JPS58143206A - 位置検知信号処理装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は複数の物体の相対位置を測定する際の信号処理
装置と方法に関し、特に半導体製造装置でマスクとウェ
ハ全高精度に位置合わせする装置に適用すると好適なも
のである。

半導体製造装置、殊にパターン焼付装置ではマスクとウ
ェハの相対位置を検出するために位置合わせマークを光
電検知するのが普通である。

但し、本明＃ｌ書でマークと呼ぶ場合、位置合わせのた
めのみに伺加した徴のみならず、物体固有の例えば回路
素子の１部又は全部全位置合わせに使用する場合はそれ
もマークと呼ぶことにする。

光電検知を行う場合、例えば光源としてレーザーを用い
て位置合わせマークの上を重複走査し、そこからの散乱
光をフォト・ダイオードやフォト・マルチプライヤ−等
で受光して光電変換し、その電気信号から位置合わせマ
ーク同志の相対位置を求める方法、あるいは位置合わせ
マークの像を撮像管あるいはフォトセンサー・アレイ等
の撮像装置で受像し、位置合わせマーク像全体を光電変
換して信号処理装置に入力し、演算処理により位置合わ
せマーク同志の相対位置を求める方法が知られている。

しかしながら、同一軌道に沿ってマーク上を光点走査す
る方式では物体上にあるゴミやアルミ粒子などの偽伊号
と位置合わせマークに関する真の信号との判別が困難な
ことが多く、また撮像装置方式では全画面入力後に複雑
な信号処理を施さねばならず、処理時間が長く掛って焼
付工程を滞らせたり、装置が極めて高価になりあるいは
大型化する欠点があった。本出願人は、先に特願昭５２
−６６８９８号を提案して偽信号による難点の解決を図
ったが、本願はそれとは異る改良を行うものである。

本発明の目的は、検知対象に偽信号を発生させる原因が
あったとしても測定のだめのマーク間の正確な相対位置
測定を実現することにある。

そして後述する実施例では、位置合わせマークに対応す
る信号が存在する蓋然性の高い部分を検知信号から分離
し、これを参照して位置合わせマークによる信号を抽出
し、マスクとウエノ１の正確な相対位置を求めている。

以下、本発明の詳細な説明する。なお、実施例で使用す
る位置合わせマークについては先に特願昭５２−５５０
２号で説明したが、本発明はこの形状のマーク以外でも
実行可能である０ 第１図は第１の実施例に係る光電検知系を示しており、
まずこの系を説明した後、信号処理系を説明する。

図中で、ＭＡは焼付はパターンを担持するマスクで、ホ
ルダーＨに保持される。ＷＡは感光層を具えるウェハで
、ステージＳ上に固定され、ステージＳにより水平面内
で前後、左右そして回転移動される。またＭとゾはマス
ク側の位置合わせマーク、ＷとＷはウニ・・側の位置合
わせマークであって、マークＭとＷそしてマークＭ′と
Ｗのアライメントが希求される。

更にＯＬとＯＬは顕微鏡対物レンズ、Ｄ、　（！：　Ｄ
、’は対物レンズＯＬとＯＬの、物対と逆側の焦点照明
用のコンデンサーレンズ、ＬＳトＬＳハ［明ランプで、
照明ランプＬＳとＬＳ’の像はコンデンサーレンズＬ、
とＬｔ５１はＬｌと、／によシ絞りり、又はＤ８′の位
置に夫々形成される。Ｄ！とＤよけ、以上の対物レンズ
ＯＬとＯＬ’及び絞Ｄ　ＤＩとＤｌ、半透鏡ＨＭとＨＭ
　、コンテンサーレンズｈとｈ及びり、′とＬ！′そし
て光源ＬＳとＬＳ’は落射照明系を構成する。

次にり、とＬ４及びり、′とＬ４’は夫々リレーレンズ
、ＰとＰは遮光板で、照明光源のマスクとウェハによる
正反射像を遮蔽する機能を持つ。１と１′は夫々撮像管
であって、前述の対物レンズＯＬとＯＬ、リレーレンズ
Ｌ、とＬ４及びり、′とＬい遮光板ＰとＰ′とともに受
光系を構成する。

