルであるものが好ましい。その他の好
適なオルトキノンジアジド化合物としては、米国特許第
3,046,120号および同第3,188,210号明細書中
に記載されている1,2−ジアゾナフトキノン−5−ス
ルホン酸クロリドとフェノール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステルがあり、特開平2−96163号公報、特
開平2−96165号公報、特開平2−96761号公
報に記載されている1,2−ジアゾナフトキノン−4−
スルホン酸クロリドとフェノール−ホルムアルデヒド樹
脂とのエステルがある。その他の有用なo−ナフトキノ
ンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され、
知られているものが挙げられる。たとえば、特開昭47
−5303号、同48−63802号、同48−638
03号、同48−96575号、同49−38701
号、同48−13354号、特公昭37−18015
号、同41−11222号、同45−9610号、同4
9−17481号公報、米国特許第2,797,213号、
同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,
573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,
825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,
345号、同第1,267,005号、第1,329,888
号、第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号
などの各明細書中に記載されているものをあげることが
できる。
The photosensitive compound of the positive photosensitive composition includes an o-quinonediazide compound, and a representative example thereof is an o-naphthoquinonediazide compound. o
-As a naphthoquinonediazide compound, JP-B-43-
Preferred is an ester of 1,2-diazonaphthoquinonesulfonic acid chloride and pyrogallol-acetone resin described in JP-A-28403. Other suitable orthoquinonediazide compounds include U.S. Pat.
There are esters of 1,2-diazonaphthoquinone-5-sulfonic acid chloride and phenol-formaldehyde resin described in 3,046,120 and 3,188,210. 96163, JP-A-2-96165, and JP-A-2-96661, 1,2-diazonaphthoquinone-4-
There are esters of sulfonic chloride and phenol-formaldehyde resin. Other useful o-naphthoquinonediazide compounds have been reported in numerous patents,
There are known ones. For example,
No.-5303, No.48-63802, No.48-638
No. 03, No. 48-96575, No. 49-38701
No. 48-13354, JP-B-37-18015
No. 41-11222, No. 45-9610, No. 4
No. 9-17481, U.S. Pat. No. 2,797,213,
No. 3,454,400, No. 3,544,323, No. 3,
No. 573,917, No. 3,674,495, No. 3,785,
No. 825, British Patent Nos. 1,227,602 and 1,251,
No. 345, No. 1,267,005, No. 1,329,888
No. 1,330,932, German Patent No. 854,890, and the like.

【0027】またo−ナフトキノンジアジド化合物を用
いずにポジ型に作用する感光性化合物として、例えば特
公昭56−2696号に記載されているオルトニトロカ
ルビノールエステル基を有するポリマー化合物も本発明
に使用することができる。更に、光分解により酸を発生
する化合物と、酸により解離する−C−O−C基又は−
C−O−Si 基を有する化合物との組合せ系も本発明に
使用することができる。
As a photosensitive compound which acts positively without using an o-naphthoquinonediazide compound, for example, a polymer compound having an orthonitrocarbinol ester group described in JP-B-56-2696 is also used in the present invention. can do. Further, a compound generating an acid by photolysis and a -COC group or-dissociated by the acid.
Combinations with compounds having a CO-Si group can also be used in the present invention.

【0028】例えば光分解により酸を発生する化合物と
アセタール又はO,N−アセタール化合物との組合せ
(特開昭48−89003号)、オルトエステル又はア
ミドアセタール化合物との組合せ(特開昭51−120
714号)、主鎖にアセタール又はケタール基を有する
ポリマーとの組合せ(特開昭53−133429号)、
エノールエーテル化合物との組合せ(特開昭55−12
995号)、N−アシルイミノ炭素化合物との組合せ
(特開昭55−126236号公報)、主鎖にオルトエ
ステル基を有するポリマーとの組合せ(特開昭56−1
7345号)、シリルエステル化合物との組合せ(特開
昭60−10247号)及びシリルエーテル化合物との
組合せ(特開昭60−37549号、特開昭60−12
1446号)などが挙げられる。
For example, a combination of a compound capable of generating an acid by photolysis with an acetal or an O, N-acetal compound (JP-A-48-90303), a combination with an orthoester or amide acetal compound (JP-A-51-120)
714), a combination with a polymer having an acetal or ketal group in the main chain (JP-A-53-133429),
Combination with enol ether compound (JP-A-55-12
No. 995), a combination with an N-acylimino carbon compound (JP-A-55-126236), a combination with a polymer having an orthoester group in the main chain (JP-A-56-1).
No. 7345), a combination with a silyl ester compound (JP-A-60-10247) and a combination with a silyl ether compound (JP-A-60-37549, JP-A-60-12).
No. 1446).

【0029】本発明に係わる感光性平版印刷版に使用す
る感光性物質としては、重合体主鎖又は側鎖に感光基と
して−CH=CH−CO−を含むポリエステル類、ポリ
アミド類、ポリカーボネート類のような感光性重合体を
主成分とするものも適している。例えば、特開昭55−
40415号に記載されているような、フェニレンジエ
チルアクリレートと水素添加したビスフェノールA及び
トリエチレングリコールとの縮合で得られる感光性ポリ
エステル、米国特許第2,956,878号に記載されてい
るような、シンナミリデンマロン酸等の(2−プロペニ
リデン)マロン酸化合物及び二官能性グリコール類から
誘導される感光性ポリエステル類等が挙げられる。
The photosensitive substance used in the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention includes polyesters, polyamides and polycarbonates containing -CH = CH-CO- as a photosensitive group in the polymer main chain or side chain. A polymer containing such a photosensitive polymer as a main component is also suitable. For example, JP-A-55-
Photosensitive polyesters obtained by condensation of phenylenediethyl acrylate with hydrogenated bisphenol A and triethylene glycol, as described in US Pat. No. 40415, such as described in US Pat. No. 2,956,878. Examples thereof include (2-propenylidene) malonic acid compounds such as cinnamylidenemalonic acid and photosensitive polyesters derived from bifunctional glycols.

