JPS58122957A - 成形組成物 - Google Patents

成形組成物

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JPS58122957A
JPS58122957A JP58000563A JP56383A JPS58122957A JP S58122957 A JPS58122957 A JP S58122957A JP 58000563 A JP58000563 A JP 58000563A JP 56383 A JP56383 A JP 56383A JP S58122957 A JPS58122957 A JP S58122957A
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bis
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group
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JP58000563A
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ペ−タ−・ビ−ル
ジエラ−ド・イ−・ライナ−ト
ラツセル・ピ−・カ−タ−・ジユニア
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Bayer AG
Bayer Corp
Original Assignee
Bayer AG
Mobay Corp
Mobay Chemical Co
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Publication date
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • C08K3/36Silica
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08KUse of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K3/00Use of inorganic substances as compounding ingredients
    • C08K3/34Silicon-containing compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L51/00Compositions of graft polymers in which the grafted component is obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds; Compositions of derivatives of such polymers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L67/00Compositions of polyesters obtained by reactions forming a carboxylic ester link in the main chain; Compositions of derivatives of such polymers
    • C08L67/02Polyesters derived from dicarboxylic acids and dihydroxy compounds

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ポリエチレンテレフタレート (pET)、
防炎剤、260C以上のfIn、度で架橋しなからI−
E Tと反応する重合体、焼成シリカ及び随Eler九
填ハリ及び/又は強化剤に基づく難燃性成形組成物、そ
のような成形組成物の以°造法、及びその、ルア彫物の
製造への使用法に関する。
難燃性であり、火災の際に小渭11を形成しないPET
成形札J、見物が必要で、しる。特にこれらのpE7’
 hyv形組成物は、Under−writer’ s
 Laboratoriesの条件UL−94−5Vに
