JPS58133830A - オゾン消去方法およびその装置 - Google Patents
オゾン消去方法およびその装置Info
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- JPS58133830A JPS58133830A JP57015686A JP1568682A JPS58133830A JP S58133830 A JPS58133830 A JP S58133830A JP 57015686 A JP57015686 A JP 57015686A JP 1568682 A JP1568682 A JP 1568682A JP S58133830 A JPS58133830 A JP S58133830A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
- B01J19/12—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor employing electromagnetic waves
- B01J19/122—Incoherent waves
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
空気中での放電や空気への紫外線、Ｘ線などの照射によ
りオゾンは発生する。オゾンは強力な酸化作用をもつた
め、消毒、殺菌、酸化反応などに利用されるが、毒性も
強く、５０ ｐｐｍで３０分以１−吸入すると死亡のお
それもある（０．０２〜ｏ、Ｏ５ｐｐｍで独特の臭気が
感じられ、０．１ ｐｐｍが８時間における許容最高濃
度といわれる）。
りオゾンは発生する。オゾンは強力な酸化作用をもつた
め、消毒、殺菌、酸化反応などに利用されるが、毒性も
強く、５０ ｐｐｍで３０分以１−吸入すると死亡のお
それもある（０．０２〜ｏ、Ｏ５ｐｐｍで独特の臭気が
感じられ、０．１ ｐｐｍが８時間における許容最高濃
度といわれる）。
本発明はオゾンを安全かつ確実に、しかもわずかのエネ
ルギーで消去する方法およびその装置を提供することを
目的とするものである。
ルギーで消去する方法およびその装置を提供することを
目的とするものである。
従来、オゾンの消去方法としては、（１）熱分解法（１
５０〜２００℃以上の固体に接触させる）、（２＋触媒
法（活性炭、銀−ニッケル触媒にと）、の方法が知られ
ているが、熱分解法では、オゾンを分解するのにオゾン
以外の気体も同りように加熱しんければならず熱エネル
ギーの大量消費がさけられないし、触媒法では、触媒が
消耗してしまったり（活性炭）、オゾンと共存する可能
性のある他の゛ガス、例えば、水・炭酸ガス・窒素酸化
物なとに−って失活したり、再生処理が必要となる（銀
−！Ｓ！！−ツケル）などの欠点を有する。
５０〜２００℃以上の固体に接触させる）、（２＋触媒
法（活性炭、銀−ニッケル触媒にと）、の方法が知られ
ているが、熱分解法では、オゾンを分解するのにオゾン
以外の気体も同りように加熱しんければならず熱エネル
ギーの大量消費がさけられないし、触媒法では、触媒が
消耗してしまったり（活性炭）、オゾンと共存する可能
性のある他の゛ガス、例えば、水・炭酸ガス・窒素酸化
物なとに−って失活したり、再生処理が必要となる（銀
−！Ｓ！！−ツケル）などの欠点を有する。
本発明は上記の欠点を改良すべく考えられたもので、簡
便かつ経済的に、また必要に応してはオゾン発生源と同
一空間内にふ・いて、オゾンを消去する方法およびその
装置を提供する。本発明１４、オゾンを含む気体に２２
０〜２９Ｑｎｍ、とくに２４０〜２７５ ｎ ｍの特定
の波長の光を照射することによりオゾンが分解されると
いう新しい全県に基づいてなされたものである。
便かつ経済的に、また必要に応してはオゾン発生源と同
一空間内にふ・いて、オゾンを消去する方法およびその
装置を提供する。本発明１４、オゾンを含む気体に２２
０〜２９Ｑｎｍ、とくに２４０〜２７５ ｎ ｍの特定
の波長の光を照射することによりオゾンが分解されると
いう新しい全県に基づいてなされたものである。
本発明に用いられる光源としては、２００ ｎ ｍ以上
の波長の光をふくまず、２２０〜２９０ ｎ ｍ好まし
く Ｕ ２４０〜２７５１ ｍの光を出すものなら、ど
のような光源でも用いうるが、一般には低圧水銀灯、と
くに２５３．７ ｎ ｍの波長を主成分とし、しかも２
ＱＱ’ｎｍ以下の波長を出さないものが用いられみ以下
、実施例で具体的に本発明を説明するが、本発明が実施
例に限定されるものではない。
の波長の光をふくまず、２２０〜２９０ ｎ ｍ好まし
く Ｕ ２４０〜２７５１ ｍの光を出すものなら、ど
のような光源でも用いうるが、一般には低圧水銀灯、と
くに２５３．７ ｎ ｍの波長を主成分とし、しかも２
ＱＱ’ｎｍ以下の波長を出さないものが用いられみ以下
、実施例で具体的に本発明を説明するが、本発明が実施
