JPS5816087A - パラジウム／ニッケル合金を電気的に析出する浴 - Google Patents
パラジウム／ニッケル合金を電気的に析出する浴Info
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- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 50
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title claims description 6
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 43
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- -1 acetylene alcohols Chemical class 0.000 claims description 15
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 4
- DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,4-diol Chemical compound OCC#CCO DLDJFQGPPSQZKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N ethyl acetylene Natural products CCC#C KDKYADYSIPSCCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000006115 industrial coating Substances 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 2
- KXUSQYGLNZFMTE-UHFFFAOYSA-N hex-2-yne-1,1-diol Chemical compound CCCC#CC(O)O KXUSQYGLNZFMTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N C[CH]O Chemical group C[CH]O GAWIXWVDTYZWAW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 11
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 7
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 6
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 5
- 239000003115 supporting electrolyte Substances 0.000 description 5
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 4
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical group OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 3
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 3
- 229910017974 NH40H Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHGCQQRMJCSIBQ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-ynoxyethanol Chemical compound OCCOCC#C GHGCQQRMJCSIBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- UOUYMTMNAMZOSE-UHFFFAOYSA-N OCCOC(C#C)(C)OCCO Chemical compound OCCOC(C#C)(C)OCCO UOUYMTMNAMZOSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000270666 