JPS58116493A - 新規ホスフインアミド化合物およびその製造方法 - Google Patents

新規ホスフインアミド化合物およびその製造方法

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JPS58116493A JP21566482A JP21566482A JPS58116493A JP S58116493 A JPS58116493 A JP S58116493A JP 21566482 A JP21566482 A JP 21566482A JP 21566482 A JP21566482 A JP 21566482A JP S58116493 A JPS58116493 A JP S58116493A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ゛本発明は新規ホスフィンアミド化合物とその新規な製
造方法に関する。
更に本発明は、とりわけ特に重要なものはホスフィネー
トであるリンの種々の化合物の製造へのホスフィンアミ
ドの利用に関する。
本発明の顕著な利点は、高収率かつ高光学的純度で種々
の光学活性化合物を製造できる点にある。
リンを含む有機化合物、特に光学活性化合物の利用は、
現在良く知られている。
多くの天然および合成化合物が、遷多金属を触媒として
、特に光学活性な有機リン配位子からなる触媒により、
不整合成によって現在製造されることが知られている。
このようにして、農業、食料品、医薬品および香料の分
野に興味のある物質が製造されている。パーキンソン氏
病の治療に特に有用なＬ　−ＤＯＰＡは、その１例であ
る。
しかしながら、かかる製造法の開発と研究は、不整触媒
として、最もしばしば用いられる光学活性有機リン配位
子の製造の困難性のために、現在、制限を受けている。
そこで本発明は、光学活性有機リン配位子の製造技術の
改良をはかるものであり、一連の有機リン化合物、特に
ホスフィンアミド、およびこのホスフィンアミドからの
ホスフィネート、ホスフィンオキシト、ホスフィン、ホ
スホニウム、ホスフィンイミドなどの、より容易かつよ
り経済的な製造方法を提供するものである。
ホスフィネートを出発物質とすることによって、上述の
ような種々の化合物を容易に得ることかで−きる。従っ
て従来よりも、より経済的な方法でホスフィネートを製
造しうろことが重要である。
従来のホスフィネート製造法は、全く労力を要するもの
であった。
すなわち、ミスロー（Ｍｉｓｌｏｗ　）、ド・ブルーイ
ン（Ｉ）ｅ　１３ｒｕｉｎ　）らは、ジクロホスフィン
から出発し、メンチルホスフィネートを経由して２種の
ホスフィネートに分割しているが、全工程は７段階から
成っている（ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミ
カル・ンサイアテイ、Ｊ、Ａｍ。
Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　、　９１　、７３９３　（１９
６９）およびジャーナル・オブ・ザ・オルガニック・ケ
ミストリイ。
Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、　、　３７　、２２７２　
（１９７２）　）。
光学活性ホスフィネートの他の製造ルートは、出発物質
として１，３．２−オキソアザホスホールを用いている
（テトラヘドロン・レター。
Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、　Ｉ、ｅｔ、　、　５７１　
、　（１９８０）　）。
しかしながら、この方法も２種類のオキソアザホスホー
ルへの分割と有機金属試薬の使用とを必要とし、全操作
は４工程からなっている。
一般には、現在使用されている方法では、ホスフィネー
トが低収率であり、工程が長たらしく、２種類の中間体
への困難な分割を必要とし、更に二つの望ましいホスフ
ィネート置換基を有する、工業的に入手可能なキイとな
る中間体化合物の使用を必要とする。
かかる製造法においては、ホスフィネートの第３の置換
基の選択は制限を受ける。
本発明における新規なホスフィネート製造方法は、ホス
フィンアミドの一段階の反応を利用し、アルコーリシス
によって、すべての目的とするホスフィネートの製造を
可能にするものであシ、容易かつ経済的条件下に行なう
ことができる。
本発明によるホスフィンアミドの製造は、極めて急速に
、すなわち１５分で、かつ工業的に許容できる収率で行