【0030】さらに、感光性物質として、アジド基が直
接又はカルボニル基又はスルホニル基を介して芳香環に
結合している芳香族アジド化合物も挙げられる。例え
ば、米国特許第3,096,311号に記載されているよう
なポリアジドスチレン、ポリビニル−p−アジドベンゾ
アート、ポリビニル−p−アジドベンザール、特公昭4
5−9613号に記載のアジドアリールスルファニルク
ロリドと不飽和炭化水素系ポリマーとの反応生成物、又
特公昭43−21067号、同44−229号、同44
−22954号および同45−24915号に記載され
ているような、スルホニルアジドやカルボニルアジドを
持つポリマー等が挙げられる。さらにまた、本発明に係
わる感光性組成物に使用する感光性物質としては、付加
重合性不飽和化合物からなる光重合性組成物も使用する
ことができる。また電子写真方式の印刷版に用いられる
感光性組成物も本発明を適用できる。例えば、特開昭5
5−161250号に記載の電子写真を利用した印刷用
原板に用いられる電子供与性化合物、フタロシアニン系
顔料およびフェノール樹脂からなる感光性組成物が挙げ
られる。
Further, examples of the photosensitive substance include aromatic azide compounds in which an azide group is bonded to an aromatic ring directly or via a carbonyl group or a sulfonyl group. For example, polyazide styrene, polyvinyl-p-azidobenzoate, polyvinyl-p-azidobenzal, and JP-B-4 Sho 3, as described in U.S. Pat. No. 3,096,311.
Reaction products of azidoarylsulfanyl chlorides with unsaturated hydrocarbon polymers described in JP-B-5-9613, and JP-B-43-21067, JP-B-44-229, and JP-B-44-229;
And polymers having a sulfonyl azide or a carbonyl azide, as described in JP-A--22954 and JP-A-45-24915. Furthermore, as the photosensitive substance used in the photosensitive composition according to the present invention, a photopolymerizable composition comprising an addition-polymerizable unsaturated compound can also be used. The present invention can also be applied to a photosensitive composition used for an electrophotographic printing plate. For example, JP
JP-A-5-161250 describes a photosensitive composition comprising an electron-donating compound, a phthalocyanine-based pigment, and a phenol resin used for an electrophotographic printing plate.

【0031】感光性組成物は上記塗布溶剤に溶解し、親
水性表面を有するアルミニウム支持体上に乾燥塗布重量
が0.3〜5.0g/m2 となる様に、好ましくは0.5〜3.
5g/m2 となる様に塗布し乾燥して、感光性平版印刷
版を得ることができる。塗布する際の感光性組成物の固
形分濃度は1.0〜50重量%が適当であり、好ましくは
2.0〜30重量%が適当である。支持体上に感光性組成
物を塗布する方法としては従来公知の方法、たとえばロ
ールコーティング、バーコーティング、スプレーコーテ
ィング、カーテンコーティング、回転塗布等の方法を用
いることができる。塗布された感光性組成物溶液は50
〜150℃で乾燥させるのが好ましい。乾燥方法は、始
め温度を低くして予備乾燥した後、高温で乾燥させても
良いし、直接高温度で乾燥させても良い。
The photosensitive composition is dissolved in the above-mentioned coating solvent, and is preferably applied to an aluminum support having a hydrophilic surface in a dry coating weight of 0.3 to 5.0 g / m 2 , preferably 0.5 to 5.0 g / m 2. 3.
It is applied to a concentration of 5 g / m 2 and dried to obtain a photosensitive lithographic printing plate. The solid content concentration of the photosensitive composition at the time of coating is suitably 1.0 to 50% by weight, preferably
2.0-30% by weight is suitable. As a method for applying the photosensitive composition on the support, a conventionally known method, for example, a method such as roll coating, bar coating, spray coating, curtain coating, and spin coating can be used. The applied photosensitive composition solution is 50
Drying at ~ 150 ° C is preferred. As a drying method, after preliminarily drying at a lower temperature, drying may be performed at a high temperature or directly at a high temperature.

【0032】感光層上には相互に独立して設けられた突
起物により構成されるマット層を設けることが好まし
い。マット層の目的は密着露光におけるネガ画像フィル
ムと感光性平版印刷版との真空密着性を改良することに
より、真空引き時間を短縮し、さらに密着不良による露
光時の微小網点のつぶれを防止することである。マット
層の塗布方法としては、特開昭55−12974号公報
に記載されているパウダリングされた固体粉末を熱融着
する方法、特開昭58−182636号公報に記載され
ているポリマー含有水をスプレーし、乾燥させる方法な
どがあり、いずれの方法をも用いうる。マット層は実質
的に有機溶剤を含まない水性現像液に溶解するか、ある
いはこれにより除去可能な物質から構成されることが望
ましい。粗面化されたアルミニウム板上に塗布され乾燥
された感光性組成物層を有する感光性平版印刷版は、画
像露光後アルカリ水溶液系現像液で現像することにより
レリーフ像が得られる。露光に好適な光源としては、カ
ーボンアーク灯、水銀灯、キセノンランプ、メタルハラ
イドランプ、ストロボ、紫外線、レーザ光線などが挙げ
られる。
It is preferable to provide a mat layer composed of protrusions provided independently of each other on the photosensitive layer. The purpose of the mat layer is to improve the vacuum adhesion between the negative image film and the photosensitive lithographic printing plate in contact exposure, thereby shortening the vacuuming time and preventing the collapse of minute dots during exposure due to poor adhesion. That is. As a method for applying the mat layer, a method for thermally fusing powdered solid powder described in JP-A-55-12974 and a polymer-containing water described in JP-A-58-182636 are used. And drying. Any of these methods can be used. The mat layer is desirably composed of a substance which is dissolved in an aqueous developer substantially free of an organic solvent or which can be removed thereby. A photosensitive lithographic printing plate having a photosensitive composition layer coated and dried on a roughened aluminum plate can be developed with an aqueous alkali solution-based developer after image exposure to obtain a relief image. Light sources suitable for exposure include carbon arc lamps, mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, strobes, ultraviolet rays, laser beams and the like.