より設定された試験標準の場合燃焼挙動VOを示すべき
である。
今回鴛くことに、難燃性PET成形組成物は、七nが防
炎剤、260C以上の温度で架橋しながらPETと反応
する重合体、焼成シリカ及び随時光填剤及び/又は強化
Fil]を富有するとき非常に望ましい燃焼挙動を示す
ことが発見された。
それ故に、本発明μ、 (■)  o、4dl/ノよりも高い、好ましくij、
0.55〜1.0 d llfの一1有粘i (71/
−ル10−:ノクロルベンゼン(kt比で6O−40)
中25Cで測廼)全有するs5リエテレンデレフタレ−
1・40〜95止口部、好iL<は50〜65畜t1部
;(+り防炎剤3〜201鼠昆′・、好1しくは5〜1
5重監部; (In)260C以上の温ptテ架1tK シなからP
ETと反[ひする重合体2−20狙骨部、好ましくは5
〜15重量部; (M)  焼成シリカ0.5〜x071<計部、好まし
くは1.5〜5重量部;及び随時、 (V)  光填剤及び/又は強化剤300 屯普部まで
、を含有する難燃性の熱可塑性ポリエチレンテレフタレ
ート成形組成物に関する。
更に本発明は、成分を溶融状態で均一化するととによる
そのようなpET成形組成物のlj造法にも関する。
史に本発明は、成形品、特に射出成形品の製造に対して
そのようなPET成形組成物を使用する方法に関する。
ポリエチレンテレフタレー) (1)は、ジカル4?ン
酪成分に基づいて少くとも80モルチ、好ましくは少く
とも90モルチのテレフタル酸基1.及びジオール成分
に基づいて少くとも80モル饅、好ましくは少くとも9
0モルチのエチレングリコール基を含有する。
ポリエチレンテレフタレート(1)は、テレフタル酸基
の他に、炭素数8〜14の他の芳香族ジカルメン酸、炭
素数4〜8の脂゛肪族シカルピン酸或いは炭素数8〜1
2の脂環族ジカルボン酸、例えばフタル酸、イソフタル
酸、ナフタレン−2,6−ソカルがン酸、ジフェニル−
414′−ジカルボン 5− 酸、アジピン酸、セパシン酸、及びシクロヘキサンジ酢
酸の基を20モルチまで含有していてもよい。
ポリエチレンテレフタレート(I)は、エチレングリコ
ール基の他に、炭素数3〜12の他のjl′F’、’肪
族ジオール、炭素数6〜15の脂環族ジオール、及び/
又は炭素数6〜21の芳香族ジオール、例えばプロ/ぐ
シー1.3−ジオール、ブタン−1,4−ジオール、ペ
ンタン−1,5−ジオール、ヘキサン−1,6−ジオー
ル、7クロヘキサンー1゜4−ソメタノール、3−メチ
ル−ペンタン−2゜4−ジオール、2−メチル−ペンタ
ン−2,4−ジオール、2.2.4−)リメチルーペン
タンー1.3−ジオール、2−エチル−ヘキサン−1゜
3−ジオール、2.2−ツメチル−プロ/4′ンー1゜
3−ジオール、ヘキサン−2,5−ジオール、1.4−
ジ(β−ヒドロキンエトキシ)ベンゼン、 6− 2.2−ビス(4−ヒドロキシシクロヘキシル)プロノ
Pン、2.4−ジヒドロキシ−1,1,3゜3−テトラ
ンうルシクロブタン、2,2−ビス(3−β−ヒトIJ
キシエトキシフェニル)ゾロパン及び2,2−ビス(4
−ヒドロキシ:l/′ロボキシフェニル)プロノ?ンの
基を20モル饅1で’i 壱’ していても工い。
ポリエチレンテレフタレート(1)は、独国公開特1F
I−ムシ1.900.270号及び米国特許第3,69
4744号に記述されている種類の3価又tよ4価のア
ルコール或いは三塩基性又は四塩基性のカルl−ン酸を
比1的少にで混入1゛ることにより分岐されていてもよ
い。好適な分岐剤の例は、トリメシン酸、トリメリット
酸、トリメチロールエタン及びゾロノセン及びペンタエ
リスリトールを含む。酸成分に基づいて筒々1モルチの
分岐剤を用いることが得策である。
単にテレフタル酸又はその反応性1j導体(例えばその
ジアルキルエステル又は無水物)及びエチレングリコー
ルから製造されたポリエチレンテレフタレート(■)は
特に好適である。
本発明の成形組成物に好適な防炎剤(It)tj、当業
者には十分公知の化学化合物を複数で含む。それら(d
一般に、発火遅延能力のために使用される化孝元累、例
えば臭素、塩素、アンチモン、燐及び窒素を含有する(
参照、例えば米国特許第4,136、089号)。防炎
剤(1)は、好ましくは随時有機又は無機アンチモン化