なうことができる。また、この反応はより徐々に進行さ
せて、より高収率とすることもできる。
一般的には約１時間でホスフィンアミドから相当するホ
スフィネートへの変換は十分である。
この工程の中間体は良好な化学的安定性を有し、複雑な
試薬や反応およびきびしい操作条件を必要としない。
光学的活性化合物の製造のための他の実質的な利点は、
極めて純度の高い不整性を導入できることである。
本発明によるホスフィンアミドの製造方法は、有機・・
ロゲン化物をオキソアザホスホリジンに作用させること
にあり、空気、湿度、および光を遮断して行なわれるこ
とに特徴がちる。この反応は、下記反応式（１）で表わ
される。
（Ａ）　　　　　（８）　　　　　（Ｏ上記反応式にお
いて、記号Ｒ１，およびＲ３−Ｒ７は炭化水素基まだは
水素原子を現わす。
これらの炭化水素基は同一または異なっており、詳細に
は脂肪族、脂環族および／またはアリールである。好ま
しくは、Ｒ３および／またはは水素原子である。
Ｒ１，およびＲＢ　、、、　Ｒ？置換基の中で、最も一
般的なものはＣ１〜Ｃ４のアルキル、フェニルおよびベ
ンジル基である。
しかしながら、たとえばＣ１〜ＣＩ８のアルキル、シク
ロペンチル、シクロヘキシル、アルキルで置換されたフ
ェニル、およびナフチルなどであっても良い。
Ｒ２はアルキル、アルアルキル、シクロアルキル、アリ
ール、またはエステル、エーテル、ケトンなどの官能基
を有する飽和炭化水素である。
本発明の一操作態様によれば、オキソアザホスホリジン
（前記（１）式のＡ）は固体状で採取され、液状のアル
キル、シクロアルキルまたはアリールハライド（前記（
１）式のＢ）と共に加熱される。形成されたホスフィン
アミド（Ｑは、適当な溶媒から結晶化させるか、または
油状物として分離される。
ホスフィンアミドを適切な収率で与える、この新規な反
応が、かかる結果を与えることが今までに実現されなか
ったのは、特に驚くべきことである。
事実、トルエンや他の溶媒溶液中で反応させようと試み
た著者らは、ポリマーや確認しがたい生成物を得たにす
ぎない。〔アルプゾフ（Ａｒｂｕｚｏｖ　）ら、Ａｋａ
ｄ、　Ｎａｕｋ、　５ＳＳＰ　ｏｔｄ　Ｋｉｍ。
Ｎａｕｋ、　７８９　、１９５２　）、またはムカイヤ
マら、日本化学会誌　１３ｕｌｌ、　Ｃｈｅｍ、　ＳＯ
Ｃ，Ｊａｐ、　４０１４７　。
（１９６７）　）。〕 これに対して、本発明においては湿度、酸素、および光
の遮断下にオキソアザホスホリジンと有機ハロゲン化物
との反応によって、良好な収率でホスフィンアミドが得
られる。
温度が約４０°Ｃ〜約１００°Ｃの範囲にあるときには
、反応によってホスフィンアミドが多少とも急速に製造
される。たとえば１０〜４０°Ｃのように、より低温で
、そして特に１５〜３０°Ｃの間の周辺温度で反応させ
たときには、反応はより遅くなるが、しかし収率および
純度はより向上する。
本発明の第１の態様によれば、固体のオキソアザホスホ
リジン囚が暗所で、湿気を遮断して不活性ガス中で望ま
しい温度に加熱される。これに、適切な有機ハロゲン化
物（Ｂ）、Ｒ２Ｘが過剰に添加され、次いで要求される
時間の間、加熱が継続される。
カくシて、ホスフィンアミド（Ｃ）が６０％レベルの収
率で得られ、この収率は既知の方法に比較して極めて良
好である。
本発明の他の実施態様によれば、オキソアザホスホリジ
ンおよび有機ハロゲン化物が最初に適切な溶媒に溶解さ
れ、次いでこの溶液が不活性雰囲気下、湿気を遮断した
暗所中で最高量のホスフィンアミドが得られるまで望捷
しい温度に保たれる。
種々の一般的な溶媒が好適であり、たとえば芳香族、脂
肪族、脂環族炭化水素などが用いられる。特に有用なも
のは、ベンゼン系炭化水素と脂環族炭化水素との混合物
である。
出発物質のオキソアザボスポリジン（４）は既知の方法
、特にジアミノボスフィンとアミノアルコールの作用に
よって好収率で容易に得ることができる物質である。
たとえば、ムヵイヤマ・チルアキおよびコダイラ・ヤス
トにより記載された方法〔日本化学会誌（ＢｕＪＪ、　
Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　Ｊａｐａｎ　）　３９　（６）
　１２８７−３０１　（１９６６）　）によれば、１，
３．２−オキソアザホスホリジンをジアミノボスフィン
とアミノアルコール、この場合はエフェドリンであるが
、との反応によって得ることができる。この反応は図式
的には、下記（２）式のように表わされる。
■ 囚 もしも光学活性なアミノアルコールを使用すると、上記
（２）式で示された反応によって、このオキソアザホス