【0033】ネガ感光性平版印刷版の現像に使用される
アルカリ水溶液系現像液としては、特開昭51−774
01号、同51−80228号、同53−44202号
や同55−52054号の各公報に記載されているよう
な現像液であって、 pH=8〜13、水が75重量%以
上含まれるものが好ましい。必要により水に対する溶解
度が常温で10重量%以下の有機溶媒(ベンジルアルコ
ール、エチレングリコールモノフェニルエーテル)、ア
ルカリ剤(トリエタノールアミン、ジエタノールアミ
ン、モノエタノールアミン、リン酸ナトリウム、炭酸ナ
トリウム)、アニオン界面活性剤(芳香族スルホン酸
塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、アルキルナフタレン
スルホン酸塩、脂肪酸塩、アルキル硫酸エステル塩)、
ノニオン界面活性剤(ポリオキシエチレンアルキルエー
テル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンブロックポリ
マー)、汚れ防止剤(亜硫酸ナトリウム、スルホピラゾ
ロンのナトリウム塩)や硬水軟化剤(エチレンジアミン
テトラ酢酸四ナトリウム塩、ニトロ三酢酸三ナトリウム
塩)を加えることができる。しかし、有機溶媒等を含有
すると、作業時の毒性、臭気等の衛生上の問題、火災、
ガス爆発等の安全性の問題、泡の発生等の作業性の問
題、廃液による公害等の問題、コストの問題等が発生す
るため、実質上有機溶媒を含まないものが更に好まし
い。このような、実質上有機溶媒を含まない水性アルカ
リ現像液として、例えば特開昭59−84241号、特
開昭57−192952号及び特開昭62−24263
号公報等に記載されている、ポジ型平版印刷版を画像露
光後、現像する際に用いられる現像液組成物を使用する
ことが出来る。
An alkaline aqueous solution developer used for developing a negative photosensitive lithographic printing plate is disclosed in JP-A-51-774.
No. 01, No. 51-80228, No. 53-44202 and Nos. 55-52054, each having a pH of 8 to 13 and containing 75% by weight or more of water. Are preferred. If necessary, an organic solvent (benzyl alcohol, ethylene glycol monophenyl ether) having a solubility in water of 10% by weight or less at room temperature, an alkali agent (triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, sodium phosphate, sodium carbonate), anionic surface activity Agents (aromatic sulfonate, dialkyl sulfosuccinate, alkyl naphthalene sulfonate, fatty acid salt, alkyl sulfate salt),
Nonionic surfactants (polyoxyethylene alkyl ether, polyoxyethylene alkyl aryl ether,
A polyoxyethylene polyoxypropylene block polymer), a stain inhibitor (sodium sulfite, sodium salt of sulfopyrazolone) and a water softener (tetrasodium ethylenediaminetetraacetate, trisodium nitrotriacetate) can be added. However, if organic solvents are contained, toxicity during work, hygiene problems such as odor, fire,
Since there is a problem of safety such as gas explosion, a problem of workability such as generation of bubbles, a problem of pollution by waste liquid, a problem of cost, and the like, those containing substantially no organic solvent are more preferable. Examples of such an aqueous alkaline developer containing substantially no organic solvent include, for example, JP-A-59-84241, JP-A-57-192952 and JP-A-62-22633.
JP-A No. 6-264, etc., a developer composition used when developing a positive-working lithographic printing plate after image exposure to light can be used.

【0034】本発明に係わる感光性平版印刷版は、特開
昭54−8002号、同55−115045号、同59
−58431号の各公報に記載されている方法で製版処
理しても良い。即ち、現像処理後、水洗してから不感脂
化処理、またはそのまま不感脂化処理、または酸を含む
水溶液での処理、または酸を含む水溶液で処理後、不感
脂化処理を施してもよい。さらに、この種の感光性平版
印刷版の現像工程では処理量に応じてアルカリ水溶液が
消費されアルカリ濃度が減少したり、あるいは、自動現
像機の長時間運転により空気によってアルカリ濃度が減
少するため処理能力が低下するが、その際、特開昭54
−62004号公報に記載のように補充液を用いて処理
能力を回復させてもよい。この場合、米国特許第4,88
2,246号に記載されている方法で補充することが好ま
しい。また、上記のような製版処理は、特開平2−70
54号、同2−32357号の各公報に記載されている
ような自動現像機で行うことが好ましい。なお現像液処
理後、必要であれば画像部の不要部分を市販のネガ用消
去液で消去するか石棒で擦りとることもできる。
The photosensitive lithographic printing plate according to the present invention is disclosed in JP-A-54-8002, JP-A-55-115045 and JP-A-59-15045.
The plate-making process may be performed by a method described in each publication of JP-A-58431. That is, after the development processing, it may be subjected to a desensitization treatment after washing with water, a desensitization treatment as it is, a treatment with an aqueous solution containing an acid, or a treatment with an aqueous solution containing an acid, followed by a desensitization treatment. Further, in the development process of this type of photosensitive lithographic printing plate, the alkali aqueous solution is consumed depending on the processing amount, and the alkali concentration is reduced. The capacity is reduced.
The processing capacity may be restored using a replenisher as described in JP-A-62004. In this case, U.S. Pat.
It is preferred to replenish by the method described in 2,246. Further, the plate making process as described above is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2-70.
It is preferably carried out by an automatic developing machine as described in JP-A Nos. 54 and 2-32357. After the processing with the developing solution, if necessary, unnecessary portions of the image area can be erased with a commercially available negative erasing solution or rubbed with a stone stick.

