JPS58100127A - ネガ型複写材料及び複写方法 - Google Patents

ネガ型複写材料及び複写方法

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JPS58100127A
JPS58100127A JP19842881A JP19842881A JPS58100127A JP S58100127 A JPS58100127 A JP S58100127A JP 19842881 A JP19842881 A JP 19842881A JP 19842881 A JP19842881 A JP 19842881A JP S58100127 A JPS58100127 A JP S58100127A
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JP
Japan
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negative
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diazo
component
photopolymer
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JP19842881A
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English (en)
Inventor
Shuhei Shiraishi
白石 修平
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Ricoh Co Ltd
Original Assignee
Ricoh Co Ltd
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Publication date
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は、紫外線照射により密着焼付けを施すだけで種
々の色調のポジ染料画像を形成するに有用なネガ型複写
材料及びその複写7J払に関する。 従来より、光によってカップリング反応を起して発色す
る光発色成分と、光反応後溶剤に対して溶解性がなくな
るフォトポリマーを利用してネガ原稿からポジ画像を形
成する複写方法が知られている。該複写方法において各
種のネガ型複写材料が実用に供せられている。例えば、
支持体上に77+トボリマーと、染料、顔料等の着色剤
を金高する感光■を設けた複写材料、支持体上に着色剤
をバインダー中に分散して下引きし、その上に7オトボ
リマ一層を積層した複写材料が挙げられるが、該複写材
料を用いて画像を形成するには、ネガ原稿を複写材料に
密着して焼付は処理を8!すことによって7オトボリマ
ーの硬化部(鱈光部)と未硬化部(非露光部)を形成し
、次いで未露光部のフォトポリマー、着色剤を溶媒で除
去する。又、支持体上に無色、或いは、はとんど・無色
の7オトボリマー震を設けた複写材料も知られており、
この複写材料の場合には、複写材料に原稿を密着して焼
付は後、非露光部の床砂化フォトポリマーを溶剤で除去
し、露光部を染料液で着色する。しかしながら、これら
はいずれも焼付は段階では、可視画像とはならず現像段
階で始めて可視化されることから、焼付11時の露光量
が適切かどうかは現像後でないと判らない。ぞの為、焼
付31時に画像の11度を見ながら露に”闇を調整する
ということは不可能であり満足の行く画質が得にくい。 特に作業効率を上げる為、焼き溜めしてからまとめて現
siする場合には問題となる。又、複写材料保管中に生
ずるカプリも現像後でないと知ることができず、途中で
チェックすることが困難である。更に、感光層中に7オ
トボリマーの感光域の光を吸収する黒、黄色、茶色等の
着色剤が含まれる場合には、感度が損われる。前記複写
材料の欠点を補う複写材料として特公昭51−4045
2号公報には焼付は時に発色して可視画像を形成しうる
