JPS5815936B2 - シユウセキカイロ ノ マスクセツケイソウチ - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は集積回路のマスク作成方法に関するものである
。

通常、集積回路を製作するには、ガラス又はプラスチッ
ク基板上にマスクパターンヲ描いてマスクを製作し、そ
のマスクを集積回路基板の上に置き、露光し、エツチン
グしてマスクパＪ−７に従って拡散孔をあげ、不純物拡
散を行って集積回路を実現している。

このマスクは拡散工程ごとに１枚づつ使用し、集積回路
を製作するまでには普通６枚ないしそれ以上必要である
。

マスクを設計するｌｄでは、集積回路を構成する各素子
（トランジスタ、抵抗等）の配置をマスク上のどの位置
に配したらよいかを設計条件や製造条件を考慮しながら
そのパターンを決定してゆく。

しかしながら、設計過程で各拡散工程に対応する数種の
マスクパターンを同時に重ねたり、指定されたマスクパ
ターンだけを抽出したりする操作を繰返し何回も行わな
ければならず、したがって最適なマスクを精確に製作す
ることが難しい。

この操作を少しでも容易に行えるようにグラフィックデ
ィスプレイ装置を用いてマスク設計を行うことが提案さ
れている。

従来この種のマスク設計装置は情報処理装置と１色で表
示するグラフィックディスプレイ装置と写真記録装置お
よびライトペンとから構成されている。

しかしながら、グラフィックディスプレイ装置は１色で
表示されており、この装置に用いるライトペンはグラフ
ィックディスプレイ装置で描画したデータのうち、ライ
トペンの視界にあるすべてのデーｌから均等の条件で、
その光を検出する。

このため、明る基または実線や点線等の線種で他の拡散
工程図面を区別しておいても、ライトペンでの検出はそ
の区別ができない。

即ち、グラフィックディスプレイ装置の表示画面のある
点の近傍から別の拡散工程図面のデータが光を発生して
おれば、その光も検出してしまい、ライトペンで常に正
しい指定をすることがむずかしいという欠点なもつ。

したがって各拡散工程ごとのデータをライトペンによっ
て正しく検出しようとする時には、その都度、必要とす
る拡散工程図面のデ−汐のみを再度表示しなおして、ラ
イトペンによる検出を行うという手順がとられ、各拡散
工程図面の同時表示と単一表示を伺回も行うということ
になる。

このような繰返し操作は回数がかさなれば非能率的で莫
大な時間がかかることが多く、個人の熟達度により、設
計条件や製造条件を満たさない様な誤ったマスクを製作
したり、設計ができても莫大な時間がかかったりするこ
とが多い。

本発明の目的は、上述の様な繰返し操作にかかる時間を
短縮し、能率よく設計できる集積回路のマスク作成方法
を提供することにある。

本発明によれば複数個のマスクに関する図形情報を情報
処理装置に内蔵せしめる工程と、該情報処理装置から複
数の図形情報を取り出しこれらをマスク毎に色分けして
グラフィックカラーディスプレイ装置に描画する工程と
、該グラフィックディスプレイ装置上に描画されたパタ
ーンの内マスクの種類に対応した特定の波長領域の光だ
けを透過させてこの透過光による光パターンを写真記録
する工程と、上記写真記録されたパターンをガラス基板
上に焼付けることによりマスクを得る工程とを有する集
積回路のマスク作成方法が得られる。

次に本発明について図面を参照して説明する。

第１図を参照すると、本発明で用いられる情報処理装置
１はマスクに関する図形情報およびマスク設計の手順を
制御するプログラムを貯え、そのプログラムを実行し、
デーｌの処理を行う装置である。

この情報処理装置１は集積回路のマスク設計装置に専用
のものである必要はなく、通常の電子計算機を用いるこ
とができる。

グラフィックカラーディスプレイ装置２は情報処理装置
１から送られてきた表示データを指定した色で描画する
装置であり、文字、数字の表示のみならずマスクパター
ンを各拡散工程ごとに別々の色で同時表示できる。

写真記録装置４は特定の波長領域の光だけを透過させる
濾光板３を備え、グラフィックカラーディスプレイ装置
２に表示されているデータのうち、濾光板３を透過する
光のみを記録する装置である。

ライトペン６はその先端の部分に特定の波長領域の光だ
けを透過させる濾光板５を備えており、グラフィックカ
ラーディスプレイ装置２に数色で描画されているデータ
のうち濾光板５を透過する光のみを検出し、情報処理装
置１に割込みをかげて処理すべきデータを抽出する光検
出器である。

このライトペン６としてはフォトダイオードとかオプテ
ィカルファイバーとフォトマルチプライアの組合せなど
を用いることができる。

光検出器は光の波長及び光度により、単色光の検出ばか
りでなく、数種の色も同時に検出することができる。

次に本発明によるマスク作成方法について説明する。

情報処理装置１はマスクに関する図形情報およびマスク
設計の手順を制御するプログラムを貯えており、このプ
ログラムの実行により拡散工程図面のデータをグラフィ
ックカラーディスプレイ装置２に送って拡散工程図面を
表示させる。