Testudines Species 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000002537 cosmetic Substances 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 210000004907 gland Anatomy 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000013081 microcrystal Substances 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、浴が、５ないし３０ Ｖ／ｌの範囲のパラジ
ウム含有量および同様に５ないし３０ ｆ／ｌの範囲の
ニッケル含有量、およびスルホン酸および／またはスル
ホン酸の塩の添加物を含むパラジウムおよびニッケルア
ミンの水溶液から成り、この水溶液において、電気的に
析出される合金が３０ないし９ＯＮ重チのパラジウム含
有量を有するように、パラジウムとニッケルの比が設定
されている、装節約′ｔ６よび／または工業的な被覆の
ためパラジウム／ニッケル合金を電気的に析出する浴を
前提とする。このような浴によって作られる被覆は金の
代用品として使われる。
ウム含有量および同様に５ないし３０ ｆ／ｌの範囲の
ニッケル含有量、およびスルホン酸および／またはスル
ホン酸の塩の添加物を含むパラジウムおよびニッケルア
ミンの水溶液から成り、この水溶液において、電気的に
析出される合金が３０ないし９ＯＮ重チのパラジウム含
有量を有するように、パラジウムとニッケルの比が設定
されている、装節約′ｔ６よび／または工業的な被覆の
ためパラジウム／ニッケル合金を電気的に析出する浴を
前提とする。このような浴によって作られる被覆は金の
代用品として使われる。
公知の浴（英国特許第１１４３１７８号明細書〕におい
て、スルホン酸および／またはその塩の添加物が光沢を
形成するために使われる。詳細に述べれば、ナフタリン
−１，５−ジスルホン酸のナト・リウム塩、ナフタリン
−１，３，６−）ジスルホン酸のナトリウム塩、および
サッカリン（０−スルホ安息香酸イミド）およびｐ−ト
ルスルホンアミドのような、ナフタリンスルホン酸およ
び芳香族スルホンアミドの塩が挙げられる。しかし実際
の装飾のために不十分であるとわかった。本発明の基礎
とする知識によればこれら欠点は、不完全な易溶体形成
による。
て、スルホン酸および／またはその塩の添加物が光沢を
形成するために使われる。詳細に述べれば、ナフタリン
−１，５−ジスルホン酸のナト・リウム塩、ナフタリン
−１，３，６−）ジスルホン酸のナトリウム塩、および
サッカリン（０−スルホ安息香酸イミド）およびｐ−ト
ルスルホンアミドのような、ナフタリンスルホン酸およ
び芳香族スルホンアミドの塩が挙げられる。しかし実際
の装飾のために不十分であるとわかった。本発明の基礎
とする知識によればこれら欠点は、不完全な易溶体形成
による。
本発明の課題は、支障ない易溶体形成が行われろように
初めに述べたような浴を構成することにある。
初めに述べたような浴を構成することにある。
この課題を触法するため、本発明は次のことを示してい
る。すなわち装飾的および／または１業的な被覆のため
パラジウム／ニッケル合金を電気的に析出する浴におい
て、易溶体形成体として１つまたは複数のアセチレンア
ルコールヲ使用り、。
る。すなわち装飾的および／または１業的な被覆のため
パラジウム／ニッケル合金を電気的に析出する浴におい
て、易溶体形成体として１つまたは複数のアセチレンア
ルコールヲ使用り、。
浴が、５ないし３０ ｆ／ｌの範囲のパラジウム含イ１
敏および同様に５ないし３０グ／ｌの範囲のニッケル含
有−敏を含むパラジウムおよびニッケルアミンの水浴液
から成り、かつ電気的に析出される合金が３０ないし９
０−ｆ［ｉ％のパラジウム含有鍍を［ｆするように、パ
ラジウムとニッケルの比が設定されている。エトキフル
化またはプロポキシル化したアセチレンアルコールが適
して（・る。本発明のイ〕オリな実施例は次のような特
徴を有する。すなわち添加物が、プロパルギルアルコー
ル、プロパルギルアルコールモノエトキシラート（ヒド
ロオキシエチルプロパルギルエーテル）、ブチンジオー
ル、２ＥＯを含むブチ／ジλ−ル（ビス−（ヒドロキシ
エトキシン−ブチ７）、ｌＰＯを含むブチンジオール（
