NL8200906A - Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellegering. - Google Patents
Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellegering. Download PDFInfo
- Publication number
- NL8200906A NL8200906A NL8200906A NL8200906A NL8200906A NL 8200906 A NL8200906 A NL 8200906A NL 8200906 A NL8200906 A NL 8200906A NL 8200906 A NL8200906 A NL 8200906A NL 8200906 A NL8200906 A NL 8200906A
- Authority
- NL
- Netherlands
- Prior art keywords
- palladium
- nickel
- bath
- butyndiol
- galvanic separation
- Prior art date
Links
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 57
- 238000000926 separation method Methods 0.000 title claims description 10
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 49
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 27
- -1 acetylene alcohol Chemical compound 0.000 claims description 21
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 15
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N prop-2-yn-1-ol Chemical compound OCC#C TVDSBUOJIPERQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 4
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- KXUSQYGLNZFMTE-UHFFFAOYSA-N hex-2-yne-1,1-diol Chemical compound CCCC#CC(O)O KXUSQYGLNZFMTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 3
- CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 2-methylbut-3-yn-2-ol Chemical compound CC(C)(O)C#C CEBKHWWANWSNTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GHGCQQRMJCSIBQ-UHFFFAOYSA-N 2-prop-2-ynoxyethanol Chemical compound OCCOCC#C GHGCQQRMJCSIBQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AITRHXWWBFCGQC-UHFFFAOYSA-N but-2-yne-1,1-diol 2-[2-(2-hydroxyethoxy)but-3-yn-2-yloxy]ethanol Chemical compound C(C#CC)(O)O.OCCOC(C#C)(C)OCCO AITRHXWWBFCGQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PVSPTVQNQJFQMP-UHFFFAOYSA-N 1-but-1-ynoxybut-1-yne Chemical compound CCC#COC#CCC PVSPTVQNQJFQMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 15
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 10
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 4
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 4
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UOUYMTMNAMZOSE-UHFFFAOYSA-N OCCOC(C#C)(C)OCCO Chemical compound OCCOC(C#C)(C)OCCO UOUYMTMNAMZOSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910017974 NH40H Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 2
- XTEGVFVZDVNBPF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-disulfonic acid Chemical compound C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1S(O)(=O)=O XTEGVFVZDVNBPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 2
- RRGLVHWFPOECRI-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-3-propan-2-ylpent-1-yne Chemical compound CC(C)C(C#C)C(C)C RRGLVHWFPOECRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- ZPBSAMLXSQCSOX-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3,6-trisulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C1=CC(S(O)(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C21 ZPBSAMLXSQCSOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonamide Chemical compound CC1=CC=C(S(N)(=O)=O)C=C1 LMYRWZFENFIFIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K trisodium;naphthalene-1,3,6-trisulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]S(=O)(=O)C1=CC(S([O-])(=O)=O)=CC2=CC(S(=O)(=O)[O-])=CC=C21 NJPKYOIXTSGVAN-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/567—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of platinum group metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
Description
N/30.817-Kp/Pf/vdM *’* ' - 1 -
Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkel-legering.
De uitvinding heeft betrekking op een bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellege-ring voor decoratieve en/of technische bekledingen, - bestaand uit een waterige oplossing van palladium- en nikkelamines met 5 een palladiumgehalte in het gebied van 5-30 g/1, een nikkelge-halte in het gebied van eveneens 5-30 g/1 en een toevoeging van sulfonzuren en/of zouten daarvan - in welke waterige oplossing de palladium/nikkelverhouding zo is ingesteld, dat de galvanisch afgescheiden legering een palladiumgehalte van 30-10 90 gew.% vertoont. Een met behulp van een dergelijk bad vervaardigde bekleding dient ter vervanging van goud.
Bij de bekende baden (Brits octrooischrift 1.143.178) dient de toevoeging van sulfonzuren en/of zouten daarvan tot de vorming van glans. In het bijzonder worden ge-15 noemd zouten van de naftaleensulfonzuren en aromatische sul-fonamiden, zoals het natriumzout van het naftaleen-1,5-disul-fonzuur, het natriumzout van het naftaleen-1,3,6-trisulfonzuur, alsmede saccharine (o-sulfobenzoëzuurimide) en p-tolueensul-fonamide. In de praktijk is echter gebleken, dat de met een 20 dergelijk bad vervaardigde bekledingen in mechanisch opzicht niet aan de vereisten beantwoorden - en zelfs de glans is voor vele decoratieve doeleinden niet voldoende. Deze gebreken berusten volgens de inzichten die aan de uitvinding ten grondslag liggen, op gebrekkige mengkristalvorming.