アジド化合物を用いた複写材料が記載されているが、こ
れは、焼付は時の画像濃度を見ながら露光mのチェック
をある程麿は可能としたものの、満足の行くものではな
く、その上、得られる画像の色調も褐色に限られるとい
う欠点を有する。画像色調を所望の色調に調整する為、
色素、顔料を用いた場合には、前述の如く感度低下を来
たす。 従って、本発明は以」の如き従来の欠点を解決したもの
であり、より詳細には、焼付は段階で可視画像を形成し
、その都度露光量のチェックを可能とし、且つ、広範囲
の色調の画像を可能としたネガ型複写材料及びその複写
り法を配係するものである。又更には、保管中に生じた
カブリも容易に検出できる複写材料を提供するものであ
る。 即ち本発明は、光発色成分としてアジド化合物とカップ
リング成分とを含み、且つ光硬化成分としてネガ型フォ
トポリマーを含むことを特徴とするネガ型複写材料を用
いることにより前述の次点を一挙に解決したものである
。該本発明のネガ型複写材料を用いて画像を形成するに
は、ネガ型複写材料にネガ原稿を密着して紫外線照射に
J、り密着焼付は処理を施してアゾ染料画像を形成し、
次いで非露光部分の前記発色成分と、ネガ型フォトポリ
マニとを膨潤又は、溶解jることによって除去する。前
記発色成分と7オトボリマーは一つの層−共存されても
よく、又発色成分で下引き層を設け、その上に74トボ
リマ一層を設けた二層タイプとしてもよい。 以下本発明を詳述づると、□支持体としては、紙、プラ
スチックフィルム、プラスチック板、合成紙、布、金属
等従来より公知の物が何れも使用できる。 アジド化合物とし□ては、ジアゾ型複写材料に通常用い
られている以下の如きジアゾ化合物のアジ化物を用いる
ことができる。 4−ジアゾ−N  、N  −ジメチルアニリン、4−
ジアゾ−N  、N−ジエチルアニリン、4−ジアゾ−
N−エチル−N −β −ヒドロキシエチルアニリン、
4−ジアゾ−N  、N −ビス−β −ヒドロキシエ
チルアニリン、4−ジアゾ−N 〜メチルーN −β 
−ヒドロ4゛シ丁プルアニリン、4−ジアゾ−N−Jチ
ル−N −β −ヒドロキシエチルアニリン、4−ジア
ゾ−N  、N−ジエチルアニリン、4−ジアゾ−2−
クロロ −N  、N  −ジエチルアニリン、4−ジ
アゾ−2−メヂルーN  、N  −ジエチルアニリン
、4−ジアゾ−2−アイオド−N  、N  −ジエチ
ルアニリン、4−ジアゾ−2−トリフルオDメブルーN
  、N  −ジエチルアニリン、4−ジアゾ−N−エ
チル−N −ベンジルアニリン、4−ジアゾ−N −メ
チル−N −ベンジルアニリン、4−ジアゾ〜2゜5−
ジブ1〜キシ−N  、N−ジエチルアニリン、4−ジ
アゾ−2,5−ジェトキシ−N −ベンゾイルアニリン
、4−ジアゾ−2,5−ジ1ト4−シーN−TチルーN
−ベンゾイルアニリン、4−ジアゾ−2,5−シェドオ
キシ−N −ベンゾイルメチル7ニリン、J 翫 4−ジアゾ−2−クロロ −5−メトオキシ−N−ベン
ゾイルアニリン、バラジアゾジフェニルアミン、4−ジ
アゾ−2,5,4° −トリエトオー1シジフエニルア
ミン、4−ジアゾ−2,5,4° −1〜リ−[ト第4
シジフェニル、4,4゛  −ビスジアゾ−2,2’ 
、5.5’jt−ラヒドロオキシシフIニルメチン、ビ
スシア/ −3,3’  −ジクロロ−5,5′  −
ジメトオキシベンブジン、4−ジアゾ−2,5−ジメト
オキシフェニル1プル→Jルフ1イド、4−ジアゾ−2
,5−ジエ1へオキシ−4′ 〜メチルシフIニルサル
ファイド、4−ジアゾ−2,5−ジメトオキシーN′″
−フェニルモルフォリン、4−ジアゾ−2,5−シェド
オキシ−N−フェニルモルフォリン、4−ジアゾ−2,
5−ジブ
【〜A1シーシー−フェニルモルフォリン、4
−ジアゾ−2−j)。°″7−N −7”=Rvf−i
f:、)Lyl”リン、4ジアゾ−N −フェニルピペ
リジン、4ジアゾ−N −フェニルピロリジン、4−ジ
アゾ−2,5−n−ブ1〜オキシ、−N  −フェニル
ピペリジン、4−ジアゾ−2−メチル−N −フェニル
ピロリジン、4−ジアゾ−2−メトオキシ−N −フェ
