JPS5816088A - パラジウム/ニッケル合金を電気的に析出する浴 - Google Patents
パラジウム/ニッケル合金を電気的に析出する浴Info
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- JPS5816088A JPS5816088A JP57032482A JP3248282A JPS5816088A JP S5816088 A JPS5816088 A JP S5816088A JP 57032482 A JP57032482 A JP 57032482A JP 3248282 A JP3248282 A JP 3248282A JP S5816088 A JPS5816088 A JP S5816088A
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- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 44
- 238000000151 deposition Methods 0.000 title claims description 7
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 title claims description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 33
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 16
- -1 acetylene amines Chemical class 0.000 claims description 12
- HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N alpha-acetylene Natural products C#C HSFWRNGVRCDJHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 150000001414 amino alcohols Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 3
- 239000006115 industrial coating Substances 0.000 claims description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 6
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 239000010951 brass Substances 0.000 description 4
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 4
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 3
- VXAWCKIQYKXJMD-UHFFFAOYSA-N ethynamine Chemical compound NC#C VXAWCKIQYKXJMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonia chloride Chemical compound [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 2
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 2
- 239000003115 supporting electrolyte Substances 0.000 description 2
- JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 3-chloro-4-(trifluoromethoxy)benzoyl cyanide Chemical compound FC(F)(F)OC1=CC=C(C(=O)C#N)C=C1Cl JHUFGBSGINLPOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000223221 Fusarium oxysporum Species 0.000 description 1
- 229910017974 NH40H Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 235000011114 ammonium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000005034 decoration Methods 0.000 description 1
- YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L disodium;naphthalene-1,5-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].C1=CC=C2C(S(=O)(=O)[O-])=CC=CC2=C1S([O-])(=O)=O YGSZNSDQUQYJCY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 235000013399 edible fruits Nutrition 0.000 description 1