２−ヒドロキシプロピルグロブブチニルエーテル）、ヘ
キシンジオール、２−メチルブチン−３−オール−２，
３−メチルペンチン−１−オール−３，３，４−ヅメナ
ルベンチ／−１−オール−３，３−エチルペンチン−１
−オール−３，３−イツプロビル−４−メチルベンチ７
−１−オール−３，３−メチルヘキシン−１−オール−
３，３−プロピルヘキシン−１−オール−３、または、
これらの混合物から成る。本発明の教示による添加物を
選択すれば、電気的な析出により浴からパラジウム／ニ
ッケル被覆が得られ、これら被覆は、スルホ／酸の塩を
使用した公知のものに対して、細かくかつ均一な微結晶
および支障ない易溶体形成の点でおどろく程優れている
。それにより光沢、伸度および種々の腐食作用に対する
耐腐食性が高められる。さらに平面化効果も改善される
。本発明の枠内において１つまたは複数のアセチレン系
アルコールは、スルホン酸塩に混合して使用してもよい
。
敏および同様に５ないし３０グ／ｌの範囲のニッケル含
有−敏を含むパラジウムおよびニッケルアミンの水浴液
から成り、かつ電気的に析出される合金が３０ないし９
０−ｆ［ｉ％のパラジウム含有鍍を［ｆするように、パ
ラジウムとニッケルの比が設定されている。エトキフル
化またはプロポキシル化したアセチレンアルコールが適
して（・る。本発明のイ〕オリな実施例は次のような特
徴を有する。すなわち添加物が、プロパルギルアルコー
ル、プロパルギルアルコールモノエトキシラート（ヒド
ロオキシエチルプロパルギルエーテル）、ブチンジオー
ル、２ＥＯを含むブチ／ジλ−ル（ビス−（ヒドロキシ
エトキシン−ブチ７）、ｌＰＯを含むブチンジオール（
２−ヒドロキシプロピルグロブブチニルエーテル）、ヘ
キシンジオール、２−メチルブチン−３−オール−２，
３−メチルペンチン−１−オール−３，３，４−ヅメナ
ルベンチ／−１−オール−３，３−エチルペンチン−１
−オール−３，３−イツプロビル−４−メチルベンチ７
−１−オール−３，３−メチルヘキシン−１−オール−
３，３−プロピルヘキシン−１−オール−３、または、
これらの混合物から成る。本発明の教示による添加物を
選択すれば、電気的な析出により浴からパラジウム／ニ
ッケル被覆が得られ、これら被覆は、スルホ／酸の塩を
使用した公知のものに対して、細かくかつ均一な微結晶
および支障ない易溶体形成の点でおどろく程優れている
。それにより光沢、伸度および種々の腐食作用に対する
耐腐食性が高められる。さらに平面化効果も改善される
。本発明の枠内において１つまたは複数のアセチレン系
アルコールは、スルホン酸塩に混合して使用してもよい
。
次に本発明を典形的な実施例により説明する。
例１（アセチレンアルコールの添加）
次のような電解質が作られた。
゛（Ｐｄ （ＮＨ３）４’ ）Ｃ１２として２０ ｆの
パラジウム、（Ｎｉ （ＮＨ３）ｓ）ＳＯ４として１０
２のニッケル、を牌實に十分な導電度を設定するため（
Ｎ）（４）ｓｏ４またはＮＨ４Ｃｌとして５０２の支持
電解質（Ｌｅｉｔｓａｌす、 ｐＨ値を８．５に調節するためＮＨ４０Ｈ１１ｔの浴に
なるように水、 ｏ、ｉりのブチン−２−ジオール（１，４）、電気的析
出の際の浴温度３０℃、わずかな物品の動き、陰極電流
密度ＩＡ／ｄ扉、露出時間１０分。
パラジウム、（Ｎｉ （ＮＨ３）ｓ）ＳＯ４として１０
２のニッケル、を牌實に十分な導電度を設定するため（
Ｎ）（４）ｓｏ４またはＮＨ４Ｃｌとして５０２の支持
電解質（Ｌｅｉｔｓａｌす、 ｐＨ値を８．５に調節するためＮＨ４０Ｈ１１ｔの浴に
なるように水、 ｏ、ｉりのブチン−２−ジオール（１，４）、電気的析
出の際の浴温度３０℃、わずかな物品の動き、陰極電流
密度ＩＡ／ｄ扉、露出時間１０分。
ブラシをかけたしんちゅう板上に、＾輝度の一平らなパ
ラジウム・ニッケル層が得られた。ブチン−２−ジオー
ル（１，４）の阻害作用は明白である。耐腐食性を試１
Ｍ、するため、このようにして得られたテスト片は、室
温で６０秒間薄められた硝酸に浸され、この硝酸は、等
部の濃硝酸と水から作られた。腐食作用は見られなかっ
た。
ラジウム・ニッケル層が得られた。ブチン−２−ジオー
ル（１，４）の阻害作用は明白である。耐腐食性を試１
Ｍ、するため、このようにして得られたテスト片は、室
温で６０秒間薄められた硝酸に浸され、この硝酸は、等
部の濃硝酸と水から作られた。腐食作用は見られなかっ
た。
初めに述べた英国特許第１１４３１７８号明細■、に従
って、ブチンジオールの代りに１（ｌのナトリウムナフ
タリン−１，３，６−）リスルホナートを電解質に力り