25 De onderhavige uitvinding heeft tot opgave het in de aanhef aangeduide bad zodanig in te richten, dat een juiste mengkristalvorming plaatsvindt.
Voor het oplossen van deze opgave leert de uitvinding de toepassing van een acetyleenalcohol of van meer-30 dere acetyleenalcoholen als mengkristalvormers bij een bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellege-ring voor decoratieve en/of technische bekledingen, welk bad uit een waterige oplossing van palladium- en nikkelamines met een palladiumgehalte in het gebied van 5-30 g/1 en een nikkel-35 gehalte in het gebied van eveneens 5-30 g/1 bestaat en waarin 8200906 i' « - 2 - de palladium/nikkelverhouding zodanig is ingesteld, dat de galvanisch afgescheiden legering een palladiumgehalte van 30-90 gew.% vertoont. Hiertoe lenen zich geëthoxyleerde, resp. gepropoxyleerde acetyleenalcoholen. Een de voorkeur verdienen-5 de uitvoeringsvorm van de uitvinding heeft het kenmerk, dat de toevoeging uit propargylalcohol propargylalcoholmonoethoxylaat (hydroxyethyl- propargylether) 10 butyndiol butyndiol met 2 EO (bis-(hydroxyethoxy)- butyn) butyndiol met 1 PO (2-hydroxypropylpropbuty- nylether) 15 hexyndiol 2- methylbutyn-3-ol-2 3- methylpentyn-l-ol-3 3,4-dimethylpentyn-l-ol-3 3-ethylpentyn-1-ol-3 20 3-isopropyl-4-methylpentyn-l-ol-3 3-methylhexyn-l-ol-3 3-propylhexyn-l-ol-3 of mengsels daarvan bestaat. Wanneer men de toevoeging volgens de leer van de uitvinding kiest, dan verkrijgt men uit het bad 25 door galvanische afscheiding palladium/nikkelbekledingen, die geheel verrassend ten opzichte van de bekende toepassing van zouten van de sulfonzuren uitblinken door fijnere en meer gelijkmatige kristallieten, alsmede correcte mengkristalvorming. Dit verhoogt glans, ductiliteit en corrosiebestendigheid onder 30 de meest uiteenlopende corrosieve invloeden. Bovendien wordt het egalisatie-effect verbeterd. In het kader van de uitvinding kan een acetyleenalcohol en kunnen ook meerdere daarvan in mengsel met sulfonzuurzouten worden gebruikt.
De uitvinding wordt hierna aan de hand van 35 karakteristieke uitvoeringsvoorbeelden nader toegelicht.
VOORBEELD I (toevoeging van een acetyleenalcohol)
Het volgende electrolyt werd bereid: 8200906 - - 3 - 20 g palladium als (Pd (NH3)4) Cl2 10 g nikkel als (Ni (ΝΗ^)^) S04 50 g geleidings- zout als (NH4)2 S04 of NH4C1 voor 5 het bereiken van een voldoende ge- leidingsvermogen van het electrolyt NH4OH voor het instellen van een pH-waarde van 8,5 water voor een bad van 1 1 10 0,1 g butyn-2-diol (1,4)
Badtemperatuur bij de galvanische afscheiding 30°C, lichte beweging van de substraten, kathodische stroom- 2 dichtheid 1 A/dm , blootstellingsduur 10 min.
Op geborstelde messingplaat werd een sterk 15 glanzende afgevlakte palladium-nikkelbekleding verkregen. In-hibitie-effecten van het butyn-2-diol (1,4) zijn zichtbaar. Voor de controle van de corrosiebestendigheid werd de zo verkregen proefplaat bij kamertemperatuur gedurende 60 s in een verdunde oplossing van salpeterzuur gedoopt, die uit gelijke 20 delen geconcentreerd salpeterzuur en water was samengesteld. Geen corrosieve aantasting was zichtbaar.
