JPH1195262A5

JPH1195262A5 - 表示装置及びその作製方法並びに表示装置を用いた電子機器

Info

Publication number: JPH1195262A5
Application number: JP1997273452A
Authority: JP
Filing date: 1997-09-20
Publication date: 2005-05-19
Anticipated expiration: 2017-09-20

Claims

マトリクス状の画素電極と、前記画素電極に接続された第１のアクティブ素子を有する画素マトリクスを有する表示部と、光電変換素子と、前記光電変換素子に接続された第２のアクティブ素子を有するセンサ部とが同一基板上に設けられ、
前記光電変換素子は、第１の電極と、前記第１の電極上に形成された光電変換層と、前記光電変換層上に形成された第２の電極とを有し、
前記センサ部には、前記第２の電極上に保護膜が設けられていることを特徴とする表示装置。
絶縁膜上に設けられたマトリクス状の画素電極と、前記画素電極に接続された第１のアクティブ素子を有する画素マトリクスを有する表示部と、光電変換素子と、前記光電変換素子に接続された第２のアクティブ素子を有するセンサ部とが同一基板上に設けられ、
前記光電変換素子は、第１の電極と、前記第１の電極上に形成された光電変換層と、前記光電変換層上に形成された第２の電極とを有し、
前記センサ部には、前記第２の電極上に保護膜が設けられており、
前記保護膜は、前記表示部の前記絶縁膜と同一の膜であることを特徴とする表示装置。
請求項１または２において、前記保護膜は、樹脂膜であることを特徴とする表示装置。
請求項１または２において、前記保護膜は、無機絶縁材料からなる膜と、前記無機絶縁材料からなる膜上に形成された樹脂膜とからなることを特徴とする表示装置。
請求項３または４において、前記樹脂膜は、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド、アクリルのいずれか一であることを特徴とする表示装置。
請求項１乃至５のいずれか一において、前記第１のアクティブ素子及び前記第２のアクティブ素子は、それぞれＴＦＴであることを特徴とする表示装置。
請求項６において、前記第１のアクティブ素子及び前記第２のアクティブ素子は、それぞれトップゲイト型であることを特徴とする表示装置。
請求項６において、前記第１のアクティブ素子及び前記第２のアクティブ素子は、それぞれボトムゲイト型であることを特徴とする表示装置。
請求項１乃至８のいずれか一において、前記画素電極の配列と、前記光電変換素子の配列とが同じであることを特徴とする表示装置。
請求項１乃至９のいずれか一に記載の表示装置を用いることを特徴とする電子機器。
請求項１０において、前記電子機器は、ノート型パソコン、テレビ電話、携帯情報端末機のいずれか一であることを特徴とする電子機器。
マトリクス状の画素電極と、前記画素電極に接続された第１のアクティブ素子を有する画素マトリクスを有する表示部と、光電変換素子と、前記光電変換素子に接続された第２のアクティブ素子を有するセンサ部とが同一の基板上に設けられた表示装置の作製方法であって、
前記基板上に、前記第１のアクティブ素子及び前記第２のアクティブ素子を形成し、
前記第１のアクティブ素子及び前記第２のアクティブ素子を覆う第１の絶縁膜を形成し、
前記第１の絶縁膜上に導電膜を形成し、
前記導電膜をパターニングして、前記第２のアクティブ素子に接続する第１の電極を形成し、
前記第１の電極上に光電変換層を形成し、
前記光電変換層上に透明導電膜からなる第２の電極を形成し、
前記第１の絶縁膜及び前記第２の電極上に第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に前記画素電極を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
マトリクス状の画素電極と、前記画素電極に接続された第１のアクティブ素子を有する画素マトリクスを有する表示部と、光電変換素子と、前記光電変換素子に接続された第２のアクティブ素子を有するセンサ部とが同一の基板上に設けられた表示装置の作製方法であって、
前記基板上に、前記第１のアクティブ素子及び前記第２のアクティブ素子を形成し、
前記第１のアクティブ素子及び前記第２のアクティブ素子とを少なくとも覆う第１の絶縁膜を形成し、
前記第1の絶縁膜上に導電膜を形成し、
前記導電膜をパターニングして、前記第１のアクティブ素子を遮光する遮光膜と前記第２のアクティブ素子に接続する第１の電極とを形成し、
前記第１の電極上に光電変換層を形成し、
前記光電変換層上に透明導電膜からなる第２の電極を形成し、
前記第１の絶縁膜、前記遮光膜、及び前記第２の電極上に第２の絶縁膜を形成し、
前記第２の絶縁膜上に前記画素電極を形成することを特徴とする表示装置の作製方法。
請求項１２または１３において、前記第２の絶縁膜によって前記第２のアクティブ素子を保護することを特徴とする表示装置の作製方法。
請求項１２乃至１４のいずれか一において、前記第２の絶縁膜は、樹脂膜であることを特徴とする表示装置の作製方法。
請求項１２乃至１４のいずれか一において、前記第２の絶縁膜は、無機絶縁材料からなる膜と、前記無機絶縁材料からなる膜上に形成された樹脂膜とからなることを特徴とする表示装置の作製方法。
請求項１５または１６において、前記樹脂膜は、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド、アクリルのいずれか一であることを特徴とする表示装置の作製方法。