えると、パラジウム・ニッケル層が得られるが、これら
の層は、前記の硝酸試験においてかなり腐食し、かつさ
らに平担特性を持たないわずかな光沢しか示さなかった
。腐食の原因は、光沢形成体として提案したアゼチレン
キアルコールの代りに芳香族スルホン酸塩で作業する限
り、不完全な易溶体形成にある。Ｘ線検査によれば遊離
したニッケルが検出され、これが腐食の原因をなしてい
る。
って、ブチンジオールの代りに１（ｌのナトリウムナフ
タリン−１，３，６−）リスルホナートを電解質に力り
えると、パラジウム・ニッケル層が得られるが、これら
の層は、前記の硝酸試験においてかなり腐食し、かつさ
らに平担特性を持たないわずかな光沢しか示さなかった
。腐食の原因は、光沢形成体として提案したアゼチレン
キアルコールの代りに芳香族スルホン酸塩で作業する限
り、不完全な易溶体形成にある。Ｘ線検査によれば遊離
したニッケルが検出され、これが腐食の原因をなしてい
る。
例２（アセチレン拳アルコール組合せの添加）次のよう
な電解質が作られた。
な電解質が作られた。
（Ｐｄ（ＮＨ３）４）８０４として２０ ｆのパラジウ
ム、（Ｎｉ（ＮＨ３）６）Ｃｌ３として１０２のニッケ
ル、電解質に十分な導電度を設定するため（ＮＨ４）ｓ
ｏ４またはＮＨ４Ｃ４として５０２の支持ｉａ解實、ｐ
Ｈ値を８．５に設定するためＮＨ，ｏＨ；１ ｔ’の浴
になるように水、 ｏ、ｉ ｒのブチン−２−ジオ−＃（１，４）、０．０
３ ｍ／ ノグロパルギルアルコール、電気的析出の際
の浴温度３０℃、わずかな物品の動ぎ、陰極電Ｎ、密度
１４／ｄ扉、露出時間１０分。
ム、（Ｎｉ（ＮＨ３）６）Ｃｌ３として１０２のニッケ
ル、電解質に十分な導電度を設定するため（ＮＨ４）ｓ
ｏ４またはＮＨ４Ｃ４として５０２の支持ｉａ解實、ｐ
Ｈ値を８．５に設定するためＮＨ，ｏＨ；１ ｔ’の浴
になるように水、 ｏ、ｉ ｒのブチン−２−ジオ−＃（１，４）、０．０
３ ｍ／ ノグロパルギルアルコール、電気的析出の際
の浴温度３０℃、わずかな物品の動ぎ、陰極電Ｎ、密度
１４／ｄ扉、露出時間１０分。
ブラシをかげたしんちゅう板上に高輝度の平らなパラジ
ウム・ニッケル層が得られた。両方のアセチレン幣アル
コールのわずがな阻害作用は明白である。例１で説明し
た硝酸試験に支障なく耐えた。
ウム・ニッケル層が得られた。両方のアセチレン幣アル
コールのわずがな阻害作用は明白である。例１で説明し
た硝酸試験に支障なく耐えた。
達（スルホン酸塩な含むアセチレ／粧アルコール組合せ
の添加） 次のような電＃負が作られた。
の添加） 次のような電＃負が作られた。
（Ｐｄ（ＮＨ３）４ＪＣ４２として２０ Ｆのパラジウ
ム、（Ｎｉ ＣＮＨ３）ｓ）Ｓ０４として１０ ｆのニ
ッケル、を解質に十分な導一度を設定するため（ＮＨ４
）２ｓｏ４またはＮＨ４Ｃｌとして５０ Ｆの支持電解
質、ｐＨ値を８．５に設定するためＮＨ４ＯＨ。
ム、（Ｎｉ ＣＮＨ３）ｓ）Ｓ０４として１０ ｆのニ
ッケル、を解質に十分な導一度を設定するため（ＮＨ４
）２ｓｏ４またはＮＨ４Ｃｌとして５０ Ｆの支持電解
質、ｐＨ値を８．５に設定するためＮＨ４ＯＨ。
ｘｔの浴になるように水、
０．１２のブチン−２−ジオールＣ１，４）、０．０３
−のプロパルギルアルコール、２．５２のナトリウムア
リルスルホナート、電気的析出の際の浴温度３０℃、わ
ずがな物品の動き、陰極！流布度Ｉ Ａ／ｄ扉、露出時
間１０分。
−のプロパルギルアルコール、２．５２のナトリウムア
リルスルホナート、電気的析出の際の浴温度３０℃、わ
ずがな物品の動き、陰極！流布度Ｉ Ａ／ｄ扉、露出時
間１０分。
ブラシをかけたしんちゅう板上に、高輝度の大幅に平ら
なパラジウム・ニッケル層が何ら阻害作用なしに得られ
た。例１による硝酸試験に支障なく耐えた。
なパラジウム・ニッケル層が何ら阻害作用なしに得られ
た。例１による硝酸試験に支障なく耐えた。
例４（アセチレン幣アルコールの添加）次のような電解
質が作られた。
質が作られた。
（Ｐ ｄ （ＮＨ３）４）Ｃ１２として２０ ｆのパラ
ジウム、（Ｎｉ（ＮＨ３）６ンｓｏ４として１０ ｆの
ニッケル、電解質に十分な導電度を設定するため（ＮＨ
４）２ｓｏ４またはＮＨ４Ｃｔとして５０２の支持電解
質、ｐＨ値を８．５に設定するためＮＨ４０Ｈ。
ジウム、（Ｎｉ（ＮＨ３）６ンｓｏ４として１０ ｆの
ニッケル、電解質に十分な導電度を設定するため（ＮＨ
４）２ｓｏ４またはＮＨ４Ｃｔとして５０２の支持電解
質、ｐＨ値を８．５に設定するためＮＨ４０Ｈ。
１ｔの浴になるように水、