Volgt men het in de inleiding genoemde Britse octrooischrift 1.143.178, en voegt men aan het electrolyt in plaats van butyndiol 10 g natriumnaftaleen-l,3,6-trisulfonaat 25 toe, dan verkrijgt men palladium-nikkelbekledingen, die in de boven beschreven salpeterzuurproef aanzienlijk corroderen en bovendien een geringere glans zonder afvlakkingseffect vertonen.
De oorzaak van de corrosie moet gezocht worden 30 in een gebrekkige mengkristalvorming, voor zover met aromatische sulfonzuurzouten in plaats van de voorgestelde acetyleen-alcoholen als glansvormers wordt gewerkt. Door röntgenonderzoek was vrij nikkel vast te stellen, hetgeen de oorzaak van de corrosie vormt.
35 VOORBEELD II (toevoeging van een acetyleen- alcohol-combinatie)
Het volgende electrolyt werd bereid: 8200906 ·"> - 4 - 20 g palladium als (Pd (NH^)^) SO^ 10 g nikkel als (Ni (NH^)g) Cl2 50 g geleidings- zout als (NH4)2 S04 of NH4C1 voor 5 het instellen van een voldoende ge- leidingsvermogen van het electrolyt NH40H voor het instellen van een pH-waarde van 8,5 water voor een bad van 1 1 10 0,1 g butyn-2-diol (1,4) 0,03 ml propargylalcohol
Badtemperatuur bij de galvanische afscheiding 30°C, lichte beweging van de substraten, kathodische stroom- 2 dichtheid 1 A/dm , duur van de blootstelling 10 min.
15 Op geborstelde messingplaat werd een sterk glanzende afgevlakte palladium-nikkelbekleding verkregen. Geringe inhibitie-effecten van beide acetyleenalcoholen zijn zichtbaar. De in voorbeeld I beschreven salpeterzuurproef werd ongeschonden doorstaan.
20 VOORBEELD III (toevoeging van een acetyleen- alcohol-combinatie in combinatie met sulfonzuurzouten)
Het volgende electrolyt werd bereid: 20 g palladium als (Pd (NH3)4) Cl2 25 10 g nikkel als (Ni (NH^)g) S04 50 g geleidings- zout als (NH.)„ SO. of NH.C1 voor 4 2 4 4 het instellen van een voldoende ge-leidingsvermogen van het electrolyt 30 NH4OH voor het instellen van een pH-waarde van 8,5 water voor een bad van 1 1 0,1 g butyn-2-diol (1,4) 0,03 ml propargylalcohol 35 2,5 g natriumallylsulfonaat 8200906 - 5 -
Badtemperatuur bij de galvanische afscheiding 30°C, lichte beweging van de substraten, kathodische stroom- 2 dichtheid 1 A/dm , duur van de blootstelling 10 min.
Op geborstelde messingplaat werd een sterk 5 glanzende sterk afgevlakte palladium-nikkelbekleding zonder enigerlei inhibitie-effecten verkregen. De salpeterzuurproef volgens voorbeeld I werd ongeschonden doorstaan.
VOORBEELD IV(toevoeging van een acetyleen- alcohol) 10 Het volgende electrolyt werd bereid: 10 g palladium als (Pd (NH3)4) Cl2 10 g nikkel als (Ni (NH^)g) S04 50 g geleidings- zout als (ΝΗ4)3 S04 of NH^Cl voor 15 het instellen van een voldoende ge- leidingsvermogen van het electrolyt ' NH^OH voor het instellen van een pH-waarde van 8,5 water voor een bad van 1 1 20 0,1 ml bis-(hydroxyethoxy)-butyn(butyndiol met 2 EO)
Badtemperatuur bij de galvanische afscheiding 30°C, lichte beweging van de substraten, kathodische stroom-dichtheid 1 A/dm , duur van de blootstelling 10 min.
25 Op geborstelde messingplaat werd een sterk glanzende afgevlakte palladium-nikkelbekleding verkregen. In-hibitie-effecten van de acetyleenalcohol zijn zichtbaar. De palladium-nikkelbekleding heeft merkbaar grotere interne spanningen.