ホリジンのジアステレオマーが本発明の予期しなかった
利点は、かがるオキソアザホスホリジンから出発し、ハ
ロゲン化物ａ３）ノ作用によって極めて良好なジアステ
レオマー純度を保有するボスフィンアミド（Ｃ）が得う
れることである。
従って、アミノアルコールとして（−）エフェドリンを
用いれば、オキソアザボスポリジンの可能なジアステレ
オマーの単一種を実際に生成させることができ、リン原
子についての絶対配置が明らかにされる。
本発明の方法によって得られたホスフィンアミドの可能
な変換に関して、最も重要なものは、下記（３）式で示
されるようにアルコーリシスによって容易に相当するホ
スフィネートに変化しうろことである。
（本頁以下余白） （Ｃ）＋Ｒ８０Ｈ−＋Ｒ８０−ＰＩ川１＋　＋ｕ　Ｒ’
　　　　　　　（３）ム ２ ０　　　　　　　　（ト） この発明の方法によれば、望ましいホスフィネート（ト
）のために望ましい基Ｒ１、Ｒ２およびＲ８を選択する
ことができる。
事実Ｎ　Ｒ’は最初のオキソアザホスホリジン囚が導か
れ、Ｒ２はハロゲン化物（６）から与えられ、一方、Ｒ
８は反応式（３）のアルコーリシスに用いられだアルコ
ールまたはフェノールの選択に依存している。
本発明によれば、アルコーリシスを行なうための特別の
方法は、その反応をイオン交換樹脂を触媒として行なう
ことである。この方法はアルコーリシスの後に単なるテ
過によって触媒を容易に分離できる利点がある。
上述したように、光学活性なオキソアザホスホリジン囚
からホスフィンアミド（Ｑを製造できる利点は、上記（
３）式によるホスフィネートの製造に反映させることが
できる。事実、本発明の範囲内において既知の絶対配位
の２種の対字体に相当する下記（４）式のようなホスフ
ィネートを得ることができる。
上記（４）式の表示において規約によれば、Ｒ２は紙面
上方（手前側）に位置し、一方、Ｒ’は紙面下方（裏面
側）に、０およびＯＲ’は紙面上に位置する。
ホスフィネート■を決定する絶対配置ＲまたはＳの対掌
体は、オキソアザボスポリジンを生成する式（２）にお
いて、（＋）または（−）アミノアルコールを夫々使用
することによって得ることができる。
或はまた、基Ｒ１およびＲ２を異なる順序で導入するこ
とによっても得ることができる。
下記表に示しだ式は、かかる可能性を説明するものであ
る。
前記反応式（２）によるオキンアザホスホリジンの製造
や、（３）式のホスフィンアミドのアルコーリシスによ
るホスフィネートへの変換はすでに知られているが、こ
れら二つの反応と本発明の（１１式の反応を組合せるこ
とによって、ホスフィネートを得るだめの大変興味のあ
る三段階の工程が形成される。
使用した化合物に起因して、これら各段階の収率は約６
０チ〜１００チであシ、反応式（２）のだめの反応時間
は約１２時間、反応式（１）はＡ時間、および反応式（
３）では１時間である。
（本頁以下余白） 禰トーーーーー→− ｃｒ３　　　　　　　　　　　　　　　　　　匡＋　　
　　　　　　　　　　　　　　　　　＋国　　　　　　
　　　　　　　　　　　　　　氏匡　　　　　　　　　
　　　　　　　　　　　　国本発明の実施例を下記に示
す。なお、これら実施例は本発明を限定するものではな
い。
実施例１ オキソアザホスホリジンは、本発明によりホスフィンア
ミドを製造するうえで重要なので、これらホスホリジン
の一つの製造方法を、（＋）３．４−ジメチル−２，５
−ジフェニル−１，３，２−オキソアザホスホリジン（
２Ｒ，４８，５Ｒ）を例として下記に示す ＣａＨａ 旦 上記化合物［Ｆ］は前記した反応式（１）の化合物囚で
あり、囚においてＲ１およびＲ４はフェニル％　Ｒ３お
よびＲ５は水素原子であり、一方、Ｒ６およびＲ７はメ
チルである。
この化合物いは技術文献に今まで記述されたことのない
新規化合物である。
この化合物の製造は、三日のｌｌフラスコに攪拌機およ
び窒素ガス吹込、および排出のだめの二つのノズルを取
付けて行なわれる。
このようにして反応中に分離したアミンは、反応媒体か
ら除去され、洗浄フラスコ中に捕集される。
０．１モルの（−）エフェドリン全０．１モルのビス（
ジエチルアミノ）−フェニルホスフィンド５ｏ。
ｒｒＬｌのトルエン中で１２時間、窒素気流中で１００
〜１１０℃で反応させた。しかるのちに反応混合物を蒸
発瓶に移し、溶媒量を約２５０ｍ１に調整した。
窒素雰囲気下で単に冷却することによって、上述した化
合物［Ｆ］が溶液中から沈澱した。沖過後に母液を一部
蒸発させると、化合物いの追加部分が更に回収された。
結晶性化合物［Ｆ］の全収率は７０チであシ、この化合