ｏ、ｉ ｙのビス−（ヒドロキシエトキシ）−ブチン（
２ＥＯを含むブチン−ジオール〕、電気的ｅＴｍの除の
浴温度３０℃、わずかな物品の動き、陰極電流密度Ｉ
Ａ／ｄｍ″、露出時間１０分。
２ＥＯを含むブチン−ジオール〕、電気的ｅＴｍの除の
浴温度３０℃、わずかな物品の動き、陰極電流密度Ｉ
Ａ／ｄｍ″、露出時間１０分。
プランをかけたしんちゅう板上に、高輝度の平らなパラ
ジウム・ニッケル層が得られた。ア七チレンメアルコー
ルの１狙害作用は明白である。パラジウム・ニッケル層
は、明らかに大きな内部電／ｆを肴する。
ジウム・ニッケル層が得られた。ア七チレンメアルコー
ルの１狙害作用は明白である。パラジウム・ニッケル層
は、明らかに大きな内部電／ｆを肴する。
例１による硝酸試験には、ｌ Ａ／ｄイの電流密度範囲
において耐えた。
において耐えた。
例５（アセチレンＸアルコール組合せの添加）次のよ５
な亀′＃＃負が作られた。
な亀′＃＃負が作られた。
（Ｐｄ（ＮＨ３）４）Ｓｏ＜として２０２のパラジウム
、（Ｎ ｉ （ＮＨ３）ｅ）Ｃ１０として１０ ｆ／の
ニッケル、電解質に十分な導電度を設定するため（ＮＨ
４）２ｓｏ４またはＮ１４４Ｃ１として５０２の支持亀
１９￥負、ｐＨ値を８．５に設定するためＮＨ４ＯＨ。
、（Ｎ ｉ （ＮＨ３）ｅ）Ｃ１０として１０ ｆ／の
ニッケル、電解質に十分な導電度を設定するため（ＮＨ
４）２ｓｏ４またはＮ１４４Ｃ１として５０２の支持亀
１９￥負、ｐＨ値を８．５に設定するためＮＨ４ＯＨ。
１ｔの浴になるように水、
０．１−のビス−（ヒドロキシエトキシ）−ブチン（２
ＥＯを含むブチン−ジオール）、０．０３ｍ７！（７）
プロパルギルアルコール、電気的析出の腺の浴温度３０
℃、わずかな物品の動き、陰極篭流宣度Ｉ Ａ／ｄイ、
蒸出時間ｌＯ分。
ＥＯを含むブチン−ジオール）、０．０３ｍ７！（７）
プロパルギルアルコール、電気的析出の腺の浴温度３０
℃、わずかな物品の動き、陰極篭流宣度Ｉ Ａ／ｄイ、
蒸出時間ｌＯ分。
ブラシをかけたしんちゅう板上に為輝度の非餡に平らな
パラジウム・ニッケル層が得られた。両方のアセチレン
Ｘアルコールの阻害作用は一明白である。
パラジウム・ニッケル層が得られた。両方のアセチレン
Ｘアルコールの阻害作用は一明白である。
例ＩＫよる硝酸試製に耐えた。
％Ｊ６（スルホン酸塩を含むアセチレンＸアルコール組
合せの添加） 次のような電解質が作られた。
合せの添加） 次のような電解質が作られた。
（ＰｄＣＮＨ３）４）Ｃ４として２０ ｆのパラジウム
、（Ｎｉ （ＮＨ３）６）８０４として１０２のニッケ
ル、電解質に十分な導電度を設定するため（ＮＨ４）２
ｓｏ４またはＮＨ４Ｃｔとして５０ ｆの支持電解質、
ｐＨ値を８．５に設定するためＮＨ４ＯＨ。
、（Ｎｉ （ＮＨ３）６）８０４として１０２のニッケ
ル、電解質に十分な導電度を設定するため（ＮＨ４）２
ｓｏ４またはＮＨ４Ｃｔとして５０ ｆの支持電解質、
ｐＨ値を８．５に設定するためＮＨ４ＯＨ。
１１の浴になるように水、
０．１−のビス−（ヒドロキシエトキシ）−ブチン（２
ＥＯを含むブチン−ジオール）、０．０３ ｒｎｌのプ
ロパルギルアルコール、２．５Ｆのナトリウムアリルス
ルホナート。
ＥＯを含むブチン−ジオール）、０．０３ ｒｎｌのプ
ロパルギルアルコール、２．５Ｆのナトリウムアリルス
ルホナート。
ブラシをかけたしんちゅう板上に、例５によるものと同
じ結果が得られた。内部電圧はわずかである。大きな電
流密度の範囲においてパラジウム・ニッケル層は硝酸試
験に耐えた。この場合にも電気的析出の際の浴温度は３
０℃、陰極電流密度はＩ Ａ／ｄｎ？、露出時間は１０
分である。
じ結果が得られた。内部電圧はわずかである。大きな電
流密度の範囲においてパラジウム・ニッケル層は硝酸試
験に耐えた。この場合にも電気的析出の際の浴温度は３
０℃、陰極電流密度はＩ Ａ／ｄｎ？、露出時間は１０
分である。
例゛７（スルホン酸塩と組合せたアセチレン呆アルコー
ルの添加） 次のような電解質が作られた。
ルの添加） 次のような電解質が作られた。
（Ｐｄ （ＮＨ３）４）８０４として２０９のパラジウ
ム、（Ｎｉ （ＮＨ３）６）Ｃｌ３としてｉｏ ｙのニ
ッケル、電解質に十分な導電度を設定するため（ＮＨ４
）２ｓｏ４またはＮＨ４Ｃｌとして５０ ｆの支持電解
質、ｐＨ値を８，５に設定するためＮＨ４０Ｈ。
ム、（Ｎｉ （ＮＨ３）６）Ｃｌ３としてｉｏ ｙのニ
ッケル、電解質に十分な導電度を設定するため（ＮＨ４
）２ｓｏ４またはＮＨ４Ｃｌとして５０ ｆの支持電解