グラフィックカラーディスプレイ装置２は情報処理装置
１から送られてくる色指定データと表示データを受け、
指定された色で表示データを描画する。

即ち、集積回路の種々の拡散工程図面（バイポーラ型集
積回路の場合には、絶縁拡散、エミッター拡散、ベース
拡散等のための、ＭＯ８型集積回路の場合には、ゲート
拡散、ボロン拡散等のための拡散工程図面）を拡散工程
ごとに色を区別して、グラフィックカラーディスプレイ
装置２上に同時表示する。

表示図面をみて修正したい拡散工程図面の光だけが検出
できる様に濾光板５をセットする。

表示図面の修正したい個所にライトペン６を移動し、そ
の光を検出して、情報処理装置１に割込みをかけ、その
データを知らせる。

情報処理装置１はライトペン６からの割込み情報に従っ
て、拡散工程図面のデータに追加、削除、置換を行って
修正し、修正された図面を再度表示させる。

この操作を繰返して拡散工程図面の１つを完成させ、次
に、他の拡散工程図面の光だけが検出できる様に別の濾
光板５をセットしてその拡散工程図面を修正して完成さ
せる。

このような過程を繰返してすべてのマスクパターンを完
成させる。

完成したマスクパターンはグラフィックカラーディスプ
レイ装置２に表示されており選択したい拡散工程図面の
光を透過させる濾光板３をセットして各拡散工程ごとの
図面を写真記録装置４に記録する。

また二重取りの技法を用いることにより希望した数枚の
拡散図面を重ねた図面を写真記録装置４に記録すること
もできる。

次にマスク設計装置を用い、マスクパターンが決定され
るとマスクが作られる。

写真記録装置４に記録された各拡散工程ごとのマスクパ
ターンを写真技法によって拡大もしくは縮小した後、感
光性物質を塗布したガラス又はプラスチック基板上にパ
ターンを露光、現像してマスクが形成される。

このマスク製作の他の方法によれば、情報処理装置１を
用い、その記憶されたマスクパターンに関する情報にも
とづいて、電子ビーム露光装置を操作し、感光性物質を
塗布したガラス又はプラスチック基板上にパターンに応
じて電子ビームを照射し、マスクを形成することもでき
る。

以上の説明から、明らかなように本発明によれば、マス
クパターンを各拡散工程ごとに別々の色で同時表示させ
ておくことができ、ライトペンの先端に濾光板をつげて
、その濾光板を透過する光だけを検出するようになって
いるので、マスクパターンの設計過程で、エラーが素早
く検出でき、各拡散工程図面が単独で表示されている時
と全く同じようにデータを抽出して処理することができ
拡散工程図面を同時表示したり、指定された拡散工程図
面だけを抽出したりの繰返し操作が著しく減少し、記録
も濾光板をとりかえて記録するだけでよいので重ね表示
、抽出等の操作が不要であり短時間で能率よく集積回路
のマスクを設計することができム集積回路のマスク設計
段階でかかる時間を本発明の設計方式と従来の方式と比
較してみれば本発明の作成方法におけるマスクパターン
設計に要する時間Ｔは情報処理装置内のマスク設計処理
時間ｔ１、情報処理装置よりグラフィックカラーディス
プレイ装置にデータ転送する時間ｔ１２、グラフィック
カラーディスプレイ装置での表示時間ｔ２、グラフィッ
クカラーディスプレイ装置に表示されたデータを人間が
指示してライトペンに指令する時間ｔ２６、ライトペン
でキャッチされたデータを情報処理装置に伝達する時間
ｔａｔ、写真記録装置にデータを転送する時間ｔ２４の
総オロとしてＴ二ｔ１＋ｔ１２＋ｔ２＋ｔ２６＋ｔ６□
＋ｔ２４とあられすことができる。

一方従来の設計装置を用いたマスクパターン設計に要す
る時間では、ｍ枚のマスクを必要とする集積回路の場合
、少くともτ＝ｍ２（ｔｌ＋ｔ１２＋ｔ２＋ｔ２ａ＋ｔ
ａｔ）＋ｍｔ２４となる。

この時、普通ｍは６以上であるため、設計に要する時間
は本願発明による方法を用いれば大きく短縮することが
できる。

本願発明にかかる集積回路のマスク作成方法は、上記に
一実施例として記した拡散工程のためのマスク設計のみ
ならず、金属配線のためのエツチングマスクを設計する
ためにも用いることは明らかである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例で用いる装置のブロック図であ
る。 １……情報処理装置、２……グラフイツクカラーデイス
プレイ装置、３……瀘光板、４……写真記録装置、５…
…濾光板、６……ライトペン。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 複数個のマスクに関する図形情報を情報処理装置に
   内蔵せしめる工程と、該情報処理装置から複数の図形情
   報を取り出しこれらをマスク毎に色分けしてグラフィッ
   クカラーディスプレイ装置に描画する工程と、該グラフ
   ィックディプレイ装置上に描画されたパターンの内マス
   クの種類に対応した特定の波長領域の光だけを透過させ
   てこの透過光による光パターンを写真記録する工程と、
   上記写真記録されたパターンが〃ラス基板上に焼付ける
   ことによりマスクを得る工程とを有することを特徴とす
   る集積回路のマスク作成方法。