30 De salpeterzuurproef volgens voorbeeld I werd 2 in het stroomdichtheidsgebied van 1 A/dm doorstaan.
VOORBEELD V (toevoeging van een acetyleen-alcohol-combinatie)
Het volgende electrolyt werd bereid: 35 20 g palladium als (Pd (NH^)^) SO^ 10 g nikkel als (Ni (NH^) g) Cl2 50 g geleidings- s 8200906 - 6 - zout als (NH^^ SO^ of NH^Cl voor , het instellen van een voldoende ge-leidingsvermogen van het electrolyt NH^OH voor het instellen van een 5 pH-waarde van 8,5 water voor een bad van 1 1 0,1 ml bis-(hydroxyethoxy)-butyn (butyndiol met 2 EO) 0,03 ml propargylalcohol 10 Badtemperatuur bij de galvanische afscheiding 30°C, lichte beweging van de substraten, kathodische stroom- 2 dichtheid 1 A/dm , duur van de blootstelling 10 min.
Op geborstelde messingplaat werd een sterk glanzende, sterk afgevlakte palladium-nikkelbekleding verkre-15 gen. Het inhibitie-effect van beide acetyleenalcoholen is zichtbaar.
De salpeterzuurproef volgens voorbeeld I werd doorstaan.
VOORBEELD VI (toevoeging van een acetyleenal-20 cohol-combinatie in combinatie met sulfonzuurzouten)
Het volgende electrolyt werd bereid: 20 g palladium als (Pd (NH3)4) Cl2 10 g nikkel als (Ni (NH^)^) SO^ 25 50 g geleidings- zout als (NH4)2 S04 of NH^Cl voor het instellen van een voldoende ge-leidingsvermogen van het electrolyt NH^OH voor het instellen van een pH-30 ' waarde van 8,5 water voor een bad van 1 1 0,1 ml bis-(hydroxyethoxy)-butyn (butyndiol met 2 EO) 0,03 ml propargylalcohol 35 2,5 g natriumallylsulfonaat 8200906 - 7 -
Op geborstelde messingplaat verkrijgt men resultaten als bij voorbeeld V. De interne spanningen zijn gering. In het gebied van hogere stroomdichtheden doorstaat de palladium-nikkelbekleding de salpeterzuurproef.
5 Ook in dit geval bedroeg de badtemperatuur bij de galvanische afscheiding 30°C, lichte beweging van de sub- 2 straten, kathodische stroomdichtheid 1 A/dm , duur van de blootstelling 10 min.
VOORBEELD VII (toevoeging van een acetyleen-10 alcohol in combinatie met een sulfonzuurzout)
Het volgende electrolyt werd bereid: 20 g palladium als (Pd (NH^)^) SO^ 10 g nikkel als (Ni (NH^)g) 15 50 g geleidings- zout als (NH^)2 SO4 of NH^Cl voor het instellen van een voldoende ge-leidingsvermogen van het electrolyt NH40H voor het instellen van een pH-20 waarde van 8,5 water voor een bad van 1 1 0,05 g hexyndiol 2,5 g natriumallylsulfonaat.
Badtemperatuur bij de galvanische afscheiding 25 30°C, lichte beweging van de substraten, kathodische stroom- 2 dichtheid 1 A/dm , duur van de blootstelling 10 min.
Op geborstelde messingplaten verkreeg men glanzende, afgevlakte palladium-nikkelbekledingen.
De salpeterzuurproef volgens voorbeeld I werd 30 doorstaan.
8200906
Claims (2)
1. Toepassing van een acetyleenalcohol of meerdere acetyleenalcoholen als mengkristalvormers in een bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellege- 5 ring voor decoratieve en/of technische bekledingen, welk bad uit een waterige oplossing van palladium- en nikkelamines met een palladiumgehalte in het gebied van 5-30 g/1 en een nikkel-gehalte in het gebied van eveneens 5-30 g/1 bestaat en waarbij de palladium/nikkelverhouding zo is ingesteld, dat de galva-10 nisch afgescheiden legering een palladiumgehalte van 30-90 gew.% vertoont.