【0035】ポジ型感光性平版印刷版の現像に使用され
る現像液は、実質的に有機溶剤を含まないアルカリ性の
水溶液が好ましく、具体的には珪酸ナトリウム、珪酸カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リ
チウム、第三リン酸ナトリウム、第二リン酸ナトリウ
ム、第三リン酸アンモニウム、第二リン酸アンモニウ
ム、メタ珪酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、重炭酸ナト
リウム、炭酸カリウム、重炭酸カリウム、アンモニア水
などのような水溶液が適当であり、それらの濃度が0.1
〜10重量%、好ましくは0.5〜5重量%になるように
添加される。これらの中でもケイ酸カリウム、ケイ酸リ
チウム、ケイ酸ナトリウム等のケイ酸アルカリを含有す
る現像液は、印刷時の汚れが生じにくいため好ましく、
ケイ酸アルカリの組成がモル比で [SiO2] /〔M〕=0.
5〜2.5(ここに [SiO2] 、〔M〕はそれぞれ、SiO2
モル濃度と総アルカリ金属のモル濃度を示す。)であ
り、かつSiO2を0.8〜8重量%含有する現像液が好まし
く用いられる。また該現像液中には、例えば亜硫酸ナト
リウム、亜硫酸カリウム、亜硫酸マグネシウムなどの水
溶性亜硫酸塩や、レゾルシン、メチルレゾルシン、ハイ
ドロキノン、チオサリチル酸等を添加することができ
る。これらの化合物の現像液中における好ましい含有量
は0.002〜4重量%で、好ましくは、0.01〜1重量
%である。
The developer used for developing the positive photosensitive lithographic printing plate is preferably an alkaline aqueous solution containing substantially no organic solvent, and specifically, sodium silicate, potassium silicate, sodium hydroxide, hydroxide Potassium, lithium hydroxide, sodium phosphate tribasic, sodium phosphate dibasic, ammonium phosphate tribasic, ammonium phosphate dibasic, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium bicarbonate, potassium carbonate, potassium bicarbonate, aqueous ammonia Aqueous solutions such as are suitable and their concentration is 0.1.
-10% by weight, preferably 0.5-5% by weight. Among these, potassium silicate, lithium silicate, a developer containing an alkali silicate such as sodium silicate is preferable because stains during printing hardly occur,
When the composition of the alkali silicate is [SiO 2 ] / [M] = 0.
5 to 2.5 (where [SiO 2 ] and [M] indicate the molar concentration of SiO 2 and the molar concentration of the total alkali metal, respectively) and contain 0.8 to 8% by weight of SiO 2 . Developing solution is preferably used. In addition, water-soluble sulfites such as sodium sulfite, potassium sulfite, and magnesium sulfite, resorcin, methylresorcin, hydroquinone, thiosalicylic acid, and the like can be added to the developer. The content of these compounds in the developer is preferably 0.002 to 4% by weight, and more preferably 0.01 to 1% by weight.

【0036】また現像液中に、特開昭50−51324
号公報、同59−84241号公報に記載されているよ
うなアニオン性界面活性剤、及び両性界面活性剤、特開
昭59−75255号公報、同60−111246号公
報及び同60−213943号公報等に記載されている
ような非イオン性界面活性剤のうち少なくとも一種を含
有させることにより、または特開昭55−95946号
公報、同56−142528号公報に記載されているよ
うに高分子電解質を含有させることにより、感光性組成
物への濡れ性を高めたり、現像の安定性(現像ラチチュ
ード)を高めたりすることができ、好ましく用いられ
る。かかる界面活性剤の添加量は0.001〜2重量%が
好ましく、特に0.003〜0.5重量%が好ましい。さら
に該ケイ酸アルカリのアルカリ金属として、全アルカリ
金属中、カリウムを20モル%以上含むことが現像液中
で不溶物発生が少ないため好ましく、より好ましくは9
0モル%以上、最も好ましくはカリウムが100モル%
の場合である。
Further, in a developing solution, JP-A-50-51324 is used.
JP-A-59-84241 and JP-A-59-84241 and JP-A-59-75255, JP-A-60-111246 and JP-A-60-213943. Or at least one of the nonionic surfactants described in JP-A-55-95946 and JP-A-56-142528. Is preferably used because it can increase the wettability to the photosensitive composition and the development stability (development latitude). The addition amount of such a surfactant is preferably 0.001 to 2% by weight, and particularly preferably 0.003 to 0.5% by weight. Further, as the alkali metal of the alkali silicate, it is preferable that potassium is contained in an amount of 20 mol% or more in all the alkali metals, since the generation of insolubles in the developer is small, and more preferably 9%.
0 mol% or more, most preferably 100 mol% of potassium
Is the case.

