JPS58152304A - 銀被覆導電体 - Google Patents

銀被覆導電体

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Publication number
JPS58152304A
JPS58152304A JP3459282A JP3459282A JPS58152304A JP S58152304 A JPS58152304 A JP S58152304A JP 3459282 A JP3459282 A JP 3459282A JP 3459282 A JP3459282 A JP 3459282A JP S58152304 A JPS58152304 A JP S58152304A
Authority
JP
Japan
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thickness
plating
alloy
conductor
layer
Prior art date
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Pending
Application number
JP3459282A
Other languages
English (en)
Inventor
志賀 章二
智 鈴木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Furukawa Electric Co Ltd
Original Assignee
Furukawa Electric Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Furukawa Electric Co Ltd filed Critical Furukawa Electric Co Ltd
Priority to JP3459282A priority Critical patent/JPS58152304A/ja
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 不発萌はAg又はAg合盆?被覆した導′嘔体に関Tる
もので、特に尚占処理によるAgXはAg合斂被&層の
萌良性及び宿看性の劣化を防止したものである。
一般に飯被at44体ハ、 Cu、 Cu合金、AA、
 AA合忙、Fe、 i’e合斂、Nj、Ni合金等か
らなる導′亀基体上に、Ag又はAg−8b@彼、Ag
−Cu合金、Ag−B1合斂、Ag−Au合盆、Ag−
F3n@r並等を#復したもので、導′屯基俸の潰れた
17Ii度とAg又はAg合址特有の俊れた導′岨性、
一度性、半田付は性寺な併せ有し、電気、電子機器の部
品1例えはコネクター、スイッチ、リレー、端子、半導
体等の製造、組立に広く用いられている。これ等−S電
体は部品加工や組立工程で半田付け、そ−ルデイング、
乾燥等の商温処理が打なわ4、更に機器に組み込まれて
からも長期間を二亘り室温よ11商い昇温状態で使用さ
ねるため面淘に則えることが要求さねている。
Ag又はAg合遊は尚価なため、経隣的理由から被覆厚
さケできるだけ趨くTることが求められているが、#電
基体l二よっては基体金属1例えは銅や黄銅ではこれ等
の位属がAg又はAg@斂増内に拡散進入し、Ag又は
Ag@蛍本米の化学的安定性を損ない、酸化により′嘔
気接続性や半田イ=1け性を急激に低ドする。このよう
なAgXは紹合曽盾の劣化は尚扇で加速的に促進し、は
なはだ゛しい場合には外観変色を起1゜こねン勿止−「
るため、#亀基体とAg又はAg@蛍被覆と0〕曲にI
NtlTta′4r′形成している。へiはAgと反応
しないため0.1/i捏反の厚さで人きなバリヤー幼果
を発伸するが、置部、例えば180℃以上の1度では大
気中のr#、累がAg又はAg合金層を浸透してNiが
酸化さね、その結果、Ag又はAg合金層の密肴性が低
ドし、曲げなど0)変形で剥離な起Tはかりか、半田句
は性にも影響する。即ちAgは半田的に迅連に溶解する
ため、酸化した1N重而が露出して半田浴に按するよう
になると篩ね性が租沓されることになる。
このような塊象は導電基体に上1e、 Fe合盆■\ζ
N1合位を用いた場合も同様に起るため、尚占C耐える
必要があるAg又はAg@金被復被覆体では、Ag又は
Ag合金層の厚さを3〜5μ、時にはそれ以上の厚い被
覆が施される場合がある。
本発明はこi 1′−龜み棟々検討の結果、尚1度にI
II)jえる銀w槍尋″屯体を開発したもので1表向か