2. Toepassing volgens conclusie 1, met het kenmerk, dat de toevoeging uit propargylalcohol 15 propargylalcoholmonoethoxylaat (hydroxyethyl- propargylether) butyndiol butyndiol met 2 EO (bis-(hydroxyethoxy)butyn) butyndiol met 1 PO (2-hydroxypropylprop-20 butynylether) hexyndiol 2- methyIbutyn-3-o1-2 3- methylpentyn-l-ol-3 3,4-dimethylpentyn-l-ol-3 25 3-ethylpentyn-l-ol-3 3-isopropyl-4-methylpentyn-l-ol-3 3-methylhexyn-l-ol-3 3-propylhexyn-X-ol-3 of mengsels daarvan bestaat. 30 8200906
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE3108466 | 1981-03-06 | ||
| DE3108466A DE3108466C2 (de) | 1981-03-06 | 1981-03-06 | Verwendung eines Acetylenalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| NL8200906A true NL8200906A (nl) | 1982-10-01 |
Family
ID=6126473
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| NL8200906A NL8200906A (nl) | 1981-03-06 | 1982-03-05 | Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellegering. |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4416741A (nl) |
| JP (1) | JPS5816087A (nl) |
| AT (1) | AT377015B (nl) |
| AU (1) | AU535263B2 (nl) |
| BE (1) | BE892342A (nl) |
| BR (1) | BR8201169A (nl) |
| DE (1) | DE3108466C2 (nl) |
| FR (1) | FR2501241A1 (nl) |
| GB (1) | GB2094347B (nl) |
| IT (1) | IT1150626B (nl) |
| NL (1) | NL8200906A (nl) |
| SE (1) | SE8201297L (nl) |
| ZA (1) | ZA821366B (nl) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4463060A (en) * | 1983-11-15 | 1984-07-31 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Solderable palladium-nickel coatings and method of making said coatings |
| US4564426A (en) * | 1985-04-15 | 1986-01-14 | International Business Machines Corporation | Process for the deposition of palladium-nickel alloy |
| US4628165A (en) * | 1985-09-11 | 1986-12-09 | Learonal, Inc. | Electrical contacts and methods of making contacts by electrodeposition |
| CN113151869A (zh) * | 2021-04-13 | 2021-07-23 | 苏州磊屹光电科技有限公司 | 一种改进不锈钢/洋白铜材料镍层外观的镍预处理方法 |
Family Cites Families (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| IT513086A (nl) * | 1953-03-24 | |||
| US3254007A (en) * | 1963-02-05 | 1966-05-31 | Hanson Van Winkle Munning Co | Electrodeposition of nickel |
| US3378470A (en) * | 1965-05-17 | 1968-04-16 | John S Guleserian | Electrodeposition of nickel |
| US3502550A (en) * | 1965-11-01 | 1970-03-24 | M & T Chemicals Inc | Nickel electroplating electrolyte |
| GB1166631A (en) * | 1965-12-07 | 1969-10-08 | Vickers Ltd Sa | Improvements in or relating to the Electrodeposition of Base Metals |
| GB1052028A (nl) * | 1966-11-25 | |||
| JPS4733176B1 (nl) * | 1967-01-11 | 1972-08-23 | ||
| US3804727A (en) * | 1969-02-10 | 1974-04-16 | Albright & Wilson | Electrodeposition of nickel |
| US3806429A (en) * | 1972-07-03 | 1974-04-23 | Oxy Metal Finishing Corp | Electrodeposition of bright nickel-iron deposits,electrolytes therefor and coating an article with a composite nickel-iron,chromium coating |
| ZA746191B (en) * | 1973-11-05 | 1975-11-26 | M & T Chemicals Inc | Electrodeposition of alloys of nickel or nickel and cobalt with iron |
| US3922209A (en) * | 1974-08-20 | 1975-11-25 | M & T Chemicals Inc | Electrode position of alloys of nickel, cobalt or nickel and cobalt with iron and electrolytes therefor |
| US4066517A (en) * | 1976-03-11 | 1978-01-03 | Oxy Metal Industries Corporation | Electrodeposition of palladium |
| US4098656A (en) * | 1976-03-11 | 1978-07-04 | Oxy Metal Industries Corporation | Bright palladium electroplating baths |
| DE2825966A1 (de) * | 1978-06-14 | 1980-01-03 | Basf Ag | Saures galvanisches nickelbad, das sulfobetaine als glanz- und einebnungsmittel enthaelt |
| DE2839360C2 (de) * | 1978-09-09 | 1982-11-04 | Oxy Metal Industries Corp., Detroit, Mich. | Wäßriges Bad zur galvanischen Abscheidung von glänzenden Überzügen aus Palladium oder seinen Legierungen |