例に限定されるものではない。
実施例１
高圧水銀灯（ｓｋｗ）を光源とする感光性樹脂の硬化装
置において、高圧水銀灯の冷却に利用した空気中に含ま
れるオゾンを、２５３．７ ｎ ｍの波長の光を放射す
る低圧水銀灯で、２００ ｎ ｍ以下の成分をふくまな
いランプの４０Ｗを４本並べたダクト中に流速１０ｍ／
分で通過させた。オゾン濃ＩＷは、未処理の１５ ｐｐ
ｍから０．０１ ｐｐｍに低下した。
置において、高圧水銀灯の冷却に利用した空気中に含ま
れるオゾンを、２５３．７ ｎ ｍの波長の光を放射す
る低圧水銀灯で、２００ ｎ ｍ以下の成分をふくまな
いランプの４０Ｗを４本並べたダクト中に流速１０ｍ／
分で通過させた。オゾン濃ＩＷは、未処理の１５ ｐｐ
ｍから０．０１ ｐｐｍに低下した。
実施例２
波長２５３．７ ｎ ｍを主成分とし２００ ｎ ｍ以
下の光を出さない低圧水銀灯（ランプＡとする）で２０
Ｗのもの２本と、波長２５３．７ ｎ ｍを主成分とし
１８４．９ ｎ ｍの光を出す低圧水銀灯（たとえば、
２５３．７ｎｍと１８４．９ ｎ ｍの強度比が、１０
０：３であるような低圧水銀灯、ランプＢとする）で２
０Ｗのもの２本とを組み入れた密閉型殺菌消毒装置にお
いて、ランプＡｉ−よびＢの同時点灯により２分間の殺
菌処理をおこない（この時の装置内オゾン濃度は数１０
〜数１００ ｐｐｍと推定される）、ついでランプＡの
みを４分間点灯し開扉したところオゾン臭は全く感じら
れなかった（オゾン濃度は０．０２ ｐｐｍ以下）。
下の光を出さない低圧水銀灯（ランプＡとする）で２０
Ｗのもの２本と、波長２５３．７ ｎ ｍを主成分とし
１８４．９ ｎ ｍの光を出す低圧水銀灯（たとえば、
２５３．７ｎｍと１８４．９ ｎ ｍの強度比が、１０
０：３であるような低圧水銀灯、ランプＢとする）で２
０Ｗのもの２本とを組み入れた密閉型殺菌消毒装置にお
いて、ランプＡｉ−よびＢの同時点灯により２分間の殺
菌処理をおこない（この時の装置内オゾン濃度は数１０
〜数１００ ｐｐｍと推定される）、ついでランプＡの
みを４分間点灯し開扉したところオゾン臭は全く感じら
れなかった（オゾン濃度は０．０２ ｐｐｍ以下）。
なふ・、この装置はオゾン消去用にニクロム線ヒータ等
の熱源を一切使用していないために、ランプ寿命は約３
０００時間以上と長く、しかも被消毒物の表面温度上昇
が少ないという特長を有した。
の熱源を一切使用していないために、ランプ寿命は約３
０００時間以上と長く、しかも被消毒物の表面温度上昇
が少ないという特長を有した。
特許出願人
Claims (2)
- （１）オゾンをふくむ気体に２２０〜２９０ ｎ ｍｌ
：′Ｍましくは２４０〜２７５ｎｍの波長の光を明射ν
ることを特徴とするオゾンの消去方法。 - （２）オゾンの消去方法として特許請求範囲第１項胞載
の方法を用いるオゾン消去装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57015686A JPS58133830A (ja) | 1982-02-03 | 1982-02-03 | オゾン消去方法およびその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57015686A JPS58133830A (ja) | 1982-02-03 | 1982-02-03 | オゾン消去方法およびその装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58133830A true JPS58133830A (ja) | 1983-08-09 |
Family
ID=11895632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57015686A Pending JPS58133830A (ja) | 1982-02-03 | 1982-02-03 | オゾン消去方法およびその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58133830A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6382669A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-13 | 傅法 文夫 | オゾンガス利用の殺菌方法及びその装置 |
-
1982
- 1982-02-03 JP JP57015686A patent/JPS58133830A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6382669A (ja) * | 1986-09-26 | 1988-04-13 | 傅法 文夫 | オゾンガス利用の殺菌方法及びその装置 |
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