JPS58121132A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPS58121132A JPS58121132A JP57001984A JP198482A JPS58121132A JP S58121132 A JPS58121132 A JP S58121132A JP 57001984 A JP57001984 A JP 57001984A JP 198482 A JP198482 A JP 198482A JP S58121132 A JPS58121132 A JP S58121132A
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- JP
- Japan
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- magnetic recording
- temperature
- recording media
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-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
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- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、高分子成形物基板上に、金属強磁性層を磁気
記録層として配した、蒸着テープ等の磁気記録媒体の製
造方法に係り、大面積にわたり特性の均一な媒体を製造
する方法の提供を目的とする。
記録層として配した、蒸着テープ等の磁気記録媒体の製
造方法に係り、大面積にわたり特性の均一な媒体を製造
する方法の提供を目的とする。
蒸着テープは短波長記録に適する媒体として１９７０年
代初めから期待されていたが、耐久性耐蝕性等の面での
課題の克服に多くの時間を必要とし、近年、一部オーデ
ィオ用途で実用化されたところである。
代初めから期待されていたが、耐久性耐蝕性等の面での
課題の克服に多くの時間を必要とし、近年、一部オーデ
ィオ用途で実用化されたところである。
ビデオ用途に蒸着テープを用いる試みも進んでいるが、
長尺方向１幅方向に均一な特性を得る面で、磁気特性の
制御では、実用レベルの軸度が達成さ扛ているものの、
実用特性面からは改良すべき点が残っている。
長尺方向１幅方向に均一な特性を得る面で、磁気特性の
制御では、実用レベルの軸度が達成さ扛ているものの、
実用特性面からは改良すべき点が残っている。
すなわち、大面積の記録媒体原反をバッチ方式で製造し
、それをテープ、ディスク等として、特性を調べると、
短波長での出力安定性に劣る部分が存在することと、ノ
イズが異なることである。
、それをテープ、ディスク等として、特性を調べると、
短波長での出力安定性に劣る部分が存在することと、ノ
イズが異なることである。
そこでこの原因を究明すべく磁気特性を究明に調査し、
その結果媒体の表面性に原因があることを見出し、これ
の対策を検討し、本発明に至ったすなわち蒸着時、高分
子成形物基板は、短時間であるが高温にさらされる。こ
のとき冷却が不充分であると、高分子成形物特有のクリ
ープ現象や、巻き取り時に受ける張力、圧力で局部的に
変形をきたすことが起ることと関連しているのである。
その結果媒体の表面性に原因があることを見出し、これ
の対策を検討し、本発明に至ったすなわち蒸着時、高分
子成形物基板は、短時間であるが高温にさらされる。こ
のとき冷却が不充分であると、高分子成形物特有のクリ
ープ現象や、巻き取り時に受ける張力、圧力で局部的に
変形をきたすことが起ることと関連しているのである。
従って、回転支持体に沿って基板を移動しながら蒸着し
、蒸着完了后、回転支持体を基板が離扛るまでに、基板
をそのガラス転移点Ｔｑ以下に１で冷却することで上述
の問題を解決し得るのである。
、蒸着完了后、回転支持体を基板が離扛るまでに、基板
をそのガラス転移点Ｔｑ以下に１で冷却することで上述
の問題を解決し得るのである。
以下に図面を用い本発明の説明を行う。
図は本発明を実施するための装置の要■を示１図に示す
ように基板１は、回転支持体２に沿っ℃送り出し軸３よ
り、巻取り軸４へと移動する際、蒸発源６より放射され
る蒸気流により、斜方蒸着の場合マスク６で一部入射角
の限定を受けた状態で、蒸着される。垂直記録用の媒体
の製造ではマスクが異なるが、他は同じである。
ように基板１は、回転支持体２に沿っ℃送り出し軸３よ
り、巻取り軸４へと移動する際、蒸発源６より放射され
る蒸気流により、斜方蒸着の場合マスク６で一部入射角
の限定を受けた状態で、蒸着される。垂直記録用の媒体
の製造ではマスクが異なるが、他は同じである。
回転支持体２は内部に媒体を循環させて表面温度を一定
に保持し、磁気特性を一定にするだめの条件を作りだす