ここで、光源ＬＳｔ−発した光線はコンデンサＯＬで平
行光となってマスクＭＡとウェハＷを照明する。マスク
のマークＭ及びウェハのマークＷで散乱反射された光線
は対物レンズＯＬとリレーレンズＬ、で結像された後、
第２のリレーレンズＬ４によって撮像管１の受像面に再
結像され、撮像管ｌで光電変換される。

第２図は信号処理系の基本形態を描いており、各回路の
詳細は追って説明する。

符番１は第１図と同じ、光電変換のための撮像装置、２
は１に接続し、映像信号■がら位置合わせマークの存在
する確率の高い部分のみを示す期待パルス信号ｐｐを発
生する回路、３は１から得られる映像信号Ｖを従来通シ
適切な閾値電位で振幅弁別してデジタル信号に変換する
回路、４は２の出力である期待パルス信号ＰＰと、５は
４に接続してへの位置合わせマーク信号間の距離を測定
する回路である。

上記構成においてたとえば第３図（１）に示すマスク側
マークと（２）に図示したウェハー側マークを撮像装置
１で光′電変換し、（３）に示すような画面Ａを得、−
回の水平走査Ｈによる映像信号Ｖが回路２と３に入力さ
れる場合を考える。期待パルス発生回路２では全画面Ａ
の水平走査のうちＨを含んだ計測の有効範囲Ｂについて
のみ入力して、映像信号Ｖの中から位置合わせマーク信
号Ｓｌ＆が含まれている確率の高い部分のみ抽／ぐ 出した期待ヘルス信号ＰＰを得る。又、信号変換回路３
からは適切な閾値電位で映像信号■を振幅弁別して位置
情報パルス信号Ｐ、を得る。この位置情報パルス信号Ｐ
、には位置合わせマーク信号Ｓ１ｃとゴミやアルミ粒子
などによる偽信号Ｓ２ｃなどが含まれている。なお、本
実施例で使用しているマーク・パターンは水平走査線に
対して４５０の傾きを持っているので、期待パルス信号
ＰＰと位置情報パルス信号Ｐ、中の位置合わせマーク信
号Ｓｔａは水平同期信号Ｖｓｙｎｃを基準にした時間軸
上で水平走査ごとに位置がずれるから、補償の一方法と
して第３図（１１に図示したようにマスク上にトリガ・
マーク・パターンＴｔ用意し、Ｔによるトリガ・マーク
信号Ｓａａで同期金と９、トリガマーク信号Ｓａａの立
ち下りを検出すると、期待パルス発生回路２が動作を開
始して位置情報パルス信号Ｐ８と同一時間軸上になるよ
うにタイミングをとって期待パルス信号Ｐ、を出力させ
る。この信号Ｐ、とＰＰを論理積回路４に入力すれば位
置情報パルス信号Ｐ、からＳＩＣのみを抽出した計測パ
ルスＰＭが得られる（８）。

計測パルスＰＭを計測回路５に入力し、−回の水平走査
ごとにＳ１ｄの各パルス間隔を計測してＢの範囲にある
全ての水平走査についても同様にして得たＳ１ｄの間隔
の平均値を求めれば位置合わせマーク間の距離となるの
で、以下は従来技術と同様の手続でマスクとウェハーの
ずれ量を演算することができる。

第４図は期待パルス発生回路２の機能を詳説するために
内部を図示したもので、２１は映像信号ＶをＡＤ変換す
るためのＡＤコンバータ、２２はＡＤコンバータ２１に
接続しＡＤ変換値を累算するための加算器、２３はＡＤ
コンバータ２２の累算値を記憶しておくメモリー、２４
はメモリー２３から読み出した累算値を適切なパ 閾値電位で振幅弁別し期待パルス信号Ｐ、を得るコンパ
レータ、２５は２１に接続してＡＤ変換を開始する指令
を出したり、累算のタイミングを取るためメモリ２３へ
の書込み指令を出力する期待パルス用コントロール回路
、２６は映像信号Ｖから水平同期信号Ｖｓｙｎｃを検出
してシステム全体のタイミングを決めるクロックを発生
するタイミング発生回路、ｌＯはシステムを制御するマ
イクロ・コンパータである。