- 125000002534 ethynyl group Chemical group [H]C#C* 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1-sulfonic acid Chemical class C1=CC=C2C(S(=O)(=O)O)=CC=CC2=C1 PSZYNBSKGUBXEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N naphthalene;sodium Chemical compound [Na].C1=CC=CC2=CC=CC=C21 URXNVXOMQQCBHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081974 saccharin Drugs 0.000 description 1
- 235000019204 saccharin Nutrition 0.000 description 1
- 239000000901 saccharin and its Na,K and Ca salt Substances 0.000 description 1
- 159000000000 sodium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002195 soluble material Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 1
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
- C25D3/56—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
- C25D3/562—Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
- C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
- C25D3/00—Electroplating: Baths therefor
- C25D3/02—Electroplating: Baths therefor from solutions
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、浴が、5ないし309/lの範囲のパラジウ
ム含有量および同様に5ないし30 f/lの範囲のニ
ッケル含有量、およびスルホン酸および/またはスルホ
ン酸の塩の添加物を含むパラジウムおよびニッケルアミ
ンの水溶液から成り、この水浴液において、電気的に析
出される合金が30ないし90!ftt%のパラジウム
含有量を有するように、パラジウムとニッケルの比が設
定されている、装飾的または工業的な被覆のためパラジ
ウム/ニッケル合金な電気的に析出する浴を前提とする
。このような浴によって作られる被覆は金の代用品とし
て使われる。
ム含有量および同様に5ないし30 f/lの範囲のニ
ッケル含有量、およびスルホン酸および/またはスルホ
ン酸の塩の添加物を含むパラジウムおよびニッケルアミ
ンの水溶液から成り、この水浴液において、電気的に析
出される合金が30ないし90!ftt%のパラジウム
含有量を有するように、パラジウムとニッケルの比が設
定されている、装飾的または工業的な被覆のためパラジ
ウム/ニッケル合金な電気的に析出する浴を前提とする
。このような浴によって作られる被覆は金の代用品とし
て使われる。
公知の浴(英国特許第1143178号明細書)におい
て、スルホン酸および/またはその塩の添加物が光沢を
彫成するために使われる。詳細に述べれば、ナフタリン
−1,5−ジ゛スルホン酸のナトリウム塩、ナフタリ/
−11316−)リスルホ/酸のナトリウム塩、および
サッカリン(0−スルホ安息香酸イミド)およびp−)
ルオスルホンアミドのような、ナフタリンスルホン酸お
よび芳香族スルホンアミドの塩が挙げられる。しかし実
くの装飾のために不十分であるとわかった。本発明の基
礎とする知識によればこれら欠点は、不完摩な易溶体形
成による。
て、スルホン酸および/またはその塩の添加物が光沢を
彫成するために使われる。詳細に述べれば、ナフタリン
−1,5−ジ゛スルホン酸のナトリウム塩、ナフタリ/
−11316−)リスルホ/酸のナトリウム塩、および
サッカリン(0−スルホ安息香酸イミド)およびp−)
ルオスルホンアミドのような、ナフタリンスルホン酸お
よび芳香族スルホンアミドの塩が挙げられる。しかし実
くの装飾のために不十分であるとわかった。本発明の基
礎とする知識によればこれら欠点は、不完摩な易溶体形
成による。
゛本発明の課題は、支障ない易溶体形成が行われるよう
に初めに述べたような浴を構成することにある。
に初めに述べたような浴を構成することにある。
この課題を解決するため、本発明は次のことを示して(
・る。すなわち装飾的および/または工業的な被覆のた
めパラジウム/ニッケル合金を電気的に析出する浴にお
