JPS5813540B2 - 1,2,3,4− テトラヒドロイソキノリンルイノ セイゾウホウ - Google Patents
1,2,3,4− テトラヒドロイソキノリンルイノ セイゾウホウInfo
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- JPS5813540B2 JPS5813540B2 JP511575A JP511575A JPS5813540B2 JP S5813540 B2 JPS5813540 B2 JP S5813540B2 JP 511575 A JP511575 A JP 511575A JP 511575 A JP511575 A JP 511575A JP S5813540 B2 JPS5813540 B2 JP S5813540B2
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Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は一般式
(式中,R3およびR4はヒドロキシ基、低級アルコキ
シ基またはアル(低級)アルコキシ基、Yは酸残基をそ
れぞれ意味する) で示されるテトラヒドロイソキノリン誘導体またはその
塩類に一般式 R5−XH(■) (式中、R5は低級アルキル基で置換されていてもよい
トリアゾリル基、テトラゾリル基、チェニル基、チアジ
アゾリル基、ピリミジニル基,ピリジル基、オキソテ、
トラヒドロフリル基もしくはベンゾチアゾリル基、Xは
−O−または−S−をそれぞれ意味する) で示される複素環誘導体を作用させて一般式(式中、R
3,R4,R,およびXは前と同じ意味) で示される1,2,3.4−テトラヒドロイソキノリン
誘導体またはその塩類を得ることからなる1.2,3.
4−テトラヒドロイソキノリン類の製造法に関するもの
である。
シ基またはアル(低級)アルコキシ基、Yは酸残基をそ
れぞれ意味する) で示されるテトラヒドロイソキノリン誘導体またはその
塩類に一般式 R5−XH(■) (式中、R5は低級アルキル基で置換されていてもよい
トリアゾリル基、テトラゾリル基、チェニル基、チアジ
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−O−または−S−をそれぞれ意味する) で示される複素環誘導体を作用させて一般式(式中、R
3,R4,R,およびXは前と同じ意味) で示される1,2,3.4−テトラヒドロイソキノリン
誘導体またはその塩類を得ることからなる1.2,3.
4−テトラヒドロイソキノリン類の製造法に関するもの
である。
この発明の原料化合物(I)は、例えば特開昭49−2
0188号公報記載の方法により製造することができる
。
0188号公報記載の方法により製造することができる
。
この発明の反応は、テトラヒドロイソキノリン誘導体(
I)またはその塩類に複素環誘導体(■)を作用させる
ことにより行なわれる。
I)またはその塩類に複素環誘導体(■)を作用させる
ことにより行なわれる。
テトラヒドロイソキノリン誘導体とは前記一般式(I)
で示され、さらに詳細には同一もしくは異って、ヒドロ
キシ基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ等の低級アルコキシ基またはベンジルオキシ、フエ
ネチルオキシ等のアル(低級)アルコキシ基をR3およ
びR4として有し、塩酸、臭化水素酸、よう化水素酸、
硫酸、アルキル硫酸、トルエンスルホン酸,ベンゼンス
ルホン酸、ジアルキルカルバミン酸等の酸の残活をYと
して有する化合物を意味する。
で示され、さらに詳細には同一もしくは異って、ヒドロ
キシ基、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポ
キシ等の低級アルコキシ基またはベンジルオキシ、フエ
ネチルオキシ等のアル(低級)アルコキシ基をR3およ
びR4として有し、塩酸、臭化水素酸、よう化水素酸、
硫酸、アルキル硫酸、トルエンスルホン酸,ベンゼンス
ルホン酸、ジアルキルカルバミン酸等の酸の残活をYと