と共に、融点の低い高分子成形物の受ける熱影響を軽減
する役割を果す。
に保持し、磁気特性を一定にするだめの条件を作りだす
と共に、融点の低い高分子成形物の受ける熱影響を軽減
する役割を果す。
ここで、模式的に回転支持体２の軸中心をＯとし基板１
での蒸着開始点ｆ：Ｄ 終了時をＤｌ、基板ｐ １が回転支持体２をはなれる点をＤ３とする。角α（／
Ｄ ＯＤ ）と角β（／Ｄ１ｏＤ３）は任意に選びうｏ
す るが、通常装置の対称性を保つ設計思想が支配的である
ため／βは／ａ の倍以」二に設定されることは殆んど
なかった。
での蒸着開始点ｆ：Ｄ 終了時をＤｌ、基板ｐ １が回転支持体２をはなれる点をＤ３とする。角α（／
Ｄ ＯＤ ）と角β（／Ｄ１ｏＤ３）は任意に選びうｏ
す るが、通常装置の対称性を保つ設計思想が支配的である
ため／βは／ａ の倍以」二に設定されることは殆んど
なかった。
製造条件により多少異なるが、点Ｄ３での基板温度を計
測すると、Ｔｇ以下にするＫは、／βを／αの倍以上に
するか、回転支持体の直径を大きくする等の条件のいず
れかを満足させる必要のあることがわかった。
測すると、Ｔｇ以下にするＫは、／βを／αの倍以上に
するか、回転支持体の直径を大きくする等の条件のいず
れかを満足させる必要のあることがわかった。
それと同時に基板温度をＴｑ以下に側倒することで、後
述の実６説明で明らかなように、特性の安定化が図れ、
実用化の隘路を排除できることが確認されたのである。
述の実６説明で明らかなように、特性の安定化が図れ、
実用化の隘路を排除できることが確認されたのである。
即ち、ローラ７の温度と図示せぬ、ローラー。
エキスパンタ、ゴムローラ等の巻き取り系のＷ素の温度
が、時間とともに上昇し、その温度がＴｑを越えること
で、基板がそれら巻き取り系要素から受ける張力、圧力
等で局部的に変形し、それが永久変形となることが従来
起っていたが、本発明により、それを防止し得ることに
なるのである。
が、時間とともに上昇し、その温度がＴｑを越えること
で、基板がそれら巻き取り系要素から受ける張力、圧力
等で局部的に変形し、それが永久変形となることが従来
起っていたが、本発明により、それを防止し得ることに
なるのである。
次に具体的に本発明の詳細な説明する。
〔実施例１〕
直径１．４ｍの回転支持体に０°Ｃの冷却用媒体を循環
させ、／α−６ｏ０．／β−１２００とし、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム（ｒｇ＝６９’ｃ、 厚さ９
．６１ｔｔｎ）上に、２−５ｘ １０−”Ｔｏｒｒの酸
素雰囲気中でＣｏ８０％、Ｎｉ ２０％ を入射角３６
°以上で′電子ビーム蒸着した。蒸着厚みは０．１μｍ
で、基板の移動速度は５０ ｍ／ｍｉ ｎである。
させ、／α−６ｏ０．／β−１２００とし、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルム（ｒｇ＝６９’ｃ、 厚さ９
．６１ｔｔｎ）上に、２−５ｘ １０−”Ｔｏｒｒの酸
素雰囲気中でＣｏ８０％、Ｎｉ ２０％ を入射角３６
°以上で′電子ビーム蒸着した。蒸着厚みは０．１μｍ
で、基板の移動速度は５０ ｍ／ｍｉ ｎである。
このようにして作成した磁気テープ（テープ幅は７ｍｍ
）の全長３０００ｍにわたって再生出力変動を調べた。
）の全長３０００ｍにわたって再生出力変動を調べた。
なお記録波長は０．６５μｍである。
その結果、点りでの温度は６０℃±５℃で、出力変動は
１０．３ｄＢ、：ｉめて良好であった。
１０．３ｄＢ、：ｉめて良好であった。
それに比べて、／β＝９０°とした時、Ｄ３の温度が７
８′・１５℃となり、１５００／７Ｚ〜３０００７７１
の間での出力変動がｔａｄＢ となり、ドロップアウ
トも２〜４倍に増加した。
８′・１５℃となり、１５００／７Ｚ〜３０００７７１
の間での出力変動がｔａｄＢ となり、ドロップアウ
トも２〜４倍に増加した。
逆に、／β−２２０°とし、Ｄ３での温度を３５′士３
℃にしても出力変動は±０．３ｄＢで同じであり、Ｔｑ
以下であれば同じ効果が得られることを物語っている。
℃にしても出力変動は±０．３ｄＢで同じであり、Ｔｑ
以下であれば同じ効果が得られることを物語っている。
〔実施例２〕
直径２ｍの回転支持体に５°Ｃの冷却用媒を流しポリエ
チレンテレフタレートフィルム（Ｔｑ＝ｅａ、ｔｓ℃、
厚さ１１．６ｐｕｔ ）の両面に微小の突起を有する塗
布層を有する基板上に、同様に入射角４６° 以上でｃ
ｏ １００％ｉｏ、１３μｍの厚さに電子ビーム蒸着し
た。
チレンテレフタレートフィルム（Ｔｑ＝ｅａ、ｔｓ℃、
厚さ１１．６ｐｕｔ ）の両面に微小の突起を有する塗
布層を有する基板上に、同様に入射角４６° 以上でｃ
ｏ １００％ｉｏ、１３μｍの厚さに電子ビーム蒸着し
た。
なお酸素分圧は３−３ Ｘ １０−”Ｔｏｒｒ一定とし
た。
た。
このようにして３３００ ｔｒｉの長さにわたり蒸着し
諸条件によるテープ性能比較を行った。なおテープ幅ｉ
ｄ ７ ｍｍとし、記録波長は０ 、６ ／Ｊ ｏｒ