【0037】更に本発明のベンダー部クリーナーを適用
する平版印刷版の現像液には、若干のアルコール等の有
機溶媒や特開昭58−190952号公報に記載されて
いるキレート剤、特公平1−30139号公報に記載さ
れているような金属塩、有機シラン化合物などの消泡剤
を添加することができる。本発明に係わる感光性平版印
刷版は、特開昭54−8002号、同55−11504
5号、特開昭59−58431号の各公報に記載されて
いる方法で製版処理してもよいことは言うまでもない。
即ち、現像処理後、水洗してから不感脂化処理、または
そのまま不感脂化処理、または酸を含む水溶液での処
理、または酸を含む水溶液で処理後不感脂化処理を施し
てもよい。さらに、この種の感光性平版印刷版の現像工
程では、処理量に応じてアルカリ水溶液が消費されアル
カリ濃度が減少したり、あるいは、自動現像液の長時間
運転により空気によってアルカリ濃度が減少するため処
理能力が低下するが、その際、特開昭54−62004
号に記載のように補充液を用いて処理能力を回復させて
もよい。この場合、米国特許第4,882,246号に記載
されている方法で補充することが好ましい。また、上記
のような製版処理は、特開平2−7054号、同2−3
2357号に記載されているような自動現像機で行うこ
とが好ましい。
Further, the developing solution of the lithographic printing plate to which the bender part cleaner of the present invention is applied may contain a small amount of an organic solvent such as alcohol, a chelating agent described in JP-A-58-190952, An antifoaming agent such as a metal salt or an organic silane compound described in JP-A-30139 can be added. The photosensitive lithographic printing plate according to the present invention is disclosed in JP-A-54-8002 and JP-A-55-1504.
It is needless to say that the plate-making process may be performed by the methods described in JP-A-5-58431 and JP-A-59-58431.
That is, after the development processing, it may be subjected to a desensitization treatment after washing with water, a desensitization treatment as it is, a treatment with an aqueous solution containing an acid, or a desensitization treatment after treating with an aqueous solution containing an acid. Furthermore, in the development process of this type of photosensitive lithographic printing plate, the alkali aqueous solution is consumed depending on the processing amount, and the alkali concentration is reduced, or the alkali concentration is reduced by air due to long-time operation of the automatic developing solution. Although the processing capacity is reduced, in that case, JP-A-54-62004
The processing capacity may be recovered by using a replenisher as described in the above item. In this case, it is preferable to replenish by the method described in U.S. Pat. No. 4,882,246. Further, the plate making process as described above is described in JP-A-2-7054 and 2-3.
It is preferable to use an automatic developing machine as described in JP-A No. 2357.

【0038】また、本発明に係わる感光性平版印刷版を
画像露光し、現像し、水洗又はリンスしたのちに、不必
要な画像部の消去を行なう場合には、特公平2−132
93号公報に記載されているような消去液を用いること
が好ましい。更にまた、感光性平版印刷版を画像露光
し、現像し、水洗又はリンスし、所望により消去作業を
し、水洗したのちにバーニングする場合には、バーニン
グ前に特公昭61−2518号、同55−28062
号、特開昭62−31859号、同61−159655
号の各公報に記載されているような整面液で処理するこ
とが好ましい。
In the case where the photosensitive lithographic printing plate according to the present invention is subjected to image exposure, development, washing or rinsing, and then unnecessary erasing of an image portion is performed, Japanese Patent Publication No. 2-132
It is preferable to use an erasing liquid as described in JP-A-93-93. Furthermore, when the photosensitive lithographic printing plate is image-exposed, developed, rinsed or rinsed, erased if desired, and washed with water, then burned. -28062
JP-A-62-31859 and JP-A-61-159655.
It is preferable to carry out treatment with a surface conditioning liquid as described in each of the publications.

【0039】合成例1 4−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩(純度99.5%)2
9.4gを25℃にて、96%硫酸70mlに徐々に添加
し、かつ20分間攪拌した。パラホルムアルデヒド(純
度92%)3.26gを約10分かけて徐々に添加し、該
混合物を30℃にて、4時間攪拌し、縮合反応を進行さ
せた。なお、上記ジアゾ化合物とホルムアルデヒドとの
縮合モル比は1:1である。反応生成物は攪拌しつつ、
氷水2l中に注ぎ込み、塩化ナトリウム130gを溶解
した冷濃厚水溶液で処理した。沈澱を吸引濾過により、
回収し、部分的に乾燥した固体を1lの水に溶解し、濾
過し、氷で冷却し、かつ、ヘキサフルオロリン酸カリ2
3gを溶解した水溶液で処理した。沈澱を濾過して回収
し、かつ風乾して高分子量ジアゾ化合物(1)30.3g
を得た。得られたジアゾ化合物(1)をメチルセロソル
ブ中で1−フェニル−3−メチル−5−ピラゾロンとカ
ップリングさせて、色素を得た。この色素の重量平均分
子量(低角度測定光散乱光度計を使用)は、16,500
であり、これは約45量体に相当した。又、この色素を
ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)に
て分子量分布の測定をしたところ、10量体以上が約3
0モル%含まれていた。
Synthesis Example 1 4-diazodiphenylamine sulfate (purity 99.5%) 2
9.4 g at 25 ° C. were slowly added to 70 ml of 96% sulfuric acid and stirred for 20 minutes. 3.26 g of paraformaldehyde (purity: 92%) was gradually added over about 10 minutes, and the mixture was stirred at 30 ° C. for 4 hours to allow a condensation reaction to proceed. The condensation molar ratio between the diazo compound and formaldehyde is 1: 1. While stirring the reaction product,
The mixture was poured into 2 liters of ice water and treated with a cold concentrated aqueous solution in which 130 g of sodium chloride was dissolved. The precipitate is filtered off with suction.
The recovered, partially dried solid is dissolved in 1 liter of water, filtered, cooled with ice and washed with potassium hexafluorophosphate 2
The solution was treated with an aqueous solution in which 3 g was dissolved. The precipitate was collected by filtration and air-dried to obtain 30.3 g of the high molecular weight diazo compound (1).
I got The obtained diazo compound (1) was coupled with 1-phenyl-3-methyl-5-pyrazolone in methyl cellosolve to obtain a dye. The weight average molecular weight of the dye (using a low angle light scattering photometer) is 16,500.
Which corresponded to about 45-mers. The molecular weight distribution of this dye was measured by gel permeation chromatography (GPC).
0 mol% was contained.