して有する化合物を意味する。
また、テトラヒドロイソキノリン誘導体(I)の塩類と
しては、塩酸塩、硫酸塩、臭化水素酸塩等の無機酸との
塩もしくは酢酸塩、修酸塩,酒石酸塩等の有機酸との塩
が挙げられる。
しては、塩酸塩、硫酸塩、臭化水素酸塩等の無機酸との
塩もしくは酢酸塩、修酸塩,酒石酸塩等の有機酸との塩
が挙げられる。
複素環誘導体とは前記一般式(■)で示され、さらに詳
細には、例えばメチル、エチル、プロピル,イソプロピ
ル,ブチル、イソブチル、第3級ブチル、ペンチル,ヘ
キシル等の低級アルキル基で置換されていてもよいトリ
アヅリル基、テトラゾリル基、チェニル基、チアジアゾ
リル基、ピリミジニル基、ピリジル基.オキソテトラヒ
ドロフリル基もしくはベンゾチアヅリル基をR5として
有し、−O−または−S−をXとして有する化合物を意
味する。
細には、例えばメチル、エチル、プロピル,イソプロピ
ル,ブチル、イソブチル、第3級ブチル、ペンチル,ヘ
キシル等の低級アルキル基で置換されていてもよいトリ
アヅリル基、テトラゾリル基、チェニル基、チアジアゾ
リル基、ピリミジニル基、ピリジル基.オキソテトラヒ
ドロフリル基もしくはベンゾチアヅリル基をR5として
有し、−O−または−S−をXとして有する化合物を意
味する。
この反応は、例えばナトリウム、カリウム等のアルカリ
金属、マグネシウム,カルシウム等のアルカリ土類金属
等のアルカリ性金属の水酸化物、アミド、水素化物、ア
ルコキサイド、炭酸塩,ピリジン等の塩基の存在下に行
なうと有利なことが多い。
金属、マグネシウム,カルシウム等のアルカリ土類金属
等のアルカリ性金属の水酸化物、アミド、水素化物、ア
ルコキサイド、炭酸塩,ピリジン等の塩基の存在下に行
なうと有利なことが多い。
この反応は特に溶媒を必要としないが、例えばメタノー
ル,エタノール等の低級アルコール類、エーテル、ベン
ゼン,アセトン,テトラヒドロフラン,ジメチルホルム
アミド、ジオキサン、アセトニトリル,クロロホルム、
塩化エチレン、酢酸エチル、ピリジンまたはその他の反
応に悪影響を与えない一般有機溶媒等の存在下に行なっ
てもよい。
ル,エタノール等の低級アルコール類、エーテル、ベン
ゼン,アセトン,テトラヒドロフラン,ジメチルホルム
アミド、ジオキサン、アセトニトリル,クロロホルム、
塩化エチレン、酢酸エチル、ピリジンまたはその他の反
応に悪影響を与えない一般有機溶媒等の存在下に行なっ
てもよい。
反応温度は限定されず、冷却下、室温、加温、加熱のい
ずれの状態でも行なうことができる。
ずれの状態でも行なうことができる。
このようにして得られた1,2,3.4−テトラヒドロ
イソキノリン誘導体(I)は必要に応じて、常法により
塩酸塩、硫酸塩、臭化水素酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、
修酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩等の有機酸塩
に導いてもよい。
イソキノリン誘導体(I)は必要に応じて、常法により
塩酸塩、硫酸塩、臭化水素酸塩等の無機酸塩、酢酸塩、
修酸塩、マレイン酸塩、乳酸塩、酒石酸塩等の有機酸塩
に導いてもよい。
この発明により得られる1,2,3.4−テトラヒドロ
イソキノリン誘導体(■)およびその塩類は新規化合物
であって、例えば鎮けい作用、血管拡張作用等を有し、
医薬として有用である。
イソキノリン誘導体(■)およびその塩類は新規化合物
であって、例えば鎮けい作用、血管拡張作用等を有し、
医薬として有用である。
次にこの発明を実施例により説明する,
実施例1
1−クロロメチル−6,7−ジベンジルオキシ−1.2
,3.4−テトラヒドロイソキノリンの塩酸塩0.2g
および1−メチル−1H−テトラゾール−5−チオール
0.059gを乾燥ジメチルホルムアミド5mlに溶解
し、窒素気流中、氷冷攪拌下この溶液に52.9%水素
化ナトリウム0.057gを加え、同温度で2.5時間
次いで室温で22時間攪拌する。
,3.4−テトラヒドロイソキノリンの塩酸塩0.2g
および1−メチル−1H−テトラゾール−5−チオール