物は１００’Ｃで溶融し、トルエンから再結晶できる。
冷蔵庫中の密封容器に保存した。得られた粗製品のＮＭ
Ｒスペクトルは、化学的純度およびジアステレオマー純
度が極めて良好であることを示した。
下記のようなノシラメータが見出された。
ＮＭＲ’Ｈ（Ｃａ　Ｄａ　）　　　二重＃（３Ｈ）　　
　０．５（ｐｐｍ）二重線（３Ｈ）　　　２．４ 多重線（ＩＨ）　　　３．に 重線（ＩＨ）　　　５．４ 多重線（ＩＯＨ）、７．７〜８ ＮＭＲ（Ｃ１ｌＤ６）　　３’Ｐ　・−・−・・−δ＝
　＋、１３９．７　ｐＩ）ｍＮＭＲ（ＴＨＦ）３１Ｐ・
・・・・・・・・・・・δ＝　＋　１４１．６　ｐｐｍ
元素分析値：　　　Ｃチ　Ｈチ　Ｎチ　Ｏチ　Ｐチ理論
値　７０．８４６．６９５．１６５．９０１１．４２実
験値　７０．６９６．６６５．２７５．６０１１．５０
回転カニ　〔α〕２９′二十４０°±５゜Ｃ二重、３　
（ＣａＨａ　） 実施例２ （−）３．４−ジメチル−２，５−ジフェニル−２−オ
キソ−１，３，２−オキソアザホスホリジン（２Ｒ。
４Ｓ、５Ｒ）の製造。
実施例１のオキソアザホスホリジンＶ）３ｆの５０ｒｎ
ｌトルエン溶液を攪拌下に２日間、栓を有しないフラス
コ中で放置した。しかる後に、トルエンを蒸発せしめ、
残留物をアセトンに溶出させた。次いで約５０°Ｃに加
熱されたジイソプロピルエーテルを溶解度の限界まで加
えた。溶媒の全容積は、あまり大きくすべきではなく、
約２０ｄとなる。冷却することによって目的とする酸化
物が沈澱する。再結晶溶媒も同様にアセトン／ジインプ
ロビルエーテル混合物である。
生成物の沈澱が生じない場合には、酸化によって得られ
た残留物をメルク（Ｍｅｒｃｋ　）　Ａ　７７３４型の
シリカ・カラム、溶離液エーテル／アセトン：８／２を
用い、クロマトグラフにより分離する必要がある。
生成物はｒｆＱ、７で溶離し、これは一般に約１００ｍ
１の留分に相当する。
この製造法は前記化合物いの配置を証明するために実施
されておシ、事実、下記のオキソ誘導体はクーパー（Ｄ
、　Ｂ、　Ｃｏｏｐｅｒ　）らによってテトラヘドロン
・レター（Ｔｅｔ、　Ｌｅｔｔ、、）　２６９７　（１
９７４）に記載されていて、その絶対配置は知られてお
リ、従って、化合物■を出発物質とする製造は、前記化
合物［Ｆ］に対して提案された配置を確証するものであ
る。
オキソ誘導体の融点は１６１°Ｃであった。空気中２４
時間加熱することにより、酸化化合物が収率９０％で得
られた。
ＮＭＲ’Ｈ（ＣＤＣｊ’３） 二重量　（３Ｈ）　　　０．９１　（ｐｐｍ）二重線（
３Ｈ）　　　２．６２ 多重線（ＩＨ）　　　３．７６ 三重線（ＬＨ）　　　５．７６ 多重線（ＩＯＨ）　　　７．２〜８ ＮＭＲ３１Ｐ　（ＣＤＣｌ！ｓ　）　　　　δ＝　３３
　Ｉ）Ｉ）ｍ実施例３ （＋）Ｎ−メチル−Ｎ−（１−メチル−２−ヨード−２
＝フエニル）−エチル（Ｉｓ　、２８　）Ｐ−メチル−
ｐ−フェニルホスフィンアミド■。
この化合物は実施例１に述べたホスホリジン［Ｆ］にヨ
ー化メチルを作用させることにより得られ、る。
６Ｈ５ 二 （Ｇ） ホスフィンアミド０は式（Ｃ）に相当し、Ｒ２、Ｒ６お
よびＲ７がメチルであり、Ｒ１およびＲ４がフェニルで
あり、Ｒ３およびＲ５が水素原子であり、ハロゲンＸは
ヨー素である。
この化合物（Ｇ）の製造は下記のような操作段階によっ
て実施される。
０．１モルのオキソアザホスポリジン［Ｆ］を固体状で
１０分間、９５〜１００’Ｃで窒素雰囲気下に広口の濾
過管中で加熱した。沸点まで加熱した過剰のヨー化メチ
ル（０，３〜０．４モル）を、同様に窒素雰囲気中で急
速に添加した。すると５〜１゜分間で実質的に瞬間的な
反応が進行する。冷却すると、目的とする化合物の結晶
が得られる。
過剰のヨー化物は蒸発により容易に除去される。
残置物は、結晶化するといなとにかかわらず、温アセト
ンで溶出され、ジイソプロピルエーテルが溶解度限界ま
で添加される。（溶媒の全容積２００　ｍｌ　）。冷却
すると、目的とする沈澱物が得られる。収率６０％。得
られた生成物の融点は１６０〜１６２℃であった。
ＮＭＲ’Ｈ（ＣＤＣＪｓ）　：二重Ｍ（３Ｈ）　　　１
．１（ｐｐｍ）二重線（３Ｈ）　　　１．９５ 二重線（３Ｈ）　　　２．４５ 多重線（ｌＨ）　　　４．３０ 二重線（ＩＨ）　　　５．１５ 多重線（ＩＯＨ）　　７．１〜８．２０元素分析値：　
Ｃチ　Ｈ係　Ｎ％　　０％　２％　Ｉ％理論値：　４９
．４１５．２０３．３９３．８７７．５０３０．７０実
験値：　４９．６３５．２９３．３５３．８７７．５４
３０．５７〔α〕′Ｄに＋１６２．５゜ ＮＭＲ”Ｐ　（ＣＤＣＪ３）　　　　δ：　＋　３５．