質、ｐＨ値を８，５に設定するためＮＨ４０Ｈ。
ｌｔの浴になるように水、
ｏ、ｏｓｒの一ヘキシンジオール、
２．５９のナトリウムアリルスルホナート、電気的析出
の際の浴温度３０℃、わずかな物品の動き、陰極電流密
度１１ｙ’ｄｒｒｌ、露出時間１０分。
の際の浴温度３０℃、わずかな物品の動き、陰極電流密
度１１ｙ’ｄｒｒｌ、露出時間１０分。
ブラシをかけたしんちゅう板上に光沢のある平らなパラ
ジウム・ニッケル層が？Ｉらｔ’した。
ジウム・ニッケル層が？Ｉらｔ’した。
例１による硝酸試験に耐えた。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （す装飾的および／または工業的な被覆のためパラジウ
ム／ニッケル合金を電気的に析出する浴において、易溶
体形成体として１つまたは枚数のアセチレンアルコール
を使用し、浴が、５ないし３０ｙ７ｔの範囲のパラジウ
ム含有量および同様に５ないし３０ｆ／ｌの範囲のニッ
ケル含有量を含むパラジウムおよびニッケルアミンの水
溶液から成り、かつ電気的に析出される合金が３０ない
し９０ｔｉ％のパラジウム含何量を有するように、パラ
ジウムとニッケルの比が設定されていることを特徴とす
る。パラジウム／ニッケル合金を電気的に析出する浴。 （２） ６Ｆ、 加物カ、グロパルギルアルコール、グ
ロバルギルアルコールモノエトキシラート（ヒドロオキ
シエチルグロパルギルエーテル）、ブチンジオール、２
ＥＯを含むブチンジオール（ビス−（ヒドロキシエトキ
シフープチン）、ｌＰｏを含むブチンジオール（２−ヒ
ドロキシグロビルグロププチニルエ゛−テルラ、ヘキシ
ンジオール、２−メチルブチン−３−オール−２，３−
メチルペンチン−１−オール−３，３，４−ジメチルベ
／チン−１−オール−３，３−エチルペンチン−１−オ
ール−３，３−１ノグロビル−４−メチルペンチン−１
−オール−３，３−メチルヘキシン−１−オール−３，
３−プロビルヘキシ／−１−オール−３、またはこれら
の混合物から成る、特許請求の範囲第１項記載の浴。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE31084664 | 1981-03-06 | ||
| DE3108466A DE3108466C2 (de) | 1981-03-06 | 1981-03-06 | Verwendung eines Acetylenalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5816087A true JPS5816087A (ja) | 1983-01-29 |
Family
ID=6126473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57032481A Pending JPS5816087A (ja) | 1981-03-06 | 1982-03-03 | パラジウム／ニッケル合金を電気的に析出する浴 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4416741A (ja) |
| JP (1) | JPS5816087A (ja) |
| AT (1) | AT377015B (ja) |
| AU (1) | AU535263B2 (ja) |
| BE (1) | BE892342A (ja) |
| BR (1) | BR8201169A (ja) |
| DE (1) | DE3108466C2 (ja) |
| FR (1) | FR2501241A1 (ja) |
| GB (1) | GB2094347B (ja) |
| IT (1) | IT1150626B (ja) |
| NL (1) | NL8200906A (ja) |
| SE (1) | SE8201297L (ja) |
| ZA (1) | ZA821366B (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4463060A (en) * | 1983-11-15 | 1984-07-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solderable palladium-nickel coatings and method of making said coatings |