0.059gを乾燥ジメチルホルムアミド5mlに溶解
し、窒素気流中、氷冷攪拌下この溶液に52.9%水素
化ナトリウム0.057gを加え、同温度で2.5時間
次いで室温で22時間攪拌する。
反応後、反応液を氷水50mlに徐々に注入し、生ずる
油分を酢酸エチルで抽出する。
油分を酢酸エチルで抽出する。
抽出液を水洗、乾燥後、溶媒を留去し、残渣の油分をシ
リカゲル薄層クロマトグラフイー〔展開溶媒(酢酸エチ
ル:メタノール=10:1)〕で分離、精製し、得られ
る粉末をエタノールから再結晶すると1−(1−メチル
−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−6,7
ジベンジルオキシ−1,2,3.4−テトラヒドロイ
ソキノリン5mgを得る。
リカゲル薄層クロマトグラフイー〔展開溶媒(酢酸エチ
ル:メタノール=10:1)〕で分離、精製し、得られ
る粉末をエタノールから再結晶すると1−(1−メチル
−1H−テトラゾール−5−イル)チオメチル−6,7
ジベンジルオキシ−1,2,3.4−テトラヒドロイ
ソキノリン5mgを得る。
mp106〜108℃実施例2
ナトリウム0.014gを乾燥エタノール6mlに溶解
し、この溶液に1−メチル−1H−テトラゾール−5−
チオール0.051gを加え室温で30分間攪拌する。
し、この溶液に1−メチル−1H−テトラゾール−5−
チオール0.051gを加え室温で30分間攪拌する。
これに1−クロロメチル−6,7ジヒドロキシ−1.2
,3.4−テトラヒドロイソキノリンの塩酸塩0.1g
を加え、50℃で7時間攪拌する。
,3.4−テトラヒドロイソキノリンの塩酸塩0.1g
を加え、50℃で7時間攪拌する。
反応液を濃縮乾固し、残渣をエタノール:メタノール(
10:1)の混合溶媒で抽出する。
10:1)の混合溶媒で抽出する。
抽出液から溶媒を留去し、残漬をシリカゲル薄層クロマ
トグラフイー〔展開溶媒(n−ブタノール:酢酸:水=
4:1:2)〕で分離、精製し、次いで塩酸:エタノー
ルで塩酸塩に導くと1−(1−メチル−1H−テトラヅ
ール−5−イル)チオメチル−6,7−ジヒドロキシ−
1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリンの塩酸塩を
得る。
トグラフイー〔展開溶媒(n−ブタノール:酢酸:水=
4:1:2)〕で分離、精製し、次いで塩酸:エタノー
ルで塩酸塩に導くと1−(1−メチル−1H−テトラヅ
ール−5−イル)チオメチル−6,7−ジヒドロキシ−
1,2,3,4−テトラヒドロイソキノリンの塩酸塩を
得る。
mp215〜216℃(分解)。実施例3
前記の実施例と同様にして次の化合分合を得る。
(1)1−(1−メチル−1H−テトラゾール−5−イ
ル)チオメチル−6,7−ジメトキシ−1,2,3.4
−テトラヒドロイソキノリン、mp96〜99℃。
ル)チオメチル−6,7−ジメトキシ−1,2,3.4
−テトラヒドロイソキノリン、mp96〜99℃。
(2)L−(2−ピリミジニル)チオメチル−6,7−
ジヒドロキシ−1,2,3.4−テトラヒドロイソキノ
リン塩酸塩,mp404〜205℃(分解)。
ジヒドロキシ−1,2,3.4−テトラヒドロイソキノ
リン塩酸塩,mp404〜205℃(分解)。
(3)1−(5−メチル−4H−1.2.4−トリアゾ
ール−3−イル)チオメチル−6,7−ジヒドロキシ−
1.2,3.4−テトラヒドロイソキノリン塩酸塩、m
p229〜231℃。
ール−3−イル)チオメチル−6,7−ジヒドロキシ−
1.2,3.4−テトラヒドロイソキノリン塩酸塩、m
p229〜231℃。
(4)1−(2−チェニル)チオメチル−6,7−ジヒ
ドロキシ−1,2,3.4−テトラピドロイソキノリン
塩酸塩,mp177〜178℃。
ドロキシ−1,2,3.4−テトラピドロイソキノリン
塩酸塩,mp177〜178℃。
(5)1−(5−メチル−1.3.4−チアジアヅール
−2−イル)チオメチル−6,7−ジヒドロキシ−1.
2,3.4−テトラヒドロイソキノリンのジ塩酸塩,m
p199〜201℃(分解)。
−2−イル)チオメチル−6,7−ジヒドロキシ−1.