１　ｐｐｍ実施例４ （＋）Ｎ−メチル−Ｎ−（１−メチル−２−ヨード−２
−フェニル）エチル（Ｉｓ、２Ｓ）Ｐ−エチル−Ｐ−フ
ェニルホスフィンアミド■の製造。
これは実施例３のホスフィンアミド（Ｇ）の類似体であ
り、ホスフィンアミドＣ）のリン原子に結合するメチル
がエチルに置換されている。この化合物は実施例１のホ
スホリジン［Ｆ］から、実施例３と類似の操作で製造さ
れ、ヨー化メチルがヨー化エチルに置き代っている。７
０°Ｃで環流下に８分間、加熱する。ハロゲン化物を蒸
発させた後に、反応の粗生成物は酢酸エチルを溶離液と
しアルミナによるクロマトグラフにかけられる。１００
ｍＪづつ１０回溶離後に、目的とするホスフィンアミド
が回収される。生成物は濃厚な油状である。その絶対配
置は実施例３に記載した化合物（Ｇ）のそれと同一であ
り、すなわち（ロ）ｐ／である。
ＮＭＲ（ＣＤＣＪ、）　　試験の結果、下記が判明した
。
二重線（３Ｈ）　　　　１．１　（ｐｐｍ）三重線（３
Ｈ）　　　　１．２５ 三重線（３Ｈ）　　　　２．４０ 多重線（２Ｈ）　　　　２．１０ 多重線（ＩＨ）　　　　４．２０ 二重線（ＩＨ）　　　　５．２５ 多重線（１０Ｈ）　　　　７．２〜８．２５１）ｐｍ元
素分析：　　Ｃチ　　　Ｈ％　　　　Ｎｑ６計算値　　
５０．６０　５．４３　　３．２８実験値　　５０．４
８　５．５４　　３．２４（α）”　＝　＋１１６°　
　　Ｃ＝　５　（ＣＨＣＪｓ　）実施例５ （＋）Ｎ−メチル−Ｎ−（１−メチル−２−クロム−２
−フェニル）エチル（Ｉｓ、２８）Ｐ−ベンジル−Ｐ−
フェニルホスフィンアミド■の製造。
目的とする化合物は、反応式（１）の式（０の化合物と
類似のホスフィンアミドである。すなわち、式（Ｃ）に
おいて％　Ｒ”がフェニルで６！Ｄ、Ｒ２がベンジルで
あり、Ｒ３が水素原子であり、Ｒ４がフェニルであり、
Ｘは臭素原子であり、Ｒ５は水素原子であり、かつＲ６
およびＲ？はメチルである。
実施例１のオキソアザホスホリジン（ト）の０．１モル
を窒素雰囲気下に９０°Ｃに加熱し、この温度に保持さ
れた臭化ベンジルの８モルを窒素雰囲気下で急速に添加
することによって製造される。
反応は１０分間で進行する。冷却し、減圧下に過剰の臭
化ベンジルを気化させた後に、残置物を温アセトンに溶
解させる。これを冷却すると、形成されたホスフィンア
ミドのジアステレオマーの混合物の結晶が析出した。こ
のハロゲン化物によって、かつ上述した操作条件下でリ
ン原子をとシまく、ある程度のエビ化が確認された。
ｐ過、アセトンの気化の後に残置物はＡｔ２０．１００
２あたＤ３ｆの割合で一４°塩基性アルミナを用いクロ
マトグラフにかけた。１Ｑ回の５Ｑ　ｍｌ溶離液の後に
ホスフィンアミドが得られ、ＲＭＮ分析の結果、正確な
ジアステレオマー純度が明らかになった。
コノ結合、配置＠ｐ’のよシ豊富なジアステレオマーの
ために下記の指示が与えられる。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ　ａ　）　　　二重＃（３Ｈ）　　　
１．０５（ｐｐｍ）二重線（３Ｈ）　　　２．５０ 多重Ｉｌｌ！（２Ｈ）　　　３．６５ 多重＃（ＩＨ）　　　４．３０ 二重線（ｉＨ）　　　５．０５ 多重＃（１５Ｈ）　　７〜８．２ 結晶化によって分離されたジアステレオマーの混合物は
１８０〜１８３°Ｃの融点を有する。
ＮＭＲ１Ｈ（ＣＤＣ／３　） 多重線（ＩＨ）３．６５ 元素分析：　６％　Ｈチ　Ｂｒ％　Ｎ％　０％　Ｐ％計
算値　６２．４５５．７０１Ｂ、０６３．１７３．６２
７．００実験値　６２．８１５．８０１７．９４２．８
３３．７６７．０１〔α〕２ルー＋１３０”　　　Ｃ二
重、２　（ＣＨＣｒ３　）実施例６ 実施例５のホスフィンアミドに類似するが、臭素原子の
代シに塩素原子を有するホスフィンアミドの製造。
前記の場合と同様にして製造を行なった。しかし、塩化
ベンジルでは、ジアステレオマー純度８０／２０を与え
た。ジアステレオマーの混合物をアセトンから結晶化す
ると、エピマーの大部分を除去できる。溶媒を気化せし
めた後に、得られた残置を塩基性アルミナ（ｔｏｏ　ｙ
のアルミ′すあたり３２：溶離液アセトン）を用いてク
ロマトグラフにかけた。１０回の５０ｍ１溶離の後にジ
アステレオマーが得られた。得られた主要なジアステレ
オマーは■ｐ′の配置を有し、融点は１５４〜１５７℃
である。
ＮＭＲ（ＣＤＣ／３）　： 二重量　（３Ｈ）　　　　１．０５（ｐｐｍ）二重線（
３Ｈ）　　　　２．５０ 多重線（２Ｈ）　　　　３．６０ 多重線（ＩＨ）　　　　４．３０ 二重！（ＩＨ）　　　　４．９５ 多重線（１５Ｈ）　　　　７．２０〜８．００〔α）２