| US4564426A (en) * | 1985-04-15 | 1986-01-14 | International Business Machines Corporation | Process for the deposition of palladium-nickel alloy |
| US4628165A (en) * | 1985-09-11 | 1986-12-09 | Learonal, Inc. | Electrical contacts and methods of making contacts by electrodeposition |
| CN113151869A (zh) * | 2021-04-13 | 2021-07-23 | 苏州磊屹光电科技有限公司 | 一种改进不锈钢/洋白铜材料镍层外观的镍预处理方法 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT513086A (ja) * | 1953-03-24 | |||
| US3254007A (en) * | 1963-02-05 | 1966-05-31 | Hanson Van Winkle Munning Co | Electrodeposition of nickel |
| US3378470A (en) * | 1965-05-17 | 1968-04-16 | John S Guleserian | Electrodeposition of nickel |
| US3502550A (en) * | 1965-11-01 | 1970-03-24 | M & T Chemicals Inc | Nickel electroplating electrolyte |
| GB1166631A (en) * | 1965-12-07 | 1969-10-08 | Vickers Ltd Sa | Improvements in or relating to the Electrodeposition of Base Metals |
| GB1052028A (ja) * | 1966-11-25 | |||
| JPS4733176B1 (ja) * | 1967-01-11 | 1972-08-23 | ||
| US3804727A (en) * | 1969-02-10 | 1974-04-16 | Albright & Wilson | Electrodeposition of nickel |
| US3806429A (en) * | 1972-07-03 | 1974-04-23 | Oxy Metal Finishing Corp | Electrodeposition of bright nickel-iron deposits,electrolytes therefor and coating an article with a composite nickel-iron,chromium coating |
| ZA746191B (en) * | 1973-11-05 | 1975-11-26 | M & T Chemicals Inc | Electrodeposition of alloys of nickel or nickel and cobalt with iron |
| US3922209A (en) * | 1974-08-20 | 1975-11-25 | M & T Chemicals Inc | Electrode position of alloys of nickel, cobalt or nickel and cobalt with iron and electrolytes therefor |
| US4066517A (en) * | 1976-03-11 | 1978-01-03 | Oxy Metal Industries Corporation | Electrodeposition of palladium |
| US4098656A (en) * | 1976-03-11 | 1978-07-04 | Oxy Metal Industries Corporation | Bright palladium electroplating baths |
| DE2825966A1 (de) * | 1978-06-14 | 1980-01-03 | Basf Ag | Saures galvanisches nickelbad, das sulfobetaine als glanz- und einebnungsmittel enthaelt |