上述の構成において、メモリー２３には一回の水平走査
を等間隔に分割した数のメモリ一単位があり、トリガ・
パターンによる信号Ｓ３ａのに 立ち下り位置が一番目になるよう配列されて６人 る。コントロール回路２５がらの指令により水平同期信
号Ｖｓｙｎｃ　ｋ取り除いた映像信号Ｖがら位置情報を
含んでいる映像信号の部分のみを油変換して加算器２２
に入力する。加算器２２の他の一方の入力にはメモリー
２３に記憶された累算値が入り、加算されて再びメモリ
ー２３に書き込まれる。メモリー２３に記憶された内容
を時系列信号として表現すれば第３図（５）に示すＳｖ
のようになる。累積信号ｓＶに含まれる信号のないＳ４
の部分はメモリー２３には記憶されておらず、トリガ・
マーク信号Ｓａａの立ち上り部分で同期をとって時間軸
を位置情報パルス信号Ｐ、に合わせている。映像信号Ｖ
に含まれていたゴミやアルミ粒子による偽信号８２ａを
Ｂの範囲に渡って累積したＳｚｂの部分は平均化される
ので、マーク信号Ｓｌ＆による累積算部分Ｓｌｂ　Ｋ比
べて低いレベルになる。したがって、Ｓ２ｂを避は得る
閾値電位をマイクロ・コンビーータ１０で決定し、Ｓｖ
との比較をコンパレータ２４で行いその出力として期待
パルスＰ、が得られる。

コントロール回路２５ではタイきング発生回路２６で水
平同期信号Ｖｓｙｎｃの周期を等分割したクロックパル
スにより、ＡＤコンバータ２１の変換開始及びタイミン
グ発生回路２６でトリガ・マーク金示す信号Ｓａａの立
ち下りを検知して得られる信号をサンプリングのタイミ
ングとしてメモリー２３に記憶された累積値の読出しを
制御する。

一方、第４図は振幅弁別回路３０機能を詳説にするため
に内部金示した図で、１０は前記の、システムを制御す
るマイクロ・コンピュータ、３２はマイクロ・コンビネ
ータ５１０から与えられた適当な閾値電位をアナログ信
号に変換するＤＡコンバータ、３１は映像信号Ｖを閾値
電位で振幅弁別するコンパレータである。上記の構成に
おいてコンパレータ３１に入力される映像（Ｎ　号Ｖ　
１ｄ−＝ｒイクロ・コンビーータ１０から与えられる適
切な閾値’（ＤＡコンバータ３２でＤＡ変換してコンパ
レータ３１の他の一方に入力される電位と比較され、位
置情報パルス信号ＰＩ！が得られる。位置情報パルス信
号Ｐ、には位置合わせマークによる信号Ｓ１ｃとゴミや
アルミ粒子による偽信号Ｓ２ｃ及びトリガマークによる
信号Ｓａｃが含まれる。

以上の通りにして位置情報パルス信号Ｐ８と期待パルス
ＰＰが形成され、論理積回路４へ入力されて出力Ｉ）　
Ｍを得る。

第６図は第１図に示された計測回路５のブロック内部を
詳細に示した図で、５１は計測用クロック・パルスを発
生させる発振器、５２は５１に接続してクロックパルス
を計数するカウンター、５３は５２の内容を一時記憶す
るラッチ、５４は５３の内容と５５の内容を加算する加
算器、５５は５４の出力を記憶しておくメモリー、５６
は計測の制御を行うコントロール回路、１０はシステム
を制御即するマイクロ・コンピュータである。

