JPS58100700A - 表面処理装置に於ける表面処理方法 - Google Patents
表面処理装置に於ける表面処理方法Info
- Publication number
- JPS58100700A JPS58100700A JP20073781A JP20073781A JPS58100700A JP S58100700 A JPS58100700 A JP S58100700A JP 20073781 A JP20073781 A JP 20073781A JP 20073781 A JP20073781 A JP 20073781A JP S58100700 A JPS58100700 A JP S58100700A
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- JP
- Japan
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- line
- time
- objects
- speed
- main
- Prior art date
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- Granted
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Landscapes
- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
不発明はメッキその他の弐面処理方法に関し、その目的
は表向処理の工程、処理時間等が異なっても同一の処理
ツインを使用して処理できるようになしえものでめる。
は表向処理の工程、処理時間等が異なっても同一の処理
ツインを使用して処理できるようになしえものでめる。
従来メッキ処理等に於てはメッキの機態に応じて使用す
る処理液中７？！ｒ僧円での処理時間、処理工程が異な
る。このためそのメッキに応じた工ａｔその都度岨み合
せて−る。しかし４埋によってはある工程では長＃ｌｊ
５の処理ｔｌｌ、他の工程では短時間で処理が完了する
場合がある。このような場合でも被処颯物金同−ライｙ
でタクト送、すするため被処理物の長時間処理を要する
工程に合わせて移送する必要がある。このため短時間で
処理が完了する工程でも長時間の処理を行うので光ｌ４
理能力に限界があり非能率であシ、しかもラインは処理
工程に応じて長くし九シ短かくしたシする等ライン長を
調整する必要がある。
る処理液中７？！ｒ僧円での処理時間、処理工程が異な
る。このためそのメッキに応じた工ａｔその都度岨み合
せて−る。しかし４埋によってはある工程では長＃ｌｊ
５の処理ｔｌｌ、他の工程では短時間で処理が完了する
場合がある。このような場合でも被処颯物金同−ライｙ
でタクト送、すするため被処理物の長時間処理を要する
工程に合わせて移送する必要がある。このため短時間で
処理が完了する工程でも長時間の処理を行うので光ｌ４
理能力に限界があり非能率であシ、しかもラインは処理
工程に応じて長くし九シ短かくしたシする等ライン長を
調整する必要がある。
本発明はこれにｆｆｉみて基本的なラインを固定式とし
、この基不ラインに於て九理工程一応じて附属的ライン
ｔ−並列的にｉみ合わせることにより必要なる処理工程
の処理時間を容易に調整でき、共生ツインの変更を行う
ことなく所望の石塊を行うようになしたるもので、以下
不発明を図示の央滝例に基づいて説明する。
、この基不ラインに於て九理工程一応じて附属的ライン
ｔ−並列的にｉみ合わせることにより必要なる処理工程
の処理時間を容易に調整でき、共生ツインの変更を行う
ことなく所望の石塊を行うようになしたるもので、以下
不発明を図示の央滝例に基づいて説明する。
図に於てＡはぺ画処理の王ツインで、この一部に４ｉ１
石壇物の供給の処理後の排出を行う供給排出位置１を設
け、この主ラインはループ状に形成され供給−出位Ｔｔ
１よ）供給される被処理物はバーレルに収納されあるい
はハンガー等に出画されて順次タタト送多にて移送され
るが、この主ツインＡＫ沿ってその処理工程に応じて各
種の処理液中洗浄水等を満たした複数の僧２及び３を配
設すると共に処理時間が変更されるしかも比較的長い処
理時間を要する処理液槽３はツインの長手方向に長い櫂
とし、被処理物を該槽に浸し良状態で移送できるように
なす、またこの処理液槽５は主ラインの送り方向と平行
して補助ラインＢ又はＣが形成される。この補助ライン
Ｂ、Ｃもループ状となってお９、このラインの一部が主