いて、易溶体形成体として1つまたは複数のアセチレン
アミンおよび/またはアミノアルコールを使用し、浴が
、5ないし30f//l (1)範囲のパラジウム含有
量および同様に5ないし30り/lの範囲のニッケル含
有量を含むパラジウムおよびニッケルアミンの水浴液か
ら成り、かつ電気的に析出される合金が30ないし90
重量%の′パラジウム含有量を有するように、パラジウ
ムとニッケルの比が設定されている。本発明の有7F′
I>な実施例は次のような特徴を有する。すなわち添加
物が、ジメチルプロピン−2−イル−アミ/、1−ジエ
チルアミノプロピン−(2)、1−ジエチルアミノペン
チン−2−オール−(4)、1−ジメチルアミンプロピ
7− (2)、1.1−ジエチルグロビン−2−イルー
アミ/、またはこれらの混合物から成る。
・る。すなわち装飾的および/または工業的な被覆のた
めパラジウム/ニッケル合金を電気的に析出する浴にお
いて、易溶体形成体として1つまたは複数のアセチレン
アミンおよび/またはアミノアルコールを使用し、浴が
、5ないし30f//l (1)範囲のパラジウム含有
量および同様に5ないし30り/lの範囲のニッケル含
有量を含むパラジウムおよびニッケルアミンの水浴液か
ら成り、かつ電気的に析出される合金が30ないし90
重量%の′パラジウム含有量を有するように、パラジウ
ムとニッケルの比が設定されている。本発明の有7F′
I>な実施例は次のような特徴を有する。すなわち添加
物が、ジメチルプロピン−2−イル−アミ/、1−ジエ
チルアミノプロピン−(2)、1−ジエチルアミノペン
チン−2−オール−(4)、1−ジメチルアミンプロピ
7− (2)、1.1−ジエチルグロビン−2−イルー
アミ/、またはこれらの混合物から成る。
本発明は次のような知識を前提とする。スルホン酸の公
知の塩の代りに使用されたアセチレンアミンおよび/ま
たはアミノアルコールによれば、おどろくべき効果が得
られる。
知の塩の代りに使用されたアセチレンアミンおよび/ま
たはアミノアルコールによれば、おどろくべき効果が得
られる。
本発明の教示による添加物を選択すれば、電気的な析出
により浴からパラジウム/ニッケル被覆が得られ、これ
ら被覆は、細か(かつ均一な微結晶および支障ない易溶
体形成の点で優れて(・る。
により浴からパラジウム/ニッケル被覆が得られ、これ
ら被覆は、細か(かつ均一な微結晶および支障ない易溶
体形成の点で優れて(・る。
それにより光沢、伸度および種々の腐食作用に対する耐
腐食性が島められる。さらに平面化効果も改善される。
腐食性が島められる。さらに平面化効果も改善される。
次に本発明を典形的な例によって詳細に説明する。
例1(アセチレンアミンの添加)
次のような電解質が作られた。
(Pd(NH3J4)Cl3として20 fのノくラジ
ウム、(Ni(NH3)s)804として102のニッ
ケル、%′pp#實圧十分な導電度を設定するため(N
HJ2SO4またはNH4Clとして50 fの支持亀
Pp#質(Leitsatす、 pl(値を8.5に設定するためNH40H11tの浴
になるように水、 0.03艷の1.1−ジメチルプロピン−2−イルーア
ミ ン、 電気的析出の除の浴温度30℃、わずかな物品の動き、
陰極電流密度IA/d扉、露出時間10分。
ウム、(Ni(NH3)s)804として102のニッ
ケル、%′pp#實圧十分な導電度を設定するため(N
HJ2SO4またはNH4Clとして50 fの支持亀
Pp#質(Leitsatす、 pl(値を8.5に設定するためNH40H11tの浴
になるように水、 0.03艷の1.1−ジメチルプロピン−2−イルーア
ミ ン、 電気的析出の除の浴温度30℃、わずかな物品の動き、
陰極電流密度IA/d扉、露出時間10分。
ブラシをかけたしんちゅう板上に光沢のあるわずかに平
らなパラジウム・ニッケル層が、明白な阻害境象なしに
析出された。耐腐食性を試験するため、このようにして
得られたテスト片は、室温で60秒間薄められた硝酸に
浸され、この硝酸は、等部の濃硝酸と水から作られた。
らなパラジウム・ニッケル層が、明白な阻害境象なしに
析出された。耐腐食性を試験するため、このようにして
得られたテスト片は、室温で60秒間薄められた硝酸に
浸され、この硝酸は、等部の濃硝酸と水から作られた。
腐食作用は見られなかった。
しかし英国特許第1143173号明細書に従って前記
のアセチレンアミンの代りに10りのナトリウムナフタ
リ/−1+ 3 + 6− トリスルホナートを電解質
に加えると、パラジウム・ニッケル層は得られるが、こ
れらの層は、前記の硝酸試駆においてかなり腐食され、
かつさらに平担特性を持たずわずかな光沢を示した。腐
食の原因は、光沢形成体として提案したアセチレンアミ
ンの代りに芳香族スルホン酸塩で作業する限り、不完全
な易溶体形成にある。X線検査によれば遊離したニッケ
ルが検出でき、これが腐食の原因をなしている。
のアセチレンアミンの代りに10りのナトリウムナフタ
リ/−1+ 3 + 6− トリスルホナートを電解質
に加えると、パラジウム・ニッケル層は得られるが、こ
れらの層は、前記の硝酸試駆においてかなり腐食され、
かつさらに平担特性を持たずわずかな光沢を示した。腐
食の原因は、光沢形成体として提案したアセチレンアミ
ンの代りに芳香族スルホン酸塩で作業する限り、不完全
な易溶体形成にある。X線検査によれば遊離したニッケ
ルが検出でき、これが腐食の原因をなしている。
例2(アセチレンアミン組合せの添加)次のような%%