上記構成において一回の水平走査Ｈによる計測パルスＰ
Ｍが開側用コントロール回路５６に入力されると最初の
Ｓｘｄの立ち上り、または立ち下りを検出した時にカウ
ンター５２に内容をリセットする指令を出し、次にＳｌ
ｅの立ち上り、または立ち下りを検出した際にそれまで
カウンター５２に計数されていた値をラッチ５３に転送
し、この値とメモリー５５に記憶されている他の水平走
査による計数値を加算器５４で加算する。メモリー５５
には計測有効範囲Ｂに含まれる順次の水平走査における
計測値が累積される。この計測の累積値はマイクロ・コ
ンビネータ１０に入力されて平均値が計算され、次いで
位置合わせマーク間の距離が求められる。

第７図は別の実施例に係る光電検知系で、第１図の系が
マーク像を走査したのに対しここでは直接マークを走査
する。なお、本図では系の片側のみ描いている。

図中で、ＭＡがマスク、ＷＡがウエノ・、Ｍ、ｌ！：Ｗ
がそれぞれのマークを示し、またＯＬが顕微鏡対物レン
ズを示すことは上物と同じである。一方、ＬＡＳはレー
ザーを発振する光源、Ｌ、は集光レンズ、ＭＤは高速回
転するミラードラムで、レーザー光はミラードラムＭＤ
のエレメント・ミラーｍｌ上に集光する。次にり、とＬ
７はそれぞ絞りＤＩを共役に関係ずけるから、レーザー
光は恰かも対物レンズＯｒ、の焦点位置で振れる様な形
態となってマークＭとＷを走査する。以上の対物レンズ
ＯＬから光源ＬＡＳまでが走査型照明系を構成する。

一方、ＨＭは半透鏡、Ｌ、とり、は別のリレーレンズ、
１１は光電変換素子で、光電変換素子Ｐ′の受光面はマ
ークＭ、Ｗとほぼ共役である。またＰ′はミラードラム
ＭＤによるレーザー光の反射点の正反射像を遮蔽するた
めの遮光板である。

これらの半透鏡ＨＭ、！ＪレーレンズＬ、、Ｌ１、遮光
板Ｐ′、光電変換素子１１の他に、リレーレンズ７、絞
りＤ１１対物レンズＯＬが受光系を構成する。

上述の構成で、ミラードラムＭＤを回転させると、集光
したレーザー光は偏向し、レンズＬ６゜Ｌ、、０１ｌ−
経てマスクとウェハ上のマークＭとＷを走査する。マー
クＭと憧で反射した光束の内、正反射光はその後通光板
ｐｌで遮断されるが、乱反射光は対物レンズＯＬとリレ
ーレンズＬ、で収斂され、半透鏡ＨＭで反射し、リレー
レンズＬ、、Ｌ、を経て光’ｇ変換素子ｌｌ上に集光し
、入射光の光景変化は電気信号に変換される。

第８図は信号処理系の基本形態を描いており、各回路の
詳細は追って述べる。１１は位置合わせ対象物体から戻
ってくる光信号を検出する光電変換素子で、プリアンプ
１２に接続され、さらにその出力が第１．第２の振幅弁
別回路１３゜１４に入力される。計測回路１５には１３
，１４の出力とマイクロコンビエータ２０の指令信号が
入力され、マイクロコンビエータ２０は１３゜１４にも
指令全方えている。

上記構成において第９図（１）に示すマスク上の位置合
わせマークＭと、（２）に図示したようなゴミＣやアル
ミ粒子Ａが析出したウェハー上の位置合わせマークＷと
を（３）に示したように重ね合わせてレーザＬで走査す
れば、光電検出素子１１により検出した光信号をプリア
ンプ１２で増幅した位置情報信号Ｓが得られる。位置情
報信号Ｓには位置合わせマークによる信号Ｓ４ａの他に
アルミ粒子ＡやゴミＣによる偽信号Ｓｓａが含まれてい
る。