０＝　＋１３０゜ Ｄ Ｃ＝　３　ＣＨＣｌ！ｓ　ＮＭＲ３’Ｐ　（ＣＤＣｌｓ
　）δ＝＋３６．３４　ｐｐｍ 元素分析：　Ｃチ　Ｈ％　Ｃｌチ　Ｎチ　０％　Ｐチ計
算値　６９．４３６．３３８．９１３．５２４．０２７
．７８実験計　６８．５５６．４３８．６９３．４３４
．５４７．１８■ｐ　＋（ｓ）ｐ’の結晶化によって分
離されたジアステレオマーの混合物は、１７５°Ｃの融
点を有する。そのＲＭＮ　（ＣＤＣｌｓ　）は下記のと
おりである。
二重量　（３Ｈ）　　　　０．５５　（ｐｐｍ）二重＃
（３Ｈ）　　　　１．００ 三重Ｍ（２Ｈ）　　　　２．５０ 多重！（２Ｈ）　　　　３．５０ 多重＃（ＩＨ）　　　　４．２０ 二重ａ（ＩＨ）　　　　４．８０ 二重線（ＩＨ）　　　　４．９５ 多重線（１５Ｈ）　　　　、７．０（１−８，２０ｐｐ
ｍ〔α几＝＋１２３” Ｃ＝　１．２　ＣＨＣｓ　ＮＭＲ３１Ｐ　（ＣＤＣｌ！
３　）δ＝＋３６．４７および＋３６．２１ｐｐｍ実施
例７ 実施例３、働のホスフィンアミドの、メチルメチル−フ
ェニル−ホスフィネート、配置Ｒ（＋）、の製造への応
用。
２９０〜のホスフィンアミドを１゜７６Ｎのメタノール
性塩化水素溶液に溶解した。１時間後に、２．８Ｎのメ
タノール性アンモニア溶液１０ｍ１を添加して酸を中和
した。溶媒を蒸発させ、残有物を１０１１１／の塩化メ
チレンに溶解させた後に濾過して無機質塩を除去した。
溶媒を再び蒸発させると、残有物が得られ、これをアセ
トンを溶離液とし、シリカを用いてクロマトグラフにか
けた（　２０　Ｘ　２０段）。メタノ−ルア１１０．５
５〜０．６５０間のバンドを抽出すると、形成されたホ
スフィネートが回収された。
〔α几＝＋５２゜ Ｃ二重（ベン上５ン、光学純度９３％を示す）ＲＭＮ試
験の結果、このボスフィンの構造は既知文献〔て１ルグ
エ（Ｍ、　Ｊ、　Ｐ、　Ｈａｒｇｕｅｒ　）　Ｊｏｕｒ
ｎ。
Ｃｈｅｍ、　５ｏｃ−Ｐｅｒｋｉｎ　Ｉ　、　１２９４
　（１９７９）　）で知られていることを確認した。
実施例８ 実施例４のホスフィンアミドの、メチル　メチル−フェ
ニル−ホスフィネート、　配［Ｒ（＋）、製造への応用
。
５００ｒｎ９のホスフィンアミドをメタンスルホン酸の
０．１５　Ｍメタノール溶液５０ｍに溶解し、その溶液
をＡ時間、６０℃で放置した。しかる後に、４Ｍアンモ
ニア性溶液１００ｒｒＬｌで中和した。溶媒を蒸発させ
た後に、残有物を３Ｑｍの塩化メチレンで溶出し、不溶
解物を戸別した。再度、溶媒を気化せしめた後に、残有
物をアセトンを溶離液とし、シリカを用いてクロマトグ
ラフにかけた。形成されたホスフィネートは、約５０ｍ
１の溶離液が１０回留出した後に回収された。この化合
物は、既知で油状である。
〔α〕０二十２２．７゜ Ｃ−７（メタノール）、光学純度＝４７チ。
ＲＭＮの結果、上述のような構造が確認された。
実施例９ 実施例６のホスフィンアミドのメチルＲ（−）ベンジル
フェニル−ホスフィネートの製造への応用。
メタンスルホン酸の０．１Ｍメタノール溶液５０ｄに、
ホスフィンアミド２．２ｆを溶解し、この溶液を５５℃
に２時間、保った。ＩＭのメタノール性アンモニア溶液
で中和した後に、溶媒を除去した。残有物を塩化メチレ
ンで溶出し、不溶解物を戸別後に、再び溶媒を蒸発させ
た。酢酸エチルを溶離液とし、２１あたり５０　ｆのア
ルミナを用いてクロマトグラフ処理を行ない、数回の溶
離液の後にホスフィネートを得た。ラセミ体の融点は９
６°Ｃである。光学活性ホスフィネートは〔α）、＝−
３，２°、Ｃ＝６（メタノール）、光学純度７７チであ
った。
ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５　）　： 二重線（２Ｈ）　　　　３．３　（ｐｐｍ　）二重線（
３Ｈ）　　　　３．６ 多重量（Ｈ）　　　　　７〜７．８ 従って本発明によれば、従来知られていない新規なホス
フィネートが得られた。
本発明により得られたホスフィンアミドから導かれたホ
スフィネートから出発し、ミスロウ（Ｍｉｓｌｏｗ　）
らの方法〔ジャーナル・オブ・ザ・アメリカン・ケミカ
ル・ソサイアテティ（Ｊ、Ａｍ。
Ｃｈｅｍ、　Ｓｏｃ、　）　９０４８４２　（１９６８
）　）によって一連のホスフィンオキシトを製造した。
特に下記の化合物である。
ベンジル　メチルフェニルホスフィンオキシトＲ（＋）
ベンジル　メチルフェニルホスフィンオキシト５（−）
エチル　メチルフェニルホスフィンオキシトＲ（＋）エ
チル　メチルフェニルホスフィンオキシト５（−）メチ