+負が作られた。
+負が作られた。
(Pd (NHa )4)Boaとして202のパラジ
ウム、(Ni (NHs )6ノCt2としてio t
のニッケル、電p#負に十分な導電度を設定するため(
IJす2so4またはNH4Clとして50 fの支持
亀′N#賀、pH値を8.5に設定するためNH40H
。
ウム、(Ni (NHs )6ノCt2としてio t
のニッケル、電p#負に十分な導電度を設定するため(
IJす2so4またはNH4Clとして50 fの支持
亀′N#賀、pH値を8.5に設定するためNH40H
。
ltの浴になるように水、
0.03−の1.1−ジメチルプロピン−2−イル−ア
ミン、 0.03−の1−ジメチルアミノプロピン−(2)、電
気的析出の際の浴温度30℃、わずかな物品の動き、陰
極電流密度10 p、/drr?、露出時間10分。
ミン、 0.03−の1−ジメチルアミノプロピン−(2)、電
気的析出の際の浴温度30℃、わずかな物品の動き、陰
極電流密度10 p、/drr?、露出時間10分。
ブラシをかげたしんちゅう板上に、例1のもの′より改
善された平担塵を有する光沢のあるパラジウム・ニッケ
ル層が得られた。例1による硝酸試験に耐えた。
善された平担塵を有する光沢のあるパラジウム・ニッケ
ル層が得られた。例1による硝酸試験に耐えた。
例3(アセチレンアルコールに組合せたアセチレンアミ
ン組合せの添加) 次9ような電解質が作られた。
ン組合せの添加) 次9ような電解質が作られた。
(PdlNH3)4)C42として202のパラジウム
、(Ni (NH3)6)804として10 fのニッ
ケル、電解質に十分な導電度を設定するため(NH4)
2so4またはNH,Ctとして5(lの支持電解質(
Lei’tsatz)、 pH値を8.5に設定するためNH4OH。
、(Ni (NH3)6)804として10 fのニッ
ケル、電解質に十分な導電度を設定するため(NH4)
2so4またはNH,Ctとして5(lの支持電解質(
Lei’tsatz)、 pH値を8.5に設定するためNH4OH。
1tの浴になるように水、
0.03m1!の1,1−ジメチルプロピン−2−イル
−アミン、 0.03−の1−ジメチルアミノプロピン−(2)、0
.01Fのブチン−2−ジオール−(1r 4 )、電
気的析出の際の浴温度30℃、わずがな物品の動き、陰
極電流密度I A/drrt′、露出時間10分。
−アミン、 0.03−の1−ジメチルアミノプロピン−(2)、0
.01Fのブチン−2−ジオール−(1r 4 )、電
気的析出の際の浴温度30℃、わずがな物品の動き、陰
極電流密度I A/drrt′、露出時間10分。
ブラシをかけたしんちゅう板上に、明白な平坦度および
阻害現象なしに光沢のあるパラジウム・ニッケル層が得
られた。例1による硝酸試験に耐えた。
阻害現象なしに光沢のあるパラジウム・ニッケル層が得
られた。例1による硝酸試験に耐えた。
例4(アセチレンXアルコールおよびスルホン酸塩に組
合せたアセチレンアミン組合せの添加)次のような電解
質が作られた。
合せたアセチレンアミン組合せの添加)次のような電解
質が作られた。
(Pd(NH3)4Cl2として202のパラジウム、
(Ni (NH3)aJsO4として10グのニッケル
、電解質に十分な導電度を設定するため(NH4)2s
o4またはNH4Ctとして50 fの支持電解質(L
eitsatz)、 pHf&を8.5に設定するためNH40H1Xtの浴
になるように水、 0.03−の1,1−ジメチルプロピン−2−イルアミ
ン、 0.03−のl−ジメチルアミノプロピン−2−(2)
、0.019のブチン−2−ジオール−(1,4)、2
.52のナトリウムアリルスルホナート、電気的析出の
際の浴温度30℃、わずかな物品の動き、陰極電流密度
1 、Mdy/、露出時間10分。
(Ni (NH3)aJsO4として10グのニッケル
、電解質に十分な導電度を設定するため(NH4)2s
o4またはNH4Ctとして50 fの支持電解質(L
eitsatz)、 pHf&を8.5に設定するためNH40H1Xtの浴
になるように水、 0.03−の1,1−ジメチルプロピン−2−イルアミ
ン、 0.03−のl−ジメチルアミノプロピン−2−(2)
、0.019のブチン−2−ジオール−(1,4)、2
.52のナトリウムアリルスルホナート、電気的析出の
際の浴温度30℃、わずかな物品の動き、陰極電流密度
1 、Mdy/、露出時間10分。
・ ブラシをかけたしんちゅう板上に、阻害現象なしに
光沢のある平らなパラジウム・ニッケル層が得られた。
光沢のある平らなパラジウム・ニッケル層が得られた。
例1による硝酸試験に耐えた。
特許出願人 ラングツ9ンープフアンノ・ウゼ71/%
ウエルケ1アクチェン ゲゼルシャフト代理人弁理士
田代盗治
ウエルケ1アクチェン ゲゼルシャフト代理人弁理士
田代盗治
Claims (2)
- (1)装飾的および/または工業的な被覆のためパラジ
ウム/ニッケル合金を電気的に析出する浴において、品
温体形成体として1つまたは複数のアセチレンアミンお
よび/またはアミノアルコール6を使用し、浴が、5な
いで30 f/lの範囲のパラジウム含有量および同様
に5ないし30 t/lの範囲のニッケル含有量を含む
パラジウムおよびニッケルアミンの水溶液から成り、か
つ電気的に析出される合金が30ないし903[量−の
パラジウム含有量を有するように、パラジウムとニッケ