ニルピロリジン等のアジド化合物或いはジアジド化合物
。 又、前記アジド化合物と組合わせて使里されるカップリ
ング成分も以下の如き通常のジアゾ型複写材料に用いら
れるものをいずれも勢用することができる。 レゾルシン、フロログルシン、レゾルシンモノヒドロオ
キシエチルエーテル、2−ヒドロオキジメチルフェノー
ル、β −(2−ヒドロオキシフにル)−プロピオニッ
クアシッド、2.5−ツメfルー4−(N −ジメチル
アミツメデル) −フェノール、メタヒドロオキシ−ア
セトアニリド、2゜5−ジメチル−4−モル7−vリノ
メチルフ1ノール、2−メチル−5−イソプロピル−4
−モルフォリノメチルフェノール、3.3− .5−ト
リヒドロオキシジフェニル、2.2−.4.4′  −
テトラヒドロオキシジフェニル、2.2−.4.4 ′
  −テトラヒトOオキシジフエニルサルフ1イド、園
−ヒドロキシフェニル尿素、2.3−ジオキシプフタレ
ン、β −ナフトール、α−ノ°フトール、1,6−シ
オキシナフ4タレン、2.7−ジAキシナフタレン、2
.3−ジオキシナフタレン−6−スルフォン酸、2−ナ
フトール−3,6−ジスルフオン酸、2.1−ジヒドロ
第4シナフタレン−3,6−ジスルフオン酸、2.7−
ジヒドロオキシナフタレン−3−スルフォン酸、2−ヒ
ドロオキシ−3−ナフトエ酸、2−ヒドロオキシ−3−
ナフトエ酸 −N −β −ヒト0オキシ1チルアマ、
イド、2−ヒト0711シー3−ナフトエ酸−N  、
N  −ビス−β −ヒドロオキシエチルアマイド、2
−とドロオキシ −3−ナフトエ酸−N−n−プロとル
モルフオリノアマイド、2−ヒドロオキシ−3−ナフト
]−酸アニリド、2−ヒドロオキシ−3−ナフ+、■1
111−2′  −メチルアニリド、8−ヒドロオキシ
−12−ノ′フトJ−酸−ヒドロオキシエチルアマイド
、1−ナフトール−3−(N  −β −ヒドロオキシ
Jル、)−スルフオン7マイド、1−フェニル−3−メ
チルピラゾロン、1−フェニル−3−カルボキシビラ、
ゾ[lン、シアノアセトアニリド、シアノアセ1〜セル
フtリン等。 光硬化成分としてのネガ型)4]−ポリマーは光反応前
は有機溶剤、水に溶解し、光反応後不溶化するものでな
Iプればならずジアゾニウム塩類、アジド化合物、シン
ナモイル基を分子内にイjする化°合物等以下に例示し
た多くの感光性ポリマーが用いられる。このうもジアゾ
ニウム塩類としては、p−ジアゾシフIニルアミンのバ
1ノホルムアルデヒド縮合物、p−キノンジアジド、p
−イミノ:1ノンジアジド等がある。またアジド化合物
としては、p−フェニレンビスアジド、pアジドベンゾ
フェノン、4.4=  −ジアジドベンゾフェノン、4
.4′  −ジアジドジフェニルメタン、4.4′−ジ
アジドスチルベン、4.4′  −ジアジドカルコン、
2.6−ジー(4′  −アジドベンザル)シクロヘキ
サノン、2.トリ ・(4′  −アジドベンザル)−
4−メチルシクロヘキサノン、1−アジドピレン、4,
4′  −ジアジドスチルベン−2,2=  −ジスル
11〜ン酸ナトリウム、1,5−ジ1シトナフタレン−
・3,7〜ジスルボン酸ナトリウム等があり、これらの
アジド化合物のうち有機溶剤可溶タイプのものは天然ゴ
ム、合成ゴム、環化ゴム、ノボラック樹脂等と混合され
て用いられる。又、水溶性タイプのものはポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン、シアヒドンアクリル
アミド、メチルセルL】−ス、ビニルアルコールとマレ
イン酸共重合体、ビニルフルコールとアクリルアミド共
重合体、水溶性ポリビニルブチラールと混合されて用い
られる。又、分子中にアジド基をもつポリマーの例とし
てはポリアジド安息6酸ヒニル、ポリアジドフタル鍍ビ
ニル、ポリビニルアジドベンザールアセタールなどがあ
る。 シンプモイル基を感光基とするフォトポリマーとしては
ポリ桂皮酸ビニル、ポリビニルアルコールのシンナミリ
デン酢酸ニスデルg!導体があり、具体例としてはポリ
ビニルシンナミリデンアセテート、ポリビニルシンナメ
ートシンナミリγン1セテート、ポリビニル力ルプエト