合物、例えば三酸化アンチモンと混合したハロゲン化有
機化合物(臭素化又は塩素化);元素状燐又は燐化合物
;燐化合物又は燐−窒素結合を含む化合物と混合したハ
ロゲン含有化合物である。
好適なハロゲン詮有防炎剤(II)は一般式〔式、中、
nは1〜10の整数を表わし;及びRは炭素数1〜20
のアルキレン又は°アルキリデン基或いは炭素数5〜2
0のシクロヘキシレン又はシクロアルキリデン基、例え
ばメチレン、エチト・ン、プロピレン、インプロピレン
、インプロピリデン、ブチレン、インブチレン、アミジ
ノ、シクロヘキシレン及びシクロペンチリデンを表ワス
〕に相当するものである。
Rは更に酸素原子、カルボニル基、硫黄原子又は誠黄含
有基例えばスルホキシド又はスルホン基;カーボネート
基;燐含有基も表わし;Rは更に例えば芳香族基、酸素
原子、エステル又はカルがニル基、硫黄原子、スルホキ
シド又はスルポン基或いは燐含有基によって一緒に結合
された2つ又はそれ以上のアルキレン又はアルキリデン
基からなっていてもよい。史にRは2仙jのフェノール
基例えばビスフェノールAの基又はカーづζネート基も
表わすことができる。
Ar及びAr’は炭素数6〜24のモノ−又はポリー炭
素壌式芳香族基、例えばフェニレン、ジフェニレン、タ
ーフェニレン及ヒナフチレンヲ懺わす。
Yは有機、無機又は金属−有機基を表わす。Yで表わさ
れる置換基は、ハロゲン例えば塩素、臭素、ヨウ素又は
弗素、ヒドロキシル或いは一般式OE (但しEJd、
1価の炭化水素基例えばXを表わす)に相当するエーテ
ル基、或いはRで表わされる種類の1価の炭化水素基又
は他の置換基例えばニトロ、シアノを表わす。但し上述
の置換基は実−l 〇 − 質的に不活性であり、アリール核当り少くとも1つ、好
ましくfi2つのハロケ゛ン似子が存在する。
Xは炭素Li1〜20のl仙1の炭化水素基を表わす。
この例は次の辿りである:アルキル例えばメチル、エチ
ル、プロピル、イングロビル、ブチル及ヒデシル;アリ
ール例えばフェニル、ナフチル、ビンエニリル、キシリ
ル及びトリル;アラルキル例エバベンジル及びエチルフ
ェニル;1価のIll;r塩族基例えばシクロペンチル
及びシクロヘギシル。
基Xが1つ以上存在する場合、これらの基は同一でも異
なってもよい。
上記一般式における文字dは1から、芳香族環Ar又は
Ar’に結合した1′換しうる水素の数の鰍隔当−″数
までの整数を表わす。文字eは0又は1から、Rの置換
しうる水素の最高数までの整数を表わす。文字aX b
及びCは0又は1〜24の整数を懺わす。bがO以外を
表わすならは、αもCもOを表わすことができない。他
にa又はCのいずれかは同時でなくて0を表わしてもよ
い。bが0を表わすならば、芳香族基は直接の炭素−炭
素結合によって互いに結合する。
芳香族基Ar及びAr’のヒ1゛ロキシル及びY岐換基
は芳香族環のo−1情−父はp−位に存在してよく、ま
た基は相互のいずれか可能な結合を有することもできる
次の好適な化合物は、上記一般式の範囲内に含1れる: 2.2−ビス−(3,5−ジクロルフェニル)−プロパ
ン、 ビス−(21’ロルフエニル>  −メタン、ビス−(
2、6−ソプロムフエニル)−メタン、1.1−ビス−
(4−ヨードフェニル)−エタン、1.2−ビス−(2
,6−ジクロルフェニル)−エタン、 1.1−ビス−(2−クロル−4−ヨードフェニル) 
−エタン、 1.1−ビス−(2−クロル−4−メチルフェニル)−
エタン、 1 、1−ビス−(3I5−ジクロルフェニル)−エタ
ン、 2.2−ビス−(3−フェニル−4−ブロムフェニル)
−エタン、 2.2−ビス−(4,6−ジクロルナフチル)−プロパ
ン、 2.2−ビス−(2,6−ジクロルフェニル)−ペンタ
ン、 2.2−ビス−(3,5−ジクロルフェニル)−ヘキサ
ン、 ビス−(4−クロルフェニル) −フェニル−メタン、 ビス−(a 、 s−シ)ロルフェニル)−シクロへ−
13− キシル−メタン、 ビス−(3−ニトロ−4−ブロムフェニル)  −メタ
ン、 ビス−(4−ヒドロキシ−2,6−フクロルー3−メト
キシフェニル)−メタン、 2.2−ビス−(3,5−ジクロル−4−ヒドロキシフ
ェニル)−fロノぞン、 2.2−ビス−(3−ブロム−4−ヒドロキシフェニル
)−プロノセン。
上記一般式は、置換ベンゼン例えば好ましくはテトラブ