ラインＡと一定距離の関平行となるようにしかも同じ逃
埋液槽円に被処理物を浸し良状態で２インＡよりライン
Ｂ又はＣ１あるいはこの反対方向への移乗を行えるよう
になすと共に主ラインでは一定運度でタクト送９がなさ
れるが補助２インＢ、Ｃではこの移送速度を可変式とす
るが、この可変は王うイ′ンの速度の最小公倍数で割シ
切れる敏となるようにし、これにて両ツインへの被処理
物の移乗がスムーズに行えるようになす・この補助ライ
ン８１Ｇを設ける位置は！＆理によって適当な位置に定
められるが、その数は図示の夷Ｊ！ｌｆ１では主ツイン
とし九が補助ラインを三ライン以上とすることも可能で
ある。また主フィンＡにはその一部にバイパスラインＤ
を分岐しである距離だけ平行して設け、主ライン貴とパ
イパスライン肯とでは異なった処理が行えるようになす
・ 而して主ラインの供給排出位［１にて供給排出ラインＥ
が主ツインの最小公倍数で割９切れる連ラインＡ＠へ被
処理物が供給されると主ラインＡのタクト送夛にて被処
理物は主ラインに沿って順次処理液槽間を移送され所望
の表面処理が行なわれる。そして主ラインにて予めＩ＆
建され九り壇が行なわれるが、処理時間、工１１等が変
る場合でも主ラインはそのままで処理時間の異なる櫂に
於て補助フィンＢ％Ｃｔ用いる。この時主ラインの送Ｇ
ｊ［ｆｒ！−足でも補助ライン８１Ｇの移送時間を主フ
ィンの最小公倍数で１ｊｌｌｌｌＤ切れる数となるよう
にｍｓする仁とによシ補助ラインを有する債での処理時
間を調整できるものとなる。従って主ツインでの組み誉
え等を必要とせず、またバイパスツインの使用にて異な
った処理をも行える。即ち供ａｓｔｈ処ａ物がランダム
に供給されてもこの被処虐物毎にその処理法をコンピュ
ータにて記憶指示を与えるようにすれば順次所定の処理
が行えるものとなる。さらに補助ライン主ラインへの移
乗がその送り速度を最小公倍数にて割プ切れる数となる
ようにして可１１．ｕできるようになして−るため速度
調整しても円滑に行える利点がある。
石壇物の供給の処理後の排出を行う供給排出位置１を設
け、この主ラインはループ状に形成され供給−出位Ｔｔ
１よ）供給される被処理物はバーレルに収納されあるい
はハンガー等に出画されて順次タタト送多にて移送され
るが、この主ツインＡＫ沿ってその処理工程に応じて各
種の処理液中洗浄水等を満たした複数の僧２及び３を配
設すると共に処理時間が変更されるしかも比較的長い処
理時間を要する処理液槽３はツインの長手方向に長い櫂
とし、被処理物を該槽に浸し良状態で移送できるように
なす、またこの処理液槽５は主ラインの送り方向と平行
して補助ラインＢ又はＣが形成される。この補助ライン
Ｂ、Ｃもループ状となってお９、このラインの一部が主
ラインＡと一定距離の関平行となるようにしかも同じ逃
埋液槽円に被処理物を浸し良状態で２インＡよりライン
Ｂ又はＣ１あるいはこの反対方向への移乗を行えるよう
になすと共に主ラインでは一定運度でタクト送９がなさ
れるが補助２インＢ、Ｃではこの移送速度を可変式とす
るが、この可変は王うイ′ンの速度の最小公倍数で割シ
切れる敏となるようにし、これにて両ツインへの被処理
物の移乗がスムーズに行えるようになす・この補助ライ
ン８１Ｇを設ける位置は！＆理によって適当な位置に定
められるが、その数は図示の夷Ｊ！ｌｆ１では主ツイン
とし九が補助ラインを三ライン以上とすることも可能で
ある。また主フィンＡにはその一部にバイパスラインＤ
を分岐しである距離だけ平行して設け、主ライン貴とパ
イパスライン肯とでは異なった処理が行えるようになす
・ 而して主ラインの供給排出位［１にて供給排出ラインＥ
が主ツインの最小公倍数で割９切れる連ラインＡ＠へ被
処理物が供給されると主ラインＡのタクト送夛にて被処
理物は主ラインに沿って順次処理液槽間を移送され所望
の表面処理が行なわれる。そして主ラインにて予めＩ＆
建され九り壇が行なわれるが、処理時間、工１１等が変
る場合でも主ラインはそのままで処理時間の異なる櫂に
於て補助フィンＢ％Ｃｔ用いる。この時主ラインの送Ｇ
ｊ［ｆｒ！−足でも補助ライン８１Ｇの移送時間を主フ
ィンの最小公倍数で１ｊｌｌｌｌＤ切れる数となるよう
にｍｓする仁とによシ補助ラインを有する債での処理時
間を調整できるものとなる。従って主ツインでの組み誉
え等を必要とせず、またバイパスツインの使用にて異な
った処理をも行える。即ち供ａｓｔｈ処ａ物がランダム
に供給されてもこの被処虐物毎にその処理法をコンピュ
ータにて記憶指示を与えるようにすれば順次所定の処理