キシメブルカルバメートシンナミリデンアセテート、ポ
リビニルアセテートシンナミリデンアセテートなどがあ
る。その他アクリロイル基を有するもの、アークジルア
ミド類、アクリレート類、ス1リルビリジニウム基を有
するもの、スヂリルケトン基を有するもの等多数のもの
が挙げられる。 前記成分の他、本発明感光■には更にバインダーが用い
られるかでの例としては、ポリどニルアルコール キシメチルセルロース、ヒト[14シブ0ビルUルロー
ス、メチルセルロース、エチルセル□−ス、セルロース
7セデート、ヒル[1−スプ[JビA夾−ト、セルロー
スブチレート、セ゛ルaースナイトレート、ポリ酢酸ビ
ニル、ポリスプレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリ
デン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸−■スアル、ボ
メタクリル酸エステル、W#醸ビニル/塩化ビニル共−
合物、ポリエチレン、エチレン/酢酸ビニル几重合物、
スチレン/アクリル酸エステル共重合物、酢酸ビニル/
クロトン酸共重合物、スルシン/マレイン酸共重合物等
水、アルカリ水溶液又は溶剤可溶性のバインダーなら何
れでも使用できる。但しバインダの選択は使用するフォ
トポリマー及び現像液によって選択する必要がある。例
えば現像液に水を用いるならば、水ra竹のバインダー
を土としく用い、補助として適度な耐水性を付与するた
めに水不溶性のバインダーや他の耐水化剤、例えばメラ
ミン、ホルマリン等を用いる。その他の添加剤としては
発色促進のためアルカリ物質を用いることもできる。 本発明のネガ型複写材料の作成において、)Aトポリア
ーとアジド化合物とカップリング成分を同一層に含有せ
しめる一屑タイブの場合にはこれらの成分を溶解するW
j媒(必要に応じて混合溶媒を用いる)に溶解して感光
液を調製し、支持体−[に塗布、乾燥する。塗布量とし
ては特に限定しく【いが通常は乾燥後の厚さが2〜10
μf?度となるようにするのがよい。又、フォトポリマ
ーと発色成分を別々の岡に含有せしめる二唐タイプの場
合はまず光発色筒用の液をWA製して支持体上に塗布、
乾燥1゛る。塗布−としては特に限定しないが、好まし
くは乾燥後の厚さで1〜5gとするのがよい。次いでネ
ガ型の7オトボリマー液をlltJL、光発色層の」−
に塗布、乾燥する。この場合フォトポリマー液塗布時に
、光発色層が溶解しないように光発色層のバインダー組
成を7オトボリマー液の溶媒に溶解しにくいJ、うなも
のを選ぶ必要がある。フォトポリマ一層の塗布量として
は特に限定しないが、乾燥後の厚さが2〜10μとなる
ようにするのがよい。 このようにして作成した本発明のネガ型複写材料を用い
て画像を形成するには透明又は半透明のネガWt稿を複
写材料に密着して紫外線を照射する。この焼付は工程で
、非露光部の7オI〜ポリマーは溶剤に対しUF8解す
るt9質を保持し、光発色成分も発色しない。一方露光
部のフォトポリマ=は硬化して溶剤不溶性になり、光発
色成分番,を発色する。 次いで現像液(フォトポリマー及び光発色成分の種類に
より、水、アルカリ水溶液又は有機溶媒タイプの適宜の
ものが選択使用されるが)によって非露光部のフォトポ
リマーと未発色の光発色成分とを洗い流すことによ−)
【鮮明なポジamが得られる。iXtの工程の通り、本
発明品は焼付番ノ■程で発色11i11が現れ、この時
点で露光過不足が判別できる。その為作業性がよく、父
露光不罫による失敗もない。 以下本発明を実施例をもって説明する。 実施例1 サンドマット加工した厚さ 106μのポリ1ステルフ
イルムのマット加工面に次の組成からなる感光液を塗布
してネガ型複写材料を得た。塗布量は乾燥後の膜厚で4
μであった。 1−?シトピレン        2重量部レゾルシン
           1重量部フJノールノボラック
樹脂   10重摺部メブルエチルケトン      
50重量部透明なネガ原稿を重ねて負空プリンター(ケ
ミカルランプ付)で密着し、1分間紫外線を照射したと