ロムベンゼン、ヘキサブロムベンゼン及びヘキサブロム
ベンゼン、ビフェニル例Ltd2゜2−ジクロルビフェ
ニル、2.4’−ツブロムビフェニル、2.4′−ジク
ロルビフェニル、ヘキサブロムビフェニル、オクタブロ
ムビフェニル及びデカゾロムビフェニル、及びハロrン
IJi子’&2〜10個含有スるハロゲン化ソフェニル
エーテルを含む。
本発明の目的に対して特に好適々ハロゲン化合%lは、
力香族ハロゲン化合物例えば塩素化ベンゼン、臭素化ベ
ンゼン、塩素化ビフェニル、塩素化ターフェニル、臭素
化ビフェニル、臭素化ターフェニル或いは互いに2価の
アルキレン基によって結合した2つのフェニル基を含有
し及びフェニル核当り少くとも2つの塩素又は臭素原子
を有する化合物を含む。
ヘキサブロムベンゼン及び臭素化又は塩素化ビフェニル
又はターフェニル単独或いは三酸化アンチモンとの混合
物は特に好適である。
好適な含燐防炎剤([I)は、一般に元素状燐又は有機
燐化合物例えばホスホン酸、ホスホネート、ホスフィネ
ート、ホスホナイト、ホスフィナイト、ホスフィンオキ
シト、ホスフィン、ボスファイト又はホスフェートから
選択される。
トリフェニルホスフィンオキサイドはこの種の化合物の
例である。それらは単独で或いはヘキサブロムベンゼン
と又は塩素化ビフェニル及び随時三酸化アンチモンと混
合して使用することができ  Iる。
本発明の目的に対して使用しうる代表的な好適な燐化合
物は、次の一般式 %式% 〔式中、Qは同一でも異なってもよく且つ例えば炭素数
l〜12の炭化水素基例えばアルキル、シクロアルキル
、アリール、アルキル#換アリール及びアリール−゛換
アルキル;ハロゲン、水素或いはこれらの組合せを表わ
し、但し基Qの少くとも1つはアリール基を表わす〕 に相当するもの及びその窒素同族体を含む。適当なホス
フェートの好適な例は次のものを含む:フェニルービス
ードデシルーポスフエート、フェニル−ビス−ネオペン
チル−ホスフェート、フェニル−エチレン−水床−ホス
フエート、フェニル−ビス  (3、5、5’−)リメ
チルーヘキシルーホスフエート)、エチル ジフェニル
−書スフエート、2−エチル−ヘキシルジー(p−)I
Jル)−ポスフェート、ソフェニルー水素−ホスフエー
ト、ビス−(2−エチルヘキシル)−7+−)’Jルホ
スフエート、トリトリル−ホスフェート、ビス−(2−
エチルヘキシル)−フェニル−ホスフェ−)、)IJ−
(ノニルフェニル)−ホスフェート、フェニル−メチル
−水素−ホスフェート、ノー(ドデシル)  −’I)
−トリル−ホスフェート、トリクレジルホスフェート、
トリフェニルホスフェート、ハロダン化トリフェニルホ
スフェート、ノブ−17− チル−フコニニルホスフエー)、2−10ルエチルージ
フェニルーポスフェート、p−トリル−ビス−(215
15’−1!Jメチルヘキシル)−ホスフェート、2−
エチルヘキシルーツフェニル−ホスフェート、及びジフ
ェニル−水素−ホスフェート。
特に好適なホスフェートに1各々の基Qが芳香族である
ものである。トリフェニルホスフェートは好週ナホスフ
ゴートである。トリフェニルホスフェートはへヤザブロ
ムベンゼン及び随時三酸化アンチモンとiN↓合せても
使用される。
好適な燐化合物は重合体形でも使用しうる。この種の特
に好適な化合物はボ+J−(4,4’−ジオキシジフェ
ニルシ)−メチル−ホスホネート又はポリ−(4,4’
−ジオキシジフェニル−2,2−プロパン) −メチル
−ホスホネートを含ム。
他の好適な発火i!!処附加剤は燐−金素結合を含む化
合物、例えばホスホニトリルクロライド、燐−18− 「tエステルアミP1燐酔アミド、ホスホン酸アミド、
ホスフィン酸アミド、トリー (アジジリジニル)−ホ
スフィンオキサイド又はテトラキス−1、(ヒドロキシ
メチル)−ホスホニウムクロライドを含む。
ハロダン化された2価のフェノールのカー&4−トのオ
リゴマーは特に好適な防炎剤(1)である。
好適なオリゴマーけ、一般式 〔式中 Hs及びR″は水素、戻累数1〜4のアルキル
又はフェニルヲ衣わし、 Xl及びX!は臭素又は塩素を表わし、及び m及びrは1〜40豊数を表わす〕 に相当する反復単位を2〜201i:’:含む。
これらのオリゴマー添加剤1】、200Cを趙える温度