ル　０−メトキシ−フェニルフェニルホスフィンオキシ
トＲ（十） メ　チル　フェニル−β−ナフチルホスフィインキシト
Ｒ（＋） 実施例１により製造したオキソアザホスホリジン［Ｆ］
、実施例３〜７のすべてのホスフィンアミド、実施例９
のメチルベンジルフェニルホスフィネート、および特に
これらの光学活性異性ある。
実施例１０ トルエン溶液におけるＮ−メチル−Ｎ−（１−メｆルー
２−ヨードー２−フェニル）−エチル（Ｉｓ　、　２８
　）ホスポンアミドＲの製造。
この化合物は実施例１のオキソアザボスポリジン■にヨ
ー化メチルを作用させることにより得られた。
３０．１１！フラスコで０．１モルのオキソアザホスホ
リジン［Ｆ］を５００　ｍＪのトルエンに溶解し、次い
で攪拌下に０．５モルのヨー化メチルを添加した。混合
物を窒素雰囲気下、ｓｏ’ｃで１時間加熱した。放置す
ると、澄んだ黄色油が分離した。
トルエンと過剰のヨー化メチルを蒸発させた。
トルエンの蒸発により得られた油を、酢酸エチルを溶離
液とし塩基性アルミナを用いてクロマトグラフにかけた
。１５０ｍＡ’溶離液が１ｏ回留出した後に、ホスフィ
ンアミドが回収された。純生成物は結晶状であシ、この
もののＲＭＮ特性は実施例３の生成物と同一である。し
かしながら結晶状生成物の収率は、無溶媒で製造した実
施例３の生成物が６０チであるのに対して、わづかに約
７％であった。
本実施例から、光の存在下、８０°Ｃでの長時間の加熱
はホスフィンアミドに低収率をもたらすことを示してい
る。反応を暗所で窒素雰囲気下に湿度を遮断して１２分
間だけ行なうと、収率は６０％を越える。
実施例１１ Ｐ−メチル−Ｐ−フェニル−Ｎ−メチル−Ｎ−（１−メ
チル−２−ブロム−２−フェニル）エチルホスフィンア
ミドの製造。
このホスフィンアミドの製造法は、臭化メチルがガス状
であり、固体状のオキソアザホスホリジンと容易に反応
させることは不可能である点で実施例３のホスフィンア
ミドの製造法とは異なる。
下記のような操作様式が用いられた。
実施例１のオキソアザホスホリジン［Ｆ］のトルエン溶
液５００　ｍｌに８０℃でＡ時間、ガス状の臭化メチル
を過剰に吹き込んだ。次いで全溶媒と過剰の臭化メチル
を除去した。トルエンの蒸発によって得られた油を、溶
離液として酢酸エチルを用いアルミナによるクロマトグ
ラフにかけた。
反応の収率は５％以下であり、実施例１０の結論が確認
された。溶媒１００ｍ１が１０回留出したのちに、ホス
フィンアミドが回収された。それは油状であり、ＮＭＲ
試験結果は下記のとおりである。
二重線（３Ｈ）　　　　１．１　（ｐｐｍ）二重線（３
Ｈ）　　　　１．９ 二重線（３Ｈ）　　　　２．４ 多重＃（ＩＨ）　　　　４．５ 二重線（ＩＨ）　　　　５ 二重線（ＩＯＨ）　　　　７．２〜８ この化合物は新規化合物である。
実施例１２ （−）３．４−ジメチル−２，５−ジフェニル−１，３
，２−オキノアザホスホリジ（２８、４Ｒ、５Ｓ）、す
なわち実施例１に記した化合物［Ｆ］の対掌体化合物の
製造。
したがって、（−）エフェドリンの代りに（＋）エフェ
ドリンから出発して実施例１の操作を正確に繰り返した
。得られた化合物は化学的およびジアステレオマー純度
が極めて良好であった。
融点は１００°Ｃ（）ルエンから再結晶）であシ、また
ＮＭＲ特性は実施例１に示した化合物［Ｆ］のそれと同
一であり、一方、その〔α〕２９゜は−４０°±５（Ｃ
＝　２．５　ＣｅＨａ　）であった。なお、化合物［Ｆ
］では＋４０°±５であった。
ここで新規な（−）オキソアザホスホリジンは下記の配
置を有する。
旦 実施例１３ （＋）Ｎ−メチル−Ｎ−（１−メチル−２−ヨード−２
−フェニル）エチル（１５，２Ｓ）Ｐ−メチル−Ｐ−フ
ェニルホスフィンアミド■の、溶媒中、加熱なしの製造
。
出発化合物は実施例３の場合と同一である。
しかしながら、出発化合物をベンゼンとシクロヘキサン
の等量混合物中に溶解した。すなわち、オキソアザホス
ホリジン（実施例１のＦ）の０．０１モルを２５０ｍ１
の容積を有するフラスコ中の、８０ＷＬｌの上記混合溶
媒に溶解した。これに、予め塩基性アルミナ上で濾過し
た０、０３５ｍＡ！のＣＨ３Ｉを添加した。フラスコ内
部を窒素気流で清浄化し、この不活性雰囲気下に密封し
て室温下に７２時間、暗所に放置した。しかる後に、フ
ラスコ底部に部分的に結晶化した油が沈澱した。次いで
溶媒を蒸発させ、生成物をＮＭＲ分析にかけたところ、
ホスフィンアミド収率は８４％であった。
アセトンから再結晶すると、実施例３の化合物（Ｑと同
一の、純生成物が得られた。
実施例１０および１１との比較から、暗所の湿気を遮断