ルの比が設定されていることを特徴とする、パラジウム
/ニッケル合金を電気的に析出する浴。 - (2)添加物が、ジメチルプロピン−2−イルプミン、
1−ジエチルアミンプロピン−(2)、1−ジエチルア
ミ゛ノベンチンー2−オール−(4)、 1−ジメチ
ルアミンプロピン−(2)、 1 、1−ジエチルグ
ロビン−2−イル−アミン、またはこれらの混合物から
成る、特許請求の範囲第1項記載の浴。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE31084672 | 1981-03-06 | ||
| DE3108467A DE3108467C2 (de) | 1981-03-06 | 1981-03-06 | Verwendung eines Acetylenamins und/oder eines Aminoalkohols in einem Bad zur galvanischen Abscheidung einer Palladium/Nickel-Legierung |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5816088A true JPS5816088A (ja) | 1983-01-29 |
Family
ID=6126474
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57032482A Pending JPS5816088A (ja) | 1981-03-06 | 1982-03-03 | パラジウム/ニッケル合金を電気的に析出する浴 |
Country Status (13)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4416740A (ja) |
| JP (1) | JPS5816088A (ja) |
| AT (1) | AT377014B (ja) |
| AU (1) | AU535304B2 (ja) |
| BE (1) | BE892343A (ja) |
| BR (1) | BR8201173A (ja) |
| DE (1) | DE3108467C2 (ja) |
| FR (1) | FR2501242A1 (ja) |
| GB (1) | GB2094348B (ja) |
| IT (1) | IT1150625B (ja) |
| NL (1) | NL8200907A (ja) |
| SE (1) | SE8201298L (ja) |
| ZA (1) | ZA821368B (ja) |
Families Citing this family (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4564426A (en) * | 1985-04-15 | 1986-01-14 | International Business Machines Corporation | Process for the deposition of palladium-nickel alloy |
| US4628165A (en) * | 1985-09-11 | 1986-12-09 | Learonal, Inc. | Electrical contacts and methods of making contacts by electrodeposition |
| US5034190A (en) * | 1986-01-31 | 1991-07-23 | Westinghouse Electric Corp. | Apparatus for conducting accelerated corrosion testing of nickel alloys |
| US4778574A (en) * | 1987-09-14 | 1988-10-18 | American Chemical & Refining Company, Inc. | Amine-containing bath for electroplating palladium |
| SG64904A1 (en) * | 1990-06-22 | 1999-05-25 | Caschem Inc | Cable grease composition and articles incorporating the same |
| WO2020129095A1 (en) * | 2018-12-20 | 2020-06-25 | Top Finish 2002 S.R.L. | Galvanic bath for making a corrosion- and oxidation-resistant palladium and nickel alloy-based plating, preparation and use thereof |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2781306A (en) * | 1956-04-27 | 1957-02-12 | Udylite Res Corp | Electrodeposition of nickel |
| US3002903A (en) * | 1958-09-26 | 1961-10-03 | Hanson Van Winkle Munning Co | Electrodeposition of nickel |