までの低揮発性と約3000より低い軟化点とを不する
。それらは、即独で或いは相乗効果を示す物質、例えば
無機又は有機アンチモン化合物と組合せて偵用すること
ができる。
特に好適な防炎剤(II)は、240υを越える融1点
を有し且つ分子当り少くとも1つのイミド基を含有する
ハロケ゛ン化不機化合物の、無機又は有機アンチモン化
合物との組合せたものを含む。イミド基を含有する好適
な防炎剤(1)は、アリーレン基がフェニレン、ジフェ
ニレン、ナフチレン又ハ弐〇 に相当する基でおるハロダン化N 、 Nl−アリーレ
ン−シフタルイミド;テトラハロゲン化未置換の及びテ
トラハロゲン化C,,C6アルキル置換の7タルイミド
及びシクロヘキシルジカルボキシイミド、 N 、 N
l−ビス−(ジグロムーシクロヘキサンージカル?キシ
イミド)及びC8〜C・アルキレン又は06〜C1!ア
リーレン基を介して結合したN。
Nl−C,〜C6アルキレンービスー(テトラハロゲン
−フタルイミド)を含む。
この種の特に好適なイミドは、一般式 〔式中、Halはハロゲン、特に塩素又は臭素を表わし
冨 R1はC1,C、アルキル又はアルキレン基、フェニル
又ハフエニレン基、トルイル又バドルイレン基、シクロ
ヘキシル又はシクロ21− ヘキシレン基、式 に相当する基、ナフチル又はナフチレン基、或いり、単
結合を表わし; 8及びtは0又はlを表わす〕 に相当する。
本発明に好適でちるN 、 N’−C,〜C6アルキレ
ンービスー(テトラハロゲンフタルイミド)及びその製
造法は米国特許第4.087.441号から公知である
好適な# 、 Nl−アルキレン−ビス−(テトラハロ
ゲンフタルイミド)は、 R3がC1〜C6アルキレン基、好ましくはエチレン基
を表わし、 E a lが塩素又は好ましくは身素を表わし、8が0
を表わし、及び tが1を表わす、 上記一般式に相当する。
最も好適なN 、 Nl−アルキレン−ビス−(テトラ
ハロゲン−フタルイミド)dN、N’−エチレン−ビス
−(テトラブロム−フタルイミド)である。
この化合物の、ポリエステル例えばpETに対する防炎
剤としての使用法は公知である(日本国特許願/S−1
19041号;英国特許第1.287゜934号、米国
特許第3.624.024号及び第3゜873.567
号)。
他の好適なイミドは、1,4,5.6−チトラプロムー
2.3−フタルイきド、N−メチロール−テトラブロム
−フタルイミド、N、Nl−ビス=(1,4、s 、 
6−チトラプロムー2.3−フタルイミド)、N、Nl
−p−フェニレンージテトラクロルーフタルイミド、N
、Nl−ソテトラクロルーフタルイミド、IV、Ml−
p−フェニレンージテトラブロムーフタルイミト°、N
 、 Nl−ビス−(5゜6−ジブロム−シクロヘキサ
ンー2.3−ジカルボキシミド)及びN、Nl−1,2
−エタン−ビス−(5,6−ジブロム−シクロヘキサン
ー2,3−ジカルボキシミド)を含む。
更に好適なイミドは英国特ト第1,287,934号、
及び米国特許第3.868.388号、第3.873、
567号、第3,915,930号、1亀923,73
4号、第4.019.179号及び第4.003.86
2号から公知である。
260C以上の温度で架橋しながら(1)と反応する重
合体(Ill)は、王にエステル及び/又はニトリル基
會有するグラフト重合体、分岐した又は部分的に架橋し
た重合体である。グラフト下1合体は好適な1合体であ
る(it)。
これらのグラフト重合体(1)は、単量体の寅質的なt
がプレポリマー(,4)にグラフトされるように、オレ
フィン性不飽和単量体をプレポリマー(,4)の存在下
に重合させることによって得られる。そのようなグラフ
ト重合体の製造は原理的に公知である(R,J、Cer
gsa著、Block andGraft Copol
ymers、 Buttsrworth、 Londo
nl 962)。
特に好適な重合体(+1)は、 (A)(α)C0〜C6アルキルアクリレート75〜9
9.8重量部、 (6)  共役してないオレフィン性二重結合を少くと
も2つ含有する単量体0.1〜5重量部、(C)  グ
ラフトベースとしての他の単量体θ〜40重煽部、 の共重合体25〜95重量部;及び (B)   CA>の存在下に製造された少くとも1つ
のオレフィン性不飽和単シ体の1合によって得られる樹