しかしながら、一般的にレーザー・ビーム径とマーク・
パターンの線幅の関係を最適化できるので（線幅との関
係で集光レンズＬ１を選ぶ等）、Ｓ４ａの信号強度は、
ランダムな線幅となるＳＳａに比べて高いレベルで検出
できる。位置情報信号Ｓを入力した第１の振幅弁別回路
１３では、第９図（４）に示すように偽信号８５ａの信
号を避けて位置合わせマークによる信号８４ａだけを振
幅弁別できるような閾値ＥＰをマイクロ・コンｅｘ−夕
２０から指令する。したがって、１３の出力としては位
置合わせマーク信号Ｓ４ａのみの期待パルス信号Ｐ、が
得られる。

以上の説明で明らかなように期待パルス信号ＰＰは位置
情報信号Ｓの比較的ピークに近い振幅で振幅弁別するた
め、ＰＰのパルス幅は位置情報パルス信号Ｐ、の位置合
わせマークの信号Ｓ４ｂのパルス幅に比べて狭い。さら
にＳ４ａのピークに近い部分は光学的な歪の影響を受は
易いので、この部分を振幅弁別して得たパルス信号Ｐ、
では位置合わせマーク間隔を高精度に測定することは困
難である。そこで第２の振幅弁別器１４において位置合
わせマークによる信号８４ａの光学的歪の影響のない部
分を振幅弁別する閾値Ｅ。

で振幅弁別するが、この時ゴミＣやアルミ粒子Ａによる
偽信号ＳＳ＆も一諸にパルス変換されてＰ、が得られる
。次に位置情報パルス信号１〜と期待パルス信号ＰＰを
計測回路１５に入力し、位置情報パルス信号Ｐ、におい
て期待パルス信号ＰＰのパルスと同時に表われるパルス
、即ち位置合わせマークを示すパルス信号Ｓ１ｂだけに
ついてパルス間隔の計測を行う。

第１０図は、第８図のブロック図の計測回路１５の機能
を鮮鋭するため内部の構成を図示しタモノで、６１は計
測用クロックパルスヲ発生する発振器、６２はＰ、とＰ
Ｐを入力しマイクロ・コンビーータ２０からの指令を受
けて計測の制御を行うコントロール回路であり、６１に
接続してクロック・パルスをｌ°数する第１．第２のカ
ウンター６３．６４のリセット指令と、カウンター６３
．６４の内容を一時記憶する第１゜第２のラッチ６５．
６６にはセット指令、マーク・パターン間隔の測定値を
記憶する第１．第２のメモ’）−６７，６８への転送指
令を出力する。カウンター、ラッチ、メモリーが２組用
意されているのは、位置合わせマークを示すパルス信号
Ｓ４ｂの立ち上り及び立ち下りを別々に計測するためで
ある。

たとえば第１１図ｆｌ）に示すように、位置合わせマー
クによる信号５ｔｔｔ　８１４と偽信号Ｓｏ　Ｉ　Ｓ１
ｇを含む位置情報信号Ｐａｌが得られ、その時の期待パ
ルス信号Ｐｐ１が（２）に図示したような場合を考える
。実際には期待パルスＰＰ１が６本になるまで計測が続
けられるが、説明では最初の状態についてのみ記載した
。即ち、位置合わせマーク信号の立ち下り間隔Ｗｆは８
１１とＳｔＳが同時に検出されるＰａ１のパルス信号Ｓ
□ＳＳ４の立ち下りのみに注目して測定すれば良い。即
ち、最初のＰ　Ｐ　１　パルスである８１！で第１のカ
ウンター６３をリセットし、さらに第１のメモリー６７
に最初の間隔を記憶する領域を指定するアドレスをセッ
トして、パルスＳ１１と同時に検出されたパルスｓｔｙ
の立ち下シから第１のカウンター６３を起動サセ、次の
期待パルスであるＳ’ｓと同時に検出されるＳ１４の立
ち下りでそれまでの第１のカウンター６３の計数値を第
１のラッチ６５に移し、さらに第１のメモリー６７に書
き込む。同様にして期待パルスＰＰと同時に得られるＰ
、上のパルス信ぢにのみ注目すれば位置情報パルス信号
Ｐ。