| DE2839360C2 (de) * | 1978-09-09 | 1982-11-04 | Oxy Metal Industries Corp., Detroit, Mich. | Wäßriges Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden Überzügen aus Palladium oder seinen Legierungen |
| US4297177A (en) * | 1980-09-19 | 1981-10-27 | American Chemical & Refining Company Incorporated | Method and composition for electrodepositing palladium/nickel alloys |
-
1981
- 1981-03-06 DE DE3108466A patent/DE3108466C2/de not_active Expired
-
1982
- 1982-02-24 GB GB8205449A patent/GB2094347B/en not_active Expired
- 1982-03-02 AU AU81048/82A patent/AU535263B2/en not_active Ceased
- 1982-03-02 ZA ZA821366A patent/ZA821366B/xx unknown
- 1982-03-03 JP JP57032481A patent/JPS5816087A/ja active Pending
- 1982-03-03 BE BE2/59609A patent/BE892342A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-03-03 SE SE8201297A patent/SE8201297L/ not_active Application Discontinuation
- 1982-03-03 AT AT0082382A patent/AT377015B/de not_active IP Right Cessation
- 1982-03-04 FR FR8203611A patent/FR2501241A1/fr not_active Withdrawn
- 1982-03-05 BR BR8201169A patent/BR8201169A/pt unknown
- 1982-03-05 NL NL8200906A patent/NL8200906A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-03-05 IT IT19991/82A patent/IT1150626B/it active
- 1982-03-05 US US06/355,245 patent/US4416741A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2094347A (en) | 1982-09-15 |
| DE3108466A1 (de) | 1982-09-16 |
| AT377015B (de) | 1985-01-25 |
| ATA82382A (de) | 1984-06-15 |
| FR2501241A1 (fr) | 1982-09-10 |
| IT8219991A0 (it) | 1982-03-05 |
| DE3108466C2 (de) | 1983-05-26 |
| AU8104882A (en) | 1982-09-09 |
| NL8200906A (nl) | 1982-10-01 |
| ZA821366B (en) | 1983-01-26 |
| BE892342A (fr) | 1982-07-01 |
| US4416741A (en) | 1983-11-22 |
| BR8201169A (pt) | 1982-11-23 |
| IT1150626B (it) | 1986-12-17 |
| GB2094347B (en) | 1984-11-14 |
| SE8201297L (sv) | 1982-09-07 |
| AU535263B2 (en) | 1984-03-08 |
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