脂75〜5重量部、 から得られるグラフト1合体である。
n−ブチルアクリレートは好適なC1〜C6アルキルア
クリレート(a)である。
共役してない二重結合を、分子当りに少くとも2つ含肩
する好適な単量体(b)は、多価アルコール、特に炭素
数2〜8及びヒドロキシル基数2〜4のもののアクリル
酸及びメタクリル酸エステル、例えばブチレンジアクリ
レート及びジメタクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート;ソー及びトリービニルベンゼン、
ビニルアクリレート及びメタクリレート;不飽和モノ−
及びソーカルボン酸のアリルエステル、例えばアリルア
クリレート及びメタクリレート、ソアリルマレエート、
フマレート及ヒイタコネート、マレイン酸、フマル酸及
びイタコン酸モノアリルエステル;及び蕩!モ・シうる
二重結合を含有しないポリカルボン酸のジアリルエステ
ルを含む。
ブチレンツアクリレート、アリルメタクリレート及びジ
アリルマレエートは特に好適な単量体(b)でおる。
更なる好適な単量体(C)は、エチレン、イソプレン、
ビニルエーテル、プタソユン、スチレン、ビニルエステ
ル、ビニルハライド、ビニル置換M素壌化合物、例えば
ビニルピロリドン、アクリロニトリル及びそのような単
量体の混合物を含む。
成分(B)の製造に好適なオレフィン性不飽和の単量体
は、C,、C4アルキルアクリレート及びメタクリレー
ト、スチレン及びアクリロニトリルを含む。成分(B)
の製造に使用されるこれらの単量体は、好ましくncs
〜C4アルキルメタクリレートを少くとも50重量%で
含有する。
グラフト1合体(Ill)が極性基をかな多含有する場
合、それは好適である。そのlop’慾係以上が(メタ
)アクリル酸エステル及び(メタ)アクリロニ) Il
ルからなる生成物は好適に使用される。
(メタ)アクリル酸エステルの含量が70 Tic f
lHチよシ高い場合、 (メタ)アクリロニトリルを共
成分として使用[2ないととが好ましい。
好適なグラフト重合体(Ill)は、 グラフトベース60〜951゜量%及びグラフト物質4
0〜5重量嗟からなり、但しグラフトベースが、 ブチルアクリレート95〜99.8重fA′チ;ブチレ
ンツアクリレートO1〜z5重@%、及びアリルメタク
リレート又はジアリルマレエート0、1〜25重曹チ、 を含む単量体混合物から得ることができ;そしてグラフ
ト物質が、 メチルメタクリレート60〜1001M%、及び他の単
量体40〜01P%、 を含んでなる、 重合体である。
好適なグラフト升合体(Ill)は、0.2〜06μm
1好ましくは0.3〜0.5μmの平均粒子直径dno
を有する(F、 Sh、oltan、 H,Lange
 、 KoUoid 。
Z、 u、 ;、 Polymere  250.78
2〜796(1972)に従い、超遠心分離を用いて測
定)。
これらのグラフト重合体(III)のグラフトシェル(
graft 5hell)  は、:r−スf ル基又
はニトリル基を含有する単量体の基を少くとも5モルチ
、好ましくは少くとも25モル係含有する。
特に好適なグラフト重合体(Ill)は、通常の乳化重
合法による多段法に従い、第1段ではL−ブチルアクリ
レ−)、1.3−ブチレンジアクリレート及びジアリル
マレエート、第2段ではメチルメタクリレートから製造
することができる。この時好適な単量体比(重量比)は
約79.210.410.4/20.0である。
架橋単量体の(第1段にお(ハ)る単量体の合一1に基
づいての)M量n合及び架橋単量体における官能基数の
商と17で表わされる第1段の架橋度は、好ましくは0
.05〜1.25%でるる。
他の特に好適々グラフト面合体(Ill)は、(T) 
 半分までがアクリロニトリルで代替されていてもよい
1種又はそれ以上の(メタ)アクリルrtlc+〜C6
アルキルエステルの([Il)に基づいて10〜40重
量%を、 (It)  グラフトベースとしてのブタジェン基の(
Il)に基づいて少くとも70重量%を含有し、グラフ
トベース(It)のグル含゛社が(トルエン中で測定し
て)好ましくは70重量%より多いブタジェン重合体の
(1)に基づいて60〜90重グラフトさせることによ
って製造でき、但しグラフトの程度Gが0.15〜0.