上にある偽信号Ｓｓｂを避けてＳ４ｂだけによる立ち下
シ間隔のみを測定できる。

次に第１１図（１）に示したＳ□、と８１４の立ち上９
間隔Ｗｒを測定するにはＰｓ＋に検出されたすべてノパ
ルスの立ち上りで第２のカウンター６４の内容を第２の
ラッチ６６に移すが、第２のメモリー６８に記憶するの
は期待パルスｐｐ＋で行なうようにする。計測の開始は
Ｐｐｌと同時に検出されるＰｓｌの立ち上が夛パルスで
確定される。

第１１図ではＳＩＩの立ち上が９で第２のカウンター６
４をクリアーし計数を開始するが、ＳＩＩの立ち下がシ
までにＰｐ＋が検出されないので、次にＰｓ上にあるＳ
ｔｔの立ち上がりを検出した時には再び第２のカウンタ
ー６４の内容がクリアーされて計数が開始される。Ｓａ
ｔの立ち下がシ以前にｐｐ＋上のＳ工が検出されると、
計測の開始が確定されて、この後は６４がクリアーされ
ることはない。続いて８！、の立ち上がシでそれまでの
第２のカウンター６４の内容が第２のラッチ６６に移さ
れるが、６４はそのまま計数を続ける（’ｌ　Ｓ、ｓの
立ち下がりまでにＰｐｔ上にパルスが検出されないので
第２のメモリー６８には記憶されない。さらに、ＳＩ４
の立ち上りで再びそれまでの計数値が６６に移され、同
時に検出された５ｉｌｌによって第２のラッチ６６の内
容が第２のメモリー６８に記憶される。この記憶された
値がＷｒである。

上述のようにして求められた位置合わせマークによる信
号の立ち上り、立ち下９間隔は従来技術を用いて平均を
求め位置合わせマーク間隔が得られる。

また、トリガ・マークＴと位置合わせマークＭの間隔は
マスク製造時に高精度に決めることができるので、この
間隔を他の位置合わせマークと同様に計測回路５で計測
すればその測定値を基準として位置合わせマーク間隔の
測定値補正を行うことができるので、実際のずれ量と対
応したより正確な計測が可能となる。

次に、第２図（１１において位置合わせマークＭを取シ
除いたトリガ・マークＴだけのマスクを使い、ＴをＭの
代りに位置合わせマークとして使用すれば、Ｍの場合と
同様に相対位置測定を行うことができる。さらに、実施
例のようなパターンを用いなくてもマスクとウェハーの
相対位置関係を求められるようなパターンならば以上に
述べたような構成をもつシステムで高精度な位置測定が
実現できる。

本発明の実施例では従来の位置合わせマーク・パターン
の他にトリガ・マーク・パｆｉ−：／ｆ用意して同期を
とっているが、トリガ・マーク・パターンがない従来か
ら使われている位置合わせマーク・パターンをそのまま
使い、パターンが一定角度傾いている形状の特徴を利用
して、水平走査毎に累算の開始タイミングをあらかじめ
定められたシーケンスで制御回路から指令する方式や、
特殊な撮像装置によって水平走査の開始タイミングを変
化させる方法も可能である。

さらに第２の実施例では期待パルス信号Ｐｐだけを使え
ば高精度を必要としない粗位置合わせを行わせることも
できるし、あるいは第２図において、レーザー発光源Ｌ
ＡＳと集光レンズＬ。

の間に超音波偏向素子６を設けて光を図面に垂直方向へ
偏光させれは、レーザー光は位置ずれしてマークを走査
するから、第１の実施例で説明した電気系と同様の系で
期待パルス信号を取り出すこともできる。