【0040】[0040]

【実施例】次に実施例により本発明を説明する。 実施例1 99.5重量%アルミニウムに、銅を0.01重量%、チタ
ンを0.03重量%、鉄を0.3重量%、ケイ素を0.1重量
%含有するJISA1050アルミニウム材の厚み0.3
0mm圧延板を、400メッシュのパミストン(共立窯業
製)の20重量%水性懸濁液と、回転ナイロンブラシ
(6,10−ナイロン)とを用いてその表面を砂目立て
した後、よく水で洗浄した。これを15重量%水酸化ナ
トリウム水溶液(アルミニウム4.5重量%含有)に浸漬
してアルミニウムの溶解量が5g/m2 になるようにエ
ッチングした後、流水で水洗した。さらに、1重量%硝
酸で中和し、次に0.7重量%硝酸水溶液(アルミニウム
0.5重量%含有)中で、陽極時電圧10.5ボルト、陰極
時電圧9.3ボルトの矩形波交番波形電圧(電流比r=0.
90、特公昭58−5796号公報実施例に記載されて
いる電流波形)を用いて160クーロン/dm2 の陽極時
電気量で電解粗面化処理を行った。水洗後、35℃の1
0重量%水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬して、アルミ
ニウム溶解量が1g/m2 になるようにエッチングした
後、水洗した。次に、50℃30重量%の硫酸水溶液中
に浸漬し、デスマットした後、水洗した。
Next, the present invention will be described by way of examples. Example 1 Thickness of a JIS A1050 aluminum material containing 99.5% by weight of aluminum, 0.01% by weight of copper, 0.03% by weight of titanium, 0.3% by weight of iron, and 0.1% by weight of silicon. .3
The surface of a 0 mm rolled plate is grained using a 400 mesh 20% aqueous suspension of pamistone (manufactured by Kyoritsu Ceramics) and a rotating nylon brush (6,10-nylon), and then thoroughly washed with water. did. This was immersed in a 15% by weight aqueous sodium hydroxide solution (containing 4.5% by weight of aluminum), etched so that the amount of aluminum dissolved was 5 g / m 2 , and washed with running water. Further, the mixture was neutralized with 1% by weight nitric acid, and then a 0.7% by weight aqueous nitric acid solution (aluminum)
0.5% by weight), a rectangular alternating voltage having a voltage at the anode of 10.5 volts and a voltage at the cathode of 9.3 volts (current ratio r = 0.
90, was subjected to electrolytic surface roughening treatment in an anode electricity quantity of 160 coulomb / dm 2 using a current waveform) disclosed in Japanese Example No. Sho 58-5796. After washing with water,
It was immersed in a 0% by weight aqueous sodium hydroxide solution, etched so that the amount of aluminum dissolved was 1 g / m 2 , and washed with water. Next, it was immersed in a 50% by weight aqueous solution of 30% by weight sulfuric acid, desmutted, and washed with water.

【0041】さらに、35℃の硫酸20重量%水溶液
(アルミニウム0.8重量%含有)中で直流電流を用い
て、多孔性陽極酸化皮膜形成処理を行った。すなわち電
流密度13A/dm2 で電解を行い、電解時間の調節によ
り陽極酸化皮膜重量2.7g/m2とした。ジアゾ樹脂と
結合剤を用いたネガ型感光性平版印刷版を作成する為
に、この支持体を水洗後、70℃のケイ酸ナトリウムの
3重量%水溶液に30秒間浸漬処理し、水洗乾燥した。
以上のようにして得られたアルミニウム支持体は、マク
ベスRD920反射濃度計で測定した反射濃度は0.30
で、中心線平均粗さは0.58μmであった。次に上記支
持体にメチルメタクリレート/エチルアクリレート/2
−アクリルアミド−2−メチルプロパンスルホン酸ナト
リウム共重合体(平均分子量約6万)(モル比50/3
0/20)の1.0重量%水溶液をロールコーターにより
乾燥後の塗布量が0.05g/m2 になるように塗布し
た。さらに、下記感光液−1をバーコーターを用いて塗
布し、110℃で45秒間乾燥させた。乾燥塗布量は2.
0g/m2 であった。
Further, a porous anodic oxide film forming treatment was carried out in a 20% by weight aqueous sulfuric acid solution (containing 0.8% by weight of aluminum) at 35 ° C. using a direct current. That is, electrolysis was performed at a current density of 13 A / dm 2 , and the weight of the anodic oxide film was adjusted to 2.7 g / m 2 by adjusting the electrolysis time. To prepare a negative photosensitive lithographic printing plate using a diazo resin and a binder, the support was washed with water, immersed in a 3% by weight aqueous solution of sodium silicate at 70 ° C. for 30 seconds, washed with water and dried.
The aluminum support obtained as described above had a reflection density of 0.30 measured with a Macbeth RD920 reflection densitometer.
And the center line average roughness was 0.58 μm. Next, methyl methacrylate / ethyl acrylate / 2
-Acrylamide-2-methylpropanesulfonic acid sodium copolymer (average molecular weight: about 60,000) (molar ratio: 50/3)
(0/20) was applied by a roll coater such that the coating amount after drying was 0.05 g / m 2 . Further, Photosensitive Solution 1 shown below was applied using a bar coater, and dried at 110 ° C. for 45 seconds. The dry coating amount is 2.
It was 0 g / m 2 .