上’e、Ni、CO又はその合金からなる専電基体上シ
ミAg又はAg合金を被覆した専醸俸において、該基体
とAg又はAg合金被援層との闇に岸さ0.1)1μ以
上のSn又はSn合金層を設けたことを特徴とするもの
である。
即ち本発明導電体は、 ilI”e、 N i、 Co
又はそQ〕合斂からなる導磁基体、或いはCu、 Cu
合金等の基体上にNi、Co又はその合址を被覆した#
竜基俸を用い、その上(二Sn又は8n合釡を被覆し、
その上C二A、l(又はAg合金を被覆したものである
。こハ弄θ)被覆には、#有、スパッタリング、メッキ
、機械的圧右寺、各種の方法か用いられるが、゛嘔気メ
ッキにより被覆することか実用的に最も実施し易い場合
が多い。特にSn又はS 11 @i fi2の被覆に
はアルカリ冶、値酸冶、ボウフッ化浴等公知のメッキ浴
を用いて(T7よえはよい。またSn@址としては5n
−Pb、 5n−Zn、 5n−fNi%か自’9.J
r −Cアロ。
Sn又はSn@蛍の被覆厚さに001μ以上、望ましく
は0.1〜0.5声とし、被覆厚さか0.01t未満で
は外ダを中の02の献透醒化を防止する効果が期待でき
ない。またbn又はBn合址の被覆厚さの上限ハAg又
はAg台位の被彼岸さ≦二より異なるか、辿′吊は1〜
2μの厚さでその効果が飽和するから、それ以上0)過
剰の被覆は経隘的でないはかりカー簡諷栄件によっては
8nかAg層中に過剰(二拡散合金化して、Ag本本来
0附附性な佃なう場合もあil、実用上は01〜0.5
μ侃が呈よしい。
面、Sn合位とはSnを主成分とする合金で、t1Mn
含有量が多い程旬効であ11、その童は合金の柚知を二
よっても異なるか、約4(」%以上の合金を用いること
が望ましい。
思ド、本発明4電体な実施例1二ついて説明する。
実施例(II Dj’−’ia O,5JIia ]純Mnl k ’
a’ 常L CヨiJ Na01(20,V/A、(i
 (1=に 0)温浴中で刀ソード脱+111 してか
らH28U4府、甲イニlO抄間デツプした良、へi 
(SChNH2h30(M/ApH2,5Q) N i
メッキ!6を用い、′電流’eB 13t l OA/
dm2でメッキを行ない、純南条の表向に厚さ075μ
のN 11% y形成し、その上に5I04201/!
j、)1.80410011/!1%=カワ211/l
v>Snメッキ浴(除温18℃)を用い、屯#L密曳5
A/dmでメッキを社ない、厚さ0.25μo〕snノ
曽をjし成した。伏にこれC二4へ8Cへ2gイン。
KCN 31)i/# 0) Agストライクメッキ冶
を用い、′鴫m 化度5A/dm 2でAgストライク
メッキし、続いて 5− AgCN50.9/A、 KCN 10(1,9/A’
 O) Ag厚メッキ浴を用い、゛4流密If 2.5
A/dm 2でAg厚メッキをイ丁なイ1,9n層上(
二厚さ約1.5μのAg膚を形成して本発明導電体を装
造した。   ′ 実施例f2+ 実施例(IIにおいて、sntツキ#)I 11にSn
 80440 Ji’/13、ZnS0 7H204(
IJ@/A、りxンfg第2アンモニウム150I/i
:(1’JR4)280a i U (J l/A 、
アンモニア水(約35%〕701//L pH7,5の
5n−Zn合金/ツ+浴Ymい、竜@@ 度1.5A/
dm 2でS n Z n合y(Zn約20%)メッキ
を?Tない1N藍膚上シニ厚さ0.3μのSn−’l、
n合盆膚を形成し、その上に実施例tllと同様にして
厚さ約1.5μのAg膚を形成して本発明導電体を製造
し剋芙施例(3) 実A例tl+において、Snメッキ浴の賛りにNa28
rdJsiUO,V/A、INa(J)i15&/Vの
Snメッキ浴(給温’75℃)ン用い、嵐1lJlt密
度1.5 A/d mでδnメッキを打ないlNi1曽
上に厚さtl、075μのSnJ曽を16敗し、その上
に淳さ約1.5μのAg Inを形成して本発明1s竜
体を製造した。
 6− 比較例(II 実力也例it二おいて、Snメッキ浴によるbnメツキ
ケ価略し、へ1層上シニ曲接厚さ約1.5μのAJ曽な
プレ成して碑屯俸を製送した。
比較例(2) Jj 軟例(11において、N1勝」二に直接厚さ3μ
のAg1−を形成して導電体を製造した。
比軟例(X3) 比較例(1)において、Ni鳩上に直接厚さ5μのAg
層曽をプレ成して導゛屯体を装造した。
これ等の各導電体をそれぞれ大気中220℃の温度で2
4時間300℃の温度で1時曲加熱処理した後、180
℃の折番1曲げ加工をfTない、その折り曲げ部を50
倍の拡大鏡で観察し、剥離の有無を調べた。また刀1]