ころ、褐色のポジ画像が現れた。次いでこれを苛性ソー
ダの1%水溶液の入ったバットに約1分間浸漬したとこ
ろ、非露光部が溶解し、より鮮明な褐色のポジ画像が得
られた。 実施例2 5%のトリクロル酢酸水溶液で処理した厚さ10011
のポリエステルフィルムに次の組成からなる感光液を塗
布してネガ型複写材料を19k。 塗布−は乾燥後の膜厚で5μであった。 4−アジド−N 、N − ジエチルアニリン     1ψ一部 2.3−ジヒドロ士シナフタレン  11aH!1ポリ
ケイ皮酸ビニル      2呼量部シクロへ↑サノン
       301一部メチルエブルクトン    
  20重1部透明なネガ原稿を密着させ^圧水銀灯で
2分間照射したところ、青紫色のポジ画像が佇られた。 次いでこれをトリクレンで処理したところ非露光部が溶
解して鮮明な青紫色のポジl!1iIIlが得られた。 実施例3 実施例2と同様に処理したポリ1ス1ルフイルムに次の
組成の光発色層液を塗布して、まず光発色層を段番ノた
。塗布量は乾燥後の厚味で3μであった。 4−アジド;N  、N− ジエチルアニリン   1重量部 2.3−ジヒド【コキシtフタレン   1重量部セル
ロースアヒテートプチレート5重量部、、Lヂルヒロソ
ルプ       50重間部更に光発色層上に以下の
組成の光硬化層液を塗布して光硬化層を設【ノだ。塗布
量は乾燥後の厚味で5μであった。 ポリケイ皮酸ビニル       2ψmsクロロペン
恨ン        15重1部トル」ン      
     35重量部この様にしで作成したネガ型複写
材料を実施例2と同様にしてネガ原稿を複写したところ
、実施例2と同様の優れた結束が17られた。 実施例4 合成紙1ボFP110(玉子油化合成紙F株〕製)に次
の組成からなる液を塗布して光発色層を段1だ。塗tI
j lは乾燥後の厚味で2μであった。 4.4′  〜ジアジドスプルペンー2,2−−ジスル
ホン酸ナトリウム  1重量部ポリビニルアルコール(
クン化度99%、平均重合111700)    3中
伊部ポリ酢酸ビニルエマルジョン (固形分50%)    2重量部 ノロ0グルシン         1重1部水    
                   5oΦ争部更
に、この光発色層の上に次の組成の液を甲布して光硬化
層を設けた。塗布量は乾燥後の厚味で4μであった。 ポリビニルアルコール(ケン化度80.5%、!均1合
度500)   1oo1f[tβ −オキシ1デル メタクリレート    100fP1部エチレングリコ
ール ツメタクリレーt−”    5fpHS部ベンゾイン
イソプロピル エーテル    2.5重学部 水                       8
oφ嶋部ネガ原稿を密着させて紫外線を照射(^圧水銀
灯で約1分)したところ黒褐色のポジ画像が得られた。 これを更に水道水をスポンジにっ1ノ(表面をふいたと
ころ、Jl露光部が膨潤溶解し合成紙の白い面が出(、
より鮮明なポジ画像が1り ら れ lこ 。 特許出願人  株式会社  リコー 代理人    弁理士 小松 秀臣

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)  光発色成分としてアジド化合物とカップリン
    グ成分とを含み、且つ光硬化成分としてネガ型フォトポ
    リマーを含むことを特徴とするネガ型複写材料。
  2. (2)  光発色成分としてアジド化合物とカップリン
    グ成分とを含み、且つ光硬化成分としてネガ型フォトポ
    リマーを含むネガ型複写材料にネガ原稿を密着して紫外
    線照射により密着焼付4J処理を施してアゾ染料画像を
    形成し、次いで非露光部分の前記発色成分と、ネガ型フ
    ォトポリマーとを膨潤又は、溶解することによって除去
    することを特徴とする複写方法。
JP19842881A 1981-12-11 1981-12-11 ネガ型複写材料及び複写方法 Pending JPS58100127A (ja)

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