【0042】 感光液−1 合成例1のジアゾ樹脂 0.50g 結合剤−1 5.00g スチライトHS−2(大同工業(株)製) 0.10g ビクトリアピュアブル−BOH 0.15g トリクレジルホスフェート 0.50g ジピコリン酸 0.20g FC−430(3M社製界面活性剤) 0.05g 溶剤 1−メトキシ−2−プロパノール 25.00g 乳酸メチル 12.00g メタノール 30.00g メチルエチルケトン 30.00g 水 3.00gPhotosensitive solution-1 Diazo resin of Synthesis Example 1 0.50 g Binder-1 5.00 g Stylite HS-2 (manufactured by Daido Kogyo Co., Ltd.) 0.10 g Victoria Pureable-BOH 0.15 g Tricresyl phosphate 0 .50 g Dipicolinic acid 0.20 g FC-430 (surfactant manufactured by 3M) 0.05 g Solvent 1-methoxy-2-propanol 25.00 g Methyl lactate 12.00 g Methanol 30.00 g Methyl ethyl ketone 30.00 g Water 3.00 g

【0043】結合剤−1は、2−ヒドロキシエチルメタ
クリレート/アクリロニトリル/メチルメタクリレート
/メタクリル酸共重合体(重量比50/20/26/
4、平均分子量75,000、酸含量0.4meq/g ) の
水不溶性、アルカリ水可溶性の皮膜形成性高分子であ
る。スチライトHS−2(大同工業(株)製)は、結合
剤よりも感脂性の高い高分子化合物であって、スチレン
/マレイン酸モノ−4−メチル−2−ペンチルエステル
=50/50(モル比)の共重合体であり、平均分子量
は約100,000であった。このようにして得られた
0.3mm、幅800mmのコイル状の感光性平版印刷版を幅
796mmに、連続してスリットした。さらに長さ560
mmに連続してカットした。
Binder-1 was 2-hydroxyethyl methacrylate / acrylonitrile / methyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (weight ratio 50/20/26 /
4. A water-insoluble, alkali-water-soluble film-forming polymer having an average molecular weight of 75,000 and an acid content of 0.4 meq / g). Stylite HS-2 (manufactured by Daido Kogyo Co., Ltd.) is a polymer compound having higher oil sensitivity than a binder, and styrene / mono-4-methyl-2-pentyl maleate = 50/50 (molar ratio). )), And had an average molecular weight of about 100,000. Obtained in this way
A coiled photosensitive lithographic printing plate having a width of 0.3 mm and a width of 800 mm was continuously slit into a width of 796 mm. Plus 560
mm.

【0044】カットしたシート状の感光性平版印刷版を
画像露光し、800H(富士写真フイルム(株)製自動
現像機)でDN−3C(富士写真フイルム(株)製アル
カリ水溶液系現像液)を水で1:1に希釈した液にて現
像し、製版部にFN−2(富士写真フイルム(株)製ガ
ム液)を水で1:1に希釈した液を塗り、乾燥した。得
られた平版印刷版を、上下2辺の端部から内側に2cm
の位置でベンダーにより折り曲げて、ベンダー部を作製
した。ベンダー部上面に、ヒドロキシプロピルエーテル
化澱粉(置換度0.05)を10g、85重量%リン酸水
溶液1g及び純水89gを混合して得られた本発明のベ
ンダー部クリーナーを、モルトンロールで乾燥重量が0.
1g/m2 になるように塗布した。この印刷版を、オフ
セット輪転印刷機にて、阪田インキ(株)の新聞用イン
キと東洋インキ(株)の東洋アルキー湿し水を用いて、
100,000枚/時のスピードで20,000枚印刷
した。印刷版のベンダー部に対応する印刷紙面に汚れは
発生しなかった。
The cut sheet-shaped photosensitive lithographic printing plate is image-exposed, and DN-3C (alkaline aqueous solution developer manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) is applied with 800H (automatic developing machine manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.). Development was carried out with a liquid diluted 1: 1 with water, and a solution prepared by diluting FN-2 (a gum solution manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) 1: 1 with water was applied to the plate making section and dried. Place the obtained lithographic printing plate 2 cm inward from the upper and lower edges.
It was bent at a position by a bender to produce a bender part. On the upper surface of the bender part, a bender part cleaner of the present invention obtained by mixing 10 g of hydroxypropyl etherified starch (substitution degree 0.05), 1 g of an 85% by weight phosphoric acid aqueous solution and 89 g of pure water is dried with a Molton roll. Weight is 0.
Coating was performed so as to be 1 g / m 2 . This printing plate was printed on a rotary offset printing press using newspaper ink from Sakata Ink Co., Ltd. and Toyo Alky fountain solution from Toyo Ink Co., Ltd.
20,000 sheets were printed at a speed of 100,000 sheets / hour. No stain occurred on the printing paper surface corresponding to the bender section of the printing plate.