| US4297177A (en) * | 1980-09-19 | 1981-10-27 | American Chemical & Refining Company Incorporated | Method and composition for electrodepositing palladium/nickel alloys |
-
1981
- 1981-03-06 DE DE3108466A patent/DE3108466C2/de not_active Expired
-
1982
- 1982-02-24 GB GB8205449A patent/GB2094347B/en not_active Expired
- 1982-03-02 AU AU81048/82A patent/AU535263B2/en not_active Ceased
- 1982-03-02 ZA ZA821366A patent/ZA821366B/xx unknown
- 1982-03-03 JP JP57032481A patent/JPS5816087A/ja active Pending
- 1982-03-03 BE BE2/59609A patent/BE892342A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-03-03 SE SE8201297A patent/SE8201297L/ not_active Application Discontinuation
- 1982-03-03 AT AT0082382A patent/AT377015B/de not_active IP Right Cessation
- 1982-03-04 FR FR8203611A patent/FR2501241A1/fr not_active Withdrawn
- 1982-03-05 BR BR8201169A patent/BR8201169A/pt unknown
- 1982-03-05 NL NL8200906A patent/NL8200906A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-03-05 IT IT19991/82A patent/IT1150626B/it active
- 1982-03-05 US US06/355,245 patent/US4416741A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| GB2094347A (en) | 1982-09-15 |
| DE3108466A1 (de) | 1982-09-16 |
| AT377015B (de) | 1985-01-25 |
| ATA82382A (de) | 1984-06-15 |
| FR2501241A1 (fr) | 1982-09-10 |
| JPS5816087A (ja) | 1983-01-29 |
| IT8219991A0 (it) | 1982-03-05 |
| DE3108466C2 (de) | 1983-05-26 |
| AU8104882A (en) | 1982-09-09 |
| ZA821366B (en) | 1983-01-26 |
| BE892342A (fr) | 1982-07-01 |
| US4416741A (en) | 1983-11-22 |
| BR8201169A (pt) | 1982-11-23 |
| IT1150626B (it) | 1986-12-17 |
| GB2094347B (en) | 1984-11-14 |
| SE8201297L (sv) | 1982-09-07 |
| AU535263B2 (en) | 1984-03-08 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR0180792B1 (ko) | 은도금 욕 및 그를 이용한 은도금 방법 | |
| US4428802A (en) | Palladium-nickel alloy electroplating and solutions therefor | |
| US3677909A (en) | Palladium-nickel alloy plating bath | |
| CA2230330A1 (en) | Alkaline zinc and zinc alloy electroplating baths and processes | |
| US4491507A (en) | Galvanic depositing of palladium coatings | |
| US3692641A (en) | Electrodeposition of low stress ruthenium alloy | |
| US4617096A (en) | Bath and process for the electrolytic deposition of gold-indium alloys | |
| US3500537A (en) | Method of making palladium coated electrical contacts | |
| NL8200906A (nl) | Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellegering. | |
| CA1129805A (en) | Electrodeposition of ruthenium-iridium alloy | |
| US4100039A (en) | Method for plating palladium-nickel alloy | |
| NL8200907A (nl) | Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium/nikkellegering. | |
| US3793162A (en) | Electrodeposition of ruthenium | |
| NL8200908A (nl) | Bad voor de galvanische afscheiding van een palladium-nikkellegering. | |
| JPS609116B2 (ja) | パラジウム及びパラジウム合金の電着方法 | |
| US3681211A (en) | Electroplating a black nickel-zinc alloy deposit | |
| US4375392A (en) | Bath and process for the electrodeposition of ruthenium | |
| US4778574A (en) | Amine-containing bath for electroplating palladium | |
| US4297179A (en) | Palladium electroplating bath and process | |
| US4430172A (en) | Method of increasing corrosion resistance in galvanically deposited palladium/nickel coatings | |
| US4416742A (en) | Process and electrolytic bath for making a rhodium-plated article having a black or blue color | |
| CH645927A5 (en) | Electroplating bath and use thereof | |
| CA1050471A (en) | Electroplating of rhodium-ruthenium alloys | |
| US4411744A (en) | Bath and process for high speed nickel electroplating | |
| US4062736A (en) | Gold and gold alloy deposition |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A1A | A request for search or an international-type search has been filed | ||
| BB | A search report has been drawn up | ||
| BC | A request for examination has been filed | ||
| A85 | Still pending on 85-01-01 | ||
| BV | The patent application has lapsed |