が行えるものとなる。さらに補助ライン主ラインへの移
乗がその送り速度を最小公倍数にて割プ切れる数となる
ようにして可１１．ｕできるようになして−るため速度
調整しても円滑に行える利点がある。
図面は本発明の処理方法を示す一実施例の平面図である
。 Ａ・・・主ライン Ｂ、Ｃ・・・補助ライン Ｄ・・・パイパスライン Ｅ・・・供給排出ライン ド・・供給排出位置 ２．３・・・処理液槽 特許出願人 株式会社加藤製作所
。 Ａ・・・主ライン Ｂ、Ｃ・・・補助ライン Ｄ・・・パイパスライン Ｅ・・・供給排出ライン ド・・供給排出位置 ２．３・・・処理液槽 特許出願人 株式会社加藤製作所
Claims (1)
- ループ状で且定速にて５＆塩液憎間を彼処ｆｆｌ物を移
送するよう部製される主ラインにある処理液槽内に該主
フィンと平行に補助ラインを配し、且該補助ツインを主
ツインの最小公倍数で割り切れる数にて可；１１目的に
移送速ｔＬを１１１整してその処理時間ｔ−Ｍ理に応じ
て、；ｉＩ贅でき、互生ラインに分岐して設けたバイパ
ス２イ／との組み合せにて異なる処理をも主ラインを利
用して行えるようになしたことｔ％像とする表面処理装
置に於ける弐面処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20073781A JPS6012440B2 (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 表面処理装置に於ける表面処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20073781A JPS6012440B2 (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 表面処理装置に於ける表面処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58100700A true JPS58100700A (ja) | 1983-06-15 |
| JPS6012440B2 JPS6012440B2 (ja) | 1985-04-01 |
Family
ID=16429331
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20073781A Expired JPS6012440B2 (ja) | 1981-12-11 | 1981-12-11 | 表面処理装置に於ける表面処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6012440B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6029499A (ja) * | 1983-07-20 | 1985-02-14 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材の表面処理における操業方法及びそれに使用する表面処理ライン |
| JPS6056100A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-04-01 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム又はアルミニウム合金の表面処理装置 |
-
1981
- 1981-12-11 JP JP20073781A patent/JPS6012440B2/ja not_active Expired
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6029499A (ja) * | 1983-07-20 | 1985-02-14 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム材の表面処理における操業方法及びそれに使用する表面処理ライン |
| JPS6056100A (ja) * | 1983-09-06 | 1985-04-01 | Nippon Light Metal Co Ltd | アルミニウム又はアルミニウム合金の表面処理装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6012440B2 (ja) | 1985-04-01 |
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