【0045】実施例2〜11 実施例1と同様にして得られた平版印刷版に、表1に示
されるベンダー部クリーナーをそれぞれ実施例1と同様
に塗布した。その後、実施例1と同様に印刷を行った。
いずれのベンダー部クリーナーを使用した平版印刷版も
ベンダー部に対応する紙面に汚れは発生していなかっ
た。
Examples 2 to 11 The lithographic printing plates obtained in the same manner as in Example 1 were coated with the respective bender cleaners shown in Table 1 in the same manner as in Example 1. Thereafter, printing was performed in the same manner as in Example 1.
No lithographic printing plates using any of the bender cleaners were stained on the paper corresponding to the bender.

【0046】[0046]

【表1】 実施例 ベンダー部クリーナーの組成 2 ヒドロキシエチルエーテル化澱粉(置換度0.08) 10g 純水 89g リン酸(85重量%水溶液) 1g 3 ヒドロキシプロピルエーテル化澱粉(置換度0.05) 5g カルボキシメチルセルロース 5g (セロゲン1A、第一工業薬品(株)製) 純水 89g リン酸(85重量%水溶液) 1g 4 ヒドロキシプロピルエーテル化澱粉(置換度0.05) 5g アラビアガム(30重量%水溶液) 5g 純水 89g リン酸(85重量%水溶液) 1g 5 ヒドロキシプロピルエーテル化澱粉(置換度0.05) 5g 焙焼デキストリン 5g 純水 89g リン酸(85重量%水溶液) 1g 6 ヘキサメタリン酸ナトリウム 10g 純水 89g リン酸(85重量%水溶液) 1g 7 ヘキサメタリン酸ナトリウム 1g 純水 98g リン酸(85重量%水溶液) 1g 8 フイチン酸(30重量%水溶液) 15g 純水 85g 9 フイチン酸(30重量%水溶液) 3g 純水 97g 10 ヒドロキシプロピルエーテル化澱粉(置換度0.05) 5g ヘキサメタリン酸ナトリウム 5g 純水 89g リン酸(85重量%水溶液) 1g 11 ヒドロキシプロピルエーテル化澱粉(置換度0.05) 5g フイチン酸(30重量%水溶液) 3g 純水 92g Example 1 Composition of bender part cleaner 2 Hydroxyethyl etherified starch (degree of substitution 0.08) 10 g Pure water 89 g Phosphoric acid (85 wt% aqueous solution) 1 g 3 Hydroxypropyl etherified starch (degree of substitution 0.05) 5 g Carboxymethyl cellulose 5 g (Cellogen 1A, manufactured by Daiichi Kogyo Yakuhin Co., Ltd.) Pure water 89 g Phosphoric acid (85% by weight aqueous solution) 1 g 4 Hydroxypropyl etherified starch (substitution degree 0.05) 5 g Gum arabic (30% by weight aqueous solution) 5 g Pure water 89 g Phosphorus Acid (85 wt% aqueous solution) 1 g 5 Hydroxypropyl etherified starch (degree of substitution 0.05) 5 g Roasted dextrin 5 g Pure water 89 g Phosphoric acid (85 wt% aqueous solution) 1 g 6 Sodium hexametaphosphate 10 g Pure water 89 g Phosphoric acid (85 wt%) Aqueous solution) 1g 7 Sodium hexametaphosphate 1g Pure 98 g phosphoric acid (85 wt% aqueous solution) 1 g 8 phytic acid (30 wt% aqueous solution) 15 g pure water 85 g 9 phytic acid (30 wt% aqueous solution) 3 g pure water 97 g 10 hydroxypropyl etherified starch (degree of substitution 0.05) 5 g hexametaphosphoric acid Sodium 5g Pure water 89g Phosphoric acid (85% by weight aqueous solution) 1g 11 Hydroxypropyl etherified starch (degree of substitution 0.05) 5g Phytic acid (30% by weight aqueous solution) 3g Pure water 92g

【0047】比較例1 実施例1と同様にして平版印刷版を製造した。その後、
実施例1と同様にベンダー部を作成し、ベンダー部クリ
ーナーを塗布しないものを比較例1とし、実施例1と同
様に印刷を行った。比較例1の印刷版のベンダー部に対
応する印刷紙面には、線状の汚れが発生した。
Comparative Example 1 A lithographic printing plate was produced in the same manner as in Example III. afterwards,
A bender portion was prepared in the same manner as in Example 1, and the one without the bender portion cleaner was designated as Comparative Example 1, and printing was performed in the same manner as in Example 1. In the printing paper corresponding to the bender portion of the printing plate of Comparative Example 1, a linear stain was generated.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上の実施例から明らかな様に、本発明
のベンダー部クリーナーを塗布した印刷版では、そのベ
ンダー部に対応する印刷紙面に汚れが発生しない。
As is clear from the above embodiments, the printing plate coated with the bender cleaner of the present invention does not cause stain on the printing paper surface corresponding to the bender.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 親水性有機高分子化合物、ヘキサメタリ
ン酸及びその塩、並びにフイチン酸及びその塩からなる
群から選ばれる少なくとも一種の化合物を含有すること
を特徴とする平版印刷版用ベンダー部クリーナー。
1. A lithographic printing plate bender cleaner comprising at least one compound selected from the group consisting of a hydrophilic organic polymer compound, hexametaphosphoric acid and salts thereof, and phytic acid and salts thereof.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101407144B (en) 2007-09-26 2011-09-28 富士胶片株式会社 Fountain solution composition for lithographic printing and heat-set offset rotary printing process
JP2015208884A (en) * 2014-04-24 2015-11-24 西研グラフィックス株式会社 Press plate processing device

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CN101407144B (en) 2007-09-26 2011-09-28 富士胶片株式会社 Fountain solution composition for lithographic printing and heat-set offset rotary printing process
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