2,3.4−テトラヒドロイソキノリンのジ塩酸塩,m
p199〜201℃(分解)。
(6)1−(4−ピリジル)オキシメチル−6,7−ジ
ヒドロキシ−1.2,3.4−テトラヒドロイソキノリ
ンのジ塩酸塩,mp250〜255℃(分解)。
ヒドロキシ−1.2,3.4−テトラヒドロイソキノリ
ンのジ塩酸塩,mp250〜255℃(分解)。
(7)1−(1,2.5−チアジアゾール−3−イル)
オキシメチル−6,7−ジヒドロキシ−1,2,3.4
−テトラヒドロイソキノリン塩酸塩、mp252℃(分
解)。
オキシメチル−6,7−ジヒドロキシ−1,2,3.4
−テトラヒドロイソキノリン塩酸塩、mp252℃(分
解)。
(8)1−(1,3.4−チアジアゾール2−イル)チ
オメチル−6,7−ジヒドロキシ−1,2,3.4テト
ラヒドロイソキノリン塩酸塩、mp234℃(分解)。
オメチル−6,7−ジヒドロキシ−1,2,3.4テト
ラヒドロイソキノリン塩酸塩、mp234℃(分解)。
(9)1−(2−ベンゾチアゾリル)チオメチル−6,
7−ジヒドロキシ−1,2,3.4テトラヒドロイソキ
ノリン塩酸塩.mp170〜172℃。
7−ジヒドロキシ−1,2,3.4テトラヒドロイソキ
ノリン塩酸塩.mp170〜172℃。
(10)1−(2−オキソテトラヒドロフラン−3−イ
ル)チオメチル−6,7−ジヒドロキシ−1,2,3.
4−テトラヒドロイソキノリン塩酸塩、mp236〜2
39℃(分解)。
ル)チオメチル−6,7−ジヒドロキシ−1,2,3.
4−テトラヒドロイソキノリン塩酸塩、mp236〜2
39℃(分解)。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式 (式中、R3およびR4はヒドロキシ基,低級アルコキ
シ基またはアル(低級)アルコキシ基、Yは酸残基をそ
れぞれ意味する) で示されるテトラヒドロイソキノリン誘導体またはその
塩類に一般式 R5−XH (式中、R5は低級アルキル基で置換されていてもよい
トリアゾリル基、テトラゾリル基、チェニル基,チアジ
アゾリル基,ピリミジニル基,ピリジル基、オキソテト
ラヒドロフリル基もしくはペンゾチアゾリル基、Xは−
O−または−S−をそれぞれ意味する) で示される複素環誘導体を作用させて一般式(式中、R
3、R4,R5およびXは前と同じ意味) で示される1,2,3.4−テトラヒドロイゾキノリン
誘導体またはその塩類を得ることを特徴とする1,2,
3.4−テトラヒドロイソキノリン類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP511575A JPS5813540B2 (ja) | 1975-01-08 | 1975-01-08 | 1,2,3,4− テトラヒドロイソキノリンルイノ セイゾウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP511575A JPS5813540B2 (ja) | 1975-01-08 | 1975-01-08 | 1,2,3,4− テトラヒドロイソキノリンルイノ セイゾウホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5180867A JPS5180867A (en) | 1976-07-15 |
| JPS5813540B2 true JPS5813540B2 (ja) | 1983-03-14 |
Family
ID=11602326
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP511575A Expired JPS5813540B2 (ja) | 1975-01-08 | 1975-01-08 | 1,2,3,4− テトラヒドロイソキノリンルイノ セイゾウホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5813540B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6084556A (ja) * | 1983-10-15 | 1985-05-13 | Fuji Xerox Co Ltd | トナ−補給装置 |
| JPS60138577A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-23 | Fuji Xerox Co Ltd | トナ−補給装置 |
| JPS60239774A (ja) * | 1984-05-15 | 1985-11-28 | Fuji Xerox Co Ltd | 複写機の一成分現像装置 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5734275B2 (ja) * | 1973-07-30 | 1982-07-22 | ||
| USRE32519E (en) * | 1979-07-02 | 1987-10-13 | Chinoin Gyogyszer Es Vegyeszeti Termekek Gyara | Sulfur-containing isoquinoline derivatives, process for the preparation thereof and pharmaceutical compositions containing them |
-
1975
- 1975-01-08 JP JP511575A patent/JPS5813540B2/ja not_active Expired
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6084556A (ja) * | 1983-10-15 | 1985-05-13 | Fuji Xerox Co Ltd | トナ−補給装置 |
| JPS60138577A (ja) * | 1983-12-27 | 1985-07-23 | Fuji Xerox Co Ltd | トナ−補給装置 |
| JPS60239774A (ja) * | 1984-05-15 | 1985-11-28 | Fuji Xerox Co Ltd | 複写機の一成分現像装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5180867A (en) | 1976-07-15 |
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