55であり及びグラフト1、合体(Ill)の平均粒子
直径”!(lが0.2〜0.6 p mである12合体
である。
他の特にfjI適なグラフト用合体(m)は、(1) 
 (a)  アクリロニトリルの、(a)+(b)に基
づいてlO〜35■v%、好捷しくけ20〜35重量%
及び (b)  スチレンの、(α) + (b)に基づいて
65〜90重量%、好ましくは65〜801怜%、 の混合物の(m)に基づいてlO〜403量チ、好まし
くは10〜35重量%、更に好壕しくは15〜25重量
%を、 (n)  グラフトベースとしてのブタジェン基の(I
I)に基づいて少くとも70重i%を含有し、グラフト
ベース(ff)のグル含量が(トルエン中で測定して)
好ましくは70重量%以上、更に好ましくは80重量%
以上であるブタジェン重合体の(1)に基づいて60〜
90 ’?!1: %、好ましくは65〜90重景係、
更に好ましくは75〜80重9%に、グラフトさせるこ
とによって得られ、但しグラフトの程度Gが0.15〜
0.55であり及びABSグラフトi合体(10)の平
均粒子直径d、oが0.2〜0.6μm、好ましくは0
.3〜05μmX史に好まI−7<は約0.4μmであ
る重合体である。     ゛ブタジェン重合体は他の
単量体の基を30宣誓%まで含有していてもよい。
[焼成シリカ(pyro(Hnic 5ilica )
 J  (w)とは、四塩化珪累、水素及び酸系から火
焔加水分解により、或いは石英から電気アーク法により
!!!造される合成シリカをいう。参照H,Ferch
、Ch#m −Ing、−Tech、48、Ji 11
 、 922−933(19761゜火焔加水分解によ
って製造されるシリカは本発明の成形組成物に対して好
適である。
ガラス繊維は好適な強化剤(V)である。しかしながら
史に顔料、染料、安定剤、核形成剤、UV吸収剤、潤滑
剤及び1111Ii6!4剤も本発明による成形組成唆
Jに姫加しうる。
米lXl!!Ihi’第4.223.113号カC) 
’A 知ノオ!J コマ−も本発明による成形組成物に
添加して低成形温度における処理を改善してもよい。
成分(1)〜(IV)又は(1)〜(V)及び随時史な
る助削及び泳加剤は冨法で、例えばニーグー或いは単軸
又は双軸押出し機甲において混合することができる。
p E T成形tl−1成物に対する射出成形の栄件は
公知である;米−%計第a、 s 16.9 s 7号
及びErvin J、 Rubin著、Injecti
on MouldingTheory and Pra
wis、 Filmy Interscience。
1972、を参照。
−33− 次の実施例で示す部及びパーセントは重脩部及び重知チ
である。
実施例 次の原料を用いた: フェノール/テトラクロルエタン (7h 量比t :
1)中0,5係浴液として25cでが]j定して0.6
2d17yの置方粘度を有するpET 。
防グ≧gJ組合せ物の臭素化合物としてN、N′−エチ
レン−ビス−(テトラブロム−フタルイミド)(ETP
J)i n−ブチルアクリレ−)、1..3−ブチレン−ジアク
リレート、ソアリルマレエート及びメチルメタクリレー
トに恭っく米国喘:i71昭4.096.202号の央
JM?1J26に相当するグラフト用合体(、()(「
グラフト」); 架橋したポリブタツエンからなるグラフトベース80%
及びポリメチルメタクリレートからなる− 34− グラフトベース80%及びメチルメタクリレート6部及