とした。
諸条件によるテープ性能比較を行った。なおテープ幅ｉ
ｄ ７ ｍｍとし、記録波長は０ 、６ ／Ｊ ｏｒ
とした。
ここで基板速度、１．ａ＋ ／βの条件組み合せｔ ＋
１１記する。
１１記する。
（８）基板速＄ ７２ｚｎ／ｍｉｎ、／α−５５°、
／β＝１０００（１ヨｌ） ＃
６０’ノＺ／ｍｉ ｎ 、 ／ａ＝６６ °／β＝
９００（ｑ ６０ｍ／ｍ ｉ ｎ ／
ａ＝５６°乙β二６００上記（Ａ） 、 （Ｂ） 、
（Ｑ各条件での点Ｄ３の基板温度は、それぞれ２９°±
３℃、３４±３℃、 ５９−ｔ ５℃で、出力変動は、
（への場合±０．３４ｄＢ、申）の場合土ｏ、３２ｄＢ
、（Ｃ）ｔＤ場合士０．３７ｄＢ と何レノ場合も良好
であった。
／β＝１０００（１ヨｌ） ＃
６０’ノＺ／ｍｉ ｎ 、 ／ａ＝６６ °／β＝
９００（ｑ ６０ｍ／ｍ ｉ ｎ ／
ａ＝５６°乙β二６００上記（Ａ） 、 （Ｂ） 、
（Ｑ各条件での点Ｄ３の基板温度は、それぞれ２９°±
３℃、３４±３℃、 ５９−ｔ ５℃で、出力変動は、
（への場合±０．３４ｄＢ、申）の場合土ｏ、３２ｄＢ
、（Ｃ）ｔＤ場合士０．３７ｄＢ と何レノ場合も良好
であった。
これらに比して、媒体の温度を６０℃としてＤ３での温
度が７１±２°ＣＫなった時は、長さ３３ｏＯＩηのう
ち、延べ長さ９６０ｍ相当のテープに出力変動が±３．
ａｄＢ 、ノイズの増加が４ｄＢもあった。
度が７１±２°ＣＫなった時は、長さ３３ｏＯＩηのう
ち、延べ長さ９６０ｍ相当のテープに出力変動が±３．
ａｄＢ 、ノイズの増加が４ｄＢもあった。
なお本発明は磁気テープ、ディスクを完成させるための
後工程での塗布工程などに限定を付すものでないのは明
らかである。
後工程での塗布工程などに限定を付すものでないのは明
らかである。
また基板についてポリアセテート、ポリアミドポリイミ
ド等フィルムの種類、および厚み１表面性１表面塗布層
の種類、条件によらないことと、磁性層の種類、厚み、
蒸発法の種類によらないことを、蒸着長さ３０００７７
１〜１５０００ｍにわたって確認した。
ド等フィルムの種類、および厚み１表面性１表面塗布層
の種類、条件によらないことと、磁性層の種類、厚み、
蒸発法の種類によらないことを、蒸着長さ３０００７７
１〜１５０００ｍにわたって確認した。
以上に説明したように本発明によると、広い面積にわた
って特性が均一で高性能の、短波長記録に適する磁気記
録媒体を安定に製造し得ることになジ、その工業的有価
値性は極めて大きい。
って特性が均一で高性能の、短波長記録に適する磁気記
録媒体を安定に製造し得ることになジ、その工業的有価
値性は極めて大きい。
図は本発明を実施するための製造装置の要部の一例を示
す図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・回転支持体、５・
・・・・・蒸発源、７・・・・・・ローラ。
す図である。 １・・・・・・基板、２・・・・・・回転支持体、５・
・・・・・蒸発源、７・・・・・・ローラ。
Claims (1)
- 支持体に沿って移動する高分子成形物基板上に蒸着法に
より強磁性層を形成した後、前記基板のガラス転移点を
Ｔｑとするとき、前記基板の温度がＴｑ以下になった状
態で前記基板を前記支持体から離脱せしめ巻き取ること
を特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57001984A JPS58121132A (ja) | 1982-01-08 | 1982-01-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57001984A JPS58121132A (ja) | 1982-01-08 | 1982-01-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58121132A true JPS58121132A (ja) | 1983-07-19 |
| JPH0334610B2 JPH0334610B2 (ja) | 1991-05-23 |
Family
ID=11516760
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57001984A Granted JPS58121132A (ja) | 1982-01-08 | 1982-01-08 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58121132A (ja) |
-
1982
- 1982-01-08 JP JP57001984A patent/JPS58121132A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0334610B2 (ja) | 1991-05-23 |
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