| US3133006A (en) * | 1962-05-28 | 1964-05-12 | Barnet D Ostrow | Acid nickel plating bath |
| US3186926A (en) * | 1962-08-13 | 1965-06-01 | Hofmann Hans | Electroplating solution containing a diester of selenious acid |
| JPS4733176B1 (ja) * | 1967-01-11 | 1972-08-23 | ||
| GB1485665A (en) * | 1975-03-27 | 1977-09-14 | Permalite Chem Ltd | Nickel electroplating |
| US4077855A (en) * | 1976-05-04 | 1978-03-07 | Francine Popescu | Bright nickel electroplating bath and process |
| DE2825966A1 (de) * | 1978-06-14 | 1980-01-03 | Basf Ag | Saures galvanisches nickelbad, das sulfobetaine als glanz- und einebnungsmittel enthaelt |
| DE2943028A1 (de) * | 1978-11-01 | 1980-05-08 | M & T Chemicals Inc | Galvanisches nickelbad |
-
1981
- 1981-03-06 DE DE3108467A patent/DE3108467C2/de not_active Expired
-
1982
- 1982-02-24 GB GB8205450A patent/GB2094348B/en not_active Expired
- 1982-03-02 AU AU81047/82A patent/AU535304B2/en not_active Ceased
- 1982-03-02 ZA ZA821368A patent/ZA821368B/xx unknown
- 1982-03-03 SE SE8201298A patent/SE8201298L/ not_active Application Discontinuation
- 1982-03-03 JP JP57032482A patent/JPS5816088A/ja active Pending
- 1982-03-03 BE BE2/59610A patent/BE892343A/fr not_active IP Right Cessation
- 1982-03-03 AT AT0082282A patent/AT377014B/de not_active IP Right Cessation
- 1982-03-04 FR FR8203612A patent/FR2501242A1/fr active Granted
- 1982-03-05 US US06/355,246 patent/US4416740A/en not_active Expired - Fee Related
- 1982-03-05 NL NL8200907A patent/NL8200907A/nl not_active Application Discontinuation
- 1982-03-05 IT IT19990/82A patent/IT1150625B/it active
- 1982-03-05 BR BR8201173A patent/BR8201173A/pt unknown
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| FR2501242A1 (fr) | 1982-09-10 |
| GB2094348A (en) | 1982-09-15 |
| BE892343A (fr) | 1982-07-01 |
| DE3108467C2 (de) | 1983-05-26 |
| AT377014B (de) | 1985-01-25 |
| NL8200907A (nl) | 1982-10-01 |
| AU535304B2 (en) | 1984-03-15 |
| BR8201173A (pt) | 1982-11-23 |
| US4416740A (en) | 1983-11-22 |
| GB2094348B (en) | 1985-08-07 |
| FR2501242B1 (ja) | 1985-04-12 |
| IT8219990A0 (it) | 1982-03-05 |
| ATA82282A (de) | 1984-06-15 |
| DE3108467A1 (de) | 1982-09-16 |
| AU8104782A (en) | 1982-09-09 |
| SE8201298L (sv) | 1982-09-07 |
| IT1150625B (it) | 1986-12-17 |
| ZA821368B (en) | 1983-01-26 |
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