した室温下の反応のために著るしい改善がなされている
ことが明白である。
実施例１４ （−）Ｎ−メチル−Ｎ−（１−メチル−２−ヨード−２
−フェニル）エチル（ＩＲ、２Ｒ）　Ｐ　−、！　−１
−ルー　ｐ−フェニルホスフィンアミド（Ｓ）の製造。
この化合物は実施例３において（Ｇ）で示された（口）
ホスフィンアミドの対掌体である。
この化合物は実施例１２の（−）オキソアザホスホリジ
ンから製造され、このホスホリジンは（＋）エフェドリ
ンから出発する。
さて、上記ホスフィンアミド（Ｓ）は実施例１３に開示
したのと同様な方法によって、芳香族炭化水素と脂環族
炭化水素との同様な混合溶媒中で製造される。
化合物Ｃ）と同様な収率と同様な特性を有している。た
だし、回転力〔α〕−１は＋１６２．５°ではなくて−
１６２，５°（Ｃ＝　２．５　ＣＨ３０Ｈ）である。
実施例１５ （＋）Ｎ−メチル−Ｎ（１−メチル−２−）゛ロムー２
−フェニル）エチル（Ｉｓ　、　２８　）　Ｐ−ベンジ
ル−Ｐ−フェニルホスフィンアミド■の製造。
実施例５の場合と同一の化合物である。しかし、ベンゼ
ン／シクロヘキサンの１＝１の混合物中に原料をあらか
じめ溶解しておき、均一な媒体で冷却下に反応を行なっ
た。０．０１モルのオキソアザホスホリジン［Ｆ］およ
び０．０３モルの精製したＣＨ，Ｂｒ、が８０７Ｊの溶
媒混合物の溶液として用いられた。室温下に７日間、窒
素雰囲気、光および湿気を遮断して室温下に放置し、３
．５２のジアステレオマーの結晶を回収した。
出発原料のオキソアザホスホリジンを基準とするホスフ
ィンアミド■の収率は６０．３％であった。
実施例１６ 実施例３のホスフィンアミドＣ）の、対応するメチルホ
スフィネートの製造への応用。
反応媒体を触媒としてのイオン交換樹脂と接触させなが
ら行なう点以外は、実施例７のホスフィネートの製造法
と類似している。
５ＱｍＪのメタノールに溶解した０、４１３　ｆ　（０
，００１モル）のホスフィンアミドに１７の酸性イオン
交換樹脂ｐｏｗｅｘ　５０Ｗを添加した。イオン交換樹
脂は予め１０％ＨＣ１！水溶液で洗浄し、次いで水で、
更にメタノールで洗浄し、そして乾燥した。室温下に１
時間、攪拌した後、混合物を濾過し、メタノールを蒸発
させた。
得られた残有物は、アセトンを溶離液とし、シリカを用
いてクロマトグラフにかけた。
生成物は〔α片−十４７°（ｃ　−＝　２　Ｃａ　Ｈ６
）および８２チの光学純度を有するメチルホスフィネー
トにより構成されている。
使用した新規触媒のイオン交換樹脂は、濾過だけで容易
に分離できる利点を有している。
実施例１７ 実施例１６の場合と同一の方法でメチルホスフィネート
への変換を、実施例１３によって得られたホスフィンア
ミド■について行なった。
実施例７および１３における如き配置Ｒ（＋）を有する
ホスフィネートの代りに、配置５（−）のられた。
この化合物は〔６片ニー４５°（Ｃ二２ＣｅＨａ）であ
り、光学純度は７８％であった。
代理人　弁理士　小　川　信　− 弁理士　野　口　賢　照 弁理士　斎　下　和　彦

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 １、　下記一般式で示される新規ホスフィンアミド化合
    物。 ただし、式中Ｒ１、Ｒ３およびＲ６はＣａ”Ｃａアルキ
    ル基、フェニル基、置換フェニル基、およびベンジル基
    からなる群から選ばれた基であり、Ｒ４およびＲ５は水
    素原子であ、！７、Ｒ”およびＲ７はＣＩ〜Ｃ４アルキ
    ル基であり、Ｘはハロゲン原子である。 ２一般式囚で示されるオキソアザホスホリジンと、 一般式の）で示される有機ハロゲン化物をＲ２Ｘ　　　
    　の） 空気および湿気を遮断しながら暗所で反応させることよ
    シなる一般式（Ｑで示される新規ボスフィンアミド化合
    物の製造方法。 Ｒ？　　Ｒ１ま ただし、Ｒ１およびＲ３−Ｒ７は水素原子、または同一
    または異なる脂肪族、脂環族、および／またはアリール
    炭化水素基であり、Ｘは塩素、臭素またはヨー素原子で
    あり、Ｒ２はアルキル、アリールアルキル、アリール、
    シクロアルキル、まだはエステル、エーテルまたはケト
    ン官能基を有する飽和銀である。
JP21566482A 1981-12-11 1982-12-10 新規ホスフインアミド化合物およびその製造方法 Granted JPS58116493A (ja)

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