以上述べた本発明の第１の実施例では、第１の物体上の
マークと第２の物体上のマークとの相対位置を測定する
際に、位置ずれを生ずる様に繰返し走査して両マーク、
による信号を検知する段階と、繰返し走査による成分信
号を累積する段階と、マークに対応する部分を特定する
ために累積した結果の信号中で互に特性を異にする部分
を分離する段階と、信号中の分離した部分を参照して両
マークによる信号から位置測定に必要な真の信号を抽出
する段階を具備して成り、殊にマークの一方は位置測定
に必要なマークとこのマークとは光学的もしくは電気的
に職別でき１つ所定間隔で離間したトリガ・マークを含
み、この間隔の測定値を基準として測定の補正処理段階
全冥行している。また第２の実施例では、略同一走査線
上を走査して両マークによる信号を検知する段階と、そ
の信号を高さを異にする閾値でそれぞれ振幅弁別する段
階と、高い方の閾値で弁別した信号を参照して低い方の
閾値で弁別した信号から位置測定に必要な真の信号を抽
出する段階を具備する。

この様に本発明によれば、偽信号を発生する複数の物体
間の相対位置を正確に計測でき、しかも照明系に大幅な
変更を加える必要がないので都合が良い。従って本発明
を半導体製造装置などに採用して位置合わせに使用すれ
ば、ウェハ上のゴミやアルミ粒子のために位置合わせミ
スが起きたり、あるいは位置合わせの調整時間が長くな
るといった難点が解消され、またウェハをいちいち清浄
にするだめの作業時間も著しく短縮できる効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図は第１実施例に係る照明系の断面図。 第２図は第１実施例の電気系を示す基本ブロック図。第
３図（１）〜（３１はマークの正面図で、（４）〜（８
）は信号波形図。第４図、第５図、第６図は、第２図の
各ブロックを詳細に示す個別の電気ブロック図。第７図
は第２実施例に係る照明系の断面図。第８図は第２実施
例の電気系を示すブロック図。Ｍ９図（１）〜（３）は
マークの正面図で、（４）〜（６）は信号波形図。第１
０図は１ｓ１１Ｌ気ブロツクを詳細に示す電気ブロック
図。第１１図（１）（２）は信号波形図。 図中、ＬＳ　、　ＬＡＳは光源、ＯＬ　、　ＯＬ’は顕
微鏡対物レンズ、１　、１’は撮像管、２は期待パルス
発生回路、２１は卸コンバータ、　２２は加算器、２３
はメモリー、２４はコンパレータ、２５は期待パルス用
コントロール回路、２６はタイミング回路、１０はマイ
クロコンビーータ、３は振幅弁別回路、４は論理積回路
、５は計測回路、凧はマスク、ＷＡはウェハ、ＭとＷは
マーク、Ｈは水平走査線、■は映像信号、Ｐ、は期待パ
ルス、Ｐ、は位置情報パルス、Ｅｐ　＋　Ｆ４は振幅弁
別するだめの閾値、１１は光電変換素子、１２はプリア
ンプ、１３．１４は振幅弁別回路、１５は計測回路、６
１は発振器、６３゜６４はカウンター、６５．６６はラ
ッチ、６７゜６８はメモ’）−１６２は計測コントロー
ル回路である。 出願人　キャノン株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ＋１１　　複数個の物体の相対位置全測定するための信
   号処理装置に於いて、物体全検知して得た信号に対して
   、物体上の測だのために使用さｎるマークに対応する信
   号が存在する蓋然性の高い部分全特定する手段を有する
   ことを特徴とする位置検知信号処理装置。 （２）前記蓋然性の高い部分を特定する手段は。 信号を時系列的にサンプリングしてＡＤ変換した後に累
   積算する手段と累積算した結果から蓋然性の高い部分を
   適切な閾値で分離する（３）前記分離する手段は所定振
   幅の閾値で信号（４）前記マークの一方は、位置測定に
   必要なマークとは別に、信号処理を実行するタイミン（
   ５）　　前記位置測定に必要なマークは測定のだめの走
   査方向に対して傾斜し、また前記トリガ・マークは前記
   位置測定に必要なマークと同一の傾斜金持ち且つ一定の
   間隔分なすように