びアクリロニトリル4部からなるグラフト物質20チを
含有するグラフト重合体(C) ;焼成シリカ、三酸化
アンチモン及び短いガラス繊維。成形組成物は核形成剤
としてミクロタルクを及び安定剤0.3チ以下を含有し
た。
成形組成物を250Cの組成物温度で射出成形した。成
形温度は100Cであつfc。
127XIZ7X1.6mrRの寸法を有する試験棒を
用いて、UL94−5Vの変形(以下[UL94−10
VJと呼ぶ)によって試験した。燃焼硝動の計測には次
の基準を適用しff、、:それぞれブンゼンバーナによ
!1l15秒間の間隔で5秒間lO回溜火した試験棒5
本は、 1.10回目の着火後60秒間より長い間燃焼又は赤熱
しつづける試験棒を含有しない、2、 小滴を形成する
試験棒を含有しない、及び3、着火域が顕著に損傷を受
けた試験棒を含有しない、 ものであるべきである。
次の表に示す量は重値部である: 第1頁の続き 0発 明 者 ジエラード・イー・ライナートアメリカ
合衆国ペンシルベニア 州15317マクマレー・フライア ーレイン304 0発 明 者 ラッセル・ピー・カーター・ジュニア アメリカ合衆国ウェストバージ ニア州26155ニューマーチンズ ビル・オーチャードドライブ12 0出 願 人 モベイ・ケミカル・コーポレーション アメリカ合衆国ペンシルベニア 州15205ピッツバーグ・ペンリ ンカンパークウェイウェスト (番地なし)

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、  (1)  0.4 di/fよりも高い固有粘
    度(フェノール10−ジクロルベンゼン(ffiit比
    で60:40)中25CでM 疋)を壱するポリエチレ
    ンテレフタレート40〜951量部; (n)  防炎剤3〜2ON址部; (III)260C以上の温阪で架橋しながらp、ET
    と反応するル1合体2〜20重置部; (IV)  焼成シリカ0.5〜10重量郡;及び随時
    (V)  充填剤及び/又はり虫化剤300重量部まで
    、を貧有する難慾性の熱可塑性、l?リエチレンテレフ
    タレート成形イ91(酸物。 2(I)を5υ〜65皇鮭部含令゛する4f許ii’+
    4氷の1lIIチ囲錨l狽記載の成形内訂l戊物。  1− 3、成分(+)カ0.55〜1.. Od l / t
    (D固有粘度(フェノール10−ジクロルベンゼンCI
    L m比で60:40)中25t?で渋り定)を准する
    料u1・請求の範囲第1又は2項h1−載の成形組成物
    。 4、  (n)を5〜15重釦部含有する特許請求の範
    囲第1〜3歩のいずれかにも1献の成形組成物。 5、  (III)を5〜15匝に部台南する躬“庄1
    島求の馳11第1〜4騙のいずれ〃1に記載の成形組成
    物。 6、  (■)を1,5〜51量部名壱する%許gps
    ’ ;’l’、のψI)囲妬1〜5JJのいずれかにi
    4L載の成形ホ11底物。 7、  f4’i;分を溶融物として均一にする特’t
    ’+’ =氷の411’囲第1〜6.!J4のいずれか
    にi6載の成形組成物の製造法。 8、特に射出成形品の製造eこ対する特11■求の11
    11第1〜6JJiIのいずれかにi已載の成形組成物
    の使用法。
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