黙処理したものをロジンフラックス処理してから温度2
35℃の共晶半田府に5秒間デツプし、浸漬面に対Tる
半田部れ面積の比率を測足した。これ寺の結果を第1表
に示゛4−0 7− 第1表から明らかなように、本発明導電体は厚さ15μ
のAg被覆で従来導電体の胤さ5μのAg被覆と同等以
上の性能が得ら台ることが判る。
実施例(4) 厚さQ、 5 amのNi48%−r’e F)2%合
せ条を常法に、Jl、 11 NaOH2(H1/L 
60℃の′&A冶中でカソード脱脂してから15%HC
7(に30秒間デツプした後、5n(Hf!”e)25
0.9/11HBFe100#/AのSnメッキ袷(浴
温15℃)を用い゛亀流布度I OA7’ctm ”で
Mnメツギを行ない、Ni48%−F852%合址条の
表■(二厚さ約05μの9n層を形成し、その上に実施
例(11と同様のAgストライクメッキ浴とAg厚メッ
キ蔭な用いて厚さ2.5μのAg層を形成して本発明導
電体を製造した。
比較例(41 ¥廉例(4目二おいて、Mnメッキ浴による80メツキ
を1略し、N148%−に’652%合金条の表面に直
接厚さ2.5 /jのAg層をに/成して征米辱′岨体
を製造した。
この両導電俸について、大気中350℃の温度 9− で30分間加熱処理した後、その表面を50倍拡大鏡で
観察し、表面のフクレ発生を調べると共l二前記と同様
j二して半1l18#;れ性を試験した。
その結果、実施例(4)により製造した本発明導電体俸
にはフクレが全く認めらねす、半田罵れ性も93%をボ
した。こねに対し、dn膚の形成を1略した比較例(4
)により製造した従来導電体にはφ数のフクレか発止1
2、半田罵れ性は10%以トであった。
このように本発明導電体は、^高処理におけるAg又は
Ag合並板覆層の耐食性及び密右性の男゛化を防止し%
浚ねた半田付は性を示Tはか1】か、Ag又はAg合合
金金薄くすることかできる1輪的にも後ねたもので、工
業上順者な効果を奏Tるものである。
−l 〇 −

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 表面がl’e、 N i、 Co又はその合址からなる
    尋鴫基体上c Ag又はAg合金を#atした導電体に
    おいて、該基体とAg又はhg@ 忙被覆層との間に厚
    さ0.01 p以上の郭又はSn合金増を設けたことを
    特徴とする銀被覆導電体。
JP3459282A 1982-03-05 1982-03-05 銀被覆導電体 Pending JPS58152304A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3459282A JPS58152304A (ja) 1982-03-05 1982-03-05 銀被覆導電体

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JP3459282A JPS58152304A (ja) 1982-03-05 1982-03-05 銀被覆導電体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS58152304A true JPS58152304A (ja) 1983-09-09

Family

ID=12418594

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Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3459282A Pending JPS58152304A (ja) 1982-03-05 1982-03-05 銀被覆導電体

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JP (1) JPS58152304A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0242753A (ja) * 1988-03-28 1990-02-13 Texas Instr Inc <Ti> 耐食性リードフレーム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0242753A (ja) * 1988-03-28 1990-02-13 Texas Instr Inc <Ti> 耐食性リードフレーム

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