JPS58144751U - イオン源のガス導入管 - Google Patents

イオン源のガス導入管

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JPS58144751U
JPS58144751U JP4175282U JP4175282U JPS58144751U JP S58144751 U JPS58144751 U JP S58144751U JP 4175282 U JP4175282 U JP 4175282U JP 4175282 U JP4175282 U JP 4175282U JP S58144751 U JPS58144751 U JP S58144751U
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JP
Japan
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ion source
gas introduction
source gas
introduction tube
introduction pipe
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Pending
Application number
JP4175282U
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English (en)
Inventor
安部　勝信
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Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
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  • Electron Sources, Ion Sources (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図はイオン打込機の概略説明図である。 １・・・加速電源、２・・・高圧ケーブル、３・・・ガ
スボックス、４・・・ガス導入パイプ、５・・・イオン
源、６・・・イオン化部分、７・・・電極、８・・・打
込部、９・・・ウェハース導入パイプ、５・・・イオン
源、６・・・イオン化部分、７・・・電極、８・・・打
込部、９・・・ウェハー。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. イオン源の引出し電圧をガス導入パイプを介して印加す
    るイオン打込機において、該導入′パイプをら旋状に巻
    いてインダクタンスを持たせたことを特徴としたイオン
    源のガス導入管。
JP4175282U 1982-03-26 1982-03-26 イオン源のガス導入管 Pending JPS58144751U (ja)

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JP4175282U JPS58144751U (ja) 1982-03-26 1982-03-26 イオン源のガス導入管

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JP4175282U JPS58144751U (ja) 1982-03-26 1982-03-26 イオン源のガス導入管

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JPS58144751U true JPS58144751U (ja) 1983-09-29

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